JP2615849B2 - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置Info
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- JP2615849B2 JP2615849B2 JP12981188A JP12981188A JP2615849B2 JP 2615849 B2 JP2615849 B2 JP 2615849B2 JP 12981188 A JP12981188 A JP 12981188A JP 12981188 A JP12981188 A JP 12981188A JP 2615849 B2 JP2615849 B2 JP 2615849B2
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- Japan
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- pallet
- film forming
- forming apparatus
- rotation
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- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、成膜装置、特に、光ディスク等の記録膜，
反射膜を基板移動させながら形成する成膜装置に関す
る。
反射膜を基板移動させながら形成する成膜装置に関す
る。
〔従来の技術〕 一般に、レーザ光によって情報を記録しかつ再生する
光ディスクメモリー媒体は、記録密度が高いことから大
容量記録再生装置として優れた特徴を有している。
光ディスクメモリー媒体は、記録密度が高いことから大
容量記録再生装置として優れた特徴を有している。
光ディスクメモリー媒体の１例は第４図に示すような
構成になっている。すなわち基板１に隣接してテルル−
セレン系合金等の記録層21が設けられている。記録用レ
ーザ光は基板１を通して記録層21に集光照射され、ピッ
ト22が形成される。基板１としてはポリカーボネート，
ポリオレフィン，ポリメチルペンテン，アクリル，エポ
キシ樹脂等の合成樹脂やガラスが使用され、基板１には
ピットが同心円状あるいはパイラル状に一定間隔で精度
よく記録されるように通常、案内溝が設けられている。
構成になっている。すなわち基板１に隣接してテルル−
セレン系合金等の記録層21が設けられている。記録用レ
ーザ光は基板１を通して記録層21に集光照射され、ピッ
ト22が形成される。基板１としてはポリカーボネート，
ポリオレフィン，ポリメチルペンテン，アクリル，エポ
キシ樹脂等の合成樹脂やガラスが使用され、基板１には
ピットが同心円状あるいはパイラル状に一定間隔で精度
よく記録されるように通常、案内溝が設けられている。
レーザビーム径程度の幅の溝に光が入射すると光は回
折され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折強度の
空間分布が変化するので、これを検出してレーザビーム
を溝の中心に入射させるようにサーボ系が構成されてい
る。溝の幅は通常0.3〜1.3μｍであり、溝の深さは使用
するレーザ波長の1/2から1/4の範囲に設定される。
折され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折強度の
空間分布が変化するので、これを検出してレーザビーム
を溝の中心に入射させるようにサーボ系が構成されてい
る。溝の幅は通常0.3〜1.3μｍであり、溝の深さは使用
するレーザ波長の1/2から1/4の範囲に設定される。
集光に関しても同様にサーボ系が構成されている。
情報の読み出しは、記録のときよりも弱いパワーのレ
ーザ光をピット上を通過するように照射することによ
り、ピットの有無に起因する反射率の変化を検出して行
なう。
ーザ光をピット上を通過するように照射することによ
り、ピットの有無に起因する反射率の変化を検出して行
なう。
上記記録層の形成は、スパッタリング法，蒸着法等で
行なわれる。このときに記録層の膜厚の変動は、記録感
度の変動，反射率の変動に影響を及ぼすので、充分に小
さい値以下に制御しなければならない。
行なわれる。このときに記録層の膜厚の変動は、記録感
度の変動，反射率の変動に影響を及ぼすので、充分に小
さい値以下に制御しなければならない。
成膜は成膜装置で行なわれる。
従来の成膜装置は第５図（ａ），（ｂ）に示すように
成膜室６と、成膜源９と、パレット２と、キャリア３
と、パレット回転モータ７とを含んで構成される。
成膜室６と、成膜源９と、パレット２と、キャリア３
と、パレット回転モータ７とを含んで構成される。
