JPH01288365A - 成膜方法および装置 - Google Patents
成膜方法および装置Info
- Publication number
- JPH01288365A JPH01288365A JP11613688A JP11613688A JPH01288365A JP H01288365 A JPH01288365 A JP H01288365A JP 11613688 A JP11613688 A JP 11613688A JP 11613688 A JP11613688 A JP 11613688A JP H01288365 A JPH01288365 A JP H01288365A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pallet
- section
- film
- travel time
- film forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、成膜方法および装置、特に、光ディスク等の
記録膜1反射膜を基板移動させながら形成する成膜方法
および装置に関する。
記録膜1反射膜を基板移動させながら形成する成膜方法
および装置に関する。
レーザ光によって情報を記録しがっ再生する光デイスク
メモリーは、記録密度が高いことから大容量記録再生装
置として優れた特徴を有している。
メモリーは、記録密度が高いことから大容量記録再生装
置として優れた特徴を有している。
光デイスクメモリー媒体の一例は第2図に示すような構
成になっている。すなわち基板1に隣接してテルル−セ
レン系合金等の記録層21が設けられている。記録用レ
ーザ光は基板1を通して記録層21に集光照射され、ピ
ット22が形成される。基板lとしてはポリカーボネイ
ト、ポリオレフィン、ポリメチルペンテン、アクリル、
エポキシ樹脂等の合成樹脂やガラスが使用され、基板1
にはピットが同心円状あるいはスパイラル状に一定間隔
で精度よく記録されるように通常、案内溝が設けられて
いる。
成になっている。すなわち基板1に隣接してテルル−セ
レン系合金等の記録層21が設けられている。記録用レ
ーザ光は基板1を通して記録層21に集光照射され、ピ
ット22が形成される。基板lとしてはポリカーボネイ
ト、ポリオレフィン、ポリメチルペンテン、アクリル、
エポキシ樹脂等の合成樹脂やガラスが使用され、基板1
にはピットが同心円状あるいはスパイラル状に一定間隔
で精度よく記録されるように通常、案内溝が設けられて
いる。
レーザビーム径程度の幅の溝に光が入射すると光は回折
され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度の
空間分布が変化するので、これを検出してレーザビーム
を溝の中心に入射させるようにサーボ系が構成されてい
る。溝の幅は通常0.3〜1.3μmであり、溝の深さ
は使用するレーザ波長の1/20から1/4の範囲に設
定される。集光に関しても同様にサーボ系が構成されて
いる。
され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度の
空間分布が変化するので、これを検出してレーザビーム
を溝の中心に入射させるようにサーボ系が構成されてい
る。溝の幅は通常0.3〜1.3μmであり、溝の深さ
は使用するレーザ波長の1/20から1/4の範囲に設
定される。集光に関しても同様にサーボ系が構成されて
いる。
情報の読み出しは、記録のときよりも弱いパワーのレー
ザ光をビット22上を通過するように照射することによ
り、ビット22の有無に起因する反射率の変化を検出し
て行なう。
ザ光をビット22上を通過するように照射することによ
り、ビット22の有無に起因する反射率の変化を検出し
て行なう。
上記記録層21の形成は、スパッタリング法。
蒸着法等のスパッタリング源や蒸着源などの成膜源を用
いて行なわれる。このときに記録層21の膜厚の変動は
、記録感度の変動2反射率の変動に影響を及ぼすので、
充分に小さい値以下に制御しなければならない。
いて行なわれる。このときに記録層21の膜厚の変動は
、記録感度の変動2反射率の変動に影響を及ぼすので、
充分に小さい値以下に制御しなければならない。
次に、従来の成膜装置について第3図を参照して成膜動
作の説明を行なう。
作の説明を行なう。
基板1をパレット2の装着し、パレット2をキャリア3
に装着し、真空排気室4において真空排気ポンプ5で排
気する。所望の真空度に到達後、キャリア3をパレット
2.基板1ごと真空排気室4から成膜室6ヘゲートバル
ブ(図示せず)を介して移動させる。成膜室6において
パレット回転モータ7で回転駆動軸8を介してパレット
2を回転させなから成膜源9に対向した位置の基板に成
膜する。
に装着し、真空排気室4において真空排気ポンプ5で排
気する。所望の真空度に到達後、キャリア3をパレット
2.基板1ごと真空排気室4から成膜室6ヘゲートバル
ブ(図示せず)を介して移動させる。成膜室6において
パレット回転モータ7で回転駆動軸8を介してパレット
2を回転させなから成膜源9に対向した位置の基板に成
膜する。
しかしながら、このような上述した従来の成膜方法およ
び装置は、多数のディスクを成膜すると、反射率が所定
の値でないディスクが作製されるという問題が生じた。
び装置は、多数のディスクを成膜すると、反射率が所定
の値でないディスクが作製されるという問題が生じた。
本発明者らは、この原因を調べたところ、パレットの回
転にむらが発生し、そのため、パレット内の基板の成膜
に厚さのばらつきが生じたためであることがわかった。
転にむらが発生し、そのため、パレット内の基板の成膜
に厚さのばらつきが生じたためであることがわかった。
本発明の目的は、パレットの回転むらが生じるようなキ
ャリアのベアリングであっても、成膜終了時にはパレッ
ト内の基板の成膜の厚さにばらつきがないような成膜方
法および装置を提供することにある。
