JPH01183427A - ガラス吸着装置 - Google Patents
ガラス吸着装置Info
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- JPH01183427A JPH01183427A JP691788A JP691788A JPH01183427A JP H01183427 A JPH01183427 A JP H01183427A JP 691788 A JP691788 A JP 691788A JP 691788 A JP691788 A JP 691788A JP H01183427 A JPH01183427 A JP H01183427A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B35/00—Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
- C03B35/005—Transporting hot solid glass products other than sheets or rods, e.g. lenses, prisms, by suction or floatation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、ガラス吸着装置に係り、特に加熱されたガラ
ス素材の表面に痕跡を残すことなく確実に吸着すること
を企図した吸着装置に関する。
ス素材の表面に痕跡を残すことなく確実に吸着すること
を企図した吸着装置に関する。
〔従来技術及びその問題点]
従来の吸着装置では、その先端部にステンレス、アスベ
スト等を用い、プレス成形され冷却されたレンズを吸着
し移送していた。
スト等を用い、プレス成形され冷却されたレンズを吸着
し移送していた。
しかし、ステンレスやアスベストでは、プレス成形され
る前の高温軟化したガラス素材を吸着すると、ガラス表
面に吸着縦路が残るという問題点を有していた。
る前の高温軟化したガラス素材を吸着すると、ガラス表
面に吸着縦路が残るという問題点を有していた。
このような痕跡が残ると、プレス成形後の光学素子の表
面に欠陥が生じ1歩留りが大きく低下してしまう。
面に欠陥が生じ1歩留りが大きく低下してしまう。
[問題点を解決するための手段]
本発明による吸着装置は、
加熱されたガラスと接触する先端部に炭化物系被膜が形
成されていることを特徴とする。
成されていることを特徴とする。
[作用]
上記先端部を炭化物系の被膜で被覆することにより、高
温ガラスと接触しても融着せず吸着朕跡が残らない、し
たがって、光学素子等のガラス製品の製造歩留りが向上
する。また吸着部の母材はガラスと接触しないために、
条件が緩和され、使用できる材料の範囲が広くなり、製
造に都合の良い材料を選択できる。
温ガラスと接触しても融着せず吸着朕跡が残らない、し
たがって、光学素子等のガラス製品の製造歩留りが向上
する。また吸着部の母材はガラスと接触しないために、
条件が緩和され、使用できる材料の範囲が広くなり、製
造に都合の良い材料を選択できる。
炭化物系としては、炭化タングステン、炭化シリコン等
がある。
がある。
吸着部の母材としては、耐熱性および熱膨張率等を考慮
して、超硬合金等を選択できる。
して、超硬合金等を選択できる。
[実施例]
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら詳細に説明
する。
する。
第1図は、本発明による吸着装置の第1実施例の概略的
断面図である。
断面図である。
同図において、吸着部101には吸引口102が設けら
れ、吸引口102内を減圧することでガラス素材lを吸
着する。
れ、吸引口102内を減圧することでガラス素材lを吸
着する。
ガラス素材lと接触する吸着部101の先端部にはWC
の被膜103が形成されて、高温ガラス素材lとの融着
を防止している。
の被膜103が形成されて、高温ガラス素材lとの融着
を防止している。
本実施例は次のように製造される。
まず、吸着部101の母材として、超硬合金又はこれと
熱膨張率が近似した材料を用い、母材の表面をラッピン
グによりRmaxo、1pm以下に平滑化する。
熱膨張率が近似した材料を用い、母材の表面をラッピン
グによりRmaxo、1pm以下に平滑化する。
続いて、この母材上に、PVD法又はCVD法等によっ
て炭化タングステンを被覆する。以下、−例としてPV
D法の中で一般的なスノぐツタリング法により炭化タン
グステンを堆積する方法を示す。