基板１をパレット２に装着し、パレット２をキャリア
３に装着し、真空排気室４において真空排気ポンプ５で
排気する。所望の真空度に到達後、キャリア３をパレッ
ト2,基板１ごと真空排気室４から成膜室６へゲートバル
ブ（図示せず）を介して移動させる。成膜室６において
パレット回転モータ７で回転駆動軸８を介してパレット
２を回転させながら成膜源９に対向した位置の基板に成
膜する。
３に装着し、真空排気室４において真空排気ポンプ５で
排気する。所望の真空度に到達後、キャリア３をパレッ
ト2,基板１ごと真空排気室４から成膜室６へゲートバル
ブ（図示せず）を介して移動させる。成膜室６において
パレット回転モータ７で回転駆動軸８を介してパレット
２を回転させながら成膜源９に対向した位置の基板に成
膜する。
しかしながら、このような上述した従来の成膜装置
は、多数のディスクを成膜すると、反射率が所定の値で
ないディスクが作成されるという欠点があった。
は、多数のディスクを成膜すると、反射率が所定の値で
ないディスクが作成されるという欠点があった。
この原因を調べたところ、パレットの回転にむらが発
生し、そのため、パレット内の基板の成膜に厚さのばら
つきが生じたためであることがわかった。
生し、そのため、パレット内の基板の成膜に厚さのばら
つきが生じたためであることがわかった。
本発明の目的は、パレットの回転むらをその場で検出
できる成膜装置を提供することにある。
できる成膜装置を提供することにある。
本発明の成膜装置は、成膜室と、前記成膜室の内部に
設けられた成膜源と、前記成膜源と対向して設けられた
基板を装着するためのパレットと、前記パレットを移動
させるためのキャリアと、前記パレットを回転させるた
めのパレット回転モータと、前記パレットの周方向の各
部の回転速度を検出するための回転速度検出手段と、検
出された前記回転速度を表示するための表示器とを含ん
で構成される。
設けられた成膜源と、前記成膜源と対向して設けられた
基板を装着するためのパレットと、前記パレットを移動
させるためのキャリアと、前記パレットを回転させるた
めのパレット回転モータと、前記パレットの周方向の各
部の回転速度を検出するための回転速度検出手段と、検
出された前記回転速度を表示するための表示器とを含ん
で構成される。
すなわち、本発明の成膜装置は、パレットに基板を装
着し成膜源であるスパッタ源あるいは蒸着源にこのパレ
ットの一部を対向させた位置でパレットを回転させて成
膜する成膜装置であって、前記パレットを回転させる軸
にロータリーエンコーダを設けて前記パレットの周方向
の各部の回転速度を検出する手段を具備して構成され
る。
着し成膜源であるスパッタ源あるいは蒸着源にこのパレ
ットの一部を対向させた位置でパレットを回転させて成
膜する成膜装置であって、前記パレットを回転させる軸
にロータリーエンコーダを設けて前記パレットの周方向
の各部の回転速度を検出する手段を具備して構成され
る。
すなわち、本発明の成膜装置は、パレットに基板を装
着し、成膜源であるスパッタ源あるいは蒸着源にこのパ
レットの一部を対向させた位置でパレットを回転させた
成膜する成膜装置であって、前記スパッタ源あるいは前
記蒸着源と反対側の前記パレット面に反射部を設けそこ
からの反射光を検出することにより前記パレットの周方
向の各部の回転速度を検出する手段を具備して構成され
る。
着し、成膜源であるスパッタ源あるいは蒸着源にこのパ
レットの一部を対向させた位置でパレットを回転させた
成膜する成膜装置であって、前記スパッタ源あるいは前
記蒸着源と反対側の前記パレット面に反射部を設けそこ
からの反射光を検出することにより前記パレットの周方
向の各部の回転速度を検出する手段を具備して構成され
る。
すなわち、本発明の成膜装置は、パレットに基板を装
着し、スパッタ源あるいは蒸着源にこのパレットの一部
を対向させた位置でパレットを回転させて成膜する成膜
装置であって、前記パレットの外周部に貫通穴を一定間
隔で設け、前記パレットの前面と後面に光源と光検出器
を設けて前記貫通穴を通過する光を検出することにより
前記パレットの周方向の各部の回転速度を検出する手段
を具備して構成される。
着し、スパッタ源あるいは蒸着源にこのパレットの一部
を対向させた位置でパレットを回転させて成膜する成膜
装置であって、前記パレットの外周部に貫通穴を一定間
隔で設け、前記パレットの前面と後面に光源と光検出器
を設けて前記貫通穴を通過する光を検出することにより
前記パレットの周方向の各部の回転速度を検出する手段
を具備して構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明
する。
する。
第１図は本発明の第１の実施例を示す概略断面図であ
る。
る。
第１図に示す成膜装置は、成膜室６と、成膜源９と、
