JPH01290537A - 光学素子の製造方法 - Google Patents
光学素子の製造方法Info
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- JPH01290537A JPH01290537A JP11805788A JP11805788A JPH01290537A JP H01290537 A JPH01290537 A JP H01290537A JP 11805788 A JP11805788 A JP 11805788A JP 11805788 A JP11805788 A JP 11805788A JP H01290537 A JPH01290537 A JP H01290537A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B35/00—Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B25/00—Annealing glass products
- C03B25/04—Annealing glass products in a continuous way
- C03B25/06—Annealing glass products in a continuous way with horizontal displacement of the glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
- C03B29/04—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a continuous way
- C03B29/06—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a continuous way with horizontal displacement of the products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/86—Linear series of multiple press moulds
- C03B2215/87—Linear series of multiple press moulds with change of transportation direction in the horizontal plane, e.g. rectangular or "U" shape serial transport
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Blow-Moulding Or Thermoforming Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光学素子のプレス成形方法に関し、プレス成
形後の後加工を不要とした高f+’1度光学素子を連続
的に製造できる光学素子の製造方法に関する。
形後の後加工を不要とした高f+’1度光学素子を連続
的に製造できる光学素子の製造方法に関する。
(従来の技術)
近年、所定の表面精度をイ1°する成形III型内に光
学素子材料を収容してプレス成形することにより、研削
及び研摩簀の後加りを不・拐とした高γ11度光学面を
有する光学素子を成形する方法が開発されている。
学素子材料を収容してプレス成形することにより、研削
及び研摩簀の後加りを不・拐とした高γ11度光学面を
有する光学素子を成形する方法が開発されている。
このようなプレス成形法を用い、しかも光学素子の連続
成形に好適する光′ヒ素子成形方法は、例えば特開昭5
9−150728号公報或いは特開昭61−26528
号公報に示されたように、光学ふ子の成形用素材を成形
用型内に収容配置して、この素材を型内で保持したまま
加熱部と成形部と冷却部とを有する連続炉内に順次取入
れ、加熱部にて成形用型とともに成形用素材を成形可能
な温度まで加熱軟化した後、成形部にてプレスし1次に
冷却部にてプレス時における成形用型の状態を維持した
まま成形用素材がガラス転移点以トになるまで冷却し、
しかる後型内から成形品を取出すという゛工程を含むも
のである。
成形に好適する光′ヒ素子成形方法は、例えば特開昭5
9−150728号公報或いは特開昭61−26528
号公報に示されたように、光学ふ子の成形用素材を成形
用型内に収容配置して、この素材を型内で保持したまま
