JPH0627007B2 - 光学素子製造装置 - Google Patents

光学素子製造装置

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JPH0627007B2
JPH0627007B2 JP63006923A JP692388A JPH0627007B2 JP H0627007 B2 JPH0627007 B2 JP H0627007B2 JP 63006923 A JP63006923 A JP 63006923A JP 692388 A JP692388 A JP 692388A JP H0627007 B2 JPH0627007 B2 JP H0627007B2
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molding
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chamber
press
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文孝 吉村
勇 執行
智政 中野
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B35/00Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光学素子のプレス成形装置に関し、プレス成
形後の後加工を不要とした高精度光学素子を連続的に製
造できる光学素子製造装置に関する。
(従来の技術) 近年、所定の表面精度を有する成形用型内に光学素子材
料を収容してプレス成形することにより、研削及び研摩
等の後加工を不要とした高精度光学面を有する光学素子
を成形する方法が開発されている。
このようなプレス成形法を用い、しかも光学素子の連続
成形に好適する光学素子成形方法は、例えば特開昭59
−150728号公報或いは特開昭61−26528号
公報に示されたように、光学素子の成形用素材を成形用
型内に収容配置して、この素材を型内で保持したまま加
熱部と成形部と冷却部とを有する連続炉内に順次取入
れ、加熱部にて成形用型とともに成形用素材を成形可能
な温度まで加熱軟化した後、成形部にプレスし、次に冷
却部にてプレス時における成形用型の状態を維持したま
ま成形用素材がガラス転移点以下になるまで冷却し、し
かる後型内から成形品を取出すという工程を含むもので
ある。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながらこのような工程中、光学素子の成形用素材
が成形可能な温度まで加熱される過程において、該成形
用素材は成形用型内にて型の表面に接触するか、又は近
接した状態にあるため、プレス成形前に成形用素材と型
の表面が反応してこの型表面が侵されてしまうという問
題点があった。特に、光学素子の成形用素材が鉛含有ガ
ラス素材である場合、ガラス素材と型表面の間隔が1mm
程度の非接触状態であっても、加熱後においては型表面
にガラス素材中の鉛成分が付着して該型表面は急速に侵
され、型の表面精度が著しく低下してしまう。
本発明者等は、このような問題点を解決すべく、プレス
成形時における成形用型のガラス成分による侵食を防止
して該成形用型の耐久性及び表面精度を維持し、高精度
光学素子を連続的かつ量産的に製造することができる光
学素子製造装置について既に提案してある。
この種の光学素子製造装置において、光学素子成形用素
材をプレス成形するための成形用型が載置された載置台
が、加熱工程を通過する際、成形用型と同時に載置台も
加熱されて昇温し前記成形用型の昇温に影響を与える。
そして、各載置台は互いに当接しながら移動する際、隣
接する他の載置台及び該載置台を案内するガイドレール
等の熱伝達の影響を受ける。しかるに、この際、他の隣
接する載置台或はガイドレールに対する接触状態が各々
の載置台において相違すると各載置台に不均等な熱分布
が生じ、夫々の成形用型の温度が相違したり、同一の成
形用型でも部分的に温度分布が異なるという不都合が生
じる。このため、成形用型が所定のプレス温度より高す
ぎたり、低くぎたり或は不均等な熱分布が生じたりして
良好なプレス温度条件を附与できないという不都合が生
じる。
上述した載置台に不均等な熱分布が生じる場合とは、第
8図に示すように、ガイドレール40に案内されて移送
される載置台41が、他の載置台或はガイドレール40
と接触する状況が例えばゴミの付着或は加工精度等によ
り相違し、接触状況が異なるような場合をいう。なお同
図において、パレット41上に記した斜線は該パレット
が他のパレット及びガイドレール40から熱伝達の影響
を受けた部分を模式的に示したものであり、この斜線部
分が他の部分より高温度に昇温した状況を示している。
