JPH0344842A - 情報担体ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は円盤状の溝付トラックを設けた基板（以下、単
に基板と称す）に記録媒体層を設け、光学的に情報の記
録、再生あるいは消去を行う情報担体ディスク（以下、
単にディスクと称す）の製造方法に関するものである。

従来の技術 従来より円盤状の基板からなるディスク基板から一方の
面に記録媒体層を形成し、ディスク基板側よりレー１ｙ
光を照射して、記録媒体層に微小な穴を形成、あるいは
光学的濃度を変化させたビットを形成して記録、再生を
行う追記型ディスクが実用化されている。更に記録媒体
層の光学的濃度を可逆的に変化させて繰り返し記録、消
去が可能な消去ディスクが実用化されつつある。消去デ
ィスクは、記録媒体層をレーザ光によってその融点以上
に加熱した後、急冷あるいは徐冷して記録。

消去を行うものであり、１μｒｎ前後の微小な領域で短
時間ではあるが高温になるため、ディスク基板と記録媒
体層の間あるいは記録媒体層の上に３１０２等の誘電体
層が必要になってくる。更に記録媒体層の上の誘電体層
上に反射層を設け、記録媒体層を透過したレーザ光を反
射させて記ｉＡ感度を向上させる三層構造にしたものも
あり、更に多層構造になるのが一般的である。通常これ
らの記録媒体層、誘電体層２反射層を形成する方法とし
ては蒸着法、スパッタ法が一般的であり欠陥が少ない高
品質な成膜方式としてスパッタ法が多く用いられている
。従来このスパッタ法において膜厚の絶対値を検出する
方法としては、水晶振動子を利用した膜厚モニタ及び一
定光量の入射光を基板の裏面より照射し、その反射光あ
るいは透過光の光量を読み取る検出器を設けて膜厚を制
御する方法がある。この従来の膜厚制御方法を第３図で
説明する。第３図は膜厚モニタを用いるスパッタ法を示
す模式図であり、ｌは真空容器、２は真空容器ｌへのガ
ス導入口、３は真空容器からの排気口、４は基板で基板
保持具５に装着されており、矢印６の如く回転する構造
になっている。７は高周波電極でターゲット８を載置し
ている。１０は基板４とシャッタ９の間に設けた膜ｙ１
モニタである。成膜に当っては真空容器１を真空にυ１
気した後、Ａｒ等の不活住ガスをガス導入口２より真空
容器１内に導入し、高周波電極７に高周波電圧を印加し
て放電を起こし、この放電によってターゲット８をスパ
ックして基（反４にスパッタ■央を形成するものである
。膜厚の制御はあらかじめ基板４と膜厚モニタ１０の水
晶振動子に地積した膜厚を構成した状悪でシャンク９の
開閉によって膜ＩゾモニクＩＯの読みで膜厚の制御を行
うものである。

次に、光学検出装置を設けてスパッタ法で成膜するもの
を示す。１２は基板４の裏面へのスパッタ膜のまわり込
みを防止するための円盤状の付着防止板で１２はスペー
サ１３によって真空容器ｌに固定されている。１１は付
着防止板１２に固定された光学検出装置である。成膜に
当っては膜ｊアモニタで説明したものと同様である。膜
厚の制御（ｌはあらかじめ設定した規定の反射光量ある
いは透過光量になることによって制御するものである。

発四が解決しようとする課題 しかし、膜厚モニタにおいては水晶振動子に堆稍したｊ
膜厚で膜厚を制Ｇｌするため水晶振動子の限界ごとに交
換を要する、そのためディスクの量産には不向きである
。また、光学検出装置での膜厚制御においては一定光量
の入射光を基板裏面より照射し、反射光量および透過光
量を検出器で検出しそ゛れをペンレコーダにモニタする
が、多層ｎ１１Ｆｓのディスクにおいては入射光が基板
の裏面より照射されているため第−層、第二層と涜膜が
多層になるにつれ反射率および透過率が減衰する、その
ため第二層以降の膜厚の制御が難しいといった問題点が
あった。

課題を解決するための手段 上記問題点を解決するため、本発明は光学的変化を検出
する検出装置を、基板の表面すなわち成膜側に設置さ−
υ°て入射光を成ｊ模側より照射しその反ルを光を検出
するものである。

作用 すなわち成膜側より反射光を検出することによって、各
層の反！１１率が減衰することなく正確に読み取れ、）
膜厚制御が容易になる。また、多数枚連続して収脱する
場合でも各層の膜厚を↑１り度よく制１ｆｆｌｌするこ
とが可能となり、特性の均一なディスクが得られる。