加熱部と成形部と冷却部とを有する連続炉内に順次取入
れ、加熱部にて成形用型とともに成形用素材を成形可能
な温度まで加熱軟化した後、成形部にてプレスし1次に
冷却部にてプレス時における成形用型の状態を維持した
まま成形用素材がガラス転移点以トになるまで冷却し、
しかる後型内から成形品を取出すという゛工程を含むも
のである。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながらこのような工程中、光学素子の成形用素材
が成形III能な温度まで加熱される過程において、該
成形用素材は成形用型内にて型の表面に接触するか、又
は近接した状態にあるため、プレス成形前に成形用素材
と型の表面が反応してこの型の表面が侵されてしまうと
いう問題点があった。特に、光学素子の成形用素材が鉛
含有ガラス素材である場合、ガラス素材と型表面の11
X1隔が1mm程度の非接触状態であっても、加熱後に
おいては雪!表面にガラス素材中の鉛成分が付着して該
型表面は急速に侵され、型の表面精度が著しく低ドして
しまう。
が成形III能な温度まで加熱される過程において、該
成形用素材は成形用型内にて型の表面に接触するか、又
は近接した状態にあるため、プレス成形前に成形用素材
と型の表面が反応してこの型の表面が侵されてしまうと
いう問題点があった。特に、光学素子の成形用素材が鉛
含有ガラス素材である場合、ガラス素材と型表面の11
X1隔が1mm程度の非接触状態であっても、加熱後に
おいては雪!表面にガラス素材中の鉛成分が付着して該
型表面は急速に侵され、型の表面精度が著しく低ドして
しまう。
本発明は、このような問題点を解決するために成された
ものでプレス成形における成形用型のガラス成分による
侵食を防11−シて、成形用型の高精度表面を維持する
とともに成形用型の耐久性が低ドしないような光学素子
の製造方法を提供することを目的とする。
ものでプレス成形における成形用型のガラス成分による
侵食を防11−シて、成形用型の高精度表面を維持する
とともに成形用型の耐久性が低ドしないような光学素子
の製造方法を提供することを目的とする。
又、本発明は、プレス成形における成形用型のガラス成
分による侵食を防+hして型の表面精度を維持せしめる
ことにより、高精度光学素子を連続的に製造することが
できる光学素子の製造方法を提供することを目的とする
。
分による侵食を防+hして型の表面精度を維持せしめる
ことにより、高精度光学素子を連続的に製造することが
できる光学素子の製造方法を提供することを目的とする
。
(問題点を解決するための1段)
上述した問題点を解決するために、本発明の光学素子の
製造方法は、少なくとも加熱モ程及びプレス上程をCf
する成形室内に成形用+7.Iを載置した複数のパレッ
トを収容して前記各工程を移送せしめることにより+i
iJ記成形川成形配置した予備成形材を連続的にプレス
成形する光パヒ素子の製造ノJ法であって、 riij
記予備成形材を成形用型から分離した前記パレット上の
所定位置に載置して]111記加熱■−程を移送し1次
いで前記プレスト程に移送する際に前記P備成形材を前
記成形用Q内に移し替え、然る後前記ブレス]−程にて
1i;1記成形用望を押ff、することを特徴とする。
製造方法は、少なくとも加熱モ程及びプレス上程をCf
する成形室内に成形用+7.Iを載置した複数のパレッ
トを収容して前記各工程を移送せしめることにより+i
iJ記成形川成形配置した予備成形材を連続的にプレス
成形する光パヒ素子の製造ノJ法であって、 riij
記予備成形材を成形用型から分離した前記パレット上の
所定位置に載置して]111記加熱■−程を移送し1次
いで前記プレスト程に移送する際に前記P備成形材を前
記成形用Q内に移し替え、然る後前記ブレス]−程にて
1i;1記成形用望を押ff、することを特徴とする。
(作用)
本発明において、r・備成形材とは本発明の製造]−程
以iii!に所定の表面粗さ精度以上に加工された光学
素子の成形用素材を云う。
以iii!に所定の表面粗さ精度以上に加工された光学
素子の成形用素材を云う。
本発明は、土、述したように、成形用Iす!が載置され
た複数のパレットを成形室内に移送して5詠成形室内の
加熱工程及びブレス[−程にて所定の加「。
た複数のパレットを成形室内に移送して5詠成形室内の
加熱工程及びブレス[−程にて所定の加「。
を施すように構成されているから、光学jf:Fの連続
成形か11f能である。
成形か11f能である。
しかも、1−述のような光学素子の連続成形において、
