JP2948652B2 - 光ディスクの記録層形成方法 - Google Patents

光ディスクの記録層形成方法

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JP2948652B2 JP2305389A JP30538990A JP2948652B2 JP 2948652 B2 JP2948652 B2 JP 2948652B2 JP 2305389 A JP2305389 A JP 2305389A JP 30538990 A JP30538990 A JP 30538990A JP 2948652 B2 JP2948652 B2 JP 2948652B2
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Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
本発明は、少なくとも透光性基板と、該基板上に設け
られた色素を含む色素層とを有し、データーを光学的に
書き込むあるいは読み出し得る光ディスクを製造するに
当り、前記透光性基板上に色素層を形成する方法に関す
る。
【従来の技術】
ピットをあらかじめプレス等の手段で基板の上に形成
し、ピットが形成された面に金属の反射膜を形成した再
生専用の光ディスクとしていわゆるコンパクトディスク
(以下CDという)が既に実用化され、現在広く普及して
いる。 また、レーザービームを基板に照射して情報を記録す
る光ディスクも検討されており、その中で、少なくとも
透光性基板と、該基板上に設けられた色素を含む色素層
と、該色素層上に設けられた反射層とを有し、データー
を光学的に書き込みあるいは読み出し得る光ディスクと
して、たとえば特開昭54−89605号公報、特開昭58−189
851号公報、特開昭59−171689号公報等で示されたもの
が既に知られている。しかしこれらは、民生用及び業務
用として広く普及したCDプレーヤーを用いて再生するこ
とはできなかった。 このような追記形の光ディスクを、CDと同様にCDプレ
ーやで再生するためには、書き込み後の光ディスクから
CD規格に準拠する再生信号(以下「CD信号」という)が
得られなければならない。具体的には、光ディスクの反
射率が70%以上、再生信号のI11/Itopが0.6以上、I3/I
topが0.3〜0.7、ブロックエラーレートが3.0×10-2
下、プッシュプルのトラッキングエラーシグナルが0.04
〜0.07の範囲内でなければならない。 このような光ディスクにおいて、記録後にCD規格に準
拠した信号が得られるようにするため、例えば、特開平
2−96942号公報で示されたように、色素層の光学定数
を適当な範囲に設定すること等が提案されている。 このような光ディスクにおける色素層は、プリグルー
ブを有する透光性基板の上に、溶剤で溶解したシアニン
系等の色素材料をスピンコート法等で成膜することによ
り形成される。この場合の透光性基板は、スタンパーを
使用してポリカーボネート樹脂等の透光性材料を射出成
形して作られる。そして、この透光性基板のプリグルー
ブの形状、或は色素層の光学的性質やコーティング膜厚
等は、光ディスクの反射率、再生信号のブロックエラー
レート或はプッシュプルのトラッキングエラーシグナル
等の信号特性が前記のCD規格に収まるように、光学的な
見地から予め適当な値に定められ、それを目標として加
工される。 [発明が解決しようとする課題] 前記透光性基板は、射出成形法という工業的量産手段
で作られるため、前記プリグルーブの形状にばらつきが
生じることは或る程度止むを得ない。このプリグルーブ
形状のばらつきは、個々の透光性基板毎に現われるほ
か、特定の透光性基板の中でもその部位によってばらつ
きが生じることもある。 しかし、このプリグルーブの形状のばらつきは、完成
した光ディスクの信号特性のばらつきを生じさせる。こ
の結果、前記プリグルーブの形状が理想とされる標準値
から或る程度外れると、CD規格に準拠した再生信号が出
力されず、規格不適当とされることもある。このよう
