JP2001155383A - 光記録媒体 - Google Patents
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機材料を記録材料として使用した場合であ
っても、隣接する層との間で相溶することなく、確実な
記録再生を行う。 【解決手段】 有機材料を記録材料として含む記録層
と、上記記録層の少なくとも一方の主面を覆うように配
された誘電体層とを備えるものである。
っても、隣接する層との間で相溶することなく、確実な
記録再生を行う。 【解決手段】 有機材料を記録材料として含む記録層
と、上記記録層の少なくとも一方の主面を覆うように配
された誘電体層とを備えるものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機材料を記録材
料として記録膜に含む光記録媒体に関する。
料として記録膜に含む光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、記録可能な光学記録媒体の一種と
して、例えば、図９に示すような追記型光ディスク１０
０が知られている。この追記型光ディスク１００は、厚
さ１．２ｍｍとされ、記録再生時のレーザ光が透過する
光透過層１０１の一方の面１０１ａに案内溝１０２を成
形してなる信号記録部を有し、この信号記録部の上方に
情報記録層１０３、反射膜１０４及び保護膜１０５が順
次積層された構造を有している。
して、例えば、図９に示すような追記型光ディスク１０
０が知られている。この追記型光ディスク１００は、厚
さ１．２ｍｍとされ、記録再生時のレーザ光が透過する
光透過層１０１の一方の面１０１ａに案内溝１０２を成
形してなる信号記録部を有し、この信号記録部の上方に
情報記録層１０３、反射膜１０４及び保護膜１０５が順
次積層された構造を有している。
【０００３】この光透過層１０１は、先ず、マスタリン
グ工程で作成されたスタンパが射出成形機のキャビティ
内に取り付けられ、次に、ポリカーボネート等の樹脂が
加熱溶融した状態でキャビティ内に注入され、この樹脂
を圧縮成形することにより作製される。すなわち、この
追記型光ディスク１００において、光透過層１０１は、
スタンパに形成されている凹凸を転写してなる案内溝１
０２を有する基板として形成される。
グ工程で作成されたスタンパが射出成形機のキャビティ
内に取り付けられ、次に、ポリカーボネート等の樹脂が
加熱溶融した状態でキャビティ内に注入され、この樹脂
を圧縮成形することにより作製される。すなわち、この
追記型光ディスク１００において、光透過層１０１は、
スタンパに形成されている凹凸を転写してなる案内溝１
０２を有する基板として形成される。
【０００４】追記型光ディスク１００は、上述したよう
に作製された光透過層１０１の案内溝１０２が形成され
た面上に情報記録層１０３である有機色素材料が積層さ
れ、更に、情報記録層１０３が十分な反射率を有しない
ため、金や銀といった金属材料でコーティングしてなる
反射膜１０４を真空スパッタ法により成膜し、更に、情
報記録層１０３および反射膜１０４の劣化を防止するた
め、反射膜１０４を覆うように保護膜１０５を形成する
ことによって作製される。
に作製された光透過層１０１の案内溝１０２が形成され
た面上に情報記録層１０３である有機色素材料が積層さ
れ、更に、情報記録層１０３が十分な反射率を有しない
ため、金や銀といった金属材料でコーティングしてなる
反射膜１０４を真空スパッタ法により成膜し、更に、情
報記録層１０３および反射膜１０４の劣化を防止するた
め、反射膜１０４を覆うように保護膜１０５を形成する
ことによって作製される。
【０００５】このとき、情報記録層１０３は、例えば、
テトラフルオロプロパノールやヒドロキシメチルブタン
のようなアルコールを溶媒に有機色素材料を溶解させて
なる塗料を作製し、この塗料を用いてスピンコート法に
より形成する。
テトラフルオロプロパノールやヒドロキシメチルブタン
のようなアルコールを溶媒に有機色素材料を溶解させて
なる塗料を作製し、この塗料を用いてスピンコート法に
より形成する。
【０００６】そして、このように作製された追記型光デ
ィスク１００は、記録再生装置の光ピックアップ装置を
用いて信号の記録再生を行う。このとき、光ピックアッ
プ装置は、対物レンズＬを介して所定の波長のレーザ光
を、光透過層１０１側から情報記録層１０３に照射す
る。これにより、追記型光ディスク１００では、情報信
号の記録再生を行うことができる。
ィスク１００は、記録再生装置の光ピックアップ装置を
用いて信号の記録再生を行う。このとき、光ピックアッ
プ装置は、対物レンズＬを介して所定の波長のレーザ光
を、光透過層１０１側から情報記録層１０３に照射す
る。これにより、追記型光ディスク１００では、情報信
号の記録再生を行うことができる。
【０００７】記録再生においては、レーザ光が集光して
なるスポットを所定の位置に正確に形成する必要があ
る。特に、基板である光透過層１０１が応力や熱、湿度
によって変形を生じてしまうため、スキューと呼ばれる
基板の傾きに応じてレーザ光のコマ収差が大きなものと
なってしまう。逆に、基板のスキューが一定であるとし
た場合には、基板の厚みが薄い方がコマ収差の少ないス
ポットを形成することができる。
なるスポットを所定の位置に正確に形成する必要があ
る。特に、基板である光透過層１０１が応力や熱、湿度
によって変形を生じてしまうため、スキューと呼ばれる
基板の傾きに応じてレーザ光のコマ収差が大きなものと
なってしまう。逆に、基板のスキューが一定であるとし
た場合には、基板の厚みが薄い方がコマ収差の少ないス
ポットを形成することができる。
【０００８】ところで、最近では、光ピップアップ装置
における対物レンズＬの開口数ＮＡを大きくしてスポッ
ト径を小としたり、又、情報記録層１０３に形成される
記録トラックの間隔（トラックピッチ）を小さくして高
密度化を促進している。より具体的には、ＮＡが０．７
８以上である対物レンズＬを使用するようになってい
る。
における対物レンズＬの開口数ＮＡを大きくしてスポッ
ト径を小としたり、又、情報記録層１０３に形成される
記録トラックの間隔（トラックピッチ）を小さくして高
密度化を促進している。より具体的には、ＮＡが０．７
８以上である対物レンズＬを使用するようになってい
る。
【０００９】しかしながら、例えば、ＮＡが０．７８以
上である対物レンズＬを使用した場合、上述したような
厚さが１．２ｍｍの光透過層１０１を使用した追記型光
ディスク１００では、一定のスキューに対するスポット
の収差量およびこれによって生ずる再生信号の劣化の度
合いが顕著に表れてしまう。したがって、厚さが１．２
ｍｍである光透過層１０１を基板として使用する追記型
光ディスク１００を作製することは困難であった。
上である対物レンズＬを使用した場合、上述したような
厚さが１．２ｍｍの光透過層１０１を使用した追記型光
ディスク１００では、一定のスキューに対するスポット
の収差量およびこれによって生ずる再生信号の劣化の度
合いが顕著に表れてしまう。したがって、厚さが１．２
ｍｍである光透過層１０１を基板として使用する追記型
光ディスク１００を作製することは困難であった。
【００１０】この問題を解決するために、追記型光ディ
スクとしては、図１０に示すように、基板１０６と、基
板１０６上に形成された反射層１０７と、反射層１０７
上に形成された情報記録層１０８と、情報記録層１０８
上に形成された光透過層１０９とから構成されるものが
開発されている。この図１０に示す追記型光ディスクで
は、光透過層１０９の厚みを薄くできるため、ＮＡが
０．７８以上の対物レンズ１１０を用いた光ピックアッ
プ装置を用いて記録再生することができる。具体的に、
ＮＡが０．７８以上の対物レンズ１１０を用いた場合に
は、光透過層１０９を好ましくは１０〜１７７μｍとす
ることが提案されている。この場合、この光透過層１０
９は、紫外線硬化樹脂塗料により形成されるか、あるい
は、ポリカーボネートやガラス板などを用いた透明の平
板を用い、透明接着層を介して情報記録層１０８上に配
設される。
スクとしては、図１０に示すように、基板１０６と、基
板１０６上に形成された反射層１０７と、反射層１０７
上に形成された情報記録層１０８と、情報記録層１０８
上に形成された光透過層１０９とから構成されるものが
開発されている。この図１０に示す追記型光ディスクで
は、光透過層１０９の厚みを薄くできるため、ＮＡが
０．７８以上の対物レンズ１１０を用いた光ピックアッ
プ装置を用いて記録再生することができる。具体的に、
ＮＡが０．７８以上の対物レンズ１１０を用いた場合に
は、光透過層１０９を好ましくは１０〜１７７μｍとす
ることが提案されている。この場合、この光透過層１０