−予備成形材は、1;玄で備成形材と成形用型との反応
が最も苦しい加熱工程において前記成形材と成形用jす
!とは分離された状態で加熱せしめられ、しかる後、ブ
レス[稈に移送せしめられる。
−予備成形材は、1;玄で備成形材と成形用型との反応
が最も苦しい加熱工程において前記成形材と成形用jす
!とは分離された状態で加熱せしめられ、しかる後、ブ
レス[稈に移送せしめられる。
従って、成形用型内でI′−備成形材を加熱軟化する形
式の成形方法に比べて成形用型の成形用素材の反応によ
って侵される時間がW L < ?j縮され。
式の成形方法に比べて成形用型の成形用素材の反応によ
って侵される時間がW L < ?j縮され。
成形用型の高精度表面を維持することが可能となる。
かくして、本発明においては、成形用型の表面を高精度
研磨することにより高精度表面の光学素子が得られ、し
かも8」−述のような構成により、成形用型2の高精度
表面は比較的長期間にわたり維持されるから2」−述の
ような光学素子の連続成形に好適するものである。
研磨することにより高精度表面の光学素子が得られ、し
かも8」−述のような構成により、成形用型2の高精度
表面は比較的長期間にわたり維持されるから2」−述の
ような光学素子の連続成形に好適するものである。
(実施例)
以ド1本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第1図〜第6図は、本発明の実施例に適用される装置を
示す図であり、この装置の全体の゛[面図が第1図に示
してあり、各部の断面図が第2図〜第6図に示しである
。
示す図であり、この装置の全体の゛[面図が第1図に示
してあり、各部の断面図が第2図〜第6図に示しである
。
この装置の全体的構成は、素材取入室l、加熱部2、素
材移替部3.プレス部5.徐冷部6及び成形品取出室7
から成るものである。素材取入室l、加熱部2.素材移
替部3及びプレス部5は同一ライン状にあり、これらの
ラインと並列して徐冷部6が配設されている。
材移替部3.プレス部5.徐冷部6及び成形品取出室7
から成るものである。素材取入室l、加熱部2.素材移
替部3及びプレス部5は同一ライン状にあり、これらの
ラインと並列して徐冷部6が配設されている。
加熱部2の人口近傍には第1の移送室21が構成され、
この第1の移送室21に1−記素材取入室1が設けられ
ている。プレス部5の出1’l近傍には第2の移送室2
2が構成され、徐冷部6の人「]には第:3の移送室2
3が構成され、これら第2と第コ3の移送室は移送路2
5で連結されている。又、徐冷部6の出L1近傍には第
4の移送室24が構成され、この第4の移送室24には
移動された成形品取出室7が設けられ、第4の移送室2
4と」−9記第1の移送室21とは回送路26で連結さ
れている。このような構成により本成形装置は連続的な
循環経路を成して成形室59を構成している。
この第1の移送室21に1−記素材取入室1が設けられ
ている。プレス部5の出1’l近傍には第2の移送室2
2が構成され、徐冷部6の人「]には第:3の移送室2
3が構成され、これら第2と第コ3の移送室は移送路2
5で連結されている。又、徐冷部6の出L1近傍には第
4の移送室24が構成され、この第4の移送室24には
移動された成形品取出室7が設けられ、第4の移送室2
4と」−9記第1の移送室21とは回送路26で連結さ
れている。このような構成により本成形装置は連続的な
循環経路を成して成形室59を構成している。
11は、この成形室59を移送せしめられるパレットで
あり、該パレットll上には系材載置台12とプレス成
形用の1型1:3及びド4?!、 14とが一定の間隔
を有して配設されている。又、ドを14の外周には、ト
型1;3の載置動作を案内するとともに4−を13の位
置決め川としてガイド部材27がド型I4の上端部より
やや突出するように固設されれている。ト型13及び下
型14のプレス成形面は、人々光学素子機能面を成形す
るための鏡面13a、14aが施されている。
あり、該パレットll上には系材載置台12とプレス成
形用の1型1:3及びド4?!、 14とが一定の間隔
を有して配設されている。又、ドを14の外周には、ト
型1;3の載置動作を案内するとともに4−を13の位
置決め川としてガイド部材27がド型I4の上端部より
やや突出するように固設されれている。ト型13及び下
型14のプレス成形面は、人々光学素子機能面を成形す
るための鏡面13a、14aが施されている。
パレット11をヒ記径路中にて移送せしめる手段として
、第1の移送室21には押出しシリンダー51が設けら