て炭化タングステンを被覆する。以下、−例としてPV
D法の中で一般的なスノぐツタリング法により炭化タン
グステンを堆積する方法を示す。
第2図は、スパッタリング装置の概略的構成図である。
同図において、外壁11内には1本実施例における母材
15を保持するホルダ16、ターゲ−/ )を固定する
陰極13が配置され、更に冷却水の出入口12.Arガ
ス導入口14、炭化水素ガス導入口17および真空引き
排気口18が設けられている。
15を保持するホルダ16、ターゲ−/ )を固定する
陰極13が配置され、更に冷却水の出入口12.Arガ
ス導入口14、炭化水素ガス導入口17および真空引き
排気口18が設けられている。
まず、有機溶剤によって洗浄した母材15をホルダ16
上に固定する。続いて、Arガスを導入し、Arイオン
衝撃により母材15の表面を洗浄する。
上に固定する。続いて、Arガスを導入し、Arイオン
衝撃により母材15の表面を洗浄する。
次に、電極13上にターゲットとしてタングステン19
を固定し、アセチレンガスを導入して衝撃を与えること
により母材15表面に炭化タングステンが付着し被膜1
03を形成する。被膜103の厚さは約IILm程度で
ある。
を固定し、アセチレンガスを導入して衝撃を与えること
により母材15表面に炭化タングステンが付着し被膜1
03を形成する。被膜103の厚さは約IILm程度で
ある。
−例として、logη=14.5 (ηニガラスの粘度
)付近の温度のガラス素材lを吸着する場合を示す、ま
ず、本実施例の吸着部101を不活性ガス雰囲気中で、
前記ガラス素材lと同じ温度又は若干高めの温度にした
。高温のガラス素材lを冷却しないためである。
)付近の温度のガラス素材lを吸着する場合を示す、ま
ず、本実施例の吸着部101を不活性ガス雰囲気中で、
前記ガラス素材lと同じ温度又は若干高めの温度にした
。高温のガラス素材lを冷却しないためである。
そして、図示されていない減圧装置によって吸引口10
2の圧力を下げ、ガラス素材lを吸着してプレス成形装
置へ移送し、そこでプレス成形した。成形されたレンズ
を取出して観察したが、レンズ表面に融着および吸着の
痕跡も、また反応物も見られなかった。
2の圧力を下げ、ガラス素材lを吸着してプレス成形装
置へ移送し、そこでプレス成形した。成形されたレンズ
を取出して観察したが、レンズ表面に融着および吸着の
痕跡も、また反応物も見られなかった。
logη=7.3付近の温度のガラス素材lを吸着する
場合も、同様に融着および吸着の痕跡を見られなかった
。
場合も、同様に融着および吸着の痕跡を見られなかった
。
なお、不活性ガス中で使用するのは、被膜103の表面
酸化を防止するためである。
酸化を防止するためである。
第3図は、本発明の第2実施例の概略的断面図である。
本実施例の吸着部は、中心部107と周辺部106とに
分割された構成となっている。同図において、周辺部1
06は円環104および105で囲まれて構成され、パ
イプ108を通して図示されていない真空ポンプに接続
されている。また、中心部107は円環105に囲まれ
て構成され、パイプ109を通して不図示の減圧装置に
接続されている。更に、円環104および105のガラ
ス素材1と接触する先端部には、上記被膜103が設け
られている。
分割された構成となっている。同図において、周辺部1
06は円環104および105で囲まれて構成され、パ
イプ108を通して図示されていない真空ポンプに接続
されている。また、中心部107は円環105に囲まれ
て構成され、パイプ109を通して不図示の減圧装置に
接続されている。更に、円環104および105のガラ
ス素材1と接触する先端部には、上記被膜103が設け
られている。
このような構成において、真空ポンプを動作させて吸着
を開始すると、周辺部4は負圧となりガラス素材1を吸
着する。更に、減圧装置によって中心部5を適当に減圧
することによって、高温ガラス素材lの中心部分が自重
によって下方へ変形する事態を防止でき、高温で大きな
量のガラス素材でも長時間安定して吸着することができ
る。
を開始すると、周辺部4は負圧となりガラス素材1を吸
着する。更に、減圧装置によって中心部5を適当に減圧
することによって、高温ガラス素材lの中心部分が自重
によって下方へ変形する事態を防止でき、高温で大きな
量のガラス素材でも長時間安定して吸着することができ
る。
また、高温ガラス素材lと接触する先端部には被18i
103が設けられているために、ガラス素材lと融着す
ることもない。
103が設けられているために、ガラス素材lと融着す
ることもない。
