JPH01297832A - フィルムキャリア - Google Patents

フィルムキャリア

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Publication number
JPH01297832A
JPH01297832A JP12928388A JP12928388A JPH01297832A JP H01297832 A JPH01297832 A JP H01297832A JP 12928388 A JP12928388 A JP 12928388A JP 12928388 A JP12928388 A JP 12928388A JP H01297832 A JPH01297832 A JP H01297832A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film carrier
plating
inner lead
film
mounting
Prior art date
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Pending
Application number
JP12928388A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiro Furukawa
古川 和弘
Toshitami Komura
香村 利民
Yoshihiro Namikawa
南川 芳廣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、片持ち梁状のインナーリートを有する電子部
品搭載用のフィルムキャリアに関するものである。
(従来の技術) 従来、この種のフィルムキャリアにあっては、一般には
第5図〜第9図に示すように、樹脂フィルム(11)に
電子部品搭載用のデバイスホール〔15〕を形成し、導
体層(12)をはり合せた後に任意のパターンを形成し
、片持ち梁状のいわゆるインナーリート(16)を形成
していた。
そして、さらに最近の高密度化の要求からフィルムキャ
リアのインナーリード(16)の数も多ピン化I7、か
つ線幅も狭くなる傾向にある。
しかしながら、この種のフィルムキャリアにあっては、
以下のような欠点かある。
第1に、デバイスホール(15)を形成した後にインナ
ーリード(16)を含むパターニングを行うために、エ
ッチンク工程以降、つまりインナーリード形成後の工程
において、インナーリード(16)か曲がったり折れた
りする。
又、最近の高密度化の流れの中て、インナーリート(1
6)の線幅か狭くなったり、導体層(12)の厚みか薄
くなったりして、インナーリートの曲りや折れなどの損
傷の度合いはより顕著になる。
(発明か解決しようとする課題) 本発明は以トのような実状に鑑みてなされたものてあり
、その解決しようとする課題は、インナーリートの曲り
・折れ等の損傷である。
そして、本発明の目的とするところは、ト述した従来技
術の問題点を除去・改善し、インナーリートの曲り・折
れの少ない高歩留りのフィルムキャリアを提供すること
にある。
(課題を解決するための手段) 以上の課題を解決するために本発明か採った手段は、実
施例に対応する第1図〜第4図を参照して説明すると、
樹脂フィルム(1)上に導体パターン(3)か形成され
、半導体等か搭載される電子部品搭載用フィルムキャリ
アにおいて、フィルム(1)上に導体層(2)を固着し
た後、任意のパターンを形成し、バリアメツキ(4)を
施した後、化学的処理等によって、半導体搭載用のデバ
イスホール(5)を形成した後、任意により金メツキを
行うことを特徴とする゛電子部品搭載用フィルムキャリ
アである。
次に本発明をその製造方法の図面に基づいて詳細に説明
する。
第1図〜第4図は、その代表的な製造方法を示す図であ
り、順に以下説明する。
まず、第11XIに示すように、樹脂フィルム(1)に
導体パターン(3)を形成すべく導体層(2)をはりつ
ける。
次に、第2図に示すように感光性樹脂等を使用して所望
の導体パターン(3)を形成する。
さらに、第3図に示すようにニッケル又は鉛、半田等の
バリアメツキ(4)を施す。
次に、第41Aに示すように半導体搭載用に任意の形状
のデバイスホール(5)を、たとえばケミカルエッチン
ク等により形成する。
最後に、ボンデインク用に金メツキ、或いはスズメツキ
をバリアメツキ層(4)の上に施し、所望のフィルムキ
ャリアとする。
(発明の作用) 木発明か以上のような手段を採ることによって以下のよ
うな作用かある。
すなわち、半導体搭載用のデバイスホール(5)が、導
体パターン(3)形成し、バリアメツキ(4)を施した
後に、形成されることにより、インナーリート(6)の
曲りや折れ等の損傷を防ぐことかてき、さらには歩留り
の向上につながるのである。
(実施例) 実施例1 第1図〜第4図は本発明の実施例に係るフィルムキャリ
アの断面図を示したものである。
ます、ポリイミドフィルム(0,125mm厚)に電解
銅箔(35ルm)を接着剤を介して貼り合せ、感光性樹
脂により所望のパターンを形成する。その後、電解ニッ
ケルメッキを約3gm施した後、強アルカリ性のエツチ
ング液により、所望のデバイスホールを形成:すること
によりインナーソー1一部を形成し、さらに電解金−メ
ツキを0.51Lm施すことにより、所望のフィルムキ
ャリアか得られた。
実施例2 ポリイミドフィルム(0,075朧鳳厚)に圧延銅箔(
35ILm )を接着剤を介して貼り合せ、液体レジス
トをコーティングして、ホトリソ技術により所望の導体
パターンを形成する。その後、鉛メツキを施した後、レ
ーザー加工によりポリイミドフィルムに任意の形状の半
導体搭載用のデバイスホールな形成する。そして、さら
に無電解スズメツキを0.5JLm施すことにより所望
のフィルムキャリアが得られた。
(発明の効果) 以上詳述した通り1本発明に係る電子部品搭載用フィル
ムキャリアにあっては、 「フィルム上に導体パターンが形成され、電子部品が搭
載される電子部品搭載用フイルムキャリアにおいて、ハ
リアメツキ工程を半導体搭載用デバイスホール形成工程
の前に行うことを特徴とするフィルムキャリア1 にその特徴かあり、これによりインナーリート巾か細く
なっても、製造工程中においてのインナーリートの折れ
・曲り等の損傷を防ぐことかでき、歩留りも向−ヒし生
産性の良いフィルムキャリアを提供することかできるも
である。
【図面の簡単な説明】
第11M〜第4図のそれぞれは本発明に係るフィルムキ
ャリアの製造方法を順に示す断面図、第5図〜第9図は
従来の製造方法を順に示す断面図である。 符  −け  の  説  明 1.11−・・樹脂フィルム、2,12・・・導体層、
3.13−・・導体パターン、4.14・・・ハリアメ
・・ツキ層、5,15・・・デバイスホール、6.16
・・・インナーリート。 第8図 ロξヨ三F 第9図 口5零=な

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  フィルム上に導体パターンか形成され、電子部品が搭
    載される電子部品搭載用フィルムキャリアにおいて、バ
    リアメタルメッキ工程を半導体搭載用のデバイスホール
    形成工程の前に行うことを特徴とするフィルムキャリア
JP12928388A 1988-05-25 1988-05-25 フィルムキャリア Pending JPH01297832A (ja)

Priority Applications (1)

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JP12928388A JPH01297832A (ja) 1988-05-25 1988-05-25 フィルムキャリア

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JP12928388A JPH01297832A (ja) 1988-05-25 1988-05-25 フィルムキャリア

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JPH01297832A true JPH01297832A (ja) 1989-11-30

Family

ID=15005754

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JP12928388A Pending JPH01297832A (ja) 1988-05-25 1988-05-25 フィルムキャリア

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