JPH0136609B2 - - Google Patents

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JPH0136609B2
JPH0136609B2 JP56183194A JP18319481A JPH0136609B2 JP H0136609 B2 JPH0136609 B2 JP H0136609B2 JP 56183194 A JP56183194 A JP 56183194A JP 18319481 A JP18319481 A JP 18319481A JP H0136609 B2 JPH0136609 B2 JP H0136609B2
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JP
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acrylate
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compound
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methacrylate
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Furantsu Moreire Maikuru
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Eastman Kodak Co
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Eastman Kodak Co
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Publication date
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Publication of JPH0136609B2 publication Critical patent/JPH0136609B2/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F20/30—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、リソグラフイー、マイクロエレクト
ロニクス及び関連技術に有用な要素の製造に特に
有用な感光性重合性組成物に関する。 フオトレジストのような感光性組成物の特別の
用途には若干の性質が組合わされて併存する必要
がある。レジスト組成物はフレキシブルで、支持
体に良好に付着しなければならないばかりでな
く、レジストを高温にさらす半導体製品に有用で
あるには高温抵抗性を有しなければならない。更
に、ネガ型レジストの場合には、所定の重合度を
生ずるのに必要な露光量を減少するために、より
早い重合速度が常に求められている。これらの特
性をすべて有するフオトレジストを開発するには
著しい困難があつた。 ネガ型感光性フオトレジスト組成物は通常、重
合性モノマー、モノマーの重合を光で活性化する
光開始剤、及びポリマー結合剤を含む。従来使用
したモノマーの代表例は、フタル酸のジエステ
ル、例えば米国特許第4230790号明細書に記載さ
れているものである。しかしながら、このような
エステルは本発明により利用されうる速度に比べ
て速度を遅延する成物を製造する。 本発明によれば、従来の組成物より優れた重合
速度を生ずる感光性重合性組成物が好適に得られ
る。このような改良された速度は、高温抵抗性の
ような、他の所望の性質を犠性にすることなく得
られる。 前記特徴は、重合性モノマー、ポリマー結合剤
及び光開始剤組成物を含み、前記重合性モノマー
の少くとも10重量％が一般式： 〔式中Ｒは水素または炭素原子数１〜５個のアル
キル基を表わし、ｎは２〜10の整数を表わす〕の
化合物であることを特徴とする感光性重合性組成
物によつて達成される。 活性化光線に低濃度で暴露することによつて、
モノマーがベンゼン環上に１個より多数のアクリ
レート置換基を有する同様のモノマーに比べて優
れた光重合速度が達成される。露光しながら組成
物を加熱することにより速度は更に増加する。 前記の安息香酸のモノアクリレートエステル