９は、紫外線硬化樹脂塗料により形成されるか、あるい
は、ポリカーボネートやガラス板などを用いた透明の平
板を用い、透明接着層を介して情報記録層１０８上に配
設される。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】ところで、情報記録層
１０８に用いられる有機材料としては、上述したよう
に、スピンコート法により情報記録層１０８を形成する
ため、アルコールに溶解する特性を持つものが使用され
る。しかしながら、この有機材料は、アルコールに溶解
する特性を持つため、光透過層１０９を形成する際に用
いられる紫外線硬化樹脂塗料や透明接着層に対しても溶
解する性質を有する。このため、情報記録層１０８が紫
外線硬化樹脂塗料や透明接着層に溶解してしまうと、情
報記録層１０８としての機能が損なわれてしまう。した
がって、従来の追記型光ディスクには、有機材料が光透
過層１０９に溶出してしまい、正確な記録再生を行うこ
とができないといった問題点があった。
１０８に用いられる有機材料としては、上述したよう
に、スピンコート法により情報記録層１０８を形成する
ため、アルコールに溶解する特性を持つものが使用され
る。しかしながら、この有機材料は、アルコールに溶解
する特性を持つため、光透過層１０９を形成する際に用
いられる紫外線硬化樹脂塗料や透明接着層に対しても溶
解する性質を有する。このため、情報記録層１０８が紫
外線硬化樹脂塗料や透明接着層に溶解してしまうと、情
報記録層１０８としての機能が損なわれてしまう。した
がって、従来の追記型光ディスクには、有機材料が光透
過層１０９に溶出してしまい、正確な記録再生を行うこ
とができないといった問題点があった。
【００１２】また、この問題を解決するために、紫外線
硬化樹脂塗料や透明接着層に対して難溶性を示す有機材
料を用いることが考えられる。この場合、有機材料は、
従来のアルコールに対しては溶解しないため、例えばテ
トロヒドロフランのような溶媒に溶解させる必要があ
る。しかしながら、テトロヒドロフランのような溶媒を
使用した場合には、情報記録層１０８をスピンコート法
により形成する際、基板１０６の材料である樹脂が溶解
されてしまう。その結果、基板１０６に形成された案内
溝等が変形、変質するという問題が生じてしまう。
硬化樹脂塗料や透明接着層に対して難溶性を示す有機材
料を用いることが考えられる。この場合、有機材料は、
従来のアルコールに対しては溶解しないため、例えばテ
トロヒドロフランのような溶媒に溶解させる必要があ
る。しかしながら、テトロヒドロフランのような溶媒を
使用した場合には、情報記録層１０８をスピンコート法
により形成する際、基板１０６の材料である樹脂が溶解
されてしまう。その結果、基板１０６に形成された案内
溝等が変形、変質するという問題が生じてしまう。
【００１３】そこで、本発明は、上述したような従来の
実情に鑑みて案出されたものであり、有機材料を記録材
料として使用した場合であっても、隣接する層との間で
相溶することなく、確実な記録再生を行うことのできる
光記録媒体を提供することを目的としている。
実情に鑑みて案出されたものであり、有機材料を記録材
料として使用した場合であっても、隣接する層との間で
相溶することなく、確実な記録再生を行うことのできる
光記録媒体を提供することを目的としている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成した
本発明に係る光記録媒体は、有機材料を記録材料として
含む記録層と、上記記録層の少なくとも一方の主面を覆
うように配された誘電体層とを備えるものである。
本発明に係る光記録媒体は、有機材料を記録材料として
含む記録層と、上記記録層の少なくとも一方の主面を覆
うように配された誘電体層とを備えるものである。
【００１５】以上のように構成された本発明に係る光記
録媒体は、記録層に含まれる有機材料が誘電体層により
保護される。このため、本発明に係る光記録媒体におい
ては、有機材料が溶出してしまったり、また、記録層中
に隣接する層を構成する材料が溶解するようなことを防
止できる。
録媒体は、記録層に含まれる有機材料が誘電体層により
保護される。このため、本発明に係る光記録媒体におい
ては、有機材料が溶出してしまったり、また、記録層中
に隣接する層を構成する材料が溶解するようなことを防
止できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光記録媒体の
好適な実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。こ
こでは、本発明を適用した光記録媒体として、図１に示
すような追記型光ディスク１を用いて説明する。
好適な実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。こ
こでは、本発明を適用した光記録媒体として、図１に示
すような追記型光ディスク１を用いて説明する。
【００１７】この追記型光ディスク１は、ポリカーボネ
イト等の合成樹脂を円盤状に射出成形してなる基板２
と、基板２上に順次形成された、反射層３、記録層４、
誘電体層５及び光透過層６とから構成されている。すな
わち、追記型光ディスク１は、基板２側から反射層３、
記録層４、誘電体層５及び光透過層６が順次形成されて
いる。
イト等の合成樹脂を円盤状に射出成形してなる基板２
と、基板２上に順次形成された、反射層３、記録層４、
誘電体層５及び光透過層６とから構成されている。すな
わち、追記型光ディスク１は、基板２側から反射層３、
記録層４、誘電体層５及び光透過層６が順次形成されて
いる。
【００１８】特に、この追記型光ディスク１では、光透
過層６と対向する位置に対物レンズ１０を配設した状態
で、所定の波長のレーザ光を照射することによって、情
報信号の記録及び記録された情報信号の再生が行われ
る。なお、追記型光ディスク１においては、記録層４に
対して情報信号を１回のみ記録することができ、一旦書
き込まれた情報信号を書き換えることはできない。
過層６と対向する位置に対物レンズ１０を配設した状態
で、所定の波長のレーザ光を照射することによって、情
報信号の記録及び記録された情報信号の再生が行われ
る。なお、追記型光ディスク１においては、記録層４に
対して情報信号を１回のみ記録することができ、一旦書
き込まれた情報信号を書き換えることはできない。
【００１９】先ず、この追記型光ディスク１の基板２及
び反射層３について説明する。基板２は、従来より公知
である、いわゆる光ディスクにおける基板と同様の樹脂
材料を使用して作製される。すなわち、基板２は、いわ
ゆるマスター盤作成プロセスにより作製されたスタンパ
を使用した射出成形プロセスにより形成される。しかし
ながら、本例では、記録再生に使用するレーザ光を基板
２に透過させる必要がないため、基板２に光透過性を持
たせる必要がない。このため、基板２としては、従来公
知の光ディスクに使用されている樹脂材料のみならず、
光透過性を有しない樹脂材料をも使用することができ
る。したがって、基板２を作製する際の樹脂材料として
は、材料選択の幅が広く、機械特性、熱特性、表面性及
び転写性等の様々な要素を満たす材料を選ぶことができ
る。
び反射層３について説明する。基板２は、従来より公知
である、いわゆる光ディスクにおける基板と同様の樹脂
材料を使用して作製される。すなわち、基板２は、いわ
ゆるマスター盤作成プロセスにより作製されたスタンパ
を使用した射出成形プロセスにより形成される。しかし
ながら、本例では、記録再生に使用するレーザ光を基板
２に透過させる必要がないため、基板２に光透過性を持
たせる必要がない。このため、基板２としては、従来公
知の光ディスクに使用されている樹脂材料のみならず、
光透過性を有しない樹脂材料をも使用することができ
る。したがって、基板２を作製する際の樹脂材料として
は、材料選択の幅が広く、機械特性、熱特性、表面性及
び転写性等の様々な要素を満たす材料を選ぶことができ
る。
【００２０】具体的には、基板２を作製する際に使用さ
れる樹脂材料としては、ポリカーボネート樹脂、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキ
シ樹脂等のプラスチック材料が用いられる。例えば、基
板２は、ポリカーボネイトを使用して厚み１．２ｍｍで
成形されている。
れる樹脂材料としては、ポリカーボネート樹脂、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキ
シ樹脂等のプラスチック材料が用いられる。例えば、基
板２は、ポリカーボネイトを使用して厚み１．２ｍｍで
成形されている。
【００２１】基板２は、スタンパを用いた射出成形プロ