ャリアのベアリングであっても、成膜終了時にはパレッ
ト内の基板の成膜の厚さにばらつきがないような成膜方
法および装置を提供することにある。
すなわち、本発明の成膜方法および装置は、成膜の厚さ
にばらつきが生じやすいため、稼働率が悪いという欠点
があった。
にばらつきが生じやすいため、稼働率が悪いという欠点
があった。
本発明の成膜方法および装置は、パレットに基板を装着
し、成膜源にこのパレットの一部を対向させた位置でこ
のパレットを回転させて成膜するもので、前記パレット
の1周を等間隔に分割し、その各区間の移動時間を検出
する手段と、前記移動時間を各区間ごとに積算する手段
と、前記パレットの回転速度を可変する手段と、前記各
区間ごとに積算された移動時間が各区間ごとに平均化す
るように前記パレットの回転速度を変化させて成膜する
ように構成される。
し、成膜源にこのパレットの一部を対向させた位置でこ
のパレットを回転させて成膜するもので、前記パレット
の1周を等間隔に分割し、その各区間の移動時間を検出
する手段と、前記移動時間を各区間ごとに積算する手段
と、前記パレットの回転速度を可変する手段と、前記各
区間ごとに積算された移動時間が各区間ごとに平均化す
るように前記パレットの回転速度を変化させて成膜する
ように構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
第1図(a) 、 (b)は本発明の一実施例を示す正
面図、および側断面図である。
面図、および側断面図である。
第1図(a) 、 (b)に示す成膜装置は、パレット
2の外周部に一定間隔で貫通穴11を設けることにより
、パレットの1周を複数個の小区間に分割する。パレッ
ト2の前面と後面に光源光検出器12を設けて貫通穴1
1を通過する光を検出することにより、各区間の移動時
間を検出し、処理回路13でこの移動時間を各区間ごと
に積算する。処理回路13では、各区間ごとに積算され
た移動時間の大小を判別し、移動時間の大きいところの
区間では、回転速度が速くなるようにパレット回転モー
タ7を制御することにより、各区間の積算移動時間のば
らつきが1回の平均移動時間以下となるようにした。
2の外周部に一定間隔で貫通穴11を設けることにより
、パレットの1周を複数個の小区間に分割する。パレッ
ト2の前面と後面に光源光検出器12を設けて貫通穴1
1を通過する光を検出することにより、各区間の移動時
間を検出し、処理回路13でこの移動時間を各区間ごと
に積算する。処理回路13では、各区間ごとに積算され
た移動時間の大小を判別し、移動時間の大きいところの
区間では、回転速度が速くなるようにパレット回転モー
タ7を制御することにより、各区間の積算移動時間のば
らつきが1回の平均移動時間以下となるようにした。
このようにすることにより、パレットの回転にむらが生
じるようなキャリアのベアリングであっても、パレット
内の基板の成膜の厚さにばらつきがなくなった。
じるようなキャリアのベアリングであっても、パレット
内の基板の成膜の厚さにばらつきがなくなった。
なお、上述の実施例では、パレットに貫通穴を設けて各
区間の移動時間を検出したが、パレットの裏面に反射板
を設けて検出してもよく、また、回転軸にロータリーエ
ンコーダをつけて検出してもよい。
区間の移動時間を検出したが、パレットの裏面に反射板
を設けて検出してもよく、また、回転軸にロータリーエ
ンコーダをつけて検出してもよい。
本発明の成膜方法および装置は、パレットの回転むらが
生じるようなベアリングのキャリアを用いても、パレッ
ト内の基板の成膜の厚さにばらつきがなくなるので、稼
働率を向上させることができるという効果がある。
生じるようなベアリングのキャリアを用いても、パレッ
ト内の基板の成膜の厚さにばらつきがなくなるので、稼
働率を向上させることができるという効果がある。
第1図(a) 、 (b)は本発明の一実施例を示す正
面図および側断面図、第2図は従来および本発明の成膜
方法および装置を使用して製作される光デイスクメモリ
ー媒体を説明するための部分断面図、第3図(a) 、
(b)は従来の一例を示す正面図および側断面図であ
る。 1・・・・・・基板、2・・・・・・パレット、3・・
・・・・キャリア、4・・・・・・真空排気室、5・・
・・・・真空排気ボシブ、6・・・・・・成膜室、7・
・・・・・パレット回転モータ、8・・・・・・回転駆
動軸、9・・・・・・成膜源、11・・・・・・貫通穴
、12・・・・・・光源光検出器、13・旧・・処理回
路、21・・・・・・記録層、22・・・・・・ビット
。 a・・・・・・フィードバック信号。 代理人 弁理士 内 原 晋 第1 図 (α)
(b)2Z ヒニ一ント
面図および側断面図、第2図は従来および本発明の成膜
方法および装置を使用して製作される光デイスクメモリ
ー媒体を説明するための部分断面図、第3図(a) 、
(b)は従来の一例を示す正面図および側断面図であ
る。 1・・・・・・基板、2・・・・・・パレット、3・・
・・・・キャリア、4・・・・・・真空排気室、5・・
・・・・真空排気ボシブ、6・・・・・・成膜室、7・
・・・・・パレット回転モータ、8・・・・・・回転駆
動軸、9・・・・・・成膜源、11・・・・・・貫通穴
、12・・・・・・光源光検出器、13・旧・・処理回
路、21・・・・・・記録層、22・・・・・・ビット
。 a・・・・・・フィードバック信号。 代理人 弁理士 内 原 晋 第1 図 (α)
(b)2Z ヒニ一ント
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、パレットに基板を装着し、成膜源にこのパレットの
一部を対向させた位置でこのパレットを回転し、前記パ
レットの1周を等間隔に分割してその各区間の移動時間
を検出し、前記移動時間を各区間ごとに積算し、前記パ
レットの回転速度を可変にし、前記各区間ごとに積算さ
れた移動時間が各区間ごとに平均化するように前記パレ
ットの回転速度を変化させて成膜することを特徴とする