は、高級アクリレートエステル、例えばジアクリ
レートまたはトリアクリレートエステルに比べて
感光性組成物の重合速度を向上させる。モノマー
が本発明のモノアクリレートを含まない同様の組
成物に比べて、少なくとも0.15logEの検出しうる
速度の向上が本発明の組成物によつて生じる。本
発明に使用する「モノアクリレート」は、ただ１
個のアクリレート置換基が存在する安息香酸のエ
ステルに関するものである。モノマー混合物を作
るため、他のアクリレート、例えばジアクリレー
トまたはトリアクリレートエステルを包含させる
ことができるが、好ましい組成物は、全モノマー
混合物（以下単に「モノマー」と記す）の少なく
とも10重量％が本発明のモノアクリレートから成
る組成物である。モノマーの重量の50％より多く
がモノアクリレートである場合に、重合速度の最
大の改良が起る。 本発明の改良された重合性組成物は、重合性モ
ノマー、ポリマー結合剤及び反応に関与する光開
始剤を含む。露光すると、付加重合が起る。「付
加重合」とは１個の光子が生長するポリマーに１
個より多くの反復単位を付加させる連鎖重合反応
を意味する。このような付加重合は、特定のメカ
ニズムに限定されるものではないが、遊離基の生
成を含むのが好ましい。 本発明によれば、モノマーは前記の構造を有す
る。該構造式中のＲは例えば−Ｈまたは−CH3で
ある。特に好ましくはモノアクリレートにおいて
は、ｂは２〜６の整数である。 特に好ましい特定のモノアクリレートはベンゾ
イルオキシエチルアクリレート、ベンゾイルオキ
シプロピルアクリレート、ベンゾイルオキシブチ
ルアクリレート、ベンゾイルオキシペンチルアク
リレート、ベンゾイルオキシヘキシルアクリレー
ト、ベンゾイルオキシエチルメタクリレート、ベ
ンゾイルオキシプロピルメタクリレート、ベンゾ
イルオキシブチルメタクリレート、ベンゾイルオ
キシペンチルメタクリレート及びベンゾイルオキ
シヘキシルメタクリレートである。 モノアクリレートモノマーは従来法により合成
される。次に製造方法を説明する。 ６−ヒドロキシヘキシルアクリレート中間体の製
造 下記の製造方法は、６−ヒドロキシヘキシルア
クリレートの製造に特定しているが、一般にヒド
ロキシアルキルアクリレート中間体の製造に使用
される操作である。 G.A.Gareev及びA.Makarovの方法〔Zhurnal
Organischeskoi Khimii、３巻No.６、1000〜1102
頁、1967年６月〕により、アクリル酸60.92ｇ
（0.846モル）、１，６−ヘキサンジオール100ｇ
（0.846モル）、硫酸（触媒として）2.85ｇ（反応
体の1.73重量％）及びα−ニトロソ−β−ナフト
ール（重合抑制剤）0.66ｇ（アクリル酸1.08重量
％）を、デイーン−スターク（Dean−Stark）の
トラツプ及び還流冷却器を付けた500mlのフラス
コ中でベンゼン200mlと混合した。混合物を一夜
還流した。朝になつたら、冷却し、炭酸ナトリウ
ムで中和し、過した後、溶液を真空蒸留した
（0.2mmHgで）。生成物を100〜110℃で集めた（収
率60％）。NMRスペクトルは示した化合物名と
一致した。蒸留した生成物の光重合を、0.15重量
％３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル
フエニルスルフイドの添加により抑制した。 ６−ベンゾイルオキシヘキシアクリレートの製造 下記の製造方法は、６−ベンゾイルオキシヘキ
シルアクリレートの製造に特定しているが、試験
するすべてのベンゾイルオキシアルキルアクリレ
ートの製造に使用される一般的操作である。 １の三頚フラスコ中で６−ヒドロキシヘキシ
ルアクリレート56.51ｇ（0.323モル）及びトリエ
チルアミン36.53ｇ（0.36モル）を１，２−ジク
ロロエタン200mlに溶かした。この撹拌溶液に、
１，２−ジクロロエタン100ml中の塩化ベンゾイ
ル46.13ｇ（0.32モル）を滴加した。系から水分
を排除して保持するため窒素の正圧を使用する。
滴加完了後、混合物を３時間撹拌し、次に生成し
たトリエチルアミン塩酸塩を去した。次にジク
ロロエタン溶液を４％塩酸溶液に磁気により撹拌
しながら滴加した。滴加終了した後、水相の酸性
度を調べた。有機相を分離し、蒸留水2.5で洗
浄した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した