れ、この押出しシリンダーによりパレット11はプレス
部5に移動せしめられる。第2の移送室22には押出し
シリンダー53と引出しシリンダー52とが設けられ、
引出しシリンダー52によりプレス部5に移動せしめら
れたパレット11が第2の移送室22に引出され、押出
しシリンダー53により該第2の移送室に移動されたパ
レット11が第3の移送室23にまで押出される。第3
の移送室23には押出しシリンダー54が設けられ、こ
の押出しシリンダーにより当該第3の移送室23に移動
せしめられたパレット11が第4の移送室24直111
1まで押出される。第4の移送室24には押出しシリン
ダー55と引出しシリンダー56とが設けられており、
引出しシリンダー56により第4の移送室24直11;
1まで移動されたパレット11が1咳第4の移送室24
まで引出される。次いで、この第4の移送室24に移動
されたパレット11は押出しシリンダー55により]■
lび第1の移送室21まで押出される。
、第1の移送室21には押出しシリンダー51が設けら
れ、この押出しシリンダーによりパレット11はプレス
部5に移動せしめられる。第2の移送室22には押出し
シリンダー53と引出しシリンダー52とが設けられ、
引出しシリンダー52によりプレス部5に移動せしめら
れたパレット11が第2の移送室22に引出され、押出
しシリンダー53により該第2の移送室に移動されたパ
レット11が第3の移送室23にまで押出される。第3
の移送室23には押出しシリンダー54が設けられ、こ
の押出しシリンダーにより当該第3の移送室23に移動
せしめられたパレット11が第4の移送室24直111
1まで押出される。第4の移送室24には押出しシリン
ダー55と引出しシリンダー56とが設けられており、
引出しシリンダー56により第4の移送室24直11;
1まで移動されたパレット11が1咳第4の移送室24
まで引出される。次いで、この第4の移送室24に移動
されたパレット11は押出しシリンダー55により]■
lび第1の移送室21まで押出される。
かくして、パレットIIはL述したシリンダーの押出し
或いは引出し動作により各T程に移送され、本装置ηの
成形室59内を移動することができる。なお、パレット
11は成形室59内に設けられた不図小のシールドに載
置され、シリンダーの押出し或は引出しによりレールL
を移動する。
或いは引出し動作により各T程に移送され、本装置ηの
成形室59内を移動することができる。なお、パレット
11は成形室59内に設けられた不図小のシールドに載
置され、シリンダーの押出し或は引出しによりレールL
を移動する。
次に、に記成形室の各部について説明する。
素材移替部2及び成形品数(H室7には」二型13をド
型14に所要間隔をあけて持ヒげるための持」げハンド
16.20 (第4図)が設Gシられている。この持り
げハンドは、不図示のリフト下段によりLト動する。さ
らに、素材移替部3には、素材取入室1にて素材載置台
12十、に配置された素材15をド型141−に移替え
るための吸おフィンガー4が設けられており(第4図)
、上記持ヒげハンド16の作動により1型13が−は持
−ヒげられた後、該吸着ハンド4が作動し、素材15が
1型14−1:の所定位置に移替えられる。この吸着フ
ィンガー4は、■−記のような素材15の移替時に、該
素材I5が11確に下型14ヒの所定位置に配置される
よう、パレットl11−の素材載置台1’ 2とトを1
4とが有する所定間隔の長さだけ正確に串打移動する一
定のストロークを有して作動するように構成されている
。
型14に所要間隔をあけて持ヒげるための持」げハンド
16.20 (第4図)が設Gシられている。この持り
げハンドは、不図示のリフト下段によりLト動する。さ
らに、素材移替部3には、素材取入室1にて素材載置台
12十、に配置された素材15をド型141−に移替え
るための吸おフィンガー4が設けられており(第4図)
、上記持ヒげハンド16の作動により1型13が−は持
−ヒげられた後、該吸着ハンド4が作動し、素材15が
1型14−1:の所定位置に移替えられる。この吸着フ
ィンガー4は、■−記のような素材15の移替時に、該
素材I5が11確に下型14ヒの所定位置に配置される
よう、パレットl11−の素材載置台1’ 2とトを1
4とが有する所定間隔の長さだけ正確に串打移動する一
定のストロークを有して作動するように構成されている
。
叉、木材取入室l及び成形品取出室7には、素材15を
載置台121−に配置したり、成形品18をLIqJ
] 4から取出すための吸着フィンガー19が設けられ
