JPH0136926B2 - - Google Patents

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JPH0136926B2
JPH0136926B2 JP12898682A JP12898682A JPH0136926B2 JP H0136926 B2 JPH0136926 B2 JP H0136926B2 JP 12898682 A JP12898682 A JP 12898682A JP 12898682 A JP12898682 A JP 12898682A JP H0136926 B2 JPH0136926 B2 JP H0136926B2
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JP
Japan
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copolymer
layer
photographic
subbing
resin
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JP12898682A
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Toshiaki Yamazaki
Takanori Nakatate
Kenichi Kitahara
Noboru Fujimori
Morio Kobayashi
Takashi Shimozaki
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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Priority to DE19833326507 priority patent/DE3326507A1/de
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Priority to US06/701,452 priority patent/US4571379A/en
Publication of JPH0136926B2 publication Critical patent/JPH0136926B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/91Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
    • G03C1/93Macromolecular substances therefor

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、下引層を有する写真用支持体に関す
る。更に詳しくは、ポリエステル支持体上に、感
光性乳剤層或はパツキン層等の親水性コロイド層
を強固に接着させる為に、特定の共重合体水性組
成物を塗設して下引処理を施した写真用支持体に
関する。 ポリエステルフイルムは、ハロゲン化銀写真感
光材料等の支持体として優れた物理的特質を有す
るため、近年その需要が増大し広く用いられてい
る。ところが、ポリエステルフイルムは疎水性が
極めて大きく、このような支持体とゼラチンの如
き物質をバインダーとする写真用ゼラチン層のよ
うな親水性コロイド層との間に強い接着力を持た
せるのにしばしば困難を伴う。従来、ポリエステ
ルフイルムを使用した写真感光材料においては、
支持体と親水性コロイド層との接着を行うため
に、多くの下引方法が知られているが、親水性コ
ロイド層とくに写真用ゼラチン層を強固に接着す
るためには、いずれの方法に於いてもポリエステ
ルフイルムの膨潤剤或は溶解剤を使用しなければ
ならない場合が多かつた。しかし、この膨潤剤或
は溶解剤を含有する下引組成物をポリエステルフ
イルムに塗布した場合、下引の工程中に支持体の
平面性が損われ、またこれら膨潤剤或は溶解剤の
ほとんどが有害な有機溶媒類を使用するため、作
業上の安全衛生を損う等の多くの欠点を有してい
た。 この為、ポリエステルフイルムに対し、膨潤剤
あるいは溶解剤を使用しない下引が提案されてい
る。その1つの技術は、表面を化学的ないし物理
的に処理したポリエステルフイルムとして、薬品
処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、
紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性
プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン
酸化処理、などの表面活性化処理をした支持体が
提案されている。この技術は米国特許第2943937
号、同第3475193号、同第3615557号、英国特許第
1215234号、米国特許第3590107号各明細書、特開