後、溶媒を水アスピレータの真空下に60℃で蒸発
した。 重合性モノマーと共に任意のポリマー結合剤を
使用する。好ましい結合剤は可撓性、粘着性及び
高温抵抗性を与える。フオトレジストに望ましい
性質を達成するには、ポリアクリレート、ポリア
ミド、ポリカーボネート及びポリエステルが好ま
しい。 高温抵抗性を有することの知られている有用な
ポリマー結合剤は例えば下記のものから選択した
反復単位を有するものである： (A) フエニルインダン、例えば米国特許第
3634089号明細書のフエニルインダンジカルボ
キシレート；英国PO9 1FF、ハバント・ハン
プシヤー・ホームウエルのインダストリアル・
オポチユーニテイズ・リミツド（Industrial
Opportunities Limited）によつて1974年２月
に発行されたリサーチ・デイスクロージヤー
（Research Disclosure）、118巻、11833頂並び
に米国特許第3803096号、同第3859364号及び同
第3886124号明細書のフエニルインダンジオー
ル；米国特許第3897253号及び同第3915939号明
細書のフエニルインダンジアミン；並びに米国
特許第3769264号、同第3842042号及び同第
3873320号明細書の水素添加したフエニルイン
ダン； (B) ウイルソン（J.C.Wilson）著リサーチ・デイ
スクロージヤー128巻12833項（1974年12月）の
ポリエステル−アミド前駆物質； (C) 米国特許第3725070号明細書の１，1′−スピ
ロビインダンジカルボキシレート及びリサー
チ・デイスクロージヤー98巻9830項（1972年６
月）の１，1′−スピロビインダンビス−（オキ
シアセテート）； (D) リサーチ・デイスクロージヤー131巻13117項
（1975年３月）の１，1′−スピロビインダン−
５，5′−ジアミン； (E) 米国特許第3859097号明細書の２，2′−スピ
ロビクロマン； (F) 米国特許第3859254号及び同第3902904号明細
書の７，７−ジメチル−7H−ジベンゾ〔ｃ，
ｈ〕キサンテン； (G) リサーチ・デイスクロージヤー98巻9830項
（1972年６月）の９，９−ジメチルキサンテン
−３，６−ビス−（オキシアセテート）； (H) 米国特許第3956751号明細書のキサンチリウ
ム塩； (I) リサーチ・デイスクロージヤー131巻13101項
（1975年３月）の４，4′−（３−フエニル−１−
インダニリデン）−ジフエノール； (J) リサーチ・デイスクロージヤー135巻13568項
（1975年７月）の４，4′−（ヘキサヒドロ−４，
７−メタノインダン−５−イリデン）ジフエノ
ール； (K) リサーチ・デイスクロージヤー120巻12012項
（1974年４月）のビフエノール及びリサーチ・
デイスクロージヤー135巻13569項（1975年７
月）のハロゲン化ビスフエノール； (L) リサーチ・デイスクロージヤー140巻14016項
のスルホニルジベンゾエート； (M) リサーチ・デイスクロージヤー92巻9207項
（1971年12月）の多環式ノルボナン；及び (N) リサーチ・デイスクロージヤー135巻13570
項（1975年７月）の１、２、３、４−テトラヒ
ドロナフチレン。 ポリカーボネート結合剤はビスフエノール類及
びホスゲンから製造するのが好ましい。処理のた
め１，１，１−トリクロロエタンに可溶性にする
ために、ビスフエノールＡを好ましくは他のビス
フエノールと共重合させるか、または結晶性の低
いビスフエノールをホモ重合させる。有用なポリ
カーボネートの代表的なものは下記のとおりであ
る： (a) n′は０〜80モル％の間で変動し、m′は20〜
100モル％の間で変動しうる： １：n′＝m′＝50；Q1＝Q2＝−CH3；Ｘ＝Ｙ＝
Cl ２：n′＝m′＝50；Q1＝CH3、Q2＝CH2CH3；
Ｘ＝Ｙ＝Ｈ ３：n′＝80；m′＝20；Q1＝Q2＝−CH3；Ｘ＝
Ｙ＝Cl ４：n′＝m′＝50；Q1Q2＝
【式】； Ｘ＝Ｙ＝Ｈ ５：n′＝m′＝50；Q1Q2＝
【式】；Ｘ＝Ｙ ＝Ｈ ６：n′＝m′＝50：Q1＝Q2＝−CH3；Ｘ＝Ｙ＝
CH3 ７：n′＝m′＝50；Q1＝Q2＝−CH3；Ｘ＝Ｈ、
Ｙ＝CH3 (b) n′は０であり、m′は100である： １：Q1＝Q2＝−CH3；Ｘ＝Ｙ＝Cl ２：Q1＝CH3；Q2＝CH2CH3；Ｘ＝Ｙ＝Ｈ ３：Q1＝Q2＝−CH3；Ｘ＝Ｙ＝CH3 ４：Q1＝Q2＝−CH3；Ｘ＝Ｈ、Ｙ＝CH3 ５：Q1Q2＝