セスを経ることにより、スタンパに形成されている凹凸
パターンを転写してなるグルーブ及び／又はピット列が
一主面上に形成されている。このうちグルーブは、一主
面上に同心円状或いはスパイラル状に形成されており、
記録再生時に照射されるレーザ光の案内溝として使用さ
れる。
セスを経ることにより、スタンパに形成されている凹凸
パターンを転写してなるグルーブ及び／又はピット列が
一主面上に形成されている。このうちグルーブは、一主
面上に同心円状或いはスパイラル状に形成されており、
記録再生時に照射されるレーザ光の案内溝として使用さ
れる。
【００２２】また、反射層３は、記録再生時に光透過層
６側から照射されたレーザ光の反射率を向上させるため
に配設されたものであり、基板２のグルーブ及びピット
列が形成された一主面上に形成される。反射層３は、グ
ルーブ及び／又はピット列を被覆するように薄膜として
形成されている。具体的に、反射層３の材料としては、
Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ等の金属材料が用いられる。特に、反
射特性の観点からは、少なくともＡｌを含む材料を用い
ると好ましい。また、この反射層３は、上記の材料をイ
オンビームスパッタ、マグネトロンスパッタ又は真空蒸
着法等の何れかの方法により形成されている。具体的
に、スパッタリング法によりＡｇを約１００ｎｍの厚み
で成膜して反射膜３としている。
６側から照射されたレーザ光の反射率を向上させるため
に配設されたものであり、基板２のグルーブ及びピット
列が形成された一主面上に形成される。反射層３は、グ
ルーブ及び／又はピット列を被覆するように薄膜として
形成されている。具体的に、反射層３の材料としては、
Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ等の金属材料が用いられる。特に、反
射特性の観点からは、少なくともＡｌを含む材料を用い
ると好ましい。また、この反射層３は、上記の材料をイ
オンビームスパッタ、マグネトロンスパッタ又は真空蒸
着法等の何れかの方法により形成されている。具体的
に、スパッタリング法によりＡｇを約１００ｎｍの厚み
で成膜して反射膜３としている。
【００２３】特に、この追記型光ディスク１において
は、記録再生時に光透過層４側からレーザ光を照射して
いるため、反射層３の基板と接する面とは反対側の面に
当該レーザ光が照射されることとなる。すなわち、反射
層３における表面がレーザ光の反射面となる。反射面の
表面性が良好でない場合には、レーザ光が乱反射を起こ
す場合がありノイズ成分として観測される場合がある。
このため、反射層３としては、成膜プロセス後に優れた
表面性となるような材料を使用することが好ましい。
は、記録再生時に光透過層４側からレーザ光を照射して
いるため、反射層３の基板と接する面とは反対側の面に
当該レーザ光が照射されることとなる。すなわち、反射
層３における表面がレーザ光の反射面となる。反射面の
表面性が良好でない場合には、レーザ光が乱反射を起こ
す場合がありノイズ成分として観測される場合がある。
このため、反射層３としては、成膜プロセス後に優れた
表面性となるような材料を使用することが好ましい。
【００２４】また、追記型光ディスク１では、高密度記
録を目的として短波長のレーザ光を使用する傾向にあ
り、例えば、波長が４００ｎｍ程度のレーザ光が使用さ
れるようになってきている。したがって、反射層３とし
ては、短波長のレーザ光、例えば、波長が４００ｎｍ程
度のレーザ光に対して優れた反射率を示すような材料を
使用することが好ましい。
録を目的として短波長のレーザ光を使用する傾向にあ
り、例えば、波長が４００ｎｍ程度のレーザ光が使用さ
れるようになってきている。したがって、反射層３とし
ては、短波長のレーザ光、例えば、波長が４００ｎｍ程
度のレーザ光に対して優れた反射率を示すような材料を
使用することが好ましい。
【００２５】これら、成膜プロセス後の表面性に優れ、
且つ、短波長のレーザ光に対して優れた反射率を示す材
料としては、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｌ合金等が好ましく、
特にＡｇを使用することが好ましい。
且つ、短波長のレーザ光に対して優れた反射率を示す材
料としては、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｌ合金等が好ましく、
特にＡｇを使用することが好ましい。
【００２６】次に、記録層４について説明する。記録層
４は、有機材料を記録材料として含有している。具体的
に、有機材料としては、シアニン系及びフタロシアニン
系等の有機色素系材料を例示することができる。この記
録層４を形成する際には、先ず、記録材料である有機材
料をアルコール等の溶媒に溶解して塗料化する。そし
て、有機材料を含有する塗料（以下、単に「塗料」と呼
ぶ。）をスピンコーティング等の手法を用いて所定の厚
みとして、その後、スピンコーティング法により形成さ
れた塗膜を乾燥することによって、約１２０ｎｍの厚み
の記録層４が形成される。
４は、有機材料を記録材料として含有している。具体的
に、有機材料としては、シアニン系及びフタロシアニン
系等の有機色素系材料を例示することができる。この記
録層４を形成する際には、先ず、記録材料である有機材
料をアルコール等の溶媒に溶解して塗料化する。そし
て、有機材料を含有する塗料（以下、単に「塗料」と呼
ぶ。）をスピンコーティング等の手法を用いて所定の厚
みとして、その後、スピンコーティング法により形成さ
れた塗膜を乾燥することによって、約１２０ｎｍの厚み
の記録層４が形成される。
【００２７】このとき、塗料は、反射膜３上に直接コー
ティングされるため、反射層３を腐食させず、基板２を
溶解しないような溶媒を使用することが好ましい。具体
的に、溶媒としては、テトラフルオロプロパノール等の
アルコール類を使用することが好ましい。したがって、
有機材料としては、溶媒として使用するテトラフルオロ
プロパノール等のアルコール類に対して溶解性に優れた
材料を選定することが好ましい。
ティングされるため、反射層３を腐食させず、基板２を
溶解しないような溶媒を使用することが好ましい。具体
的に、溶媒としては、テトラフルオロプロパノール等の
アルコール類を使用することが好ましい。したがって、
有機材料としては、溶媒として使用するテトラフルオロ
プロパノール等のアルコール類に対して溶解性に優れた
材料を選定することが好ましい。
【００２８】なお、追記型光ディスク１において有機材
料としては、有機色素材料を使用しているが、本発明に
おいては、偏光を照射することにより分子配向が変化す
る有機光配向材料等を有機材料として使用しても良い。
料としては、有機色素材料を使用しているが、本発明に
おいては、偏光を照射することにより分子配向が変化す
る有機光配向材料等を有機材料として使用しても良い。
【００２９】次に、誘電体層５及び光透過層６について
説明する。誘電体層５は、例えば、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4
及びＡｌＮ等の材料を使用して記録層４を覆うように形
成される。例えば、誘電体層５をＳｉＯ2から形成する
場合、記録層４を形成した後、Ｓｉターゲット或いはＳ
ｉＯ2ターゲットを配設したスパッタリング装置でスパ
ッタリングガスとしてＡｒ＋Ｏ2の混合気体を使用して
反応性スパッタリングを行う。
説明する。誘電体層５は、例えば、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4
及びＡｌＮ等の材料を使用して記録層４を覆うように形
成される。例えば、誘電体層５をＳｉＯ2から形成する
場合、記録層４を形成した後、Ｓｉターゲット或いはＳ
ｉＯ2ターゲットを配設したスパッタリング装置でスパ
ッタリングガスとしてＡｒ＋Ｏ2の混合気体を使用して
反応性スパッタリングを行う。
【００３０】また、光透過層６は、例えば、紫外線硬化
樹脂を用いてスピンコーティング法により所定の膜厚の
塗膜を形成した後に紫外線を照射することにより形成さ
れる。具体的に、光透過層６は、スピンコーティング法
により硬化後の膜厚が１０〜１７７μｍとなるように形
成される。光透過層６の膜厚を１０〜１７７μｍとする
ことによって、例えば、ＮＡが０．７８以上である対物
レンズを備える光学系を用いて記録再生するスポットの
収差量およびこれによって生ずる再生信号の劣化の度合
いを低く抑えることができる。
樹脂を用いてスピンコーティング法により所定の膜厚の
塗膜を形成した後に紫外線を照射することにより形成さ
れる。具体的に、光透過層６は、スピンコーティング法
により硬化後の膜厚が１０〜１７７μｍとなるように形