丈施例 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。第
１図は本発明による光学的変化を検出する検出装置を用
いた１ｊ１１成を示す図である。尚、スパック装置の全
体は第３図の従来例で説明したものと同様である。第１
図において１４は真空容器、２４は回転駆動部で基板保
持具Ｉ９に回転を伝えるものである。２０は円盤状の１
１４付１−ラックを設けた基板で基板保持具１９に固定
されて回転するようになっている。２１は）ＩＥ板２０
の裏面へのスパックＩＩＱのまわり込みを防止する付着
防止板でスペーサ２２によって真空容２３１４に固定さ
れている。２３は光学検出装置で取り付は治具２５によ
って真空容２羽１４に固定されている光学検出装置で検
出した信号はリード線、導入端子（共に図示せず）をｊ
′ｌＵじて真空容２Φ１４の外部に取り出している。２
６はガス導入口、２７は排気口、２８は高周波電極でク
ーゲノ１−２９を載置している。第１図の構成において
成膜時の反１・１光■検出方法を説明する。例えば講堂
体層としてＺｎＳのターゲット２９をスパックして基板
２０に威Ｉ模した場合、基板２０からの反１・１光星は
光の干渉により、第２図に示すような変化を示す。この
図は基板の反射光景と成膜時間の関係を示すもので成膜
が進むにつれて基板２０の反射光量は上昇しλ／４ｎの
膜厚でピークを示すような変化をする。このような反射
光量の変化を光学検出装置２３で検出しその信号を規定
の反射光量で成膜を停止し膜厚を制御する。また、凸仮
の面振れによって反射光量が刻削と変化する為、同一の
場所の反射光景を検出するように、周期的に同期をかけ
て正確な反射光景を検出し膜厚を制御する。また、第４
図のような多数枚の基板のスパック成膜において回転軸
３０を中心に公転するバレント３１に基板が装着されて
いる場合、７１！：板間のリムによって基板からの反射
光量とリムからの反射光量とが混在してしまい正確な基
板からの反射光量の検出が不可能となる。

そこで反ｉ＝を光量の検出を周期的に同期をかけて行い
、常に基板からの反射光量を検出することによって各層
の膜厚を情度よく制御することが可能となり特性の均一
なディスクが得られる。第４図のような多数枚の基板を
スパック成膜する装置におは、カソード３４で成膜を行
う所と光学検出装置２３との間に仕切り板３２が設けで
あるため、成膜によって光学検出装置２３が汚れる等の
問題はなく定１υ１的な交換をする必要がないため、数
多く成膜する場合には特に有効である。尚、この実施例
では相変化型の光ディスクの例で説明したが、レーデ光
の熱と１（ｉ界によって記録・消去を行う光（（ｉ気デ
ィスク等の薄１１りを形成する多くの方法に通用できる
ものである。

光量の効果 本発明は円盤状のｊＲ付トラックを設けた基板に、多層
の′４膜を形成する際に戒ｊ模側より入１１光を１（（
（射し、その反射光の光学的変化を成膜側より検出する
ことによって、各層の反射光景が減衰することなく正確
に検出でき、ｔ、ｆｆ度のよい膜Ｐス制御が容易で特性
の均一な、ディスクが１）られる。また、非破壊である
ため数多く成膜する場合には特に有効であり、その工業
的価値は高い。

【図面の簡単な説明】

ｉｔ図は本発明の一実施例における情報担体ディスクの
製造方法による成膜状態を示す装置の断面図、第２図は
光学検出器によるディスク基板の反射率変化を示す特性
図、第３図は従来のスパッタ装置を示す模式図、第４図
は回転軸を中心に公転するパレ・７１・に基板が装置さ
れていることを示す構成図である。 １４・・・・・・真空容器、２０・・・・・・基板、２
３・・・・・・光学検出装置、２９・・・・・・ターゲ
ソト。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）円盤状の溝付トラックを設けた基板を、回転させ
   ながら多層薄膜を形成する方法において、薄膜形成時に
   成膜側より入射光を照射し、その反射光の光学的変化を
   検出する検出装置を設けてなる情報担体ディスクの製造
   方法。
2. （２）反射光の検出を周期的に同期をかけ、反射光量を
   読み取り、規定の反射光量で成膜を制御する請求項（１
   ）記載の情報担体ディスクの製造方法。