なお、自重により変形することがなければ、中心部10
7は減圧せずに外気圧のままでもよい。
7は減圧せずに外気圧のままでもよい。
いずれにしても1本実施例では、周辺部108によって
ガラス素材lを吸着するために、ガラス素材1の例えば
光学有効面が吸引力によって変形する事態を防止できる
。
ガラス素材lを吸着するために、ガラス素材1の例えば
光学有効面が吸引力によって変形する事態を防止できる
。
また、本実施例では、周辺が凹曲面のガラス素材lを吸
着するように円環2および3を配置しているが、これに
限定されるものではなく、任意の曲面に対応する構成で
もよい。
着するように円環2および3を配置しているが、これに
限定されるものではなく、任意の曲面に対応する構成で
もよい。
第4図は1本発明の第3実施例の概略的断面図である。
同図において、吸着部201に設けられた吸引口202
の内側面203は、レンズ素材l側へ開いた円錐状の傾
斜を有している。さらに、内側面203には高温ガラス
素材との融着を防止するためのWCの被11103が形
成されている。
の内側面203は、レンズ素材l側へ開いた円錐状の傾
斜を有している。さらに、内側面203には高温ガラス
素材との融着を防止するためのWCの被11103が形
成されている。
本実施例では内側面が円錐状になっているために、異な
るサイズのガラス素材lであっても吸着することができ
、しかもガラス素材lの外周部だけが接触するために光
学有効面を傷つけることがない、さらに、被膜103に
よって融着が防止されるために、信頼性の高い吸着装置
となる。
るサイズのガラス素材lであっても吸着することができ
、しかもガラス素材lの外周部だけが接触するために光
学有効面を傷つけることがない、さらに、被膜103に
よって融着が防止されるために、信頼性の高い吸着装置
となる。
次に、本実施例である吸着装置を用いて光学素子を連続
製造できる装置の一例を示す。
製造できる装置の一例を示す。
第5図は、製造装置全体の概略的平面図、第6図は素材
移替部周辺の斜視図である。
移替部周辺の斜視図である。
第5図に示すように、この製造装置は、素材取入室70
1、加熱部702.素材移替部703゜−プレス部70
5、徐冷部706及び成形品取出室707から構成され
ている。このうち素材取入室701、加熱部702、素
材移替部703及びプレス部705は、同一ライン上に
あり、これらのラインと並列して徐冷部706が配設さ
れている。
1、加熱部702.素材移替部703゜−プレス部70
5、徐冷部706及び成形品取出室707から構成され
ている。このうち素材取入室701、加熱部702、素
材移替部703及びプレス部705は、同一ライン上に
あり、これらのラインと並列して徐冷部706が配設さ
れている。
加熱部702の入口近傍には第1の移送室721が構成
され、この第1の移送室721に上記素材取入室701
が設けられている。
され、この第1の移送室721に上記素材取入室701
が設けられている。
また、プレス部705の出口近傍には第2の移送室72
2が構成され、徐冷部706の入口には第3の移送室7
23が構成され、これら第2と第3の移送室は移送路7
25で連結されている。
2が構成され、徐冷部706の入口には第3の移送室7
23が構成され、これら第2と第3の移送室は移送路7
25で連結されている。
さらに、徐冷部706の出口付近には第4の移送室72
4が構成されている。この第4の移送室724には成形
品取出室707が設けられ、第4の移送室724と上記
第1の移送室721とは回送路726で連結されている
。
4が構成されている。この第4の移送室724には成形
品取出室707が設けられ、第4の移送室724と上記
第1の移送室721とは回送路726で連結されている
。
これらの各室各部は連続的な循環経路を成して炉体75
9を構成し、加熱部702、素材移替部703及びプレ
ス部705を加熱するヒータ757と徐冷部706を加
熱するヒータ758とが設けられている。
9を構成し、加熱部702、素材移替部703及びプレ
ス部705を加熱するヒータ757と徐冷部706を加
熱するヒータ758とが設けられている。
711は、この経路を移送せしめられるパレットである
。第6図に示すように、パレ、ドア11上には素材載置
台712とプレス成形用の上型713及び下型714と
が一定の間隔を有して配設されている。上型713及び
下型714のプレス成形面には、夫々光学素子機能面を
成形するための鏡面が施されている。
。第6図に示すように、パレ、ドア11上には素材載置
台712とプレス成形用の上型713及び下型714と