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、成形
用型の温度分布のバラツキを抑えて最良のプレス温度で
プレス成形することができる光学素子製造装置を提供す
ることを目的とする。
(問題点を解決するための手段) 上述した問題点を解決するために、本発明の光学素子製
造装置は、光学素子成形用素材を加熱する加熱工程と前
記加熱工程を通過した前記素材をプレス成形するプレス
工程を備えた光学素子製造装置において、前記素材をプ
レス成形するための成形用型が載置された複数の載置台
が前記加熱工程を互いに当接しながら押出し搬送される
ことと、前記各載置台が隣接する他の部材の熱伝達の影
響を回避する回避部を有することを特徴とする。(作
用) 本発明においては、各載置台に隣接する他の部材の熱伝
達の影響を回避する回避部が設けられている。この回避
部の例としては、該載置台の外周に切欠部を設け、或は
同外周に突起部を設けて他の部材との接触面を少なくす
る構成とするか、又は、載置台に加工を施すことなく該
載置台の外周に断熱材を貼り合わせるか、或は上述のよ
うな切欠部を設けた上でこの切欠部に断熱材を貼り合わ
せる構成とすることができる。このような載置台に設け
られた回避部により、隣接する他の部材からの熱伝達の
影響を回避し、成形用型の温度分布にバラツキが生じる
ことを防止することができる。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
第1図は本装置全体の概略平面図であり、第2〜6図は
工程順における本装置各部の断面図であり、第7図は本
実施例の要部を示す斜視図である。
この装置の全体的構成は、素材取入室1、加熱部2、素
材移替部3、プレス部5、徐冷部6及び成形品取出室7
から成るものである。素材取入れ室1、加熱部2、素材
移替部3及びプレス部5は、同一ライン上にあり、これ
らのラインと並列して徐冷部6が配設されている。
加熱部2の入口近傍には第1の移送室21が構成され、
この第1の移送室21に上記素材取入室1が設けられて
いる。プレス部5の出口近傍には第2の移送室22が構
成され、徐冷部6の入口には第3の移送室23が構成さ
れ、これら第2と第3の移送室は移送路25で連結され
ている。又、徐冷部6の出口近傍には第4の移送室24
が構成され、この第4の移送室24には成形品取出室7
が設けられ、第4の移送室24と上記第1の移送室21
とは回送路26で連結されている。このような構成によ
り本成形装置は、連続的な経路を成す成形室59を構成
している。
11は、上記の成形室内を移送せしめられるパレットで
あり、熱伝達率及び耐熱性に優れるSUS303或はS
US304が適する。該パレットの外周四面の夫々には
切欠部30が設けられている。これらの切欠部は夫々の
パレット11について同様の位置及び大きさに設けてあ
り、各パレット11の熱伝達の状況は同様に形成されて
いる。又、同パレット11上には素材載置台12とプレ
ス成形用の上型13及び下型14とが一定の間隔を有し
て配設され、上型13及び下型14のプレス成形面の夫
々には、光学素子機能面を成形するための鏡面13a,
14aが施されている。
パレット11は成形室59内に設けられたガイドレール
28上に複数個載置され、後述するシリンダーの押出し
動作によりガイドレール28上を互いに押圧しながら当
接した状態で移動する。
このようなパレット11によれば、外周面が平坦に形成
された通常のパレット11に比較して、該パレットが隣
接する他のパレット或はガイドレール28との接触面積
は大幅に少なく、他の部材からの熱伝達の影響を受けに
くい。従って、パレット11自体に不均一な熱分布が生
じにくく、又このパレット上に載置された上下型13、
14及び素材載置台12にも不均一な熱分布が生じにく
い。
パレット11を上記成形室中にて移送せしめる手段とし
て、第1図に示すように、第1の移送室21には押出し
シリンダー51が設けられ、この押出しシリンダーによ
りパレット11はプレス部5に移動せしめられる。第2
の移送室22には引出しシリンダー52と押出しシリン
ダー53とが設けられ、引出しシリンダー52によりプ
レス部5に移動せしめられたパレット11が第2の移送
室22に引出され、押出しシリンダー53により該第2
の移送室に移動されたパレット11が第3の移送室23
にまで押出される。第3の移送室23には押出しシリン
ダー54が設けられ、この押出しシリンダーにより当該
第3の移送室23に移動せしめられたパレット11が第
4の移送室24直前まで押れる。第4の移送室24には
引出しシリンダー55と押出しシリンダー56とが設け
られ、引出しシリンダー55により第4の移送室24直
前まで移動されたパレット11が該第4の移送室24に
まで引出され、押出しシリンダー56によりパレット1