【式】；Ｘ＝Ｙ＝Ｈ ６：Q1Q2＝
【式】；Ｘ＝Ｙ＝Ｈ ポリエステル結合剤は種々のジ酸及びジオール
から製造される。１，１，１−トリクロロエタン
への溶解性は、アルキル置換芳香族ジ酸、脂肪族
ジ酸、アルキレンジオール、アルキル置換ビスフ
エノール、ハロゲン化ビスフエノールまたは嵩高
い脂肪族架橋を有するビスフエノールを使用する
ことによつて好適に得られる。構造式 を有するフエニルインダンジカルボン酸は特に有
用である。有用なポリエステルの代表的なものは
下記のとおりである： 式中の記号は下記のものを表わす： 式中記号は下記のものを表わす： n″＝20〜80モル％ m″＝０〜80モル％ r′＝20〜80モル％ 殊にn″＝40〜80モル％、m″＝０〜60モル％、
r′＝20〜60モル％が好ましい。 前記結合剤のうち、高温抵抗性のため特に好ま
しいものは、下記の構造式を有するポリマーであ
る： 〔式中R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立に水
素、炭素原子数１〜３個のアルキル基、例えばメ
チル基、エチル基及びプロピル基、またはハロゲ
ン、例えば塩素若しくは弗素を表わし、R5、R6、
R7、R8及びR9はそれぞれ独立に炭素原子数１〜
10個のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基及びヘキシル基を表わし、Ｑは炭素原
子数６〜10個のアリーレン基、例えばフエニレン
基またはナフタレン基を表わし、Ｔは炭素原子数
１〜10個のアルキレン基、例えばメチレン基、エ
チレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレ
ン基及びデシレン基、またはＱについて記載した
アリーレン基を表わし、t′、t″、u′、u″及びv′は
それぞれ１または２の整数を表わし、v″は１また
は０であり、ｘ及びｙは０ｘ50、０ｙ80
になるようなモル％である。〕 このようなポリマー結合剤の製造方法を更に説
明するため、下記の製造方法を示す： 製造例 １ ポリ〔４，4′−イソプロピリデンジフエニレン
−コ−１，１，３−トリメチル−３−フエニル
インダン−５，4′−ジカルボキシレート（70：
30）％ｍアゼレート〕の製造 スチレンススチール撹拌機及び真空アダプター
を付けた500mlのポリマーフラスコに、５−カル
ボキシ−３−（４−カルボキシフエニル）−１，
１，３−トリメチルインダン45.08ｇ（0.14モ
ル）、アゼライン酸11.3ｇ（0.06モル）及び４，
4′−イソプロピリデンジフエニレンジアセテート
62.47ｇ（0.20モル）を装入した。真空（13mmHg）
を適用した。次に、フラスコを300℃±３℃に保
持した塩浴中に浸漬し、その間混合物を徐々に撹
拌した。約10分後に、酢酸が留出し始めた。１
１／２時間後（混合物は澄明で、濃稠であつた）、圧
力を注意深く約0.15mmHgに低減させた。撹拌が
困難になるまで（45分）、反応を続けた。ポリマ
ーが188℃のTgを有する淡黄色ガラス状物として
単離された。 製造例 ２ ポリ〔４，4′−イソプロピリデンジフエニレン
−コ−４，4′−イソプロピリデンビス（３，５
−ジクロロフエニレン）−４，4′−イソプロピ
リデンビス（３，５−ジメチルフエニレン）
（20：20：60）％ｍテレフタレート〕 このポリエステルは、塩化テレフタロイル
14.21ｇ（0.07モル）、ビスフエノールA3.21ｇ
（0.014モル）、３，３，′５，5′−テトラメチルビ
スフエノールA11.94ｇ（0.042ミル）、３，3′，
５，5′−テトラクロロビスフエノールA5.12ｇ
（0.014モル）及びトリエチルアミン14.8ｇから製
造した。これらの原料を乾いた500mlのポリマー
フラスコ中でジクロロメタン100mlに溶かした。
反応を３時間続け、その温度で混合物を焼結ガラ
スロートにより過した沈殿したトリエチルアミ
ン塩酸塩を除去した。水で２回洗浄した後、溶液
をワーリング（Waring）ブレンダー中でメタノ
ール３中で沈殿し、沈殿したポリマーをメタノ
ールで数回洗浄した。次にポリマーを真空オーブ
ン中窒素雰囲気で100℃で一夜乾燥した。ポリマ
ーは239℃のTgを有することが判つた。 任意の常用の光開始剤組成物が本発明に有用で
ある。ミヒラーケトン及びベンゾフエノンから成