に、従来では、透光性基板の成形精度如何により、得ら
れる光ディスクの信号特性に変動が生じ、製品の安定供
給という観点から好ましくなかった。 そこで本発明では、前記従来の課題に鑑み、透光性基
板のプリグルーブ形状が多少変動しても、所定の信号特
性が得られる光ディスクが製造できる色素層形成方法を
提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明では、前記目的を達成するため、透光
性を有し、スパイラル状にプリグルーブが形成された透
光性基板上に色素材料を成膜して、色素層を形成する方
法において、前記透光性基板のプリグルーブの形状寸法
を計測し、プリグルーブの深さ寸法或は幅の寸法が大き
い場合に、それらの寸法が小さい場合に比べて、色素層
を厚く成膜することを特徴とする光ディスクの記録層形
成方法を提供する。換言すると、プリグルーブの深さ寸
法或は幅の寸法が小さい場合に、それらの寸法が大きい
場合に比べて、色素層を薄く成膜することを特徴とする
光ディスクの記録形成方法を提供する。
【作用】
光ピックアップから光ディスクの基板を通してその色
素層に照射され、光ピックアップで受光されるレーザー
光の反射光は、透光性基板と色素層との界面で反射され
た光と、色素層と反射層との界面で反射された光とを含
む。この場合、プリグルーブの深さと色素の膜厚の差に
よって反射光の光路長に差が生じる。この反射光の光路
長の差が生じると、それに従って、得られるレーザ光の
反射率や信号のプッシュプルのトラッキングエラーシグ
ナル等の信号特性に違いが生じる。 具体的には、所定膜厚の色素層を形成した場合に、プ
リグルーブが所定の標準値より深いと、反射率が目標値
より小さくなり、プッシュプルのトラッキングエラーシ
グナルが大となる。また、プリグルーブが所定の標準値
より浅い場合は、この逆である。さらに、プリグルーブ
の違う場合も、それがプリグルーブ部分での色素層を形
成する状態、つまりレベリングに違いを生じさせるた
め、反射光の光路長差に影響を与え、やはり信号特性に
違いが生じる。 そこで、本発明による方法では、プリグルーブの形状
寸法を計測し、この形状寸法値により、色素層の膜厚を
調整する。つまりプリグルーブが所定の標準値より深い
場合に、成膜々厚を厚くし、成膜時のレベリングを進行
させる。逆に、プリグルーブが所定の標準値より浅い場
合は、成膜々厚を薄くし、レベリングの進行を抑制す
る。 こうすることによって、プリグルーブの深さの違いに
より生じるプリグルーブとランドでの反射光の光路長差
のズレを補正することで、所期の信号特性が得られるよ
うにする。 また、プリグルーブの幅が標準の目標値より広いとき
は、成膜々厚を厚くし、成膜時のレベリングを進行させ
る。逆に、プリグルーブの幅が所定の標準値より狭い場
合は、成膜々厚を薄くし、レベリングの進行を抑制す
る。この場合も前記と同様の結果が得られる。
【実 施 例】
次に、図面を参照しながら、本発明の実施例について
具体的に説明する。 第1図に本発明の色素膜形成方法を実施するための装
置例であるスピンコート装置が示してある。このスピン
コート装置は、スピンコーター11と、図示されてない前
の工程からこのスピンコーター11に透光性基板2を搬送
する搬送アーム4とを備えている。この搬送アーム4に
よる透光性基板2の搬送手段は、別の手段、例えばコン
ベアーやシュート等に代えることができるのはもちろん
である。 スピンコータ11は、スピンドル13に設けたクランパー
で透光性基板2をクランプし、これを回転させるモータ
ー12と、溶剤で適当な粘度に溶解された色素材料を透光
性基板2の上に供給するコーターノズル14とを備える。
モーター12の起動と停止、及び定常回転時の回転数は、
コントローラ10でコントロールされる。 前記搬送アーム4による透光性基板2の搬送経路上
に、同透光性基板2の表面に形成されたプリグルーブの
形状、つまり深さ及び幅を計測する計測器が設置してあ
る。すなわち、透光性基板2が通過する経路上に暗箱1
が配置されると共に、この暗箱1の中にあって、前記透
