JPH01287274A - 成膜装置および方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、成膜装置および方法、特に、光ディスク等の
記録膜１反射膜を基板移動させながら形成する成膜装置
および方法に関する。

〔従来の技術〕

レーザ光によって情報を記録しかつ再生する光デイスク
メモリーは、記録密度が高いことから大容量記録再生装
置として優れた特徴を有している。

光デイスクメモリー媒体の一例は第２図に示すような構
成になっている。すなわち基板ｌに隣接してテルル−セ
レン系合金等の記録層２１が設けられている。記録用レ
ーザ光は基板１を通して記録層２１に集光照射され、ピ
ット２２が形成される。基板１としてはポリカーボネー
ト、ポリオレフィン、ポリメチルペンテン、アクリル、
エポキシ樹脂等の合成樹脂やカラスが使用され、基板１
にはピットが同心円状あるいはスパイラル状に一定間隔
で精度よく記録されるように通常、案内溝が設けられて
いる。

レーザビーム径程度の幅の溝に光が入射すると光は回折
され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度の
空間分布が変化するので、これを検出してレーザビーム
を溝の中心に入射させるようにサーボ系が構成されてい
る。溝の幅は通常０．３〜１３μｍであり、溝の深さは
使用するレーザ波長の１／２０から１／４の範囲に設定
される。

集光に関しても同様にサーボ系が構成されている。

情報の読み出しは、記録のときよりも弱いパワーのレー
ザ光をピット上を通過するように照射することにより、
ピットの有無に起因する反射率の変化を検出して行なう
。

上記記録層２１の形成は、スパッタリング法。

蒸着法等によりスパッタ源や蒸着源などの成膜源を用い
て行なわれる。このときに記録層の膜厚の変動は、記録
感度の変動１反射率の変動に影響を及は゛すので、充分
に小さい値以下に制御しなければならない。

第３図（ａ）　、　（ｂ）は従来の一例を示す正面図お
よび概略断面図である。

次に、第３図（ａ）　、　（ｂ）に示す成膜装置の成膜
動作を説明する。

基板１をパレット２に装着し、パレット２をキャリア３
に装着し、真空排気室４において真空排気ポンプ５で排
気する。所望の真空度に到達後、キャリア３をパレット
２．基板１ごと真空排気室４から成膜室６ヘゲートバル
ブ（図示せず）を介して移動させる。成膜室６において
パレット回転モータ７で回転駆動軸８を介してパレット
２を回転させなから成膜源９に対向した位置の基板に成
膜する。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、このような上述した従来の成膜装置およ
び方法は、多数をディスクを成膜すると、反射率が所定
の値でないディスクが作製されるという問題が生じた。

本発明者らは、この原因を調べたところ、パレットごと
の成膜の厚さにばらつきが生じたためであることがわか
った。

本発明の目的は、パレットごとの成膜厚さのばらつきを
なくす成膜装置および方法を提供することにある。

すなわち、従来の成膜装置および方法は、反射率が一定
でないため歩留が悪いという欠点があった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の成膜装置は、パレットに基板を装着し、スパッ
タ源或は蒸着源などの成膜源にこのパレットの一部を対
向させた位置でこのパレットを回転させて成膜するもの
で、前記基板に単色光を照射する光源と、前記基板から
の反射光を測定する光検出器と、前記基板からの反射光
のみをサンプリングするサンプリング手段とを含んで構
成される。

また、本発明の成膜方法は、前記パレットに単色光を照
射し、前記パレット中の前記基板からの反射光のみを検
出し、所定の反射光量に達するまで成膜するように構成
される。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。

第１図は本発明の一実施例を示す概略側面断面図である
。

第１図に示す成膜装置は、成膜室６の外に単色光を照射
する光源１１を設け、真空槽壁の窓１２を通して光１３
を成膜室６内に導入し、基板１に照射する。

基板１からの反射光１４は窓１２を通して光検出器１５
に導かれ、検出される。ここで検出された反射光量を、
パレッｌ−２の回転で同期させることによりパレット２
からの反射光ではなく、基板１からの反射光のみをサン
プリング回路１６でサンプリングする。サンプリングさ
れた反射光量が所定の光量に達するまで成膜するように
制御することにより、パレット２ごとに成膜の厚さがば
らつくということがなくなった。

〔発明の効果〕

本発明の成膜装置および方法はパレットが回転していて
も基板からの反射光量をモニターできるため、パレット
ごとの成膜厚さのばらつきをなくすことができるので、
製品歩留を向上させること缶 ができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例を示す概略断面図、第２図
は従来および本発明の成膜装置および方法を用いて製造
された光デイスクメモリー媒体の一例を説明するための
部分断面図、第３図（ａ）　、　（ｂ）は従来の一例を
示す正面図および概略断面図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・パレット、３・・
・・・・キャリア、４・・・・・真空排気室、訃・・・
・・真空排気ポンプ、６・・・・・・成膜室、７・・・
・・パレット回転モータ、８・・・・・・回転駆動軸、
９・・・・・・成膜源、１１・・・・・・光源、１２・
・・・・窓、１３・・・・・・光、１４・・・・・・反
射光、１５・・・・・・光検出器、１６・・・・・・サ
ンプリング回路、２１・・・・・・記録層、２２・・・
・・・ビット。 代理人　弁理士　　内　原　　　晋 ゝ・、 二；１７一

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板を装着し成膜源に一部が対向した位置で回転す
   るパレットと、前記基板に単色光を照射する光源と、前
   記基板からの反射光を測定する光検出器と、前記基板か
   らの反射光のみをサンプリングするサンプリング手段と
   を含むことを特徴とする成膜装置。 ２、パレットに基板を装着し、成膜源にこのパレットの
   一部を対向させた位置でパレットを回転させ、前記パレ
   ットに単色光を照射し、前記パレットに装着された前記
   基板からの反射光のみを検出し、所定の反射光量に達す
   るまで成膜することを特徴とする成膜方法。