る共開始剤組成物、並びに1979年４月３日発行の
米国特許第4147552号明細書に記載されている３
−ケトクマリンが特に好ましい。水溶性ケトクマ
リンも有用である。 光開始剤組成物の量は限定的であるとは思われ
ない。有用な量は乾燥固形分１ｇ当り0.0002〜
0.2ミリモルの量である。好ましい量は１ｇ当り
0.001〜0.01ミリモルである。 モノマーの量は全乾燥固形分の20〜45重量％の
量であるのが好ましい。 組成物に場合により他の成分、例えば可塑剤、
安定剤、染料等を添加する。それらの量は常用の
量であり、所期の用途により変動する。 本発明の組成物は支持体上に、25〜1000ｍの乾
燥厚で感光性被覆として施して画像形成要素を形
成する。組成物を被覆として施すには、種々の従
来技術が有用である。これらの技術は噴霧被覆、
回転被覆、カーテ被覆及びロール被覆等である。 支持体上に被覆すべき組成物の溶液を製造する
ため、任意の適当な溶媒を選択することができ
る。常用の現像剤を使用して未重合、未露光領域
を除去することにより画像に応じて露光された被
覆を現像する。有用な溶媒及び現像剤は、例えば
１，１，１−トリクロロエタン、ジクロロメタ
ン、アセトン、ベンゼン、アルコール、エーテル
及びトルエンである。 組成物に対して支持体を使用する場合には、写
真用支持体を含めて種々の公知材料から支持体を
選択する。従つて、有用な支持体はポリマーフイ
ルム；木材繊維、例えば紙；金属シート及び箔；
ガラス；並びに接着性、帯電防止性、寸法安定
性、摩耗性、硬度、保耗性及び／または支持体表
面の望ましいと思われる他の性質を向上させるた
め１層以上の下塗層を有するセラミツク支持体で
ある。 有用なポリマーフイルム支持体は、ニトロセル
ロース及びセルロースエステル、例えば三酢酸セ
ルロース及び二酢酸セルロース、ポリスチレン、
ポリアミド、塩化ビニルのホモポリマー及びコポ
リマー、ポリ（ビニルアセタール）、ポリカーボ
ネート、オレフインのホモポリマー及びコポリマ
ー、例えばポリエチレン及びポリプロピレン、並
びに二塩基性芳香族カルボン酸と二価アルコール
とのポリエステル、例えばポリ（エチレンテレフ
タレート）のフイルムを含む。 有用な紙支持体は、部分的にアセチル化されて
いるか、またはパライタ及び／またはポリオレフ
イン、特に炭素原子数２〜10個のα−オレフイン
のポリマー、例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、及びエチレンとプロピレンとのコポリマーで
被覆したものを含む。 有用な支持体の詳細は更に、英国P09 1EF、
ハンプシヤー・ハバント・ホームウエルのインダ
ストリアル・オポチユニテイーズ・リミテイドに
より発行されたリサーチ・デイスクロージヤー
176巻発行No.17643、章（1978年12月）に記載
されている。 更に、組成物を含む画像形成要素を、温度を例
えば50〜70℃に高めて露光することによつて、付
加的速度、即ち所定の露光レベルで一層高い濃度
が得られると思われる。 本発明の組成物は広範な用途、例えば本発明の
組成物を金属支持体上に有する要素に有用であ
る。特に好ましい金属支持体は銅箔である。この
ような要素は、箔を所望のパターンにエツチング
するマイクロエレクトロニクス及びフオトフアブ
リケーシヨンに有用である。このような用途で
は、本発明の光重合性組成物はネガ型レジストと
して作用し、このレジストを露光し、現像する。
ネガ型レジストとしてこのように使用する若干の
例は米国特許第3795043号明細書に記載されてい
る。 更に、本発明により製造した組成物は、リソグ
ラフイー用組成物、非画像形成重合被覆及び他の
製品として有用である。 次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 例 １〜６ 本発明のモノアクリレートの濃度の増加の重合
速度に対する作用を証明するため、下記の組成物
の被覆溶液を選択したが、モノマーは２−ベンゾ
イルオキシエチルアクリレート、本発明のモノア
クリレート、及びトリアクリレート対応物、即ち
トリス（２−アクリロイルオキシエチル）−１，
３，５−ベンゼントリカルボキシレートの混合物
であつた。第表に記載したパーセントは全モノ
マー中の２−ベンゾイルオキシエチルアクリレー
トの重量％である。 被覆溶液の処方 ポリ〔４，4′−イソプロピリデンジフエニレン
１，１，３−トリメチル−３−フエニルインダン