成される。光透過層６の膜厚を１０〜１７７μｍとする
ことによって、例えば、ＮＡが０．７８以上である対物
レンズを備える光学系を用いて記録再生するスポットの
収差量およびこれによって生ずる再生信号の劣化の度合
いを低く抑えることができる。
【００３１】なお、追記型光ディスク１では、光透過層
６を、所定の厚さに予め形成されたポリカーボネイト基
板やガラス板等を用意し、これらポリカーボネイト基板
やガラス板等を透明接着剤層を介して積層することによ
り形成してもよい。
６を、所定の厚さに予め形成されたポリカーボネイト基
板やガラス板等を用意し、これらポリカーボネイト基板
やガラス板等を透明接着剤層を介して積層することによ
り形成してもよい。
【００３２】以上のように構成された追記型光ディスク
１では、光透過層６と記録層４との間に誘電体層５が形
成されており、光透過層６と記録層４とが接触していな
い。仮に、光透過層６と記録層４とが接触していると、
光透過層６に使用される紫外線硬化樹脂中に記録層４に
含有される有機色素材料が溶出してしまうこととなる。
しかしながら、この追記型光ディスク１では、誘電体層
５により記録層４が光透過層６と接することがないた
め、記録層４の有機色素材料が溶出してしまうようなこ
とがない。
１では、光透過層６と記録層４との間に誘電体層５が形
成されており、光透過層６と記録層４とが接触していな
い。仮に、光透過層６と記録層４とが接触していると、
光透過層６に使用される紫外線硬化樹脂中に記録層４に
含有される有機色素材料が溶出してしまうこととなる。
しかしながら、この追記型光ディスク１では、誘電体層
５により記録層４が光透過層６と接することがないた
め、記録層４の有機色素材料が溶出してしまうようなこ
とがない。
【００３３】したがって、この追記型光ディスク１で
は、記録層４の機能を低下或いは損なうことが無く、情
報信号を確実に記録することができる。言い換えると、
この追記型光ディスク１は、光透過層６と記録層４との
間に形成された誘電体層５を有するため、情報信号を確
実に記録再生でき、信頼性の向上したものとなる。
は、記録層４の機能を低下或いは損なうことが無く、情
報信号を確実に記録することができる。言い換えると、
この追記型光ディスク１は、光透過層６と記録層４との
間に形成された誘電体層５を有するため、情報信号を確
実に記録再生でき、信頼性の向上したものとなる。
【００３４】また、追記型光ディスク１において、光透
過層６が透明接着剤層を介して形成された場合であって
も、当該透明接着剤層は、誘電体層５上に形成されるこ
ととなり記録層４と接触することがない。したがって、
この場合においても、記録層４中の有機色素材料が溶出
することがなく、記録層４の機能を低下或いは損なうこ
とがない。
過層６が透明接着剤層を介して形成された場合であって
も、当該透明接着剤層は、誘電体層５上に形成されるこ
ととなり記録層４と接触することがない。したがって、
この場合においても、記録層４中の有機色素材料が溶出
することがなく、記録層４の機能を低下或いは損なうこ
とがない。
【００３５】一方、誘電体層５の膜厚は、記録層４中の
有機色素材料を光透過層６に溶出させない程度であるこ
とが好ましい。具体的に、スパッタリング法によりＳｉ
Ｏ2からなる誘電体層５を形成する場合、誘電体層５の
膜厚は１００ｎｍ以上であることが好ましい。このこと
を検証するために、以下のような追記型光ディスクを作
製し、目視により記録層４中の有機色素材料の溶出の有
無を観察した。
有機色素材料を光透過層６に溶出させない程度であるこ
とが好ましい。具体的に、スパッタリング法によりＳｉ
Ｏ2からなる誘電体層５を形成する場合、誘電体層５の
膜厚は１００ｎｍ以上であることが好ましい。このこと
を検証するために、以下のような追記型光ディスクを作
製し、目視により記録層４中の有機色素材料の溶出の有
無を観察した。
【００３６】検証のための追記型光ディスクとして、誘
電体層５の厚みを１０ｎｍとした光ディスクＡ、誘電体
層５の厚みを５０ｎｍとした光ディスクＢ及び誘電体層
５の厚みを１００ｎｍとした光ディスクＣを作製した。
光ディスクＡの顕微鏡写真を図２に示し、光ディスクＢ
の顕微鏡写真を図３に示し、光ディスクＣの顕微鏡写真
を図４に示す。なお、これら図２〜図４に示した顕微鏡
写真は、光透過層６側から各光ディスクの表面を撮影し
たものである。
電体層５の厚みを１０ｎｍとした光ディスクＡ、誘電体
層５の厚みを５０ｎｍとした光ディスクＢ及び誘電体層
５の厚みを１００ｎｍとした光ディスクＣを作製した。
光ディスクＡの顕微鏡写真を図２に示し、光ディスクＢ
の顕微鏡写真を図３に示し、光ディスクＣの顕微鏡写真
を図４に示す。なお、これら図２〜図４に示した顕微鏡
写真は、光透過層６側から各光ディスクの表面を撮影し
たものである。
【００３７】図２の顕微鏡写真から、光ディスクＡで
は、記録層４中の有機材料が光透過層６に溶出すること
により形成される多数のピンホールが黒い斑点として観
測できる。また、図３の顕微鏡写真から、光ディスクＢ
においてもピンホールを示す黒い斑点を観測できる。し
かしながら、図４の顕微鏡写真から、光ディスクＣには
ピンホールを示す黒い斑点を観測することができない。
は、記録層４中の有機材料が光透過層６に溶出すること
により形成される多数のピンホールが黒い斑点として観
測できる。また、図３の顕微鏡写真から、光ディスクＢ
においてもピンホールを示す黒い斑点を観測できる。し
かしながら、図４の顕微鏡写真から、光ディスクＣには
ピンホールを示す黒い斑点を観測することができない。
【００３８】このことから、追記型光ディスク１におい
て、誘電体層５の厚みを大とすることによって、記録層
４中の有機材料の溶出を確実に防止できることがわか
る。また、誘電体層５をＳｉＯ2から構成した場合に
は、当該誘電体層の厚みを１００ｎｍとすることによっ
て、記録層中の有機材料の溶出を確実に防止できること
がわかった。
て、誘電体層５の厚みを大とすることによって、記録層
４中の有機材料の溶出を確実に防止できることがわか
る。また、誘電体層５をＳｉＯ2から構成した場合に
は、当該誘電体層の厚みを１００ｎｍとすることによっ
て、記録層中の有機材料の溶出を確実に防止できること
がわかった。
【００３９】ここで、図２〜図４に示した顕微鏡写真
は、ＳｉＯ2からなる誘電体層５を有する追記型光ディ
スクを用いて具体的に作製した一例を示すものである。
このため、これら図２〜図４は、本発明において、誘電
体層５の厚みが１００ｎｍ以上であることが必要条件で
あることを示すものではない。すなわち、誘電体層５を
構成する材料や誘電体層５の形成方法、光透過層５を構
成する材料等の諸条件を適宜変更することによって、誘
電体層５に求められる厚みは異なることになる。
は、ＳｉＯ2からなる誘電体層５を有する追記型光ディ
スクを用いて具体的に作製した一例を示すものである。
このため、これら図２〜図４は、本発明において、誘電
体層５の厚みが１００ｎｍ以上であることが必要条件で
あることを示すものではない。すなわち、誘電体層５を
構成する材料や誘電体層５の形成方法、光透過層５を構
成する材料等の諸条件を適宜変更することによって、誘
電体層５に求められる厚みは異なることになる。
【００４０】一方、上述した追記型光ディスク１では、
記録再生時に光透過層６側から照射されたレーザ光の反
射率を向上させるため、基板２上に反射層３を配設して
いる。しかしながら、上述した追記型光ディスク１にお
いて、記録層４の反射率が十分高い値であれば、特に反
射層３を配設する必要がない。すなわち、追記型光ディ
スク１としては、基板２上に、記録層４、誘電体層５及
び光透過層６が順次積層されてなるような構成であって
も良い。
記録再生時に光透過層６側から照射されたレーザ光の反
射率を向上させるため、基板２上に反射層３を配設して
いる。しかしながら、上述した追記型光ディスク１にお
いて、記録層４の反射率が十分高い値であれば、特に反
射層３を配設する必要がない。すなわち、追記型光ディ
スク１としては、基板２上に、記録層４、誘電体層５及
び光透過層６が順次積層されてなるような構成であって
も良い。
【００４１】具体的には、有機材料を含む記録層４の膜
厚を適宜変更することによって、当該記録層４の反射率
を制御することができ、反射層３を配さなくとも所望の
反射率を有する追記型光ディスク１を構築することがで
きる。例えば、図５に示すように、有機材料を含有する
有機膜の厚みと有機膜の反射率との関係から、有機膜の
厚みを適切に選ぶことにより有機膜の反射率を２０％以
上に制御することができる。なお、この図５は、有機膜
の屈折率を３．０、有機膜の消光係数を０．０６とし、
有機膜の両主面を、屈折率が１．４６であるガラス又は
