JPH01288365A - 成膜方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、成膜方法および装置、特に、光ディスク等の
記録膜１反射膜を基板移動させながら形成する成膜方法
および装置に関する。

〔従来の技術〕

レーザ光によって情報を記録しがっ再生する光デイスク
メモリーは、記録密度が高いことから大容量記録再生装
置として優れた特徴を有している。

光デイスクメモリー媒体の一例は第２図に示すような構
成になっている。すなわち基板１に隣接してテルル−セ
レン系合金等の記録層２１が設けられている。記録用レ
ーザ光は基板１を通して記録層２１に集光照射され、ピ
ット２２が形成される。基板ｌとしてはポリカーボネイ
ト、ポリオレフィン、ポリメチルペンテン、アクリル、
エポキシ樹脂等の合成樹脂やガラスが使用され、基板１
にはピットが同心円状あるいはスパイラル状に一定間隔
で精度よく記録されるように通常、案内溝が設けられて
いる。

レーザビーム径程度の幅の溝に光が入射すると光は回折
され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度の
空間分布が変化するので、これを検出してレーザビーム
を溝の中心に入射させるようにサーボ系が構成されてい
る。溝の幅は通常０．３〜１．３μｍであり、溝の深さ
は使用するレーザ波長の１／２０から１／４の範囲に設
定される。集光に関しても同様にサーボ系が構成されて
いる。

情報の読み出しは、記録のときよりも弱いパワーのレー
ザ光をビット２２上を通過するように照射することによ
り、ビット２２の有無に起因する反射率の変化を検出し
て行なう。

上記記録層２１の形成は、スパッタリング法。

蒸着法等のスパッタリング源や蒸着源などの成膜源を用
いて行なわれる。このときに記録層２１の膜厚の変動は
、記録感度の変動２反射率の変動に影響を及ぼすので、
充分に小さい値以下に制御しなければならない。

次に、従来の成膜装置について第３図を参照して成膜動
作の説明を行なう。

基板１をパレット２の装着し、パレット２をキャリア３
に装着し、真空排気室４において真空排気ポンプ５で排
気する。所望の真空度に到達後、キャリア３をパレット
２．基板１ごと真空排気室４から成膜室６ヘゲートバル
ブ（図示せず）を介して移動させる。成膜室６において
パレット回転モータ７で回転駆動軸８を介してパレット
２を回転させなから成膜源９に対向した位置の基板に成
膜する。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、このような上述した従来の成膜方法およ
び装置は、多数のディスクを成膜すると、反射率が所定
の値でないディスクが作製されるという問題が生じた。

本発明者らは、この原因を調べたところ、パレットの回
転にむらが発生し、そのため、パレット内の基板の成膜
に厚さのばらつきが生じたためであることがわかった。

本発明の目的は、パレットの回転むらが生じるようなキ
ャリアのベアリングであっても、成膜終了時にはパレッ
ト内の基板の成膜の厚さにばらつきがないような成膜方
法および装置を提供することにある。

すなわち、本発明の成膜方法および装置は、成膜の厚さ
にばらつきが生じやすいため、稼働率が悪いという欠点
があった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の成膜方法および装置は、パレットに基板を装着
し、成膜源にこのパレットの一部を対向させた位置でこ
のパレットを回転させて成膜するもので、前記パレット
の１周を等間隔に分割し、その各区間の移動時間を検出
する手段と、前記移動時間を各区間ごとに積算する手段
と、前記パレットの回転速度を可変する手段と、前記各
区間ごとに積算された移動時間が各区間ごとに平均化す
るように前記パレットの回転速度を変化させて成膜する
ように構成される。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。

第１図（ａ）　、　（ｂ）は本発明の一実施例を示す正
面図、および側断面図である。

第１図（ａ）　、　（ｂ）に示す成膜装置は、パレット
２の外周部に一定間隔で貫通穴１１を設けることにより
、パレットの１周を複数個の小区間に分割する。パレッ
ト２の前面と後面に光源光検出器１２を設けて貫通穴１
１を通過する光を検出することにより、各区間の移動時
間を検出し、処理回路１３でこの移動時間を各区間ごと
に積算する。処理回路１３では、各区間ごとに積算され
た移動時間の大小を判別し、移動時間の大きいところの
区間では、回転速度が速くなるようにパレット回転モー
タ７を制御することにより、各区間の積算移動時間のば
らつきが１回の平均移動時間以下となるようにした。

このようにすることにより、パレットの回転にむらが生
じるようなキャリアのベアリングであっても、パレット
内の基板の成膜の厚さにばらつきがなくなった。

なお、上述の実施例では、パレットに貫通穴を設けて各
区間の移動時間を検出したが、パレットの裏面に反射板
を設けて検出してもよく、また、回転軸にロータリーエ
ンコーダをつけて検出してもよい。

〔発明の効果〕

本発明の成膜方法および装置は、パレットの回転むらが
生じるようなベアリングのキャリアを用いても、パレッ
ト内の基板の成膜の厚さにばらつきがなくなるので、稼
働率を向上させることができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）　、　（ｂ）は本発明の一実施例を示す正
面図および側断面図、第２図は従来および本発明の成膜
方法および装置を使用して製作される光デイスクメモリ
ー媒体を説明するための部分断面図、第３図（ａ）　、
　（ｂ）は従来の一例を示す正面図および側断面図であ
る。 １・・・・・・基板、２・・・・・・パレット、３・・
・・・・キャリア、４・・・・・・真空排気室、５・・
・・・・真空排気ボシブ、６・・・・・・成膜室、７・
・・・・・パレット回転モータ、８・・・・・・回転駆
動軸、９・・・・・・成膜源、１１・・・・・・貫通穴
、１２・・・・・・光源光検出器、１３・旧・・処理回
路、２１・・・・・・記録層、２２・・・・・・ビット
。 ａ・・・・・・フィードバック信号。 代理人　弁理士　　内　原　　　晋 第１　図 （α）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　（ｂ）２Ｚ　ヒニ一ント

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、パレットに基板を装着し、成膜源にこのパレットの
   一部を対向させた位置でこのパレットを回転し、前記パ
   レットの１周を等間隔に分割してその各区間の移動時間
   を検出し、前記移動時間を各区間ごとに積算し、前記パ
   レットの回転速度を可変にし、前記各区間ごとに積算さ
   れた移動時間が各区間ごとに平均化するように前記パレ
   ットの回転速度を変化させて成膜することを特徴とする
   成膜方法。 ２、基板を装着し成膜源に一部が対向した位置で回転す
   るパレットと、前記パレットの１周を等間隔に分割しそ
   の各区間の移動時間を検出する検出手段と、前記移動時
   間を各区間ごとに積算する積算手段と、前記パレットの
   回転速度を可変にする速度可変手段と、前記各区間ごと
   に積算された移動時間が各区間ごとに平均化するように
   前記パレット回転速度を変化させて成膜する制御手段と
   を含むことを特徴とする成膜装置。