ている(第6図)。
載置台121−に配置したり、成形品18をLIqJ
] 4から取出すための吸着フィンガー19が設けられ
ている(第6図)。
プレス部5には、プレス成形時にlxを13を押J卜す
るためのプレス用ロッド17が設けられている(第5図
)。
るためのプレス用ロッド17が設けられている(第5図
)。
なお、本装置において成形室59の内部は、上”’I
l :3及び下型14を形成するを材が高温トで酸化さ
れるのを防11−するよう、真空排気の後、N2ガス等
の11−酸化性ガスを充填する必・隻があるため5.1
−記の持−Lげハンド16、吸着フィンガー4及びプレ
ス口・ラド1フ等と炉体59外壁との摺動部分には充分
のシールドを施しておく必要がある。
l :3及び下型14を形成するを材が高温トで酸化さ
れるのを防11−するよう、真空排気の後、N2ガス等
の11−酸化性ガスを充填する必・隻があるため5.1
−記の持−Lげハンド16、吸着フィンガー4及びプレ
ス口・ラド1フ等と炉体59外壁との摺動部分には充分
のシールドを施しておく必要がある。
又5本装置においては、図示は省略しであるが、素材1
5を素材取入室lに取入れる際、外気が成形室59の内
部に侵入しないように、雰囲気置換室を設ける必要があ
る。
5を素材取入室lに取入れる際、外気が成形室59の内
部に侵入しないように、雰囲気置換室を設ける必要があ
る。
次に、1−述のように構成された装置の動作について第
2図〜第6図に示すプレス成形工程順に従って説明する
。第2図は素材15が配置されていない状態のパレット
11を示す。
2図〜第6図に示すプレス成形工程順に従って説明する
。第2図は素材15が配置されていない状態のパレット
11を示す。
まず、上記したように、1士jν!13.14の型材の
酸化防1上のために、成形室59の内部を不図小の!二
(空ポンプによりl X l O−”I’nrrまτ真
空排気した後、N2ガス又はその他の非酸化性ガスを充
填する。
酸化防1上のために、成形室59の内部を不図小の!二
(空ポンプによりl X l O−”I’nrrまτ真
空排気した後、N2ガス又はその他の非酸化性ガスを充
填する。
次いで、ヒーター57.58に通電し、炉内温度を所定
イ〆Iにまでl/I−温する。“f11温完−r’ (
Pt、、素材取入室1にて上記雰囲気置換室を通し、吸
着フィンガー19により第ご3図に示すように素材15
を素材取入室1にあるパレットIIの載置台12−ヒに
配置する。
イ〆Iにまでl/I−温する。“f11温完−r’ (
Pt、、素材取入室1にて上記雰囲気置換室を通し、吸
着フィンガー19により第ご3図に示すように素材15
を素材取入室1にあるパレットIIの載置台12−ヒに
配置する。
次に、1−述した如く押出しシリンダー51゜53.5
4.55及び引出しシリンダー52゜56を作動して順
次パレット1!が成形品取出室7から素材取入室1に送
られてくるたびに素材15を」1記の方法で各々の載置
台12トに配置する。
4.55及び引出しシリンダー52゜56を作動して順
次パレット1!が成形品取出室7から素材取入室1に送
られてくるたびに素材15を」1記の方法で各々の載置
台12トに配置する。
このような動作を繰り返し行うことにより、最初のパレ
ット11に供給された素材15と1−12113及び′
F′型1型炉4材移替部コ3付近においてプレス成形に
必・凶な温度にまで加熱された時点で素材15のド型1
4への移替えを行なう。
ット11に供給された素材15と1−12113及び′
F′型1型炉4材移替部コ3付近においてプレス成形に
必・凶な温度にまで加熱された時点で素材15のド型1
4への移替えを行なう。
なお、この時、素材15とヒ苧に3及び下を14とは略
同温度にまで加熱されていることが望ましい。こうする
ことにより、移替後の素材15の温度がl−型13或い
はト型14の温度によって変化することなく最適なプレ
ス温度条件−ドでプレス成形を行なうことができる。
同温度にまで加熱されていることが望ましい。こうする
ことにより、移替後の素材15の温度がl−型13或い
はト型14の温度によって変化することなく最適なプレ
ス温度条件−ドでプレス成形を行なうことができる。
そして、素材移替部:3において、第4図に示すように
、持ヒげハンド16により」二型l:3を持−1−げ、
次いで吸着フィンガー4により素材15を吸着して)′
型14.1=に移替える。この後、押出しシリンダー5
1を押出して素材15の移替えが完rしたパレット11
をプレス部5の位1ηに移動させる。この時、持にげハ