パレット２と、キャリア３と、パレット回転モータ７
と、回転速度検出手段としてのロータリーエンコーダ11
と、表示器10とを含んで構成される。
パレット２と、キャリア３と、パレット回転モータ７
と、回転速度検出手段としてのロータリーエンコーダ11
と、表示器10とを含んで構成される。
パレットが連結されたパレット回転モータの回転駆動
軸８にロータリーエンコーダ12を連結し、パレット２の
周方向の各部の回転速度を検出し、表示器10に表示する
ようにしている。
軸８にロータリーエンコーダ12を連結し、パレット２の
周方向の各部の回転速度を検出し、表示器10に表示する
ようにしている。
このようにすることにより、パレット２の回転むらを
その場で検出できる成膜装置が得られる。パレット２の
回転むらが規定値を越えた場合には、ただちにキャリア
３のベアリングを交換することにより、成膜装置は常に
良好な回転状態で使用できるようになり、反射率が所定
の値でないディスクが作製されてしまうという問題が除
去できる。
その場で検出できる成膜装置が得られる。パレット２の
回転むらが規定値を越えた場合には、ただちにキャリア
３のベアリングを交換することにより、成膜装置は常に
良好な回転状態で使用できるようになり、反射率が所定
の値でないディスクが作製されてしまうという問題が除
去できる。
第２図は本発明の第２の実施例を示す概略断面図であ
る。
る。
第２図に示す成膜装置は、成膜室６と、成膜源９と、
パレット２′とキャリア３と、パレット回転モータ７
と、回転速度検出手段としての光源光検出器12と、表示
器10とを含んで構成される。
パレット２′とキャリア３と、パレット回転モータ７
と、回転速度検出手段としての光源光検出器12と、表示
器10とを含んで構成される。
成膜源９と反対側のパレット２′の面に同心円状に反
射部13を設け、この部分に光を照射する光源とそこから
の反射光を検出する光検出器とからなる光源光検出器12
とを設け、パレット２′の周方向の各部の回転速度を検
出し、表示器10に表示するようにしている。
射部13を設け、この部分に光を照射する光源とそこから
の反射光を検出する光検出器とからなる光源光検出器12
とを設け、パレット２′の周方向の各部の回転速度を検
出し、表示器10に表示するようにしている。
このようにすることにより、パレット２′の回転むら
をその場で検出できる成膜装置が得られる。パレット
２′の回転むらが規定値を越えた場合には、ただちにキ
ャリア３のベアリングを交換することにより、成膜装置
は常に良好な回転状態で使用できるようになり、反射率
が所定の値でないディスクが作製されてしまうという問
題を除去できる。
をその場で検出できる成膜装置が得られる。パレット
２′の回転むらが規定値を越えた場合には、ただちにキ
ャリア３のベアリングを交換することにより、成膜装置
は常に良好な回転状態で使用できるようになり、反射率
が所定の値でないディスクが作製されてしまうという問
題を除去できる。
第３図（ａ），（ｂ）は本発明の第３の実施例を示す
概略断面正面図および概略断面側面図である。
概略断面正面図および概略断面側面図である。
第３図（ａ），（ｂ）に示す成膜装置は、成膜室６
と、成膜源９と、パレット２″と、キャリア３と、パレ
ット回転モータ７と、回転速度検出手段としての光源光
検出器12′と表示器10とを含んで構成される。
と、成膜源９と、パレット２″と、キャリア３と、パレ
ット回転モータ７と、回転速度検出手段としての光源光
検出器12′と表示器10とを含んで構成される。
パレット２″の外周部には一定間隔で貫通穴14を設
け、パレット２″の前面と後面に光源と光検出器とから
なる光源光検出器12′を設けて、貫通穴14を通過する光
を検出することによりパレット２″の周方向の各部の回
転速度を検出し、表示器10に表示するようにしている。
け、パレット２″の前面と後面に光源と光検出器とから
なる光源光検出器12′を設けて、貫通穴14を通過する光
を検出することによりパレット２″の周方向の各部の回
転速度を検出し、表示器10に表示するようにしている。
このようにすることにより、パレット２″の回転むら
をその場で検出できる成膜装置が得られる。パレット
２″の回転むらが規定値を越えた場合には、ただちにキ
ャリア３のベアリングを交換することにより、成膜装置
は常に良好な回転状態で使用できるようになり、反射率
が所定の値でないディスクが作製されてしまうという問
題が除去できる。
をその場で検出できる成膜装置が得られる。パレット
２″の回転むらが規定値を越えた場合には、ただちにキ
ャリア３のベアリングを交換することにより、成膜装置
は常に良好な回転状態で使用できるようになり、反射率
が所定の値でないディスクが作製されてしまうという問
題が除去できる。