1を再び第1の移送室21まで押出す。かくして、パレ
ット11はこれらシリンダーの押出し或いは引出し動作
により各工程に移送され、本装置の成形室59内を移動
する。
次ぎに、上記成形室59の各部について説明する。
加熱部2、素材移替部3及びプレス部5に該当する炉体
にはヒーター57が設けられ、徐冷部6に該当する炉体
にはヒーター58が設けられている。これら各ヒーター
は、素材15の加熱及びプレス後の成形品18の冷却に
用いられる。
素材移替部2及び成形品取出室7には上型13を下型1
4に所要間隔をあけて持ち上げるための持上げハンド1
6、20が設けられている(第4図、第6図)。持上げ
ハンドは、不図示のリフト手段により上下動する。さら
に、素材移替部3には、素材取入室1にて素材載置第1
2上に配置された素材15を下型14上に移し替えるた
めの吸着フィンガー4が設けられており(第4図)、上
記持ち上げハンド16の作動により上型13が一旦持ち
上げられた後、該吸着ハンドが作動し、素材15が下型
14上の所定位置に移し替えられる。この吸着フィンガ
ー4は、上記のような素材15の移替え時に、素材15
が正確に下型14上の所定位置に配置されるよう、パレ
ット11の素材載置第12と下型14とが有する間隔に
対応した一定のストロークを有して作動するように構成
されている。又、素材取り入れ室1及び成形品取出室7
には、素材15を載置台12上に配置したり、成形品1
8を上型13から取り出すための吸着フィンガー19が
設けられている(第6図)。
プレス部5には、プレス成形時に上型13を押圧するた
めのプレス用ロッド17が設けられている(第5図)。
なお、本装置において成形室59の内部は、上型13及
び下型14を形成する型材が高温下で酸化されるのを防
止するよう、真空排気の後、Nガス等の非酸化性ガス
を充填する必要があり、上記の持上げハンド16、吸着
フィンガー4、19及びプレスロッド17等と成形室5
9の外壁との摺動部分には充分のシールドを施し、成形
室内の気密性を確保してある。
次に、上述のように構成された装置の各工程における動
作について第1図の全体平面図及び第2図〜第6図に示
すプレス成形工程順に従って説明する。第2図は素材1
5が配置されていない状態のパレット11を示す。パレ
ット11は、SUS303或はSUS304で形成され
ている。
まず、上記したように、上下型13,14の型材の酸化
防止のために、成形室59の内部を不図示の真空ポンプ
により1×10-2Torrまで真空排気した後、Nガス又
はその他の非酸化性ガスを充填する。
次いで、ヒーター57,58に通電し、成形室の温度を
所定値まで昇温する。昇温完了後、素材取入室1にて上
記雰囲気置換室を通し、吸着フィンガー19により第3
図に示すように素材15を素材取入室1にあるパレット
11を載置台12上に配置する。
次に、上述した如く押出しシリンダー51,53,5
4,55及び引出しシリンダー52,56を作動して順
次パレット11が成形品取出室7から素材取入室1に送
られてくるたびに素材15を上記の方法で各々の載置台
12上に配置する。このような動作を繰り返し行うこと
により、最初のパレット11に供給された素材15と上
型13及び下型14が素材移替部3付近においてプレス
成形に必要な温度にまで加熱された時点で素材15の下
型14への移替えを行なう。なお、この時、素材15と
上型13及び下型14とは略同温度にまで加熱されてい
ることが望ましい。こうすることにより、移替後の素材
15の温度が上型13或いは下型14の温度によって変
化するとなく最適なプレス温度条件下でプレス成形を行
なうことができる。そして、素材移替部36おいて、持
上げハンド16により上型13を持上げ、次いで吸着フ
ィンガー4により素材15を吸着して下型14上に移替
える。この後、素材15の移替えが完了したパレット1
1をプレス部5の位置に移動させる。この時、持上げハ
ンド16を除去すると共に、プレス用ロッド17を作動
させ、所定のプレス圧にて上型13を押圧し、素材15
に対するプレス成形を行なう。次いで、プレス用ロッド
17の押圧を解除し、上型13はプレス時における状態
を維持したまま、該パレット11をプレス部5から第2
の移送室22に移動する。さらに、このパレット11を
移送路25を経て第3の移送室23に移送する。
次いで、パレット11は押出しシリンダー54の押出し
により、成形品の徐冷部6の方向に押出されるが、移動
方向の前方には他のパレット11が配列された状態にあ
るので、上述のような動作が継続する中で、当該パレッ
ト11が徐冷部6の出口付近に至る間上型13と下型1
4内で保持された成形品18は徐冷部6を通過し、ここ
で徐々に冷却せしめられる。次いで、徐冷部6の先頭位
置まで移動したパレット11は成形品取出し室7に移動
せしめられる。