ンド16を除去すると共に、プレス用ロッド17を作動
させ、所定のプレスILにて、−11−7J l 3を
押圧し、素材I5に対するプレス成形を行なう。
、持ヒげハンド16により」二型l:3を持−1−げ、
次いで吸着フィンガー4により素材15を吸着して)′
型14.1=に移替える。この後、押出しシリンダー5
1を押出して素材15の移替えが完rしたパレット11
をプレス部5の位1ηに移動させる。この時、持にげハ
ンド16を除去すると共に、プレス用ロッド17を作動
させ、所定のプレスILにて、−11−7J l 3を
押圧し、素材I5に対するプレス成形を行なう。
次いで、プレス用ロッド17の押1F、を解除し、1−
型13はプレス時における状態を維持したまま、押出し
シリンダー51の作動により、このパレット11はプレ
ス部5から該プレス部5の出し]付近に移動せしめられ
る7 さらに、このパレット11を引出しシリンダー52によ
り引出して第2の移送室22に移動した後、押出しシリ
ンダー5コ3により押出し、移送路25を経て移送室2
;3に移送する。
型13はプレス時における状態を維持したまま、押出し
シリンダー51の作動により、このパレット11はプレ
ス部5から該プレス部5の出し]付近に移動せしめられ
る7 さらに、このパレット11を引出しシリンダー52によ
り引出して第2の移送室22に移動した後、押出しシリ
ンダー5コ3により押出し、移送路25を経て移送室2
;3に移送する。
次いで、パレット11は押出しシリンダー54の押出し
により、成形品の取出室7の方向に押出されるが、押出
し方向の西方には他のパレット11が配列された状態に
あるので、上述のような動作が維続する中で、当1該パ
レット11が徐冷部6の出口付近に令る間J−型13と
ト型I4内で保持された成形品18は徐冷部6を通過し
、ここで徐々に冷却せしめられる。こうして、徐冷部6
の先頭信置まで移動したパレット11は引出しシリンダ
ー56により成形品数111室7に至る。
により、成形品の取出室7の方向に押出されるが、押出
し方向の西方には他のパレット11が配列された状態に
あるので、上述のような動作が維続する中で、当1該パ
レット11が徐冷部6の出口付近に令る間J−型13と
ト型I4内で保持された成形品18は徐冷部6を通過し
、ここで徐々に冷却せしめられる。こうして、徐冷部6
の先頭信置まで移動したパレット11は引出しシリンダ
ー56により成形品数111室7に至る。
次に、持にげハンド20が作動して1−IQi 13が
除去され1次いで吸着フィンガー19により成形品18
が取出される。そして、この成形品取出しの完rしたパ
レット11は押出しシリンダー55の押出しにより回送
路26を経て素材取入室1に移送される。
除去され1次いで吸着フィンガー19により成形品18
が取出される。そして、この成形品取出しの完rしたパ
レット11は押出しシリンダー55の押出しにより回送
路26を経て素材取入室1に移送される。
以l−説明したような実施例装置によれば、素材15は
プレス成形の直11;1のふ材移台え時まで素材載置台
12七に配置され+119113及びトを14から分離
された状態にあるため、素材15と型13.14との反
応が防11−される。勿論、プレス成形時及びその後の
徐冷時において素材15とjν11:3.+4との反応
が生じることは妨げられないが、プレス成形後の降4ト
にあっては、プレス成形時はどの反応も生じず、1−述
した反応時間の短縮効果と合わせ、型の耐久性向ヒにイ
1益となる。
プレス成形の直11;1のふ材移台え時まで素材載置台
12七に配置され+119113及びトを14から分離
された状態にあるため、素材15と型13.14との反
応が防11−される。勿論、プレス成形時及びその後の
徐冷時において素材15とjν11:3.+4との反応
が生じることは妨げられないが、プレス成形後の降4ト
にあっては、プレス成形時はどの反応も生じず、1−述
した反応時間の短縮効果と合わせ、型の耐久性向ヒにイ
1益となる。
叉、本装置は、同一パレットI−で素材の移替えを行な
う構成となっているため、素材載置台12と型との(☆
置の相対的な変化がなく、吸着フィンガー4のハンドリ
ングの位置決め精度が出やすい。叉、吸着フィンガー4
は成形室59の内部にてパレットI+と同時に加熱され
るから、熱膨張によるハンドリングの位置決め精度のj
差が生じにくい。
う構成となっているため、素材載置台12と型との(☆
置の相対的な変化がなく、吸着フィンガー4のハンドリ
ングの位置決め精度が出やすい。叉、吸着フィンガー4