が一定の間隔を有して配設されている。上型713及び
下型714のプレス成形面には、夫々光学素子機能面を
成形するための鏡面が施されている。
なお、下型714の外周には、上型713の蔵置動作を
案内するとともに上型713の位置決め用として調型が
下型714の上端部よりやや突出するように固設されて
いる。
案内するとともに上型713の位置決め用として調型が
下型714の上端部よりやや突出するように固設されて
いる。
パレット711を上記径路中にて移送せしめる手段とし
て、第1の移送室721には押出しシリンダ751が設
けられ、第2の移送室722には押出しシリンダ753
と引出しシリンダ752とが設けられ、第3の移送室7
23には押出しシリンダ754が設けられ、第4の移送
室724には押出しシリンダ755と引出しシリンダー
56とが設けられており、パレット711はこれらシリ
ンダーの押出し或いは引出し動作により各工程に移送さ
れる。
て、第1の移送室721には押出しシリンダ751が設
けられ、第2の移送室722には押出しシリンダ753
と引出しシリンダ752とが設けられ、第3の移送室7
23には押出しシリンダ754が設けられ、第4の移送
室724には押出しシリンダ755と引出しシリンダー
56とが設けられており、パレット711はこれらシリ
ンダーの押出し或いは引出し動作により各工程に移送さ
れる。
第6図に示すように、炉体759内の底部両側にはレー
ル28が設けられ、この上にパレット711が載置され
、上述した各種シリンダーの押出し及び引出し動作によ
り該レール上を移動する。
ル28が設けられ、この上にパレット711が載置され
、上述した各種シリンダーの押出し及び引出し動作によ
り該レール上を移動する。
このパレット711の移動動作について、第5図を参照
しながらより詳細に説明する。
しながらより詳細に説明する。
パレット711は加熱部702の入口付近からプレス部
705の出口付近まで複数配列され、第1の移送室72
1の押出しシリンダ751の押出動作により、これらの
パレット711は互いに接触した状態で素材移替部70
3及びプレス部705の方向に移動する。
705の出口付近まで複数配列され、第1の移送室72
1の押出しシリンダ751の押出動作により、これらの
パレット711は互いに接触した状態で素材移替部70
3及びプレス部705の方向に移動する。
押出しシリンダ751がバルッ)711を1個分だけ押
出すと、プレス部705から先頭に位置するバルッ)A
が1個だけ玉突き式に押出され。
出すと、プレス部705から先頭に位置するバルッ)A
が1個だけ玉突き式に押出され。
さらにこのバレー/ ) 711が第2の移送室722
に引出しシリンダ752により引出されると、該fiS
2の移送室722にて押出しシリンダ753により押出
されて移送路725を移動した後、第3の移送室723
に移送せしめられる。
に引出しシリンダ752により引出されると、該fiS
2の移送室722にて押出しシリンダ753により押出
されて移送路725を移動した後、第3の移送室723
に移送せしめられる。
次いで、この第3の移送室723に移送された1個のバ
ルッ)711が、押出しシリンダ754により徐冷部7
06の方向に押出されると、徐冷部706に配列された
複数のバルッ)711が上記同様玉突き式に移動し、こ
れらパレット711のうち先頭のバルッ)Bが第4の移
送室724に押出される。そして、このバルッ)Bは該
移送室724にて押出しシリンダ755により押出され
、回送路726を経て第1の移送室721に到る。
ルッ)711が、押出しシリンダ754により徐冷部7
06の方向に押出されると、徐冷部706に配列された
複数のバルッ)711が上記同様玉突き式に移動し、こ
れらパレット711のうち先頭のバルッ)Bが第4の移
送室724に押出される。そして、このバルッ)Bは該
移送室724にて押出しシリンダ755により押出され
、回送路726を経て第1の移送室721に到る。
かくして、バルッ)711は上述の動作により上記循環
経路を移動し、加熱、素材移替、プレスおよび徐冷が順
次実行される。
経路を移動し、加熱、素材移替、プレスおよび徐冷が順
次実行される。
次に、上記循環経路の素材移替部703及びプレス部7
05について説明する。
05について説明する。
素材移替部703には、二股ハンド716が上下方向に
摺動可能に設けられている。この二股ハンド716の各
先端には吸着フィンガ716aおよび716bが設けら
れ、夫々独立した吸着動作を行う、ここでは、吸着フィ
ンガ716bが本発明の上記各実施例に相当する。