上述の実施例では、回転検出手段としてパレットの回
転むらの有無を検出するために機械的なロータリーエン
コーダや光学的な光源光検出器（反射光検出，透過光検
出）を用いた例を示したが、これに限定されるものでは
なく、パレットの回転を検出できるものならば何でもよ
い。
転むらの有無を検出するために機械的なロータリーエン
コーダや光学的な光源光検出器（反射光検出，透過光検
出）を用いた例を示したが、これに限定されるものでは
なく、パレットの回転を検出できるものならば何でもよ
い。
本発明の成膜装置は、回転速度検出手段を追加するこ
とによりパレットの回転むらを成膜中でも検出できるの
で、作製されたディスクの反射率を検査する必要がなく
なるとともに、パレット回転のためのベアリングの摩耗
をすみやかに検出できるので実質的稼働率を向上させる
ことができるという効果がある。
とによりパレットの回転むらを成膜中でも検出できるの
で、作製されたディスクの反射率を検査する必要がなく
なるとともに、パレット回転のためのベアリングの摩耗
をすみやかに検出できるので実質的稼働率を向上させる
ことができるという効果がある。
第１図は本発明の第１の実施例を示す概略断面側面図、
第２図は本発明の第２の実施例を示す概略断面側面図、
第３図（ａ），（ｂ）は本発明の第３の実施例を示す概
略断面正面図および概略断面側面図、第４図は本発明お
よび従来の成膜装置で作製される光ディスクメモリー媒
体の一例を説明するための部分断面図、第５図（ａ），
（ｂ）は従来の一例を示す概略断面正面図および概略断
面側面図である。 １……基板、2,2′,2″……パレット、３……キャリ
ア、４……真空排気室、５……真空排気ポンプ、６……
成膜室、７……パレット回転モータ、８……回転駆動
軸、９……成膜源、10……表示器、11……ロータリーエ
ンコーダ、12,12′……光源光検出器、13……反射部、1
4……貫通孔、21……記録層、22……ピット。
第２図は本発明の第２の実施例を示す概略断面側面図、
第３図（ａ），（ｂ）は本発明の第３の実施例を示す概
略断面正面図および概略断面側面図、第４図は本発明お
よび従来の成膜装置で作製される光ディスクメモリー媒
体の一例を説明するための部分断面図、第５図（ａ），
（ｂ）は従来の一例を示す概略断面正面図および概略断
面側面図である。 １……基板、2,2′,2″……パレット、３……キャリ
ア、４……真空排気室、５……真空排気ポンプ、６……
成膜室、７……パレット回転モータ、８……回転駆動
軸、９……成膜源、10……表示器、11……ロータリーエ
ンコーダ、12,12′……光源光検出器、13……反射部、1
4……貫通孔、21……記録層、22……ピット。
Claims (1)
- 【請求項１】成膜室と、前記成膜室の内部に設けられた
成膜源と、前記成膜源と対向して設けられた基板を装着
するためのパレットと、前記パレットを移動させるため
のキャリアと、前記パレットを回転させるためのパレッ
ト回転モータと、前記パレットの周方向の各部の回転速
度を検出するための回転速度検出手段と、検出された前
記回転速度を表示するための表示器とを含むことを特徴
とする成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12981188A JP2615849B2 (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12981188A JP2615849B2 (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 成膜装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01298160A JPH01298160A (ja) | 1989-12-01 |
| JP2615849B2 true JP2615849B2 (ja) | 1997-06-04 |
Family
ID=15018807
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12981188A Expired - Lifetime JP2615849B2 (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2615849B2 (ja) |
-
1988
- 1988-05-26 JP JP12981188A patent/JP2615849B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01298160A (ja) | 1989-12-01 |
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