は成形室59の内部にてパレットI+と同時に加熱され
るから、熱膨張によるハンドリングの位置決め精度のj
差が生じにくい。
さらに、本装置によれば、1ニ述したように型の耐久f
Fが保証されると共に、成形面の侵食が防1F。
Fが保証されると共に、成形面の侵食が防1F。
され、比較的長期間に渡り成形面の鏡面性が保持される
から、高精度光ツf:素子の連続製造に好適する。
から、高精度光ツf:素子の連続製造に好適する。
以ト、本発明に適用される他の実施例について第7図を
参照しながら説明する。
参照しながら説明する。
本実施例における光学素子製造装置は、ト記実施例がラ
イン状の工程経路を有し、パレッ上の移動を押出し又は
引出しシリンダーで行なうように構成したのに対し、ロ
ータリーテーブルを用いてパレッ上の回転移動を行なう
構成を有するものである。全体的構成は、第7図に示す
ように、不図小の駆動装置によるロータリーテーブル3
61−に素材取入室31(成形品取出室を兼ねる)、加
熱部32、素材移替部3:3.プレス部:S4及び徐冷
室:35から成り、このテーブル」二にパレット37を
一定ピ、ツチで配置し、このパレット37十、に素材載
置台:38と型39が所定間隔で配設されたものである
。この装置に対して[、記実施例同様に。
イン状の工程経路を有し、パレッ上の移動を押出し又は
引出しシリンダーで行なうように構成したのに対し、ロ
ータリーテーブルを用いてパレッ上の回転移動を行なう
構成を有するものである。全体的構成は、第7図に示す
ように、不図小の駆動装置によるロータリーテーブル3
61−に素材取入室31(成形品取出室を兼ねる)、加
熱部32、素材移替部3:3.プレス部:S4及び徐冷
室:35から成り、このテーブル」二にパレット37を
一定ピ、ツチで配置し、このパレット37十、に素材載
置台:38と型39が所定間隔で配設されたものである
。この装置に対して[、記実施例同様に。
吸着フィンガー及び持にげハンドを使用して、プレス成
形を竹なう。この装置の基本的な動作及び効果は、本装
置がロータリーデープル形式で動作してパレッ上の移動
が行なわれる意思外は1ユ記実施例と略同様である。
形を竹なう。この装置の基本的な動作及び効果は、本装
置がロータリーデープル形式で動作してパレッ上の移動
が行なわれる意思外は1ユ記実施例と略同様である。
(発明の効果)
以1−説明したように、本発明によれば、成形用型のr
6iIi成形材との反応による侵食が防11ユされ。
6iIi成形材との反応による侵食が防11ユされ。
成形用型の耐久性及び成形面の精度保持に有効である。
従って本発明は、光学素子の連続成形に要求される成形
用を表面の精度保持なii)能とし、高精度光学素子を
プレス成形により連続的に製造するのに好適する。
用を表面の精度保持なii)能とし、高精度光学素子を
プレス成形により連続的に製造するのに好適する。
第1図〜第6図は、本発明の光学素子の製造方法に適用
される装置の第1実施例を示す図であり、第1図はその
全体的゛[面図、第2図〜第6図の各り程におけるパレ
ッ上の概略断面図であり、第7図は本発明の他の実施例
を示す全体的概略゛1′−面図である。 1.31・・・素材取入室 2.32・・・加熱部 3.33・・・素材移替部 5.34・・・プレス部 f3,35・・・徐冷部 11.37・・・パレット 12、コ38・・・素+イ載置台 +3・・・」二型 14・・・ド型 代理人 弁理士 山 ド 穣 ゛Iε第2図 第
3図 @4図 第6図 第7図
される装置の第1実施例を示す図であり、第1図はその
全体的゛[面図、第2図〜第6図の各り程におけるパレ
ッ上の概略断面図であり、第7図は本発明の他の実施例
を示す全体的概略゛1′−面図である。 1.31・・・素材取入室 2.32・・・加熱部 3.33・・・素材移替部 5.34・・・プレス部 f3,35・・・徐冷部 11.37・・・パレット 12、コ38・・・素+イ載置台 +3・・・」二型 14・・・ド型 代理人 弁理士 山 ド 穣 ゛Iε第2図 第
3図 @4図 第6図 第7図
Claims (1)
- 少なくとも加熱工程及びプレス工程を有する成形室内に
成形用型を載置した複数のパレットを収容して前記各工
程を移送せしめることにより前記成形用型に配置した予
備成形材を連続的にプレス成形する光学素子の製造方法
であって、前記予備成形材を成形用型から分離した前記
パレット上の所定位置に載置して前記加熱工程を移送し
、次いで前記プレス工程に移送する際に前記予備成形材
を前記成形用型内に移し替え、然る後前記プレス工程に