次ぎに、持上げハンド20を作動して上型13を除去
し、次いで吸着フィンガー19により成形品18が取り
出される。そして、この成形品取出しの完了したパレッ
ト11は回送路26を経て素材取入室1に移送され、再
び上述の動作を繰返すことにより連続的な成形品18の
製造が行なわれる。
ちなみに下表において、パレット11に切欠部30を設
けた場合と設けない場合のプレス成形の結果について記
載してある。
なお、上表において、「切欠部あり」の欄の型NOと「切
欠部なし」の欄の型NOはレール28上において同様の状
態にあるパレット11に配置された成形用型を示してお
り、各欄において切欠部ありの場合となしの場合とが比
較してある。
この表からも明らかなように、レール28上において同
様に配置された状態にあるパレット11上に載置された
成形用型であっても、切欠部ありの場合では型温にさほ
どの変化がみられず、プレス成形の結果は良好であった
が、切欠部なしの場合は著しい変化が生じ、プレス不足
或は成形品にあれが生じるという結果を招いている。
従って、本実施例によれば、成形用型の温度分布のバラ
ツキを抑えて良好なプレス温度状態でプレス成形するこ
とができる。
又、本実施例によれは、素材15はプレス成形の直前ま
で素材載置台12上に配置され上型13及び下型14か
ら分離された状態にあるため、素材15と型13,14
との反応が防止される。勿論、プレス成形時及びその後
の徐冷時において素材15と型13,14との反応が生
じることは妨げられないが、プレス成形後の降温下にあ
ってはプレス成形時ほどの反応も生ぜず、上述した反応
時間の短縮効果と合せ、型の耐久性向上に有益となる。
さらに、本実施例装置は、同一パレット上で素材の移替
えを行なう構成となっているため、素材載置台12と型
との相対的な位置変化が発生せず、吸着フィンガー4、
19のハンドリング等の位置決め精度が出やすい。又、
吸着フィンガー4、19は成形室59の内部にてパレッ
ト11と同時に加熱されるから、熱膨張によるハンドリ
ング位置決め精度の誤差が生じにくい。
さらに又、本実施例装置によれば、上述したように型の
耐久性が保証されると共に、成形面の侵食が防止され、
比較的長期間に渡り成形面の鏡面生が保持されるから、
高精度光学素子の連続製造に好適する。
(発明の効果) 以上説明したように本発明によれば、成形用型の載置台
に上述した熱伝達の回避を行なう回避部を設けたことに
より、成形用型の温度分布のバラツキを抑えて良好なプ
レス温度条件でプレス成形することができる。
従って、本発明装置は高精度光学素子をプレス成形によ
り連続的に製造するのに好適する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置の実施例に関する装置全体の概略平
面図であり、第2〜6図は工程順における各部の断面図
であり、第7図は本実施例の要部を示す斜視図であり、
第8図は各載置台が他の部材と接触する状態が相違する
ことによって各々の載置台にバラツキが生じることを説
明するための図である。 2……加熱部 3……素材移替部 5……プレス部 6……徐冷部 11……パレット 12……素材載置台 13……上型 14……下型 30……切欠部 59……成形室

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光学素子成形用素材を加熱する加熱工程と
    前記加熱工程を通過した前記素材をプレス成形するプレ
    ス工程を備えた光学素子製造装置において、前記素材を
    プレス成形するための成形用型が載置された複数の載置
    台が前記加熱工程を搬送されることと、前記各載置台が
    隣接する他の部材の熱伝達の影響を回避する回避部を有
    することを特徴とする光学素子製造装置。
  2. 【請求項2】前記回避部は前記載置台の外周に切欠部を
    設けることにより構成されることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の光学素子製造装置。
JP63006923A 1987-11-20 1988-01-18 光学素子製造装置 Expired - Lifetime JPH0627007B2 (ja)

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JPH01183423A JPH01183423A (ja) 1989-07-21
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JP2001066514A (ja) * 1999-06-21 2001-03-16 Olympus Optical Co Ltd 顕微鏡

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