ポリカーボネートで挟持してなる光ディスクに対して波
長６５０ｎｍのレーザ光を照射した場合を想定して計算
した結果である。したがって、記録再生時のレーザ光の
反射率が２０％程度と規定された記録再生システムにお
いては、反射層３を配設しなくても、有機材料を有する
記録層４により所望の反射率を得ることができ、確実な
記録再生を実現することができる。
厚を適宜変更することによって、当該記録層４の反射率
を制御することができ、反射層３を配さなくとも所望の
反射率を有する追記型光ディスク１を構築することがで
きる。例えば、図５に示すように、有機材料を含有する
有機膜の厚みと有機膜の反射率との関係から、有機膜の
厚みを適切に選ぶことにより有機膜の反射率を２０％以
上に制御することができる。なお、この図５は、有機膜
の屈折率を３．０、有機膜の消光係数を０．０６とし、
有機膜の両主面を、屈折率が１．４６であるガラス又は
ポリカーボネートで挟持してなる光ディスクに対して波
長６５０ｎｍのレーザ光を照射した場合を想定して計算
した結果である。したがって、記録再生時のレーザ光の
反射率が２０％程度と規定された記録再生システムにお
いては、反射層３を配設しなくても、有機材料を有する
記録層４により所望の反射率を得ることができ、確実な
記録再生を実現することができる。
【００４２】また、追記型光ディスク１においては、有
機材料の熱伝導率が低いため、反射層３が記録層４の熱
特性をコントロールする役割を殆ど担っていないため、
反射膜３が無くても記録特性に大きな変化はない。さら
に、反射層３を配設しない場合には、追記型光ディスク
１の製造工程が減るため、製造コストを大幅に低減でき
る。
機材料の熱伝導率が低いため、反射層３が記録層４の熱
特性をコントロールする役割を殆ど担っていないため、
反射膜３が無くても記録特性に大きな変化はない。さら
に、反射層３を配設しない場合には、追記型光ディスク
１の製造工程が減るため、製造コストを大幅に低減でき
る。
【００４３】ところで、上述した追記型光ディスク１に
おいては、記録層４と光透過層６との間に誘電体層５を
配設することによって、照射されるレーザ光の多重干渉
が発生し、検出信号を増大させることができる。照射さ
れたレーザ光の多重干渉は、光透過層６の屈折率と誘電
体層５の屈折率とが異なる場合、光透過層６と誘電体層
５との界面において発生する。
おいては、記録層４と光透過層６との間に誘電体層５を
配設することによって、照射されるレーザ光の多重干渉
が発生し、検出信号を増大させることができる。照射さ
れたレーザ光の多重干渉は、光透過層６の屈折率と誘電
体層５の屈折率とが異なる場合、光透過層６と誘電体層
５との界面において発生する。
【００４４】この多重干渉による検出信号の増幅の効果
を検証するため、有機材料として光配向有機材料を使用
した書換型光ディスクを作製した。この書換型光ディス
クでは、記録材料として、偏光を照射することにより分
子配向が変化する光配向有機材料を記録層４に含有して
いる。また、この書換型光ディスクにおいて、誘電体層
５がＳｉ3Ｎ4から形成されている。また、この書換型光
ディスクにおいて、反射層３はＡｌを用いて１００ｎｍ
の厚みとした。
を検証するため、有機材料として光配向有機材料を使用
した書換型光ディスクを作製した。この書換型光ディス
クでは、記録材料として、偏光を照射することにより分
子配向が変化する光配向有機材料を記録層４に含有して
いる。また、この書換型光ディスクにおいて、誘電体層
５がＳｉ3Ｎ4から形成されている。また、この書換型光
ディスクにおいて、反射層３はＡｌを用いて１００ｎｍ
の厚みとした。
【００４５】ここで、光配向有機材料とは、直線偏光の
入射により分子が直線偏光の向きに垂直方向に配向する
ものであり、配向した後は大きな複屈折を示す材料であ
る。その複屈折は、常光線、異常光線の軸に対する屈折
率がそれぞれ１．５、２．０である。これらの軸に対す
る消光係数はともに０．０４である。なお、これら光学
定数は光配向膜の作製方法などによって変わり得るもの
である。
入射により分子が直線偏光の向きに垂直方向に配向する
ものであり、配向した後は大きな複屈折を示す材料であ
る。その複屈折は、常光線、異常光線の軸に対する屈折
率がそれぞれ１．５、２．０である。これらの軸に対す
る消光係数はともに０．０４である。なお、これら光学
定数は光配向膜の作製方法などによって変わり得るもの
である。
【００４６】この書換型光ディスクを製造する際には、
先ず、１．２ｍｍの厚みで射出成形されてなる基板２上
にＡｌからなる反射層３を形成する。反射層３は、ＤＣ
マグネトロンスパッタリング装置により形成される。こ
のＤＣマグネトロンスパッタリング装置では、真空室内
において基板２を適切に回転できるようにホルダーに保
持し、当該真空室内を真空引きした後、Ａｒガスを１０
０ｓｃｃｍの流量で導入し真空室内を０．２Ｐａのガス
圧とする。この状態で、Ａｌターゲットを用いて、１ｋ
Ｗの電力で５分間ＤＣマグネトロンスパッタリングを行
うことにより、１００ｎｍの厚みでＡｌからなる反射層
３を形成する。
先ず、１．２ｍｍの厚みで射出成形されてなる基板２上
にＡｌからなる反射層３を形成する。反射層３は、ＤＣ
マグネトロンスパッタリング装置により形成される。こ
のＤＣマグネトロンスパッタリング装置では、真空室内
において基板２を適切に回転できるようにホルダーに保
持し、当該真空室内を真空引きした後、Ａｒガスを１０
０ｓｃｃｍの流量で導入し真空室内を０．２Ｐａのガス
圧とする。この状態で、Ａｌターゲットを用いて、１ｋ
Ｗの電力で５分間ＤＣマグネトロンスパッタリングを行
うことにより、１００ｎｍの厚みでＡｌからなる反射層
３を形成する。
【００４７】次に、光配向有機材料を２．２．３．３−
テトラフルオロ−１−プロパノールに３０ｇ／ｌとなる
ように溶解させてなる塗料を用いてスピンコート法によ
って、記録層４を形成する。このとき、反射層３が形成
された基板をターンテーブル上に固定し、ターンテーブ
ルを２０ｒｐｍで回転させながら、塗料を基板の内周に
沿って滴下し、その後、ターンテーブルの回転数を５０
００ｒｐｍにして５秒間保持する。これにより、反射層
３上に厚み１２０ｎｍの記録層を形成することができ
る。
テトラフルオロ−１−プロパノールに３０ｇ／ｌとなる
ように溶解させてなる塗料を用いてスピンコート法によ
って、記録層４を形成する。このとき、反射層３が形成
された基板をターンテーブル上に固定し、ターンテーブ
ルを２０ｒｐｍで回転させながら、塗料を基板の内周に
沿って滴下し、その後、ターンテーブルの回転数を５０
００ｒｐｍにして５秒間保持する。これにより、反射層
３上に厚み１２０ｎｍの記録層を形成することができ
る。
【００４８】次に、記録層４上にＳｉ3Ｎ4からなる誘電
体層５を形成する。誘電体層５はＲＦマグネトロンスパ
ッタリング装置により形成される。このＲＦマグネトロ
ンスパッタリング装置では、真空室内において基板２を
適切に回転できるようにホルダーに保持し、当該真空室
内を真空引きした後、Ａｒガスを１８０ｓｃｃｍ、Ｎ2
ガスを４０ｓｃｃｍの流量で導入し真空室内を０．３Ｐ
ａのガス圧とする。この状態で、Ｓｉターゲットを用い
て、１ｋＷの電力で１３分４５秒間ＲＦマグネトロンス
パッタリングを行うことにより、１２０ｎｍの厚みでＳ
ｉ3Ｎ4からなる誘電体層を形成する。
体層５を形成する。誘電体層５はＲＦマグネトロンスパ
ッタリング装置により形成される。このＲＦマグネトロ
ンスパッタリング装置では、真空室内において基板２を
適切に回転できるようにホルダーに保持し、当該真空室
内を真空引きした後、Ａｒガスを１８０ｓｃｃｍ、Ｎ2
ガスを４０ｓｃｃｍの流量で導入し真空室内を０．３Ｐ
ａのガス圧とする。この状態で、Ｓｉターゲットを用い
て、１ｋＷの電力で１３分４５秒間ＲＦマグネトロンス
パッタリングを行うことにより、１２０ｎｍの厚みでＳ
ｉ3Ｎ4からなる誘電体層を形成する。
【００４９】次に、紫外線硬化型樹脂を含有する塗料を
用いてスピンコート法により当該塗料を所定の厚みで塗
布し、その後、紫外線を照射することによって、誘電体
層５上に光透過層６を形成する。このとき、スピンコー
ト法は、上述した記録層４を形成する際と同様に行うこ
とができる。これにより、記録層４上に１００μｍの厚
みで光透過層６を形成することができる。なお、光透過
層６は、複数回に分けてスピンコート法を行い厚膜とし
て形成することもできる。
用いてスピンコート法により当該塗料を所定の厚みで塗
布し、その後、紫外線を照射することによって、誘電体
層５上に光透過層６を形成する。このとき、スピンコー
ト法は、上述した記録層４を形成する際と同様に行うこ
とができる。これにより、記録層４上に１００μｍの厚
みで光透過層６を形成することができる。なお、光透過