て前記成形用型を押圧することを特徴とする光学素子の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11805788A JPH01290537A (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 光学素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11805788A JPH01290537A (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 光学素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01290537A true JPH01290537A (ja) | 1989-11-22 |
JPH0445455B2 JPH0445455B2 (ja) | 1992-07-24 |
Family
ID=14726948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11805788A Granted JPH01290537A (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01290537A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004092084A1 (en) * | 2003-04-15 | 2004-10-28 | Raytheon Company | System and method for automated casting of infrared glass optical components |
US7159419B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-01-09 | Umicore Sa | System and method for vapor pressure controlled growth of infrared chalcogenide glasses |
US7159420B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-01-09 | Umicore Sa | System and method for forming infrared glass optical components |
-
1988
- 1988-05-17 JP JP11805788A patent/JPH01290537A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004092084A1 (en) * | 2003-04-15 | 2004-10-28 | Raytheon Company | System and method for automated casting of infrared glass optical components |
US7159419B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-01-09 | Umicore Sa | System and method for vapor pressure controlled growth of infrared chalcogenide glasses |
US7159420B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-01-09 | Umicore Sa | System and method for forming infrared glass optical components |
US7171827B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-02-06 | Umicore Sa | System and method for automated casting of infrared glass optical components |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0445455B2 (ja) | 1992-07-24 |
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