昭53−13672号、同55−18469号各公報等に提案さ
れている。しかし、これらの表面処理されたポリ
エステルフイルムは、本来疎水性であつたフイル
ム表面に多少共極性基を持つ事、また極表面の接
着に対してマイナスの要因になる薄層が除去され
ている事等によると思われるが、写真用親水性保
護コロイド層との接着力は増加するものの、充分
な接着強度は得られなかつた。 更に、写真用親水性コロイド層との接着性を増
大させる為に、表面処理をした後に水性塗布組成
物層を設けたポリエステルフイルムが提案されて
いる。この水性塗布組成物層いわゆる下引層は、
ポリエステルフイルムと写真用親水性コロイド層
との両方に対して充分な接着性を有する事が必要
である。特に、下引層と写真用親水性コロイド層
とを充分接着させる為、一般に、下引層の樹脂
(以下、下引用樹脂と云う。)成分中に親水性基あ
るいは反応性基を含ませる事が行なわれている。
この親水性基あるいは反応性基としては、酸(例
えばアクリル酸、イタコン酸、イタコン酸の半ア
ルキルエステル等)、エポキシ基(例えばグリシ
ジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート
等)、N−アルカノール基〔例えばN−メチロー
ルアクリルアミド、ヒドロキシメチル化N−(1,
1−ジメチル−3−オキソブチル〕アクリルアミ
ド等〕、水酸基(例えばヒドロキシエチルメタア
クリレート、ヒドロキシエチルアクリレート等)
等がある。 上記のうち、酸成分を含む下引用樹脂を下引層
に含む例は、特公昭48−3564号、特開昭46−1123
号、同50−1718号、ヨーロツパ特許第1484号明細
書、特開昭54−61518号、同50−39536号各公報、
米国特許第3545972号明細書等に開示されている。
しかし、下引用樹脂中に酸成分を含んでいる下引
層を有するポリエステルフイルムでは、写真用親
水性保護コロイド層の現像処理時の接着性が不充
分であつた。 エポキシ基成分を含む下引用樹脂を下引層に含
む例は、特公昭34−9629号、特開昭51−58469号、
同52−104913号、同51−27918号、同52−19786
号、同54−30121号、同51−121323号各公報、英
国特許第1168171号明細書、特開昭55−69138号公
報等に開示されている。しかし、グリシジルメタ
クリレートあるいはグリシジルアクリレート等の
エポキシ基成分は、いずれも、自己架橋性があ
り、また分解も起こりやすく、下引用樹脂の合成
中あるいは合成液保存中に変質し、合成液あるい
は下引用樹脂を含んだ水性組成物である下引用加
工液(以下、下引液と云う。)の安定性が不充分
であつた。 N−アルカノール基成分を含む下引用樹脂を下
引層に含む例は、仏国特許第140408号明細書、特
開昭51−131516号公報、英国特許第1178597号明
細書、実公昭57−3054号公報等に開示されてい
る。しかし、これらに記載されているN−アルカ
ノールアクリルアミド類は自己架橋性が強く、下
引用樹脂の合成中あるいは合成液保存中に架橋が
起り、合成液及び下引液の安定性が不充分であつ
た。 水酸基成分を含む下引用樹脂を下引層に含む例
としては、特開昭55−69138号及び同52−19786号
公報に、水酸基含有単量体とグリシジルアクリレ
ート及び/又はグリシジルメタクリレートとを下
引用樹脂の共重合体成分として含む下引が開示さ
れている。また特開昭51−135526号公報には水酸
基を有するビニル単量体とビニリデンクロライド
及び/又はビニルクロライドとを下引用樹脂の共
重合体成分として含む、下引が開示されている。
また特開昭51−123138号公報には水酸基含有単量
体とジオレフイン単量体とを下引用樹脂の共重合
体成分として含む下引が開示されている。更に特
開昭49−113868号公報には水酸基含有単量体とア
クリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体を含む下引が開示されている。しかし、
これらの水酸基を含む下引用樹脂もまた、下引層
あるいは下引用樹脂として充分なものとは云えな
かつた。即ち、水酸基含有単量体とグリシジルア
クリレート又はグリシジルメタクリレートとを下
引用樹脂成分として含む下引では、条件によりエ
ポキシ基と水酸基とが反応し、合成液及び下引液
中の下引用樹脂が沈澱を起こし易く、接着性が不
安定であつた。また、水酸基を有するビニル単量
体とビニリデンクロライド及び/又はビニルクロ
ライドとを下引用樹脂成分として含む下引では、
条件によりビニリデンクロライド及びビニルクロ
ライドから脱塩酸が起こり、合成液又は下引液の
PHが変化し、接着性が不安定であつた。また水酸
基含有単量体とジオレフイン単量体とを下引用樹
脂成分として含む下引では、下引用樹脂合成時に
ジオレフインが架橋反応を起こし、その調節が難
しく、一定の性能の下引を得る事が難しく、その