層６は、複数回に分けてスピンコート法を行い厚膜とし
て形成することもできる。
【００５０】なお、反射層３と記録層４との間に第２の
誘電体層を配設する際には、反射層３を形成した後、記
録層４を形成する前に、上述した誘電体層５を形成する
際に使用したＲＦマグネトロンスパッタリング装置を用
いる。このとき、ＲＦマグネトロンスパッタリング装置
は、上述した誘電体層５を形成する際と同様の条件で使
用する。しかしながら、この第２の誘電体層は、上述し
た誘電体層５よりも薄膜でよいため、成膜時間を２分３
０秒間として２０ｎｍの膜厚で形成される。
誘電体層を配設する際には、反射層３を形成した後、記
録層４を形成する前に、上述した誘電体層５を形成する
際に使用したＲＦマグネトロンスパッタリング装置を用
いる。このとき、ＲＦマグネトロンスパッタリング装置
は、上述した誘電体層５を形成する際と同様の条件で使
用する。しかしながら、この第２の誘電体層は、上述し
た誘電体層５よりも薄膜でよいため、成膜時間を２分３
０秒間として２０ｎｍの膜厚で形成される。
【００５１】ここで、光配向有機材料を用いた記録層の
動作原理を、図６に示す実験系を用いて説明する。図６
に示す実験系では、光配向膜１０を、相対角度が９０°
に設定された偏光板１１と検光子１２との間に配設し、
光配向膜１０の透過光量を検出する。透過光量は、Ｈｅ
−Ｎｅレーザ発振器１３から出射したレーザＬをディテ
クタ１４により測定する。光配向膜１０が配向していな
い場合には、レーザＬの透過光量は０である。また、光
配向膜１０が偏光板１１に対して４５°傾いて配向して
いる場合には、光配向有機材料の複屈折性によりレーザ
Ｌの偏向面が回転して検出光が観測される。さらに、光
配向膜１０がレーザＬの波長、例えば６３３ｎｍの波長
に対してλ／２板と等価となる複屈折を示せば入射した
直線偏光は理想的に９０°回転するので検出光量は最大
となる。すなわち、この状態を書換型光ディスクに当て
はめると最大の変調度が得られることとなる。
動作原理を、図６に示す実験系を用いて説明する。図６
に示す実験系では、光配向膜１０を、相対角度が９０°
に設定された偏光板１１と検光子１２との間に配設し、
光配向膜１０の透過光量を検出する。透過光量は、Ｈｅ
−Ｎｅレーザ発振器１３から出射したレーザＬをディテ
クタ１４により測定する。光配向膜１０が配向していな
い場合には、レーザＬの透過光量は０である。また、光
配向膜１０が偏光板１１に対して４５°傾いて配向して
いる場合には、光配向有機材料の複屈折性によりレーザ
Ｌの偏向面が回転して検出光が観測される。さらに、光
配向膜１０がレーザＬの波長、例えば６３３ｎｍの波長
に対してλ／２板と等価となる複屈折を示せば入射した
直線偏光は理想的に９０°回転するので検出光量は最大
となる。すなわち、この状態を書換型光ディスクに当て
はめると最大の変調度が得られることとなる。
【００５２】ところが、書換型光ディスクにおいて、記
録膜４の膜厚が薄いか或いは複屈折が小さい場合には、
位相の変化がλ／２板よりも小さくなるため、変調度は
小さくなる。このような場合、書換型光ディスクにおい
ては、誘電体層５による多重干渉が有効に作用する。す
なわち、誘電体層５と光透過層６との界面に多重干渉が
発生することによって、書換型光ディスクでは、変調度
を増幅することができるのである。
録膜４の膜厚が薄いか或いは複屈折が小さい場合には、
位相の変化がλ／２板よりも小さくなるため、変調度は
小さくなる。このような場合、書換型光ディスクにおい
ては、誘電体層５による多重干渉が有効に作用する。す
なわち、誘電体層５と光透過層６との界面に多重干渉が
発生することによって、書換型光ディスクでは、変調度
を増幅することができるのである。
【００５３】具体的には、図６に示した実験系におい
て、光配向膜１０の代わりに書換型光ディスクと同様の
構成を有する試料を用いて透過光量を測定すると、図７
に示すように、誘電体層による多重干渉の効果により透
過光量が増大していることが解る。なお、この図７にお
いて、縦軸は透過光量を示しており、偏光板１１と検光
子１２との間に試料を配さないで測定した場合の透過光
量を１として規格化した値である。また、横軸は、誘電
体層５の厚みを示している。
て、光配向膜１０の代わりに書換型光ディスクと同様の
構成を有する試料を用いて透過光量を測定すると、図７
に示すように、誘電体層による多重干渉の効果により透
過光量が増大していることが解る。なお、この図７にお
いて、縦軸は透過光量を示しており、偏光板１１と検光
子１２との間に試料を配さないで測定した場合の透過光
量を１として規格化した値である。また、横軸は、誘電
体層５の厚みを示している。
【００５４】図７に示すように、誘電体層５がない場合
（図７中波線で示す。）は、透過光量が０．３３程度で
あるが、誘電体層５が存在する場合（図７中実線で示
す。）は、明らかに多重干渉の効果があり、その膜厚が
１２５ｎｍ程度の時には透過光量が０．４５に達してい
る。このことから、書換型光ディスクにおいて、誘電体
層５を配設することによって、検出信号を増幅する効果
があることがわかる。また、書換型光ディスクにおい
て、誘電体層５の膜厚を適宜設定することによって、信
号振幅を大幅に改善することが可能となることもわか
る。
（図７中波線で示す。）は、透過光量が０．３３程度で
あるが、誘電体層５が存在する場合（図７中実線で示
す。）は、明らかに多重干渉の効果があり、その膜厚が
１２５ｎｍ程度の時には透過光量が０．４５に達してい
る。このことから、書換型光ディスクにおいて、誘電体
層５を配設することによって、検出信号を増幅する効果
があることがわかる。また、書換型光ディスクにおい
て、誘電体層５の膜厚を適宜設定することによって、信
号振幅を大幅に改善することが可能となることもわか
る。
【００５５】なお、これらの効果は、書換型光ディスク
のみならず、上述した追記型光ディスク１においても同
様に得られることは明かである。有機色素材料を記録層
４に使用した場合には、記録状態或いは未記録状態で有
機色素材料の屈折率が変化することにより光路長が異な
ることから光の干渉が起こり、回折による変調を観測す
ることにより信号を再生することができる。この場合、
多重干渉が生ずることによって、小さい屈折率変化を示
す場合にも実効的光路長をのばすことができ、結果とし
て検出信号を増幅することができるためである。
のみならず、上述した追記型光ディスク１においても同
様に得られることは明かである。有機色素材料を記録層
４に使用した場合には、記録状態或いは未記録状態で有
機色素材料の屈折率が変化することにより光路長が異な
ることから光の干渉が起こり、回折による変調を観測す
ることにより信号を再生することができる。この場合、
多重干渉が生ずることによって、小さい屈折率変化を示
す場合にも実効的光路長をのばすことができ、結果とし
て検出信号を増幅することができるためである。
【００５６】なお、図６に示した実験系では、レーザＬ
を集光せずに検出光の強度を求めたが、上述した追記型
光ディスクや書換型光ディスク等の集光光学系において
も同様の効果を得ることができる。また、誘電体層５と
しては、Ｓｉ3Ｎ4以外の誘電体材料を用いても同様の効
果が期待できる。さらに、この実験系では、記録に用い
るレーザ波長を５３２ｎｍとし、再生光に用いるレーザ
波長を６３３ｎｍとしたが、如何なる波長のレーザであ
っても同様の効果を得ることができる。また、記録・再
生を同じ波長のレーザで行うことも可能である。さらに
また、誘電体層５の最適厚はレーザ波長に依存するの
で、用いるレーザ波長に応じて最適な厚みに設定するこ
とが好ましい。 ところで、本発明を適用した光記録媒
体としては、上述した追記型光ディスク及び書換型光デ
ィスクのような構成の光ディスクに限定されるものでは
ない。すなわち、本発明を適用した光記録媒体として
は、図８に示すように、記録層４と反射層３との間に誘
電体層５を配設したような追記型光ディスク２０であっ
ても良い。
を集光せずに検出光の強度を求めたが、上述した追記型
光ディスクや書換型光ディスク等の集光光学系において
も同様の効果を得ることができる。また、誘電体層５と
しては、Ｓｉ3Ｎ4以外の誘電体材料を用いても同様の効
果が期待できる。さらに、この実験系では、記録に用い
るレーザ波長を５３２ｎｍとし、再生光に用いるレーザ
波長を６３３ｎｍとしたが、如何なる波長のレーザであ
っても同様の効果を得ることができる。また、記録・再
生を同じ波長のレーザで行うことも可能である。さらに
また、誘電体層５の最適厚はレーザ波長に依存するの
で、用いるレーザ波長に応じて最適な厚みに設定するこ
とが好ましい。 ところで、本発明を適用した光記録媒
体としては、上述した追記型光ディスク及び書換型光デ
ィスクのような構成の光ディスクに限定されるものでは