摺動可能に設けられている。この二股ハンド716の各
先端には吸着フィンガ716aおよび716bが設けら
れ、夫々独立した吸着動作を行う、ここでは、吸着フィ
ンガ716bが本発明の上記各実施例に相当する。
一方の吸着フィンガ716aにより上型713を吸着す
るとともに、他方の吸着フィンガ716bにより素材7
15を吸着して二股ハンド716全体を回転し、素材7
15を下型714上に移し替えた後、再び二股ハンド7
16全体を元の状態に回転して吸着フィンガ716aに
吸着されている上型713を素材715が収容された下
型714上にQlc置する。
るとともに、他方の吸着フィンガ716bにより素材7
15を吸着して二股ハンド716全体を回転し、素材7
15を下型714上に移し替えた後、再び二股ハンド7
16全体を元の状態に回転して吸着フィンガ716aに
吸着されている上型713を素材715が収容された下
型714上にQlc置する。
すなわち、本実施例である吸着フィンガ716bによっ
て素材715は吸着されて移動し、下型714上に移し
替えられるが、その際、吸着フィンガ716bの先端に
は被膜103が設けられているために、高温ガラス素材
715との融着を防止できる。
て素材715は吸着されて移動し、下型714上に移し
替えられるが、その際、吸着フィンガ716bの先端に
は被膜103が設けられているために、高温ガラス素材
715との融着を防止できる。
また、プレス部705には、プレス用のロッド717が
、二股ハンド7i6と同様に上下方向に摺動可能に設け
られている。これら二股ハンド716及びロッド717
は不図示のシリンダーにより駆動される。
、二股ハンド7i6と同様に上下方向に摺動可能に設け
られている。これら二股ハンド716及びロッド717
は不図示のシリンダーにより駆動される。
こうしてガラス素材715がプレス成形され、レンズが
形成されるが1本実施例によって吸着フィンガ716b
との融着が防止されるために、吸着痕跡のないレンズを
連続製造することができ1歩留りを大幅に向上させるこ
とができる。
形成されるが1本実施例によって吸着フィンガ716b
との融着が防止されるために、吸着痕跡のないレンズを
連続製造することができ1歩留りを大幅に向上させるこ
とができる。
る。
なお、本装置において炉体759の内部は、上型713
及び下型714を形成する型材が高温下で酸化されるの
を防止するよう、真空排気の後。
及び下型714を形成する型材が高温下で酸化されるの
を防止するよう、真空排気の後。
N2ガス等の非酸化性ガス又は不活性ガスを充填する必
要があるため、上記二股ハンド716及びプレスロッド
717等と炉体759外壁との摺動部分には充分のシー
ルドを施しておく必要がある。
要があるため、上記二股ハンド716及びプレスロッド
717等と炉体759外壁との摺動部分には充分のシー
ルドを施しておく必要がある。
このような製造装置を用いることで、素材715はプレ
ス成形の際に成形型713および714に移替えられて
プレス成形されるために、反応が最も著しい高温加熱時
には素材と型とは分離された状態に置かれ、反応によっ
て侵される時間が著しく短縮される。
ス成形の際に成形型713および714に移替えられて
プレス成形されるために、反応が最も著しい高温加熱時
には素材と型とは分離された状態に置かれ、反応によっ
て侵される時間が著しく短縮される。
また、素材載置台712と成形型713および714と
は同一バルッ)711上に配設されているために、パレ
ットの移動時における両者間の相対的な位置変化は発生
しない、したがって、例えばオートハンド装置を用いて
成形用素材を移替える際のハンドリングの位置決め精度
が低下しない。
は同一バルッ)711上に配設されているために、パレ
ットの移動時における両者間の相対的な位置変化は発生
しない、したがって、例えばオートハンド装置を用いて
成形用素材を移替える際のハンドリングの位置決め精度
が低下しない。
なお、上記各実施例では、レンズを一例として説明した
が、勿論これに限定されるものではなく、本発明はガラ
ス素材一般に適用することができる。
が、勿論これに限定されるものではなく、本発明はガラ
ス素材一般に適用することができる。
[発明の効果]
以上詳細に説明したように1本発明による吸着装置は、
炭化物系被膜で先端部を被覆することで、高温ガラスと
接触しても融着を防止でき、吸着痕跡が残らない、この
ために、光学素子等のガラス製品の製造歩留りが向上し
、コスト的にも有利となる。また吸着部の母材はガラス
と接触しないために1条件が緩和され、使用できる材料