結果、現像処理時の接着が不安定であつた。また
水酸基含有単量体とアクリル酸エステル又はメタ
クリル酸エステルとの共重合体を含む下引では、
合成液及び下引液が機械的に不安定で、条件によ
つては、共重合体が沈澱を生じ、安定な性能の下
引を得る事が難かしかつた。 この様に、親水性基あるいは反応性基を含む下
引用樹脂を下引層に含有する写真用ポリエステル
フイルムは、製造時の安定性及び下引性能が必ず
しも満足のいくものではなかつた。 ところで、一見すると写真用としても使用でき
そうな樹脂層を設けたポリエステルフイルムを提
供する技術があるが、写真用の下引用他の用途か
らは全くかけ離れた性能を要求され、似て否なる
ものである。例えば、特公昭46−19879号公報に
は、アクリル酸エステルと水酸基含有ビニル単量
体とを含む共重合体水性分散液をフイルムに塗布
した後、易シール性ポリマーを塗布してなる接着
フイルムが開示されている。しかし、この下引は
フイルムと、例えば塩化ビニリデンとアクリル酸
エステルの共重合体等の疎水性の易シール性ポリ
マーとを接着させる為に、中間にアンカーコーチ
ング層を設ける事を特徴としており、フイルムと
写真用親水性コロイド層とを接着させる写真用下
引とは、その技術思想が全く異なる技術である。
ちなみに前記特公昭46−19879号公報に開示の技
術による下引は、写真用親水性コロイド層に対し
ては全く不充分な接着力しか示さない。 本発明者等は、親水性基ないし反応性基を含ん
だ下引用樹脂に着目し、製造上安定でかつ優れた
下引性能を得ることができる下引層について鋭意
研究した結果、下引用樹脂を構成する単量体が特
定の組合せの場合に、以上述べた如き欠点を解消
できる事を見出した。 本発明の第1の目的は、ポリエステルフイルム
と写真用親水性コロイド層との間に強固な接着力
を有する写真用支持体を提供する事である。 本発明の第2の目的は、必ずしも有機溶剤ポリ
エステルの膨潤剤あるいは溶解剤の使用を必要と
しない為、有害な有機溶剤等を排気もしくは排水
中に放出する事がなくて、公害発生の無いように
できる写真用支持体を提供する事である。 本発明の第3の目的は、平面性の良い写真用支
持体を提供する事である。 本発明の第4の目的は、ポリエステルの膨潤剤
あるいは溶解剤の使用を必要とせず、従つて、こ
れによつて引き起こされるポリエステルフイルム
の平面性及び透明性の劣化が無く、また下引用樹
脂層塗設によつて透明性が悪くなる事もない写真
用支持体を提供する事である。 本発明の第5の目的は、安定にかつ容易に製造
できる下引用樹脂から成る下引層を有する写真用
支持体を提供する事である。 本発明の第6の目的は、保存安定性の良い下引
用樹脂から成る下引層を有する写真用支持体を提
供する事である。 本発明の第7の目的は、保存安定性及び機械的
安定性の良い下引液を使用した写真用支持体を提
供する事である。すなわち、本発明に用いる下引
用樹脂は自己架橋性、分解性の共重合体成分を含
むことを要せず、従つて、合成中、下引用樹脂保
存中及び下引液保存中での下引用樹脂の変質、下
引用樹脂液ないし下引液のPH等の物性の好ましく
ない変化が無く、また本発明に用いる下引用樹脂
は機械的にも非常に安定であり、合成中、下引液
塗布中での凝集を全く生じない下引液を使用した
写真用支持体を提供する事である。 本発明の第8の目的は、下引工程での塗布及び
乾燥条件の変動によつても下引性能に変動が生ず
る事のない、安定に製造できる写真用支持体を提
供する事である。 本発明の第9の目的は、各種の写真用親水性コ
ロイド層、特に写真乳剤層に対して悪影響を与え
ない写真用支持体を提供する事である。 本発明者等は、下引用樹脂における親水性基含
有単量体と疎水性単量体とが非常に限られた組合
せを持つた時にのみ、満足な結果が得られる事を
見出し、本発明を完成するに到つたものであり、
本発明の上記諸目的は、ポリエステル支持体の少
なくとも一面に、3〜45重量%の下記一般式
〔〕で示される単量体、10〜45重量%の下記一
般式〔〕で示される単量体、および10〜70重量
%の下記一般式〔〕で示される単量体から実質
的に成る共重合体を含む水性分散液を塗設して得
られる下引層を有することを特徴とする写真用支
持体によつて達成される。 一般式〔〕 〔式中、R1は炭素数2〜4のアルキレン基、
R2は水素原子またはメチル基を表わす。) 一般式〔〕 〔式中、R3は炭素数2〜8の直鎖状アルキル
基を表わす。〕 一般式〔〕 〔式中、R4は水素原子またはメチル基を表わ
す。R5は炭素数2〜8の直鎖状または分岐状ア
ルキル基を表わすが、R4が水素原子のときは分
岐状であり、R4がメチル基のときは直鎖状であ
る。〕 本発明に用いられる共重合体における上記一般
式〔〕で示される単量体の具体例としては、例
えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプ
ロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルア
クリレート等が挙げられる。この成分が少な過ぎ
ると共重合体の機械的安定性が悪く、逆に多過ぎ
ると接着性が悪くなる。かかる意味で前記一般式
〔〕で示される単量体の比率は、共重合体に対
して3〜45重量%であり、より好ましくは10〜35
重量%である。 本発明に用いられる共重合体における上記一般
式〔〕で示される単量体の具体例としては、例
えばプロピルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、ペンチルアクリレート、ヘキシルアクリレー
ト、オクチルアクリレート等が挙げられる。この
成分が少な過ぎると下引層の接着性が悪く、逆に
多過ぎると合成安定性が悪くなる。かかる意味で
前記一般式〔〕で示される単量体の比率は、共
重合体に対して10〜45重量%であり、より好まし
くは15〜40重量%である。 本発明に用いられる共重合体における前記一般
式〔〕で示される単量体の具体例としては、例
えばisoプロピルアクリレート、t−ブチルアク
リレート、sec−ブチルアクリレート、iso−ブチ
ルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレー
ト、t−オクチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルメタクリレート、iso−プロピ
ルメタクリレート、ブチルメタクリレート、オク
チルメタクリレート等が挙げられる。 前記一般式〔〕で示される単量体は、前記
〔〕および〔〕の単量体と組合せる事により、
合成を安定化し且つ下引性能を安定化する効果が
有る。この〔〕の単量体は少な過ぎると合成液
及び下引液の機械的安定性が悪くなり、逆に多過
ぎると下引層の透明性が悪くなる。そこで〔〕
の単量体の割合は、10〜70重量%であり、より好
ましくは20〜50重量%である。 上記の各成分の単量体の好ましい組合せには、
2−ヒドロキシエチルメタクリレート−ブチルア
クリレート−t−ブチルアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルアクリレート−ブチルアクリレート
−iso−ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート−ブチルアクリレート−sec
−ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート−ブチルアクリレート−ブチルメタ
クリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト−ブチルアクリレート−プロピルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート−プロ
ピルアクリレート−t−ブチルアクリレート、2
−ヒドロキシプロピルメタクリレート−ブチルア
クリレート−t−ブチルアクリレート、2−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート−ブチルアクリレ
ート−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート−ブチルアクリレート−t−ブ
チルアクリレート等がある。 本発明に用いられる共重合体は上記三成分の単
量体から実質的に構成されるが、本発明の目的を
損なわない範囲で少量の他の単量体を共重合体組
成に含ませても良い。 本発明に用いられる共重合体は公知の乳化重合
法によつて合成することができる。また、これら
の単量体を乳化共重合させる際、乳化重合用界面
活性剤を用いる事が有利である。例えばポリビニ
ルアルコール、部分ケン化酢酸ビニル、ポリエチ
レンオキサイド、ポリエチレンオキサイド誘導
体、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロ
ース、スチレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニ
ル−マレイン酸共重合体、メチルビニルエーテル
−マレイン酸共重合体などの保護コロイド、ドデ
シルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラ
デシルジメチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、ドデシルイソキノリニウムブロマイドなどの
陽イオン界面活性剤、ラウリル硫酸ナトリウム、
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシ
ルベンゼンカルボン酸ナトリウムなどの陰イオン
界面活性剤が有利に用いられ、またノニオン界面
活性剤も必要に応じて添加しても良い。 また重合開始剤として有機又は無機パーオキサ
イド又は過酸塩、例えば過酢酸アセチルパーオキ