ない。すなわち、本発明を適用した光記録媒体として
は、図８に示すように、記録層４と反射層３との間に誘
電体層５を配設したような追記型光ディスク２０であっ
ても良い。
【００５７】すなわち、追記型光ディスク２０は、基板
２上に、反射層３、誘電体層５、記録層４及び光透過層
６を順次積層してなる。この場合、記録層４に含まれる
有機材料としては、紫外線硬化樹脂からなる光透過層６
に対して溶出しないようにするため、アルコール溶媒に
対して難溶性の材料を選択する。このため、この場合、
記録層４は、有機材料をテトラヒドロフラン等の溶媒を
用いて塗料化し、スピンコート法により形成される。
２上に、反射層３、誘電体層５、記録層４及び光透過層
６を順次積層してなる。この場合、記録層４に含まれる
有機材料としては、紫外線硬化樹脂からなる光透過層６
に対して溶出しないようにするため、アルコール溶媒に
対して難溶性の材料を選択する。このため、この場合、
記録層４は、有機材料をテトラヒドロフラン等の溶媒を
用いて塗料化し、スピンコート法により形成される。
【００５８】テトラヒドロフラン等の溶媒は、反射層３
や基板２と接すると、反射層３の金属材料を劣化させた
り、基板２を溶解してしまうことがある。反射層３の金
属材料を劣化させた場合には、所望の反射率を得ること
ができず、所望の記録再生特性を得ることができない。
また、基板２を溶解してしまうと、基板２に形成された
グルーブやピット列を変形・変質してしまい、優れた記
録再生特性を達成することができない。
や基板２と接すると、反射層３の金属材料を劣化させた
り、基板２を溶解してしまうことがある。反射層３の金
属材料を劣化させた場合には、所望の反射率を得ること
ができず、所望の記録再生特性を得ることができない。
また、基板２を溶解してしまうと、基板２に形成された
グルーブやピット列を変形・変質してしまい、優れた記
録再生特性を達成することができない。
【００５９】しかしながら、この追記型光ディスク２０
では、反射層３と記録層４との間に誘電体層５を配設し
ているため、テトラヒドロフラン等の溶媒が反射層３の
金属材料を劣化させるようなことはない。また、反射層
３が配設されていない場合であっても、誘電体層５によ
り基板２の溶解を防止することができる。このため、追
記型光ディスク２０では、記録再生特性に優れたものと
なる。
では、反射層３と記録層４との間に誘電体層５を配設し
ているため、テトラヒドロフラン等の溶媒が反射層３の
金属材料を劣化させるようなことはない。また、反射層
３が配設されていない場合であっても、誘電体層５によ
り基板２の溶解を防止することができる。このため、追
記型光ディスク２０では、記録再生特性に優れたものと
なる。
【００６０】また、この追記型光ディスク２０において
も、誘電体層５による多重干渉の効果を得ることができ
るため、再生時における検出信号を大幅に増幅させるこ
とができる。さらに、この場合も、誘電体層５の厚みを
適宜設定することによって、信号増幅の効果をより増幅
させることができる。
も、誘電体層５による多重干渉の効果を得ることができ
るため、再生時における検出信号を大幅に増幅させるこ
とができる。さらに、この場合も、誘電体層５の厚みを
適宜設定することによって、信号増幅の効果をより増幅
させることができる。
【００６１】ところで、本発明は、上述した例のよう
に、光透過層６を有し、光透過層６側からレーザ光が照
射されて記録再生がなされる光記録媒体に限定されるも
のではない。すなわち、本発明は、記録再生時のレーザ
光が基板２側から照射されるような光記録媒体に対して
も適用することができる。この場合も、上述した例と同
様に、誘電体層により記録層に含まれる有機材料の溶出
を防止したり、誘電体層により基板の溶解を防止するこ
とができる。
に、光透過層６を有し、光透過層６側からレーザ光が照
射されて記録再生がなされる光記録媒体に限定されるも
のではない。すなわち、本発明は、記録再生時のレーザ
光が基板２側から照射されるような光記録媒体に対して
も適用することができる。この場合も、上述した例と同
様に、誘電体層により記録層に含まれる有機材料の溶出
を防止したり、誘電体層により基板の溶解を防止するこ
とができる。
【００６２】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係る光記録媒体は、記録層に含まれる有機材料が誘
電体層により保護される。このため、本発明に係る光記
録媒体においては、有機材料が溶出してしまったり、ま
た、記録層中に隣接する層を構成する材料が溶解するよ
うなことを防止できる。このため、本発明に係る光記録
媒体は、信頼性に優れ、記録再生特性に優れたものとな
る。
明に係る光記録媒体は、記録層に含まれる有機材料が誘
電体層により保護される。このため、本発明に係る光記
録媒体においては、有機材料が溶出してしまったり、ま
た、記録層中に隣接する層を構成する材料が溶解するよ
うなことを防止できる。このため、本発明に係る光記録
媒体は、信頼性に優れ、記録再生特性に優れたものとな
る。
【図１】本発明に係る光記録媒体の一例として示す追記
型光ディスクの要部断面図である。
型光ディスクの要部断面図である。
【図２】誘電体層の厚みを１０ｎｍとした光ディスクＡ
における表面の顕微鏡写真である。
における表面の顕微鏡写真である。
【図３】誘電体層の厚みを５０ｎｍとした光ディスクＢ
における表面の顕微鏡写真である。
における表面の顕微鏡写真である。
【図４】誘電体層の厚みを１００ｎｍとした光ディスク
Ｃにおける表面の顕微鏡写真である。
Ｃにおける表面の顕微鏡写真である。
【図５】有機材料を有する有機膜の膜厚と反射率との関
係を示す特性図である。
係を示す特性図である。
【図６】光配向有機材料の動作原理を説明するための実
験系を示す概略構成図である。
験系を示す概略構成図である。
【図７】誘電体層の膜厚と透過光量との関係を示す特性
図である。
図である。
【図８】本発明に係る他の光記録媒体として示す追記型
光ディスクの要部断面図である。
光ディスクの要部断面図である。
【図９】基板側からレーザ光を照射する従来の光ディス
クの要部断面図である。
クの要部断面図である。
【図１０】光透過層を有する従来の光ディスクの要部断
面図である。
面図である。
１ 追記型光ディスク、２ 基板、３ 反射層、４ 記
録層、５ 誘電体層、６光透過層
録層、５ 誘電体層、６光透過層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒川 光太郎 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 山本 眞伸 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 5D029 JA04 LB01 LB02 LB03 NA13
Claims (8)
- 【請求項１】 有機材料を記録材料として含む記録層
と、 上記記録層の少なくとも一方の主面を覆うように配され
た誘電体層とを備える光記録媒体。 - 【請求項２】 記録再生に使用される光を透過する光透
過層が上記誘電体層を介して上記記録層上に積層された
ことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項３】 上記記録層は、記録再生に使用される光
を反射する反射層を介して基板上に積層されたことを特
徴とする請求項２記載の光記録媒体。 - 【請求項４】 上記記録層は、記録再生時に使用する光
を透過する基板上に上記誘電体膜を介して積層されたこ
とを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項５】 記録再生に使用される光を反射する反射
層が上記記録層上に形成されたことを特徴とする請求項
４記載の光記録媒体。 - 【請求項６】 上記反射層上に保護膜が形成されたこと
を特徴とする請求項５記載の光記録媒体。 - 【請求項７】 上記記録材料は、有機色素系材料である
ことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項８】 上記記録材料は、偏光を照射することに
より分子配向が変化する有機系光配向材料であることを
特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33548899A JP2001155383A (ja) | 1999-11-26 | 1999-11-26 | 光記録媒体 |
| TW089124656A TW564415B (en) | 1999-11-26 | 2000-11-21 | Optical recording medium |