光性基板2の搬送経路を挟んで、He−Neレーザー等の光
源部3と、受光部5が対向して配置されている。受光部
5は、前記光源部3の光軸に対して各々所定の角度の光
軸を有する受光器6、7、8を備えている。ここでは、
前記光源部3から透光性基板2にレーザー光を照射し、
この回折光を各々受光器6、7、8で受光し、その回折
強度により演算器、9で透光性基板2上のプリグルーブ
の深さや幅を計測する。このような計測は、搬送アーム
4が透光性基板2を搬送する過程で、透光性基板2の径
方向にスキャンしながら行ってもよい。。 このようにしてプレグルーブの深さや幅が計測された
透光性基板2は、搬送アーム4によって、前記スピンコ
ーター11のスピンドル13にクランプされ、モーター12に
よって回転される。そして、モーター11が起動後、定常
回転に至ったところで、コーターノズル14から色素材料
を透光性基板2の上に供給する。するとこの色素材料が
同基板2上から遠心力で振り切られ、その表面に一様な
色素材料のコーティング膜が形成される。このとき、前
記演算器9で計測された当該透光性基板2のプリグルー
ブの深さと幅がコントローラ10に予め入力され、それに
より決定される回転パターンでモーター12が回転され
る。スピンコート時の透光性基板2の回転数が高いと、
コーティング膜の膜厚は薄くなり、透光性基板2の回転
数が低いと、コーティング膜の膜厚は厚くなる。 第2図と第3図は、完成した光ディスクのプリグルー
ブと直交する縦方向の断面を模式的に示す要部断面図で
ある。第2図(a)において、gはプリグルーブ部分
を、1はそれ以外のランド部分を表わす。また、第2図
及び第3図において、21は透光性基板、22はスピンコー
トされたコーティング膜により形成された色素層、23
は、金や銀等の薄膜からなる反射層、24は、紫外線硬化
性樹脂等からなる保護層を示す。 第2図(a)で示すように、プリグルーブgの深さd
が深い場合と、同図(b)で示すように、プリグルーブ
gの深さdが浅い場合とで、何れも同じ条件で色素材料
をスピンコートした場合、前者では、プリグルーブが深
い分だけ標準よりも光路長が長くなり、各々図示のよう
な色素層22が形成される。 そこで本発明では、第2図(a)で示すように、プリ
グルーブgの深さdが標準値d0より深い場合は、前記モ
ーター12の回転数を標準より低くすることで、コーティ
ング膜厚を標準値より厚くし、レベリングを進行させ
る。この結果、第3図(a)で示すような膜厚tが厚
く、プレグルーブ部分でレベリングが進んだ色素層22が
形成される。また、第2図(b)で示すように、プリグ
ルーブgの深さdが標準値d0より浅い場合は、前記モー
ター12の回転数を標準より高くすることで、コーティン
グ膜圧を標準値より薄くし、レベリングを抑制する。こ
の結果、第3図(b)で示すような膜厚tが薄く、プレ
グルーブ部分でレベリングが進んでいない色素層22が形
成される。 また、図示はしてないが、プリグルーブの幅が標準値
より広いときは、コーティング膜厚を厚くし、コーティ
ング時のレベリングを進行させる。逆に、プリグルーブ
の幅の所定の標準値より狭い場合は、コーティング膜厚
を薄くし、レベリングの進行を抑制する。 このように、本発明による方法では、透光性基板2の
プリグルーブの深さや幅により、コーティング膜厚を変
化させる。コーティング膜厚を制御する最も一般的な手
段は、前述のように、スピンコーター11のスピンドルモ
ーター12の回転数を変えることであるが、この場合、溶
液の乾燥が進行するのに伴って回転数を可変制御すれ
ば、透光性基板2の部位毎にコーティング膜厚を変える
こともできる。さらにこの他の膜厚制御手段として、色
素材料の粘度を変えたり、透光性基板の温度やコーティ
ング時の雰囲気温度を変える手段等も挙げられる。 さらに色素層を、スピンコート法以外の方法、例えば
真空蒸着法やスパッタリング法で成膜する時も、透光性
基板2のプリグルーブの深さや幅により、成膜条件を変
え、色素層の成膜々厚を変える。 次に、本発明の具体的な実施例について説明すると、
射出成形法により、表面にスパイラル状のプリグルーブ