サイド、ベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイル
アセチルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイ
ド、過酸化水素、過炭酸塩、過硫酸塩、過硼酸塩
を用いる事が出来る。 この他に無機酸素含有酸化性硫黄化合物、例え
ば二酸化硫黄、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸ナ
トリウム、メタ亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモ
ニウム、また水溶性脂肪族三級アミン、例えばト
リエタノールアミン、ジエタノールアミン等も用
いる事が出来る。 本発明の共重合体は水系分散媒中に微細な粒子
として分散させ共重合体水性分散液として下引液
に用いる。なお、目的によつては、水の1部を水
と混合可能な有機溶媒(例えばメタノールとかア
セトン)と置き換えてもよい。乳化重合法によつ
て得られる本発明の共重合体は微粒子乳化重合物
の水性分散液、いわゆるラテツクスとして得られ
る。 本発明の共重合体を含む共重合体水性分散液
(下引液)は、使用目的、塗布方法により異なる
が、水分散液として作られる共重合体を必要に応
じて水または水と混合可能な有機溶媒で希釈し
て、共重合体の固形分濃度が0.1〜40重量%であ
るようにして用いるのが好ましい。 この様にして得られた本発明の共重合体ラテツ
クス(下引用樹脂)を主成分とする下引液は前述
した共重合体成分を0.1〜40重量%含み、必要に
応じて界面活性剤、親水性有機コロイド、マツト
剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤等の添加剤を含有
してもよい。架橋剤としては、写真用ゼラチンの
いわゆる硬膜剤、例えばホルムアルデヒド、グリ
オキザール等のアルデヒド系化合物、ムコクロル
酸、テトラメチレン−1,4−ビス(エチレンウ
レア)、ヘキサメチレン−1,6−ビス−(エチレ
ンウレア)等のエチレンイミン基を有する化合
物、トリメチレン−1,3−ビアメタンスルホン
酸エステル等のメタンスルホン酸エステル、ビス
アクリロイルウレア、メタキシレンビニルスルホ
ン酸等の活性ビニル化合物、2−メトキシ−4,
6−ジクロルトリアジン、2−ソデイウムオキシ
−4,6−ジクロルトリアジン等の活性ハロゲン
を有する化合物、ビスフエノールグリシジルエー
テル等のエポキシ基を有する化合物、イソシアネ
ート等を使用する事ができる。これらのうち、エ
チレンイミン基を有する化合物、メタンスルホン
酸エステルおよび活性ハロゲンを有する化合物が
特に好ましい。 上記下引液はポリエステルフイルム上に塗布さ
れる。ここにポリエステルとは芳香族二塩基酸と
グライコールを主要な構成成分とするポリエステ
ルで代表的な二塩基酸としてはテレフタル酸、イ
ソフタル酸、p−β−オキシエトキシ安息香酸、
ジフエニルスルホンジカルボン酸、ジフエノキシ
エタンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、
アゼライン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル
酸、ジフエニレンジカルボン酸、2,6−ナフタ
レンジカルボン酸等があり、グライコールとして
はエチレングリコール、ブロピレングリコール、
ブタンジオール、ネオペンチレングリコール、
1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シク
ロヘキサンジメタノール、1,4−ビスオキシエ
トキシベンゼン、ビスフエノールA、ジエチレン
グリコール、ポリエチレングリコール等がある。 これらの成分からなるポリエステルの中でも入
手のしやすさの点からはポリエチレンテレフタレ
ートが最も好都合である。 本発明に用いられるポリエステル支持体は、そ
の表面がポリエステルであれば良く、他の支持体
上にポリエステルを担持したものであつても差支
えない。 たとえば、セルローストリアセテートフイル
ム、ポリスチレンフイルム、ポリカーボネートフ
イルム、ポリプロピレンフイルム、あるいはこれ
らのポリマーが被覆されたフイルム、、ガラス板、
バライタ紙、ポリエチレンラミネート紙等の樹脂
加工紙、合成紙、金属板紙、透明、半透明、不透
明の各種支持体にポリエステルフイルムがラミネ
ートされたものも用いられる。 ポリエステルの厚さとしては特に制限はないが
約12μ〜500μ程度、好ましくは40μ〜200μ程度の
ものが取り扱いやすさ、汎用性の点から有利であ
る。特に二軸延伸結晶化されたものが、安定性、
強さなどの点から好都合である。 下引液をポリエステルフイルム上に塗布する前
にポリエステルフイルム表面には各種の表面活性
化処理をして親水化することが好ましい。表面活
性化処理としては、例えば米国特許第2943937号
明細書等に記載のような酸化剤溶液処理、米国特
許第3475193号明細書等に記載のような紫外線吸
収処理、米国特許第3615557号明細書等に記載の
ようなコロナ放電の電気放電処理、英国特許第
1215234号明細書等に記載のような活性ガス照射
処理、および米国特許第3590107号明細書等に記
載のような火焔処理等を挙げることができる。 上記下引液は公知の方法でポリエステルフイル
ム上に塗布される。例えばカーテン塗布、リバー
スロール塗布、フアウンテンエアドクター塗布、
スライドホツパー塗布、エクストルージヨン塗
布、デイツプ塗布等によりポリエステルフイルム
上に塗布する事ができる。ここで、共重合体の塗
設量は好ましくは0.01〜5g/m2、特に好ましくは
0.03〜2g/m2である。下引液塗布後の乾燥は公知
の方法で行なえる。例えば、熱風乾燥、赤外線加
熱乾燥、ヒーターロール乾燥、マイクロウエーブ
乾燥等により行う事ができる。本発明において、
好ましくは、この下引層を設けた上に更に上層を
塗設する。上層としては、公知のゼラチン、カゼ
イン等の天然親水性有機コロイド、合成親水性有
機コロイド、帯電防止剤例えば特公昭46−24159
号公報、特開昭48−93165号公報および特公昭49
−23828号公報に記載されているが如き親水性高
分子等の水溶液を塗設することができる。この上
層液中にはマツト剤、硬膜剤、界面活性剤等を含
んでいても良い。上層液の塗布乾燥は下層の加工
と同様に公知の方法をいずれも用いる事ができ
る。これらの下引液及び、必要に応じて設けられ
る上層用塗布液の塗布前又は乾燥後に於て、必要
に応じて火炎放射処理、プラズマ処理、コロナ放
電処理、グロー放電処理、紫外線照射処理等の公
知の表面処理加工を行なつても良い。 このようにして少なくとも一面に下引層を設け
られた本発明に係る写真用支持体は、少なくとも
1面に通常用いられる方法により写真用親水性コ
ロイド層を塗設することができる。具体的には
種々の写真感光層形成用組成物、例えばハロゲン
化銀写真乳剤、ジアゾ感光組成物、あるいはハレ
ーシヨン防止剤を含有するゼラチン組成物または
支持体フイルムのカールバランスを整えるための
ゼラチンパツキング組成物等を被覆することがで
き、このようにして得られる写真感光材料は接着
性が優れていて現像処理等の写真処理を行つても
写真感光層が支持体から剥離することがなく、ま
た写真性能への悪影響を伴うことがない。 次に本発明を実施例により具体的に説明する
が、これにより本発明の実施の態様が限定される
ものではない。なお、以下において「部」とは特
に断わりのない限い「重量部」を表わす。 まず、本発明に使用する共重合体の代表的製法
例を示す。 合成例 (1) 2−ヒドロキシエチルメタクリレート 75部 ブチルアクリレート 120部 t−ブチルアクリレート 105部 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 6部 過硫酸アンモニウム 1部 水 700部 共重合体の合成は次の様に行つた。即ち、冷却
管をつけた開放容器中に水を入れ、脱気後上記の
混合物質を装入し、80℃で5時間乳化重合を行な
い、乾燥固形分30wt%の下引用樹脂を得た。 合成例(2)〜(10)については、上記合成例(1)と同様
な方法で各実施例記載の組成からなる共重合体ラ
テツクス(下引用樹脂)を合成した。 次に、実施例中に於て行なつた評価方法につい
て説明する。 (1) 接着力試験 <乾燥膜付試験> 試料の乳剤面に、カミソリで浅傷を碁盤の目状
につけ、その上にセロハン接着テープを圧着した
のち該テープを急激に剥離したときの、セロハン
テープの接着面積に対する乳剤膜の残存率を百分
率で示した。 <処理膜付試験> 処理浴中で試料の乳剤面にキリ状の鋭利な先端
で碁盤の目状に傷をつけて、その面をこすり、乳
剤膜の残存率を百分率で示した。実用上、この百
分率が80%以上であれば支障ない。 (2) 透明性試験 東京電色株式会社製濁度計MODEL T−
2600DAを用いフイルム支持体を測定して百分率
で示した。実用上、1%以下であれば支障ない。 (3) 機械的安定性試験 上島製作所製、高速度撹拌試験機を用い、JIS
K 6381に従い、ラテツクス液を容器中で
14000rpmで高速回転するスピンドルで撹拌し、
凝集物が発生するまでの時間を「分」で示した。
実用上30分以上であれば支障ない。 実施例 1、比較例 1,2 2軸延伸熱セツト後の100μのポリエチレンテ
レフタレートフイルムに30W/m2minのコロナ放
電処理を施した。次に、前記合成例(1)の下引用樹
脂10c.c.、下記の構造式を持つ界面活性剤20mg ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレ
ア)30mg、純水90c.c.、から成る下引液を20μの膜
厚に塗布し、100℃で1分間乾燥させた。次にゼ
ラチン1g、サポニン20mg、純水100c.c.より成る上