| EP00125686A EP1103962A3 (en) | 1999-11-26 | 2000-11-23 | Optical recording medium having an organic recording layer |
| KR1020000070910A KR20010051974A (ko) | 1999-11-26 | 2000-11-27 | 광기록 매체 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33548899A JP2001155383A (ja) | 1999-11-26 | 1999-11-26 | 光記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001155383A true JP2001155383A (ja) | 2001-06-08 |
| JP2001155383A5 JP2001155383A5 (ja) | 2006-04-13 |
Family
ID=18289144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33548899A Pending JP2001155383A (ja) | 1999-11-26 | 1999-11-26 | 光記録媒体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1103962A3 (ja) |
| JP (1) | JP2001155383A (ja) |
| KR (1) | KR20010051974A (ja) |
| TW (1) | TW564415B (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6959446B2 (en) | 2002-03-07 | 2005-10-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
| US6967048B2 (en) | 2001-06-13 | 2005-11-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical recording medium |
| US7129019B2 (en) | 2001-06-22 | 2006-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
| US7341820B2 (en) | 2001-11-30 | 2008-03-11 | Fujifilm Corporation | Optical information recording medium |
| US7384723B2 (en) | 2002-01-23 | 2008-06-10 | Fujifilm Corporation | Optical information recording medium |
| US7778145B2 (en) | 2004-07-16 | 2010-08-17 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium and optical recording method of the same |
| US8114496B2 (en) | 2006-01-13 | 2012-02-14 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4239403B2 (ja) * | 2000-12-06 | 2009-03-18 | ソニー株式会社 | 光ディスク |
| EP1271500A1 (en) | 2001-06-28 | 2003-01-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording method and medium |
| JP2004098542A (ja) * | 2002-09-11 | 2004-04-02 | Tdk Corp | 光記録媒体及び光記録再生方法 |
| JP2004098541A (ja) * | 2002-09-11 | 2004-04-02 | Tdk Corp | 光記録媒体及び光記録再生方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4950579A (en) * | 1988-07-08 | 1990-08-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optical disc recording medium having a microstructure-derived inhomogeneity or anisotropy |
| US5090009A (en) * | 1988-07-30 | 1992-02-18 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information recording medium |
| JPH10302310A (ja) * | 1997-04-25 | 1998-11-13 | Sony Corp | 光学記録媒体及び光学ディスク装置 |
-
1999
- 1999-11-26 JP JP33548899A patent/JP2001155383A/ja active Pending
-
2000
- 2000-11-21 TW TW089124656A patent/TW564415B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-11-23 EP EP00125686A patent/EP1103962A3/en not_active Withdrawn
- 2000-11-27 KR KR1020000070910A patent/KR20010051974A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6967048B2 (en) | 2001-06-13 | 2005-11-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical recording medium |
| US7129019B2 (en) | 2001-06-22 | 2006-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
| US7341820B2 (en) | 2001-11-30 | 2008-03-11 | Fujifilm Corporation | Optical information recording medium |
| US7384723B2 (en) | 2002-01-23 | 2008-06-10 | Fujifilm Corporation | Optical information recording medium |
| US6959446B2 (en) | 2002-03-07 | 2005-10-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
| US6961951B2 (en) | 2002-03-07 | 2005-11-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
| US7305690B2 (en) | 2002-03-07 | 2007-12-04 | Fujifilm Corporation | Optical information recording medium |
| US7778145B2 (en) | 2004-07-16 | 2010-08-17 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium and optical recording method of the same |
| US8114496B2 (en) | 2006-01-13 | 2012-02-14 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1103962A3 (en) | 2002-05-02 |
| EP1103962A2 (en) | 2001-05-30 |
| KR20010051974A (ko) | 2001-06-25 |
| TW564415B (en) | 2003-12-01 |
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