の範囲が広くなり、製造に都合の良い材料を選択できる
。
炭化物系被膜で先端部を被覆することで、高温ガラスと
接触しても融着を防止でき、吸着痕跡が残らない、この
ために、光学素子等のガラス製品の製造歩留りが向上し
、コスト的にも有利となる。また吸着部の母材はガラス
と接触しないために1条件が緩和され、使用できる材料
の範囲が広くなり、製造に都合の良い材料を選択できる
。
第1図は、本発明による吸着装置の第1実施例の概略的
断面図、 第2図は、スパッタリング装置の概略的構成図、 第3図は、本発明の第2実施例の概略的断面図、 第4図は、本発明の第3実施例の概略的断面図、 第5図は、製造装置全体の概略的平面図、第6図は、素
材移替部周辺の斜視図である。 l・・・ガラス素材 101.201・・・吸着部 102・・・吸引口 103.203・・φ被膜 104.105・・・円環 106・・・周辺部 107・・拳中心部 代理人 弁理士 山 下 積 子 箱1図 ト12 第4図 第6図
断面図、 第2図は、スパッタリング装置の概略的構成図、 第3図は、本発明の第2実施例の概略的断面図、 第4図は、本発明の第3実施例の概略的断面図、 第5図は、製造装置全体の概略的平面図、第6図は、素
材移替部周辺の斜視図である。 l・・・ガラス素材 101.201・・・吸着部 102・・・吸引口 103.203・・φ被膜 104.105・・・円環 106・・・周辺部 107・・拳中心部 代理人 弁理士 山 下 積 子 箱1図 ト12 第4図 第6図
Claims (4)
- (1)加熱されたガラスと接触する先端部に炭化物系被
膜が形成されていることを特徴とするガラス吸着装置。 - (2)上記炭化物系被膜は、炭化タングステンであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のガラス吸着
装置。 - (3)上記先端部は、上記ガラスと同じ温度又は若干高
い温度で使用されることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のガラス吸着装置。 - (4)不活性ガス雰囲気中で使用されることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項又は第2項記載のガラス吸着装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP691788A JPH01183427A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | ガラス吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP691788A JPH01183427A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | ガラス吸着装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01183427A true JPH01183427A (ja) | 1989-07-21 |
Family
ID=11651586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP691788A Pending JPH01183427A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | ガラス吸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01183427A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030090255A (ko) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | 주식회사 하이켐텍 | 고화성 흡착패드 |
-
1988
- 1988-01-18 JP JP691788A patent/JPH01183427A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030090255A (ko) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | 주식회사 하이켐텍 | 고화성 흡착패드 |
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