層用塗布液を更に20μの膜厚に塗布し、100℃で
1分間乾燥した。以上の操作によつて得られた下
引済のポリエステルフイルムに印刷感光材料用パ
ツキング層を塗設した。次に、比較例として、下
記第1表に表わすように下引液共重合体のみを変
え、他は全く同じ手順で、下引加工、バツキング
層塗設を行なつた。各試料の評価結果は第1表の
通りであつた。
【表】
【表】 比較合成例(1)は特開昭51−123139号公報の合成
例(1)に基づくもの。また、比較合成例(2)は特開昭
49−113868号公報の合成例(5)に基づくもの。 第1表から明らかなように本発明例(1)は、評価
した4項目とも優れている事がわかる。なお比較
例(1)では上層を設けない場合に膜付が向上する事
は無かつた。 実施例 2、比較例 3 第2表に示す共重合体ラテツクス(下引用樹
脂)を用いた以外は実施例−1と同様な方法で、
下引済ポリエステルフイルムを作成し、この下引
層上に印刷感光材料用写真感光性層を塗設した。
また、実施例−1と同様に比較化合物より作つた
試料と比較した。各評価結果は第2表の通りであ
つた。
【表】 比較合成例(3)は特開昭46−19879号公報の実施
例の塗料No.1に基づくもの。 比較例(3)は処理膜付が悪く、写真性能を評価で
きなかつた。これに対し、本発明例(2)と(3)は写真
性能に対して何ら悪影響を与えていなかつた。 第2表から明らかなように、本発明例(2),(3)
は、評価した4項目とも優れている事がわかる。 実施例 3、比較例 4 第3表に示す如く、使用する共重合体ラテツク
ス(下引用樹脂)以外は実施例−1と同様な方法
で下引済ポリエステルフイルムを作り、その下引
層上にカラーカツトフイルム用バツキング層を塗
設した。但し、下引用樹脂は合成後2日間及び3
週間(21日間)、各23℃で保存したものを使用し
た。各評価結果は第3表の通りであつた。
【表】 比較例(4)は特開昭52−19786号公報の実施例
(21)使用共重合体に基づくもの。 第3表から明らかなように、本発明例(4)は、評
価した4項目ともに経日劣化が無く優れている事
がわかる。 実施例 4 第4表に示す共重合体ラテツクス(下引用樹
脂)を使用した以外は実施例−1と同様な方法で
下引済ポリエステル支持体を作り、その下引層上
にグラビア印刷用写真感光材料のバツキング層を
塗設した。各評価結果は第4表の通りであつた。
【表】 第4表から明らかなように、本発明例(5)〜(8)は
いずれも、評価した4項目とも優れている事がわ
かる。 実施例 5 上層塗布前に、下引済ポリエステルフイルム表
面に30W/m2minの処理強度のコロナ放電処理を
する以外実施例−1と同様な方法で、下引済ポリ
エステルフイルムを作成し、この下引層上にグラ
ビア印刷用写真感光材料バツキング層を塗設し
た。各評価結果は第5表の通りであつた。
【表】 第5表から明らかな如く、本発明例(9)はいずれ
も、評価した4項目とも優れていることがわか
る。特に、実施例−4の本発明例(8)と比較して、
処理膜付および乾燥膜付が更に向上していること
がわかる。 比較例 5〜12 第6表に示す共重合体ラテツクス(下引用樹
脂)を用いた以外は実施例−1と同様な方法で、
下引済ポリエステルフイルムを作成し、この下引
層上に印刷感光材料用写真感光性層を塗設した。
各評価結果は第6表の通りであつた。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ポリエステル支持体の少なくとも一面に、3
    〜45重量%の下記一般式〔〕で示される単量
    体、10〜45重量%の下記一般式〔〕で示される
    単量体、および10〜70重量%の下記一般式〔〕
    で示される単量体から実質的に成る共重合体を含
    む水性分散液を塗設して得られる下引層を有する
    ことを特徴とする写真用支持体。 一般式〔〕 〔式中、R1は炭素数2〜4のアルキレン基、
    R2は水素原子またはメチル基を表わす。〕 一般式〔〕 〔式中、R3は炭素数2〜8の直鎖状アルキル
    基を表わす。〕 一般式〔〕 〔式中、R4は水素原子またはメチル基を表わ
    す。R5は炭素数2〜8の直鎖状または分岐状ア
    ルキル基を表わすが、R4が水素原子のときは分
    岐状であり、R4がメチル基のときは直鎖状であ
    る。〕
JP12898682A 1982-07-23 1982-07-26 写真用支持体 Granted JPS5919940A (ja)

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DE19833326507 DE3326507A1 (de) 1982-07-23 1983-07-22 Photographischer schichttraeger
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