が形成された透光性基板を2つのグループに分けて100
枚ずつ用意した。これらの各グループの透光性基板は、
そのグルーブの深さ及び幅の寸法のばらつきが概ね同じ
分布になるよう調整した。 これら透光性基板1をR=4t2+400rpm(但し、R:透
光性基板の回転数、t:時間)の回転パターンで立ち上
げ、これにシアニン色素のジアセトンアルコール溶液を
滴下し、遠心力でこの溶液を振り切り、乾燥し、色素層
を形成した。この場合に、一方のグループの透光性基板
については、第1図で示すような光回折装置により、プ
リグルーブの深さと幅を測定した。そして、シアニン色
素濃度が77〜83g/lにシアニン色素溶液を予め用意し、
前記プリグルーブの深さが深いもの、或はその幅が広い
ものについては、シアニン色素濃度の高いものを、前記
プリグルーブの深さが浅いもの、或はその幅が狭いもの
については、シアニン色素濃度の低いものを使用してス
ピンコートした。他方のグループの透光性基板について
は、何れもシアニン色素濃度が80g/lの溶液を用いて色
素層を形成した。 その後、この色素層の上に金を真空蒸着して反射層を
形成し、さらにこの反射層の上に紫外線硬化性樹脂をス
ピンコートし、これに紫外線を照射して硬化させ、保護
層を形成した。これにより、100枚ずつ2つのグループ
の光ディスクを製作した。 これらの光ディスクをCDプレーヤーにかけて、レーザ
ー光の反射率、プッシュプルのトラッキングエラーシグ
ナルを測定した。その結果、色素層を形成するに際し、
シアニン色素濃度の違う溶液を用い、条件を変えてスピ
ンコートしたグループの光ディスでは、反射率が74〜76
%、プッシュプルのトラッキングエラーシグナルが0.03
5〜0.045であった。これに対し、条件を変えずにスピン
コートした他方のグループの光ディスクでは、反射率が
71〜79%、プッシュプルのトラッキングエラーシグナル
が0.025〜0.060であった。明らかに前者のばらつきが小
さいことがわかる。 以上は、CD規格に適合する信号を得るための手段とし
て本発明の実施例を説明した。しかし、本発明は、CD規
格に適合する信号を得るのに限られず、光ディスク用基
板のプリグルーブ寸法のばらつきによる信号特性のばら
つきを防止する手段一般として適用することは、もちろ
んである。
【発明の効果】
以上説明した通り、本発明によれば、透光性基板のプ
リグルーブ形状が多少変動しても、色素の成膜々厚を変
えることで、CD規格に適合する信号等、所望の信号特性
が得られる光ディスクが製造できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例である色素層形成方法を実施
するスピンコーティング装置の機能ブロック、第2図と
第3図は、完成した光ディスクのプリグルーブと直交す
る縦方向の断面を模式的に示す要部断面図である。 2……透光性基板、3……光源部、4……搬送アーム、
5……受光部、6、7、8……受光器、9……演算器、
10……コントローラー、11……スピンコーター、12……
モーター、13……スピンドル、14……コーターノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−50641(JP,A) 特開 昭63−42052(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 7/26 G11B 7/24 B41M 5/26

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透光性を有し、スパイラル状にプリグルー
    ブが形成された透光性基板上に色素材料を成膜して、色
    素層を形成する方法において、 前記透光性基板のプリグルーブの形状寸法を計測し、 プリグルーブの深さ或は幅の寸法が大きい場合に、それ
    らの寸法が小さい場合に比べて色素層を厚く成膜するこ
    とを特徴とする光ディスクの記録層形成方法。
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