−５，4′−ジカルボキシレート：アゼレート
（70：30）％ｍ〕 ４ｇ 全モノマー 2.4ｇ ベンゾフエノン 0.18ｇ ミヒラーのケトン 0.03ｇ ジクロロメタン 12ｇ 配合物を厚さ75μｍの銅支持体に300μｍのコー
テイングナフイで被覆した。被覆を18℃で５分、
38℃で５分、55℃で５分、最後に90℃で10分、空
気循環炉中で焼付けた。被覆をコライト
（Colight）から商品名「エツクスポーザー
（Xposer）」の下で入手しうる露光装置中でコダ
ツクのＴ−14コントロール・スケールを通して室
温で３分間露光した。ステツプが１段上がる毎
に、0.15logEの速度増加を意味する。結果を第
表に示す。
【表】 結果を第１図に曲線１０として示す。少なくと
も１ステツプ（0.15logE）の速度増加を生ずるの
に10％未満のモノアクリレートで充分であつた。 例 ７〜12 モノマー混合物として６−ベンゾイルオキシヘ
キシルアクリレート及びトリス（６−アクリロイ
ルオキシヘキシル）−１，３，５−ベンゼントリ
カルボキシレートを使用して例１の操作を繰返し
た。混合物中に含まれる６−ベンゾイルオキシヘ
キシルアクリレートの重量％を第表に結果と共
に示す。
【表】 結果を第１図に曲線２０と示す。 例 13〜14 モノマー混合物として２−ベンゾイルオキシエ
チルアクリレート及びビス（２−アクリロイルオ
キシエチル）フタレートを使用して例１を繰返し
た。混合物中に含まれる２−ベンゾイルオキシエ
チルアクリレートの重量％及び結果を第表に示
す。
【表】 第表に示したポリマー結合剤を使用して例９
の操作を繰返した。
【表】
【表】 〓アクリロイド
(Acryloid)A−11〓の下に
入手されるポリ(メチル
メタクリレート)
例16の低い結果は、この結合剤を含む組成物が
失販であることを意味するものではない。むし
ろ、この結合剤を含む組成物については一般に一
層高い露光レベルが必要であること及びゼロ％を
含めて全重量％範囲でモノアクリレートを含む組
成物系を例７〜12のように試験すれば、50重量％
のモノアクリレートに関して得られる速度はモノ
アクリレートゼロ％に関する速度より著しく早い
であろうことが推察される。 例 18 ３−ベンゾイルオキシプロピルアクリレート及
びトリス−（３−アクリロイルオキシプロピル）−
１，３，５−ベンゼントリカルボキシレートの
50：50重量％モノマー混合物を使用し例３の操作
を繰返した。段階の番号は５〜６であつた。
【図面の簡単な説明】
第１図はモノアクリレートの濃度と組成物の重
合速度との関係を示すグラフである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 重合性モノマー、ポリマー結合剤及び光開始
    剤組成物を含む感光性重合性組成物において、前
    記重合性モノマーの少なくとも10重量％が一般式
    （）： 〔式中Ｒは水素または炭素原子数１〜５個のアル
    キル基を表し、ｎは２〜10の整数を表す〕の化合
    物であることを特徴とする感光性重合性組成物。 ２ 一般式（）の化合物が重合性モノマーの少
    なくとも50重量％である特許請求の範囲第１項記
    載の組成物。 ３ 一般式（）の化合物がベンゾイルオキシエ
    チルアクリレートまたはベンゾイルオキシエチル
    メタクリレートである特許請求の範囲第１項また
    は第２項記載の組成物。 ４ 一般式（）の化合物がベンゾイルオキシプ
    ロピルアクリレートまたはベンゾイルオキシプロ
    ピルメタクリレートである特許請求の範囲第１項
    または第２項記載の組成物。 ５ 一般式（）の化合物がベンゾイルオキシブ
    チルアクリレートまたはベンゾイルオキシブチル
    メタクリレートである特許請求の範囲第１項また
    は第２項記載の組成物。 ６ 一般式（）の化合物がベンゾイルオキシペ
    ンチルアクリレートまたはベンゾイルオキシペン
    チルメタクリレートである特許請求の範囲第１項
    または第２項記載の組成物。 ７ 一般式（）の化合物がベンゾイルオキシヘ
    キシルアクリレートまたはベンゾイルオキシヘキ
    シルメタクリレートである特許請求の範囲第１項
    または第２項記載の組成物。
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