成膜方法。 2、基板を装着し成膜源に一部が対向した位置で回転す
るパレットと、前記パレットの1周を等間隔に分割しそ
の各区間の移動時間を検出する検出手段と、前記移動時
間を各区間ごとに積算する積算手段と、前記パレットの
回転速度を可変にする速度可変手段と、前記各区間ごと
に積算された移動時間が各区間ごとに平均化するように
前記パレット回転速度を変化させて成膜する制御手段と
を含むことを特徴とする成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11613688A JPH0698334B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 成膜方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11613688A JPH0698334B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 成膜方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01288365A true JPH01288365A (ja) | 1989-11-20 |
JPH0698334B2 JPH0698334B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=14679620
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11613688A Expired - Fee Related JPH0698334B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 成膜方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0698334B2 (ja) |
-
1988
- 1988-05-12 JP JP11613688A patent/JPH0698334B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0698334B2 (ja) | 1994-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1128368B1 (en) | Optical information recording medium, method of manufacture thereof, and method of recording and reproduction | |
US7020065B2 (en) | Optical information recording medium, and method and apparatus for recording/reproducing information thereon | |
WO1983002353A1 (en) | Methods of preformatting an optical disk | |
WO1983002356A1 (en) | Apparatus for preformatting an optical disk | |
KR20030045818A (ko) | 다층 광디스크 및 다층 광디스크의 제작 방법 | |
CA1288512C (en) | Optical memory device | |
JPH01288365A (ja) | 成膜方法および装置 | |
JP3499406B2 (ja) | 光ディスク | |
JPH01298160A (ja) | 成膜装置 | |
JPH01287274A (ja) | 成膜装置および方法 | |
US7054256B2 (en) | High capacity digital data storage by transmission of radiant energy through arrays of small diameter holes | |
EP1742212B1 (en) | Optical information recording medium and optical information reproducing apparatus | |
US20020154580A1 (en) | Optical disk and method of magnetically separating tracks of the optical disk | |
JPS58169336A (ja) | 光デイスク装置 | |
JPS59218645A (ja) | 光デイスク | |
US6922387B1 (en) | Optical information recording medium, and method and apparatus for recording/reproducing information thereon | |
JPS61107539A (ja) | 光学デイスク装置 | |
JPS61292226A (ja) | 情報記録媒体及びその記録再生装置 | |
JP2567934B2 (ja) | 回転検出装置 | |
JP2948652B2 (ja) | 光ディスクの記録層形成方法 | |
JPS5940341A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
JP2592543B2 (ja) | 光情報記録方法 | |
JPS6126141B2 (ja) | ||
JP2001004346A (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
JPH0344842A (ja) | 情報担体ディスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |