JPH01268607A - 2−ニトロ−5−(置換ピリジルオキシ)ベンゾヒドロキシム酸誘導体系除草剤 - Google Patents
2−ニトロ−5−(置換ピリジルオキシ)ベンゾヒドロキシム酸誘導体系除草剤Info
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Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、下記式CI)、
但し式中、R1は低級アルキル基を、R”#i水素原子
もしくは低級アルキル基Th、Ru低級アルキル基、置
換されていてもよhアルケニル基または置換さ几ていて
もよ込アルキニル、!!iIi’e、xnハロゲン原子
またはトリフルオロメチル4を、Yは酸素原子または硫
黄原子を、nは0〜4の整数をそ几ぞ几示す。
もしくは低級アルキル基Th、Ru低級アルキル基、置
換されていてもよhアルケニル基または置換さ几ていて
もよ込アルキニル、!!iIi’e、xnハロゲン原子
またはトリフルオロメチル4を、Yは酸素原子または硫
黄原子を、nは0〜4の整数をそ几ぞ几示す。
(但し、n−1で5位のXがトリフルオロメチル基であ
る場合、n−2で3位のXがハロゲン原子でかつ5位の
Xがトリフルオロメチル基である揚台全線く) で表わされる2−ニトロ−5−(置換ビリジルオギシ)
ベンゾヒドロキシム酸誘導体全有効成分として含有する
ことを特徴とする除草剤に関するものである。
る場合、n−2で3位のXがハロゲン原子でかつ5位の
Xがトリフルオロメチル基である揚台全線く) で表わされる2−ニトロ−5−(置換ビリジルオギシ)
ベンゾヒドロキシム酸誘導体全有効成分として含有する
ことを特徴とする除草剤に関するものである。
本発明の上記式(I)で表わさn、る新規なベンゾヒド
ロキシム酸誘導体を有効成分として含有する除草剤は、
雑草に対する極めて優fした除草活性?有しており、雑
草の発芽前後及び生育期においてその効果を発揮し特に
雑草の生育期におじで最も強力な除草活性を示すもので
ある。
ロキシム酸誘導体を有効成分として含有する除草剤は、
雑草に対する極めて優fした除草活性?有しており、雑
草の発芽前後及び生育期においてその効果を発揮し特に
雑草の生育期におじで最も強力な除草活性を示すもので
ある。
先行技術
特開昭60−226856号公報には、li規ジフェニ
ルエーテルオキシムエステルnJ体トL”’r下記一般
式(A)、 R” Z で表わさ几る化合物が開示さitてbる。
ルエーテルオキシムエステルnJ体トL”’r下記一般
式(A)、 R” Z で表わさ几る化合物が開示さitてbる。
ここで、上記一般式(A)において、XはCHま*HN
:Yaニトロ基、ハロゲンまたはシアノ基;Zは酸素ま
たはイオウ;Rけノ・ロゲン、ニトロ基、シアノ基、ア
ルキル基、ハロアルキル基、アルキルチオ基、ハロアル
キルチオ基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、スルホ
ンアミド基、ジアルキルスルホンアミド基、アルキルス
ルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、アルキルスル
フィニル基ま、たはハロアルキルスルフィニル基: r
lidl、2または3;R”Fi水素、ハロゲン、シア
ノ基、アルキル基、ハロアルキル基、シアノアルキル基
、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、シアノアルコキシ
基、アルキルチオ基、へロアルキルチオ基、シアノアル
キルチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アルキ
ルチオアルキル基またはモノもシ〈ハシアルキルアミノ
アルキル基;R2dC8〜C,l/)アルキレン基また
はアルケニル基:こfl、はアルキル基、ハロアルキル
基、シアノアルキル基マたはヒドロキシル基のいづれか
で#換さnていてもよい; Q 1i−OR”または−SR’ : R”はアルフキ
/アルキル基、チオアルキル基、シアノアルキル基、シ
アノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、カルボアルコ
キシアルキル基、アルギルチオアルキル基、アラルキル
基、スルホンアミド基または4から6員環の複素環式化
合物であって環[3個以下のへテロ原子を含む基または
環に31M以下のへテロ原子を含む複素環式化B物で置
換さ7′したアルキル基である。
:Yaニトロ基、ハロゲンまたはシアノ基;Zは酸素ま
たはイオウ;Rけノ・ロゲン、ニトロ基、シアノ基、ア
ルキル基、ハロアルキル基、アルキルチオ基、ハロアル
キルチオ基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、スルホ
ンアミド基、ジアルキルスルホンアミド基、アルキルス
ルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、アルキルスル
フィニル基ま、たはハロアルキルスルフィニル基: r
lidl、2または3;R”Fi水素、ハロゲン、シア
ノ基、アルキル基、ハロアルキル基、シアノアルキル基
、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、シアノアルコキシ
基、アルキルチオ基、へロアルキルチオ基、シアノアル
キルチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アルキ
ルチオアルキル基またはモノもシ〈ハシアルキルアミノ
アルキル基;R2dC8〜C,l/)アルキレン基また
はアルケニル基:こfl、はアルキル基、ハロアルキル
基、シアノアルキル基マたはヒドロキシル基のいづれか
で#換さnていてもよい; Q 1i−OR”または−SR’ : R”はアルフキ
/アルキル基、チオアルキル基、シアノアルキル基、シ
アノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、カルボアルコ
キシアルキル基、アルギルチオアルキル基、アラルキル
基、スルホンアミド基または4から6員環の複素環式化
合物であって環[3個以下のへテロ原子を含む基または
環に31M以下のへテロ原子を含む複素環式化B物で置
換さ7′したアルキル基である。
極めて多数の化付物を包含し得る上記式(A)化合物に
おいて、XはNの場合を包含し、Rはハロゲン及びハロ
アルキルの場−tj k包含し、Y1′tN02のwe
t−包含し、R’はアルコキシの場合を包含し、1ζ2
はアルキル置換されてもよいC1アルキレンの場合全包
含しかつ2は酸素原子の揚台全包ゴする。
おいて、XはNの場合を包含し、Rはハロゲン及びハロ
アルキルの場−tj k包含し、Y1′tN02のwe
t−包含し、R’はアルコキシの場合を包含し、1ζ2
はアルキル置換されてもよいC1アルキレンの場合全包
含しかつ2は酸素原子の揚台全包ゴする。
しかしながら、鎖式(A)中のQのR1の定義には、本
発明式(f)化合物中のRKついて特定さ九ている低級
アルキル基、すなわち置換基を有して−ない低級アルキ
ル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、または
置換基を有していてもよいアルキニル基は包含されてい
ない。
発明式(f)化合物中のRKついて特定さ九ている低級
アルキル基、すなわち置換基を有して−ない低級アルキ
ル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、または
置換基を有していてもよいアルキニル基は包含されてい
ない。
従ってまた、当然のことであるが、該特開昭60−22
6856号公報には、本発明式(1)化合物及びその除
墓活性のいづnについても奮然言及さnていない。
6856号公報には、本発明式(1)化合物及びその除
墓活性のいづnについても奮然言及さnていない。
更に、該特開昭60−226856号公報には、その式
(A)におけるR1がアルコキシ基もしくは置換アルコ
キシ基である場合の化合物及びその甘う兄については全
く具体例が示さ几ておらず、甘酸された化付物における
該1υはメチル晶の場合のみであり、該lt1の好まし
1例としてアルキル基ま7tはハロアルキル基が挙げら
れているだけであり、Xの好ましい例としてCIが挙げ
られている。又更に、該特開昭60−226856号公
報には、その式(A)化合物が除亘活性t−Wする旨の
一般的な記載があるが、そのような除草活性を確認し得
る具体的なデータは全黙示さnていなlA。
(A)におけるR1がアルコキシ基もしくは置換アルコ
キシ基である場合の化合物及びその甘う兄については全
く具体例が示さ几ておらず、甘酸された化付物における
該1υはメチル晶の場合のみであり、該lt1の好まし
1例としてアルキル基ま7tはハロアルキル基が挙げら
れているだけであり、Xの好ましい例としてCIが挙げ
られている。又更に、該特開昭60−226856号公
報には、その式(A)化合物が除亘活性t−Wする旨の
一般的な記載があるが、そのような除草活性を確認し得
る具体的なデータは全黙示さnていなlA。
他の提案として、特開昭56−32432号公報には下
記式(B) で表わされる化付物及び紋穴(B)化付物が除草活性を
有することが開示さnている。紋穴(H)において、X
はNO3、ハロゲンまたはCN: YはHまたVicz
:zはYがCIであるときはCJであり、又#″i、Z
はYがHまたはCIであるときにはHであり;RはHあ
るいはC1までのアルキルでアリ;R1はHまたFic
a、であり、かつR1はfi、CIGまでのアルキルま
たは農学的可溶性塩イオンである。
記式(B) で表わされる化付物及び紋穴(B)化付物が除草活性を
有することが開示さnている。紋穴(H)において、X
はNO3、ハロゲンまたはCN: YはHまたVicz
:zはYがCIであるときはCJであり、又#″i、Z
はYがHまたはCIであるときにはHであり;RはHあ
るいはC1までのアルキルでアリ;R1はHまたFic
a、であり、かつR1はfi、CIGまでのアルキルま
たは農学的可溶性塩イオンである。
この提案に特定されている式CB)化付物におけるRは
本発明に用すられる式(1)化合物に特定さnた014
’を包含し得ないし且つ紋穴(B)化付物におけるR1
は本発明式(I)化付物に特定されているRを包含し得
なり0従ってまた、当然のことではあるが、該特開昭5
6−32432号公報にも、本発明式(1)化付物、そ
の製法、その除草活性の−づれにつ−ても全熱言及され
ていないし、式(I)化せ物の存在可能性についても、
その如何なる有用性についても全熱示唆されていなり0
解決すべき課題 近年、ヒマワリ、サフラワー等は採油用作物として極め
てその重要性を増しているが、これらの作物を雑革害か
ら守り、増収t−はかる為に除草剤を使用することは欠
くことが出来ない。そして、これらの除草剤は、発芽前
に施用される土壌処理型のものに比較して発芽後に草種
及び単量に対応して施用でき、薬剤の少量化が期待でき
る茎葉接触型のものが望ま几ている。
本発明に用すられる式(1)化合物に特定さnた014
’を包含し得ないし且つ紋穴(B)化付物におけるR1
は本発明式(I)化付物に特定されているRを包含し得
なり0従ってまた、当然のことではあるが、該特開昭5
6−32432号公報にも、本発明式(1)化付物、そ
の製法、その除草活性の−づれにつ−ても全熱言及され
ていないし、式(I)化せ物の存在可能性についても、
その如何なる有用性についても全熱示唆されていなり0
解決すべき課題 近年、ヒマワリ、サフラワー等は採油用作物として極め
てその重要性を増しているが、これらの作物を雑革害か
ら守り、増収t−はかる為に除草剤を使用することは欠
くことが出来ない。そして、これらの除草剤は、発芽前
に施用される土壌処理型のものに比較して発芽後に草種
及び単量に対応して施用でき、薬剤の少量化が期待でき
る茎葉接触型のものが望ま几ている。
しかしながら茎葉接触型の除草剤には、作物も同様に接
触するので極めて高い選択性を要求される。さらに、ヒ
マワリやサフラワーは、除草剤に対する感受性が極めて
高い為、土壌処理型のもの#iV<つか開発されている
が、茎葉接触型のものはほとんど皆無である。
触するので極めて高い選択性を要求される。さらに、ヒ
マワリやサフラワーは、除草剤に対する感受性が極めて
高い為、土壌処理型のもの#iV<つか開発されている
が、茎葉接触型のものはほとんど皆無である。
現在、ヒマワリ及びサフラワー畑で使用さ几て因る菖葉
接触型除草剤としては、カーバメート・系の4−クロロ
ブチン−2−イル N−(3−クロロフェニル)−カー
バメート(バーパン)カアルが、これは、ワイルドオー
トや一年生イタリアンライグラス等のイネ科雑革は防除
するが、広葉雑皐については効果が弱く防除出来なり0
発明の要旨 本発明者らは、ヒマワリ及び丈フラワーに対し高度選択
性含有し、かつ、イネ科及び広葉雑草を含む広い殺革ス
ペクトラムを有する茎条接触型除葦剤を開発すべく鋭意
研究を続けた。
接触型除草剤としては、カーバメート・系の4−クロロ
ブチン−2−イル N−(3−クロロフェニル)−カー
バメート(バーパン)カアルが、これは、ワイルドオー
トや一年生イタリアンライグラス等のイネ科雑革は防除
するが、広葉雑皐については効果が弱く防除出来なり0
発明の要旨 本発明者らは、ヒマワリ及び丈フラワーに対し高度選択
性含有し、かつ、イネ科及び広葉雑草を含む広い殺革ス
ペクトラムを有する茎条接触型除葦剤を開発すべく鋭意
研究を続けた。
その結果、前記式(I)化合物が優れた除X活性を有し
、上記従来技術における技術的課題全克服し得る除幕活
性化付物であることを発見した。更に、紋穴(I)化付
物は高い選択性、広す殺翠スペクトラムを示す潰れた除
草活性化付物であることを見いだした。
、上記従来技術における技術的課題全克服し得る除幕活
性化付物であることを発見した。更に、紋穴(I)化付
物は高い選択性、広す殺翠スペクトラムを示す潰れた除
草活性化付物であることを見いだした。
すなわち、本発明は、下記式(1)、
但し式中、R1は低級アルキル基を、R”は水素原子も
しくは低級アルキル基音、Rは低級アルキル基、置換さ
nていてもよhアルケニル&t&は置換されてbてもよ
いアルキニルMk、xtaハロゲン原子またはトリフル
オロメチルfit−5Yは酸素原子ま九は硫黄原子を、
nは0〜4の整数をそれぞれ示す。
しくは低級アルキル基音、Rは低級アルキル基、置換さ
nていてもよhアルケニル&t&は置換されてbてもよ
いアルキニルMk、xtaハロゲン原子またはトリフル
オロメチルfit−5Yは酸素原子ま九は硫黄原子を、
nは0〜4の整数をそれぞれ示す。
(但L、n=1で5位のXがトリフルオロメチル基であ
る揚台、n=2で3位のXがハロゲン原子でかつ5位の
Xがトリフルオロメチル基である場合′fr除く) で表わされる2−ニトロ−5−(置換ピリジルオキシ)
ベンゾヒドロキシム酸誘導体を有効成分として含有する
ことを特徴とする除草剤を提供するものである。
る揚台、n=2で3位のXがハロゲン原子でかつ5位の
Xがトリフルオロメチル基である場合′fr除く) で表わされる2−ニトロ−5−(置換ピリジルオキシ)
ベンゾヒドロキシム酸誘導体を有効成分として含有する
ことを特徴とする除草剤を提供するものである。
発明の効果
本発明の上dピ一般式(I)で表わさ几るピリジル−フ
ェニルエーテル肪専体を有効成分とする除JE剤は、ピ
リジン環にハロゲン原子、トリフルオロメチル!に!し
、ベンゼン環ニトロ基のオルト位に、前記式(I) K
特定されたヒドロキシム版エステル部分が結付している
ことが特徴であり、その構造的特徴によってこの式(1
)ピリジルフェニルエーテル誘導体を含有する除草剤の
有する優れた特性が発揮される本のと考えられる。
ェニルエーテル肪専体を有効成分とする除JE剤は、ピ
リジン環にハロゲン原子、トリフルオロメチル!に!し
、ベンゼン環ニトロ基のオルト位に、前記式(I) K
特定されたヒドロキシム版エステル部分が結付している
ことが特徴であり、その構造的特徴によってこの式(1
)ピリジルフェニルエーテル誘導体を含有する除草剤の
有する優れた特性が発揮される本のと考えられる。
本発明の除草剤は、重要作物、特にヒマワリ、サフラワ
ー及びダイス等に対し高い選択性t−[L、かつ、イネ
科雑革及び広葉雑亘ケ含む広い殺草スペクトラム?有す
るとbう、従来の技術からは予想できない*几た特性t
−1’rする除幕剤である。
ー及びダイス等に対し高い選択性t−[L、かつ、イネ
科雑革及び広葉雑亘ケ含む広い殺草スペクトラム?有す
るとbう、従来の技術からは予想できない*几た特性t
−1’rする除幕剤である。
発明の詳細な説明
本発明に用いる前記一般式(I)で表わされる新規なピ
リジルフェニルエーテル誘導体において、Xriトリフ
ルオロメチル基lfcはノ10ゲン原子であり、ハロゲ
ン原子としては、たとえはフッ素、塩素、臭素、または
ヨウ素が挙げらnる。これらの中でもフッ素、塩素が好
ましい。
リジルフェニルエーテル誘導体において、Xriトリフ
ルオロメチル基lfcはノ10ゲン原子であり、ハロゲ
ン原子としては、たとえはフッ素、塩素、臭素、または
ヨウ素が挙げらnる。これらの中でもフッ素、塩素が好
ましい。
nl 、 R1およびRVcおける低級アルキル基とし
ては、炭素数1〜5の低級アルキル基が好ましく、例え
ばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−
ブチル、S−ブチル、i−ブチル、n−アミル等が例示
できる。
ては、炭素数1〜5の低級アルキル基が好ましく、例え
ばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−
ブチル、S−ブチル、i−ブチル、n−アミル等が例示
できる。
RにおいてRが有していてもよい置換基の例としては、
例えばハロゲン原子、C1〜C4のアルコキシ基、シア
ノ基、C□−04のアルキル基ヲ有するアルキルチオ4
、Cよ−C4のアルコキシ!1i、tXするアルコキシ
カルボニル基等が例示できる。更に、Rのアルケニル基
としては例えばアリル、メタアリル、クロチル等の如き
C,−C4のアルケニル基が、アルキニル基としては例
えばプロパルギル、2−ブチニル等の如!!! Cs
−C4のアルキニル眉が例示できる。
例えばハロゲン原子、C1〜C4のアルコキシ基、シア
ノ基、C□−04のアルキル基ヲ有するアルキルチオ4
、Cよ−C4のアルコキシ!1i、tXするアルコキシ
カルボニル基等が例示できる。更に、Rのアルケニル基
としては例えばアリル、メタアリル、クロチル等の如き
C,−C4のアルケニル基が、アルキニル基としては例
えばプロパルギル、2−ブチニル等の如!!! Cs
−C4のアルキニル眉が例示できる。
上記式CI)で表わされる化付物は、立体異性体(sy
n Mおよびanti屋)及び光学異性体の形であるこ
とができ、これら異性体の形の式(1)化付物は、上記
式(1)化付物の定義の範囲内にあること全理解すべき
である。
n Mおよびanti屋)及び光学異性体の形であるこ
とができ、これら異性体の形の式(1)化付物は、上記
式(1)化付物の定義の範囲内にあること全理解すべき
である。
前記式(1)で表わさ几る本発明に用いられる化付物は
、たとえば下記に示す方法!+によりΔ遺することがで
きる。
、たとえば下記に示す方法!+によりΔ遺することがで
きる。
OR’
量
(I) (Y=0)
〔式中、R1、R2、RおよびX11は前記定義と同じ
。2はハロゲン原子を表わす。〕 上記!!様に示したように、〇−カルボキシアルキルー
2−二トロ〜5−(tel換ピリジルオキシ)ベンゾヒ
ドロキシム酸エステル([) 、!:ハロゲン化付物(
III)を、例えば有機溶媒中、塩基の存在下で反応さ
せて本発明の式CI)化付物’kW造することができる
。
。2はハロゲン原子を表わす。〕 上記!!様に示したように、〇−カルボキシアルキルー
2−二トロ〜5−(tel換ピリジルオキシ)ベンゾヒ
ドロキシム酸エステル([) 、!:ハロゲン化付物(
III)を、例えば有機溶媒中、塩基の存在下で反応さ
せて本発明の式CI)化付物’kW造することができる
。
この態様によnば、反応は化付物(iI)VC対して化
付物(Hl) t−1たとえば1〜3モル当量、好まし
くは1−1.5当槍用いて、九とえば氷冷下乃至溶媒の
還流温度で、好1しぐは室温乃至80度付近の温度で、
たとえば0.5乃至20時間の如き条件下で行なうこと
ができる。
付物(Hl) t−1たとえば1〜3モル当量、好まし
くは1−1.5当槍用いて、九とえば氷冷下乃至溶媒の
還流温度で、好1しぐは室温乃至80度付近の温度で、
たとえば0.5乃至20時間の如き条件下で行なうこと
ができる。
この反応において便用される溶媒としては例えはベンゼ
ン、トルエン等の芳香&炭化水累;テトラヒドロフラン
、ジオキサン等のエーテル類;アセトン、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
有機溶媒の一檜もしくはそれ以上、およびこれらの溶媒
と水の混合溶媒を例示できる。
ン、トルエン等の芳香&炭化水累;テトラヒドロフラン
、ジオキサン等のエーテル類;アセトン、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
有機溶媒の一檜もしくはそれ以上、およびこれらの溶媒
と水の混合溶媒を例示できる。
上記反応に用いられる塩基としては、たとえばピリジン
、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリラム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム等を例示でき
る。脱ハロゲン化水素剤として作用する上記例示の如き
mAの使用量は、適宜選べるが例えば化付物(ill)
に対して1〜3当量、好ましくは1〜1.5当を用いる
ことにより、反応を高収率で行うことができる。
、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリラム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム等を例示でき
る。脱ハロゲン化水素剤として作用する上記例示の如き
mAの使用量は、適宜選べるが例えば化付物(ill)
に対して1〜3当量、好ましくは1〜1.5当を用いる
ことにより、反応を高収率で行うことができる。
式(f)化付物は、下記に示す匍の態様により製造する
ことができる。
ことができる。
(iv)
(1) (Y=0)
〔式中、R1、R2、RおよびX11#i前記定義と同
じ。Zoはハロゲンまたは基−oso体’(mは置換、
非置換のアルキル基、フェニル基、アルコキシ基)を表
わす。〕 この態様によれば〇−置換−2−ニトロー5−媒中、塩
基の存在下又は非存在下で反応させて本発明に用いる式
(I)化付物′frs造することができOH,N2 ’
?例えば1〜3モル当量、好ましくは1〜1.5モル当
量用いて、たとえば水冷下乃至溶媒の還流温度で、好ま
しくは室温乃至soL付近の温度で、0.5乃至20時
間の如き条件で行うことができる。この反応において使
用する溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等
のアルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル類、アセトン、アセトニトリル、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒お
よびこれらの溶媒と水の重付溶aを例示できる。
じ。Zoはハロゲンまたは基−oso体’(mは置換、
非置換のアルキル基、フェニル基、アルコキシ基)を表
わす。〕 この態様によれば〇−置換−2−ニトロー5−媒中、塩
基の存在下又は非存在下で反応させて本発明に用いる式
(I)化付物′frs造することができOH,N2 ’
?例えば1〜3モル当量、好ましくは1〜1.5モル当
量用いて、たとえば水冷下乃至溶媒の還流温度で、好ま
しくは室温乃至soL付近の温度で、0.5乃至20時
間の如き条件で行うことができる。この反応において使
用する溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等
のアルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル類、アセトン、アセトニトリル、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒お
よびこれらの溶媒と水の重付溶aを例示できる。
上記反応に用いる塩基としては、たとえばピリジン、ト
リエチルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムエチレート
、水素化ナトリウム等が例示できる。脱酸剤ケ化付物(
1v)に対して例えば1〜3当量、好ましくは1〜1.
5当量用いることができ、反ff1k好収軍で行うこと
ができ好ましい。
リエチルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムエチレート
、水素化ナトリウム等が例示できる。脱酸剤ケ化付物(
1v)に対して例えば1〜3当量、好ましくは1〜1.
5当量用いることができ、反ff1k好収軍で行うこと
ができ好ましい。
又、アルキル化剤としてCH!N!i用いて、この反応
を実施する際には塩層を使用する必要はない。
を実施する際には塩層を使用する必要はない。
又、反応t−2層系中で行う揚台は、テトラメチルアン
モニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド、ベンジルトリブチルアンモニウムブロマイド等の
四級アンモニウム塩、テトラフェニルホスホニウムブロ
マイド等の四級ホスホニウム等の相関移動触媒を化付物
(IV) K対して例えば1〜5QWt優、好ましくは
5〜aowt%用いて行う事ができる。
モニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド、ベンジルトリブチルアンモニウムブロマイド等の
四級アンモニウム塩、テトラフェニルホスホニウムブロ
マイド等の四級ホスホニウム等の相関移動触媒を化付物
(IV) K対して例えば1〜5QWt優、好ましくは
5〜aowt%用いて行う事ができる。
前記式(I)で表わさ扛る本発明に用いる化合物は、九
とえば下記に示す方法により製造することができる。
とえば下記に示す方法により製造することができる。
(n)
〔式中、R”、R”、RおよびXnは前記定義と同じ。
〕
この態様によれば、〇−カルボキシアルキルー2−二ト
ロー5− ([換ピリジルオキシ)ベンゾヒドロキシム
酸エステル(n) t−常法により、たとえば塩化チオ
ニル等で酸塩化物とした後、たとえば有機溶媒中、塩基
の存在下でメルカプタン類(vl)と反応させて本発明
に用いる式(I)化せ物を製造することができる。
ロー5− ([換ピリジルオキシ)ベンゾヒドロキシム
酸エステル(n) t−常法により、たとえば塩化チオ
ニル等で酸塩化物とした後、たとえば有機溶媒中、塩基
の存在下でメルカプタン類(vl)と反応させて本発明
に用いる式(I)化せ物を製造することができる。
反応に際して、塩化チオニルの使用音は適当に選択変更
できるが、式(11)化付物に対して例えば1−10当
量の如き使用量を例示できる反応温度も適宜に選択でき
、たとえば室温〜80℃の如きの使用量は適当に選択変
更でき、たとえば1〜3当量の如き使用ik例示できる
。塩基の量も適宜に選択でき、たとえば1〜3当倉の如
き使用1を例示できる。この際、反応m度として汀、例
えば室温〜100℃の如き温度を例示できる。
できるが、式(11)化付物に対して例えば1−10当
量の如き使用量を例示できる反応温度も適宜に選択でき
、たとえば室温〜80℃の如きの使用量は適当に選択変
更でき、たとえば1〜3当量の如き使用ik例示できる
。塩基の量も適宜に選択でき、たとえば1〜3当倉の如
き使用1を例示できる。この際、反応m度として汀、例
えば室温〜100℃の如き温度を例示できる。
利用する溶媒の例としては、ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル類、アセトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒の一種もし
くはそnらの混廿物およびこnらの溶媒と水の混−@−
溶媒などを例示できる。また上記塩基の例としては、ピ
リジン、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウムなどを
例示することができる。
香族炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル類、アセトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒の一種もし
くはそnらの混廿物およびこnらの溶媒と水の混−@−
溶媒などを例示できる。また上記塩基の例としては、ピ
リジン、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウムなどを
例示することができる。
上記すづれの態様においても、反応終了後は、反応混合
物を水中にあけ有機溶媒で抽出、再結晶、カラムクロマ
ト等の常法に従って処理することにより、本発明に用い
る化合物を単離することができる。
物を水中にあけ有機溶媒で抽出、再結晶、カラムクロマ
ト等の常法に従って処理することにより、本発明に用い
る化合物を単離することができる。
次に本発明に用いる式(I)の合成例について述べる。
合成例1 〔メチル 0−メトキシカルボニルメチル
5− (3−) IJフルオロメチル−5−クロロ−2
−ピリジルオキシ)−2−二トロベンゾヒドロキシメー
ト(化合物413 )の裏道〕メトキシカルボニルメチ
ル 5−(3−)リフルオロメチル−5−クロロ−2−
ピリジルオキシ)−2−ニトロベンゾヒドロキシメート
5.56 N(12,4ミリモル)をエーテル8−、テ
トラヒドロフラン851gの混合溶媒に溶解し、N−ニ
トロンメチル尿素3.3 F (32,0ミリモル)か
らi!Il裂し之ジアゾメタンのエーテル6〇−溶液を
約10分間で滴下する。その後、約30分間水冷下で攪
拌する。過剰のジアゾメタンを酢酸で分解し、溶媒を留
去し、得られた固体をメタノールから再結晶して目的の
化せ物ム13を得た。(収量4.25N。
5− (3−) IJフルオロメチル−5−クロロ−2
−ピリジルオキシ)−2−二トロベンゾヒドロキシメー
ト(化合物413 )の裏道〕メトキシカルボニルメチ
ル 5−(3−)リフルオロメチル−5−クロロ−2−
ピリジルオキシ)−2−ニトロベンゾヒドロキシメート
5.56 N(12,4ミリモル)をエーテル8−、テ
トラヒドロフラン851gの混合溶媒に溶解し、N−ニ
トロンメチル尿素3.3 F (32,0ミリモル)か
らi!Il裂し之ジアゾメタンのエーテル6〇−溶液を
約10分間で滴下する。その後、約30分間水冷下で攪
拌する。過剰のジアゾメタンを酢酸で分解し、溶媒を留
去し、得られた固体をメタノールから再結晶して目的の
化せ物ム13を得た。(収量4.25N。
収率73.9%)
合成例2 〔メチル 0−アリルオキシカルボニルメチ
ル s −c a、s−シクロロー2−ピリジルオキシ
)−2−ニトロベンゾヒドロキシメート(化付物ム28
)の製造〕 メチル 0−力ルボキシメチル 5−(3,5−シクロ
ロー2−ピリジルオキシ)−2−ニトロベンゾヒドロキ
ンメート0.7 F (1,68ミリモル)、炭酸水素
ナトリウム0.14 f (1,68ミリモル)、DM
F15−の懸濁溶液に、臭化アリル0.58 fI(3
,37ミFJモル)1に添加後、室温で一夜攪拌する。
ル s −c a、s−シクロロー2−ピリジルオキシ
)−2−ニトロベンゾヒドロキシメート(化付物ム28
)の製造〕 メチル 0−力ルボキシメチル 5−(3,5−シクロ
ロー2−ピリジルオキシ)−2−ニトロベンゾヒドロキ
ンメート0.7 F (1,68ミリモル)、炭酸水素
ナトリウム0.14 f (1,68ミリモル)、DM
F15−の懸濁溶液に、臭化アリル0.58 fI(3
,37ミFJモル)1に添加後、室温で一夜攪拌する。
反応混合物を約80−の氷水に注ぎ、酢酸エチル30−
で2回抽出し、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム
で乾燥する。乾燥剤をd別後、溶媒を留去し得らnる油
状物質をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル−n−
ヘキサン−酢酸エチル3:1)で精製し、目的の化合物
A28’ii得た。(収量0.431.収率56.1係
)合成例3 〔メチル 0−メチルチオカルボニルメチ
ル 5− (3,5−ジクロロ−2−ピリジルオキシ〕
−2−ニトロベンゾヒドロキシメート(化付物431)
の製造〕 メチル 0−力ルボキシメチル 5−(3,5−シクロ
ロー2−ピリジルオキシ)−2−二トロベンゾヒドロキ
シメート1.01 (2,41ミリモル)を塩化チオニ
ル211jに溶解し、1時間加熱還流する。過剰の塩化
チオニルを留去し酸基化物を得る。
で2回抽出し、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム
で乾燥する。乾燥剤をd別後、溶媒を留去し得らnる油
状物質をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル−n−
ヘキサン−酢酸エチル3:1)で精製し、目的の化合物
A28’ii得た。(収量0.431.収率56.1係
)合成例3 〔メチル 0−メチルチオカルボニルメチ
ル 5− (3,5−ジクロロ−2−ピリジルオキシ〕
−2−ニトロベンゾヒドロキシメート(化付物431)
の製造〕 メチル 0−力ルボキシメチル 5−(3,5−シクロ
ロー2−ピリジルオキシ)−2−二トロベンゾヒドロキ
シメート1.01 (2,41ミリモル)を塩化チオニ
ル211jに溶解し、1時間加熱還流する。過剰の塩化
チオニルを留去し酸基化物を得る。
15%メチルメルカプタンNa塩水溶液1.351 (
2,89ミリモル)をエーテル5−で扱い、水冷攪拌下
、先に得らA&酸塩化物のエーテル5−の溶液を約10
分間で滴下する。その後、室温で1.5時間攪拌し、エ
ーテル層を分液し硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥剤
を濾別後エーテルを留去し、得られた油状物1jKtカ
ラムクaマドグラフイー(シリカゲル−n−ヘキサン−
酢酸エチル4:l)で精製し目的の化合物431の化合
物を得た(収量0.25 F、収率23.3%)。
2,89ミリモル)をエーテル5−で扱い、水冷攪拌下
、先に得らA&酸塩化物のエーテル5−の溶液を約10
分間で滴下する。その後、室温で1.5時間攪拌し、エ
ーテル層を分液し硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥剤
を濾別後エーテルを留去し、得られた油状物1jKtカ
ラムクaマドグラフイー(シリカゲル−n−ヘキサン−
酢酸エチル4:l)で精製し目的の化合物431の化合
物を得た(収量0.25 F、収率23.3%)。
上述の合成例と同様な手法で合成された本発明[11い
るピリジルフェニルエーテル誘導体ta 1に示す。
るピリジルフェニルエーテル誘導体ta 1に示す。
(以下余白)
D OIA Q Q Q
V Q−2ポ デ ポ ポ ヨ
デ 市」 ○ ○ Q
p U (Juo Oω
0 0 0 0
− 国 1)1) デ 1) 田(J
(J呵I因 1)
占 国 (J
U本発明に用いられる上記式(I)で表わさ
れる化合物は、栽裁作物、特にヒマワリ、サフラワー等
に対して良好な選択性を有しており、農業上有用な除草
剤となる。
V Q−2ポ デ ポ ポ ヨ
デ 市」 ○ ○ Q
p U (Juo Oω
0 0 0 0
− 国 1)1) デ 1) 田(J
(J呵I因 1)
占 国 (J
U本発明に用いられる上記式(I)で表わさ
れる化合物は、栽裁作物、特にヒマワリ、サフラワー等
に対して良好な選択性を有しており、農業上有用な除草
剤となる。
本発明の除草剤は、水田及び畑地に生育する発生前から
生育期までの諸雑草を防除できる。例えば、ノビエ、タ
マガヤツリ、コナギ、アゼナ、ミゾハコベ、キカシグサ
、ホタルイ、マツバイ等の水田の狭葉及び広葉雑草や、
メヒシバ、エノコログサ、オヒシバ、スズメツヒエ、ス
ズメノテツボウ、ハコベ、タテ類、ヒエ類、イチビ、シ
ロザ、ナズナ、タネツケパナ、ヤエムグラ、ソバカズラ
等の畑地の狭葉及び広葉雑草を防除する事ができる。更
に、水田、畑地のみならず、果樹園、桑園、非農耕地に
おいても使用する事ができる。
生育期までの諸雑草を防除できる。例えば、ノビエ、タ
マガヤツリ、コナギ、アゼナ、ミゾハコベ、キカシグサ
、ホタルイ、マツバイ等の水田の狭葉及び広葉雑草や、
メヒシバ、エノコログサ、オヒシバ、スズメツヒエ、ス
ズメノテツボウ、ハコベ、タテ類、ヒエ類、イチビ、シ
ロザ、ナズナ、タネツケパナ、ヤエムグラ、ソバカズラ
等の畑地の狭葉及び広葉雑草を防除する事ができる。更
に、水田、畑地のみならず、果樹園、桑園、非農耕地に
おいても使用する事ができる。
特に本発明の除草剤は、畑地に生育する広葉雑草に強い
除草活性を示す。例えば畑地における茎葉処理で、アオ
ビユ、スペリヒエ、アレチウリ、コアカザ、シロザ、サ
ナエタデ、オオイヌタデ、ハコベ、ナズナ、ミミナグサ
、シロパナチョウセンアサガオ、アメリカツノクサムネ
、エビスグサ、マルパアサガオ、イヌホウズキ、ワルナ
スビ、ホトケノザ、オオバコ、イチビ、カタバミ、ヤエ
ムグラ、ソパカズラ、イヌノフグリ、ポピー等の雑草に
優れた除草効果を示す。しかも本発明の除草剤は載培作
物に選択性を有し、特にヒマワリ、サフラワー、ダイズ
等に実用上問題となる薬害を与えない。
除草活性を示す。例えば畑地における茎葉処理で、アオ
ビユ、スペリヒエ、アレチウリ、コアカザ、シロザ、サ
ナエタデ、オオイヌタデ、ハコベ、ナズナ、ミミナグサ
、シロパナチョウセンアサガオ、アメリカツノクサムネ
、エビスグサ、マルパアサガオ、イヌホウズキ、ワルナ
スビ、ホトケノザ、オオバコ、イチビ、カタバミ、ヤエ
ムグラ、ソパカズラ、イヌノフグリ、ポピー等の雑草に
優れた除草効果を示す。しかも本発明の除草剤は載培作
物に選択性を有し、特にヒマワリ、サフラワー、ダイズ
等に実用上問題となる薬害を与えない。
前記式(I)化合物を実際に除草剤として使用する場合
には、担体本しくは希釈剤、添加剤および補助剤等と公
知の手法で混合して、通常農薬として用いられている製
剤形態、例えば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、水溶剤、ゾ
ル剤等に調製して使用される。また他の農薬、たとえば
殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物生育調節剤及
び肥料、土壌改良剤等と混合または併用して使用するこ
とができる。
には、担体本しくは希釈剤、添加剤および補助剤等と公
知の手法で混合して、通常農薬として用いられている製
剤形態、例えば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、水溶剤、ゾ
ル剤等に調製して使用される。また他の農薬、たとえば
殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物生育調節剤及
び肥料、土壌改良剤等と混合または併用して使用するこ
とができる。
特に他の除草剤と混合使用することにより、使用薬量を
減少させまた省力化をもたらすのみならず、両県剤の共
力作用圧よる殺草スペクトラムの拡大並びに相乗作用に
よる一層高い効果も期待できる。
減少させまた省力化をもたらすのみならず、両県剤の共
力作用圧よる殺草スペクトラムの拡大並びに相乗作用に
よる一層高い効果も期待できる。
上記担体屯しくは希釈剤としては、一般に使用される固
体乃至は液体の担体が利用できる。固体担体としてはカ
オリナイト群、モンモリロナイト群あるいはアタパルジ
ャイト群等で代表されるクレー類やタルク;雲母、葉、
ロウ石、軽石、バーミキュライト、石こう、炭酸カルシ
ウム、ドロマイト、けいそう土、マグネシウム石灰、り
ん灰石、ゼオライト、無水ケイ酸、合成ケイ酸カルシウ
ム等の無機物質;大豆粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉
、木粉、でんぷん、結晶セルロース等の植物性有機物質
;クロマン樹脂、石油樹脂、アルキッド樹脂、ポリ塩化
ビニル、ポリアルキレングリコール、ケトン樹脂、エス
テルガム、コーパルガム、ダンマルガム等の合成または
天然の高分子化合物;カルナバロウ、密ロウ等のワック
ス類あるいは尿素等が例示できる。
体乃至は液体の担体が利用できる。固体担体としてはカ
オリナイト群、モンモリロナイト群あるいはアタパルジ
ャイト群等で代表されるクレー類やタルク;雲母、葉、
ロウ石、軽石、バーミキュライト、石こう、炭酸カルシ
ウム、ドロマイト、けいそう土、マグネシウム石灰、り
ん灰石、ゼオライト、無水ケイ酸、合成ケイ酸カルシウ
ム等の無機物質;大豆粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉
、木粉、でんぷん、結晶セルロース等の植物性有機物質
;クロマン樹脂、石油樹脂、アルキッド樹脂、ポリ塩化
ビニル、ポリアルキレングリコール、ケトン樹脂、エス
テルガム、コーパルガム、ダンマルガム等の合成または
天然の高分子化合物;カルナバロウ、密ロウ等のワック
ス類あるいは尿素等が例示できる。
適当な液体担体としてはケロシン、鉱油、スピンドル油
、ホワイトオイル等のパラフィン系もしくはナフテン系
炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素−
四塩化炭素、クロロホルム、トリクロルエチレン、モノ
クロルベンゼン、0−クロルトルエン等の塩素化炭化水
素;ジオキサ/、テトラヒドロフランのようなエーテル
類;アセトン、メチルエチルケトン、ジインブチルケト
ン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、インホロン等
のケトン類;酢酸エチル、酢酸アミル、エチレングリコ
ールアセテート、ジエチレングリコールアセテート、マ
レイン酸ジプチル、コハク酸ジエチル等のエステル類;
メタノール、n−ヘキtノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、ベンジル
アルコール等のアルコール類;エチレングリコールエチ
ルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、ジ
エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールブチルエーテル等のエーテルアルコール類;ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒あ
るいは水等があげられる。
、ホワイトオイル等のパラフィン系もしくはナフテン系
炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素−
四塩化炭素、クロロホルム、トリクロルエチレン、モノ
クロルベンゼン、0−クロルトルエン等の塩素化炭化水
素;ジオキサ/、テトラヒドロフランのようなエーテル
類;アセトン、メチルエチルケトン、ジインブチルケト
ン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、インホロン等
のケトン類;酢酸エチル、酢酸アミル、エチレングリコ
ールアセテート、ジエチレングリコールアセテート、マ
レイン酸ジプチル、コハク酸ジエチル等のエステル類;
メタノール、n−ヘキtノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、ベンジル
アルコール等のアルコール類;エチレングリコールエチ
ルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、ジ
エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールブチルエーテル等のエーテルアルコール類;ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒あ
るいは水等があげられる。
そのほかに前記式(I)化合物の乳化、分散、湿潤、拡
展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、流動性改良、
防錆等の目的で界面活性剤その他の補助剤を使用するこ
ともできる。使用される界面活性剤の例としては、非イ
オン性、陰イオン性、陽イオン性および両性イオン性の
いずれのものをも使用しうるが、通常は非イオン性およ
び(または)陰イオン性のものが使用される。適当な非
イオン性界面活性剤としては、九とえばラウリルアルコ
ール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等の
高級アルコールにエチレンオキシドを重合付加させたも
の;イノオクチルフェノール、ノニルフェノール等のア
ルキルフェノールにエチレンオキシドを重合付加させた
もの;ブチルナフ) −ル、オクチルナフトール等のプ
ルキルナフトールにエチレンオキシドを重合付加させた
もの:パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の高
級脂肪酸にエチレンオキシドを重合付加させたもの;ス
テアリルりん酸、ジラウリルりん酸等のモノ本しくけジ
アルキルりん酸にエチレンオキシドを重合付加させたも
の;ドデシルアミン、ステアリン酸アミド等のアミンに
エチレンオキシドを重合付加させたもの;ソルビタン等
の多価アルコールの高級脂肪酸エステルおよびそれにエ
チレンオキシドを重合付加させたもの;エチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドを重合付加させたもの等があげ
られる。適当な陰イオン性界面活性剤としては、たとえ
ばラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫酸エ
ステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩;スルホこ
は〈酸ジオクチルエステルナトリウム、2−エチルヘキ
センスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸塩;
イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メチレ
ンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニンスル
ホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム等の了リールスルホン酸塩等があげられる。
展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、流動性改良、
防錆等の目的で界面活性剤その他の補助剤を使用するこ
ともできる。使用される界面活性剤の例としては、非イ
オン性、陰イオン性、陽イオン性および両性イオン性の
いずれのものをも使用しうるが、通常は非イオン性およ
び(または)陰イオン性のものが使用される。適当な非
イオン性界面活性剤としては、九とえばラウリルアルコ
ール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等の
高級アルコールにエチレンオキシドを重合付加させたも
の;イノオクチルフェノール、ノニルフェノール等のア
ルキルフェノールにエチレンオキシドを重合付加させた
もの;ブチルナフ) −ル、オクチルナフトール等のプ
ルキルナフトールにエチレンオキシドを重合付加させた
もの:パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の高
級脂肪酸にエチレンオキシドを重合付加させたもの;ス
テアリルりん酸、ジラウリルりん酸等のモノ本しくけジ
アルキルりん酸にエチレンオキシドを重合付加させたも
の;ドデシルアミン、ステアリン酸アミド等のアミンに
エチレンオキシドを重合付加させたもの;ソルビタン等
の多価アルコールの高級脂肪酸エステルおよびそれにエ
チレンオキシドを重合付加させたもの;エチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドを重合付加させたもの等があげ
られる。適当な陰イオン性界面活性剤としては、たとえ
ばラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫酸エ
ステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩;スルホこ
は〈酸ジオクチルエステルナトリウム、2−エチルヘキ
センスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸塩;
イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メチレ
ンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニンスル
ホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム等の了リールスルホン酸塩等があげられる。
さらに本発明の除草剤の製剤の性状を改善し、除草効果
を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミン、ニ
カワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセルロース
、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポ
リビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助剤を併
用することもできる。
を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミン、ニ
カワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセルロース
、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポ
リビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助剤を併
用することもできる。
上記の担体および種々の補助剤は製剤の剤型、適用場面
等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独あるいは組合
わせて適宜使用できる。
等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独あるいは組合
わせて適宜使用できる。
この様に1−て得られた各種製剤形に於ける前記式(【
)化合物有効成分含有率は製剤形により種々変化する本
のであるが、たとえば0.1〜99重量%、好ましくは
1〜80重量%である。
)化合物有効成分含有率は製剤形により種々変化する本
のであるが、たとえば0.1〜99重量%、好ましくは
1〜80重量%である。
粉剤は、たとえば有効成分化合物を通常1〜25重量%
含有し、残部は固体担体である。
含有し、残部は固体担体である。
水和剤は、たとえば有効成分化合物を通常25〜90重
量%含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤であって、必
要に応じて保護コロイド剤、チキソトロピー剤、消泡剤
等が加えられる。
量%含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤であって、必
要に応じて保護コロイド剤、チキソトロピー剤、消泡剤
等が加えられる。
粒剤は、たとえば有効成分化合物を通常1〜35重量%
含有し、残部は大部分が固体担体である。
含有し、残部は大部分が固体担体である。
有効成分化合物は固体担体と均一に混合されているか、
あるいは固体担体の表面に均一に固着もしくは吸着され
ており、粒の径は約0.2ないし1.5箇程度である。
あるいは固体担体の表面に均一に固着もしくは吸着され
ており、粒の径は約0.2ないし1.5箇程度である。
乳剤は、たとえば有効成分化合物を通常1〜30重量%
含有しており、これに約5ないし20重量%の乳化剤が
含まれ、残部は液体担体であり、必要に応じて防錆剤が
加えられる。
含有しており、これに約5ないし20重量%の乳化剤が
含まれ、残部は液体担体であり、必要に応じて防錆剤が
加えられる。
上述の様にして得られる本発明のピリジルフェニルエー
テル化合物系除草剤は、一般式(I)の化合物のまま或
いは上述した様な任意の調製形、報で施用することがで
きる。
テル化合物系除草剤は、一般式(I)の化合物のまま或
いは上述した様な任意の調製形、報で施用することがで
きる。
本発明の除草剤は、水田及び畑地に生育する発生前から
生育期オでの諸雑草に施用でき、なかでも生育期の諸雑
草に施用するのが好ましいが、特には畑地への施用が好
適である。その施用号は、前記式(I)の化合物の除草
活性が著しく高いため少量の施用でよいが、目的とする
雑草の種類、生育段階、施用場所、施用時期、天候等に
よって適宜に選択変更できる。既ね一般式(I)で表わ
される化合物量(有効成分量)としてlha当り0.0
1〜10000f程度、好ましくは0.1〜50QOP
程度である。さらに好ましくは、xha当り50〜20
00f程度である。
生育期オでの諸雑草に施用でき、なかでも生育期の諸雑
草に施用するのが好ましいが、特には畑地への施用が好
適である。その施用号は、前記式(I)の化合物の除草
活性が著しく高いため少量の施用でよいが、目的とする
雑草の種類、生育段階、施用場所、施用時期、天候等に
よって適宜に選択変更できる。既ね一般式(I)で表わ
される化合物量(有効成分量)としてlha当り0.0
1〜10000f程度、好ましくは0.1〜50QOP
程度である。さらに好ましくは、xha当り50〜20
00f程度である。
次に、本発明の除草剤の製剤例の数態様を示す。
下記製剤例中の「部」は重量基準である。
製剤例1(粒剤)
化合物量22 5部ベントナイト
50部タルク
40部ドデシルベンゼンスルホン酸ソ
ーダ 2部リグニンスルホン酸ソーダ
2部ポリオキシエチレンアルキル アリールエーテル 1部以上
を充分に混合した後、適量の水を加えて混練し、造粒機
を用いて造粒して粒剤100部を得た。
50部タルク
40部ドデシルベンゼンスルホン酸ソ
ーダ 2部リグニンスルホン酸ソーダ
2部ポリオキシエチレンアルキル アリールエーテル 1部以上
を充分に混合した後、適量の水を加えて混練し、造粒機
を用いて造粒して粒剤100部を得た。
製剤例2(水利剤)
化合物N11 20部ケイソ
ウ士 60部ホワイトカーボン
15部リグニンスルホン酸ソーダ
3部ドデシルベンゼンスルホン酸ソ
ーダ 2部以上を混合し、ニーダ−で均
一に混合粉砕して水和剤100部を得た。
ウ士 60部ホワイトカーボン
15部リグニンスルホン酸ソーダ
3部ドデシルベンゼンスルホン酸ソ
ーダ 2部以上を混合し、ニーダ−で均
一に混合粉砕して水和剤100部を得た。
製剤例3(乳剤)
化合胸部13 3o部キ′7′ン
55部シクロへキサノン
1o部ドテシルベンゼンスルホン酸 カルシウム
3部ポリオキシエチレンアルキル アリルエーテル
2部以上を均一に混合溶解して乳剤100部を得た。
55部シクロへキサノン
1o部ドテシルベンゼンスルホン酸 カルシウム
3部ポリオキシエチレンアルキル アリルエーテル
2部以上を均一に混合溶解して乳剤100部を得た。
上述の製剤例に準じて本発明の除草剤の薬剤がそれぞれ
製剤できた□ 試験例 1 (茎葉処理) 角型ポット(30x30x9ctfL)に畑地土壌をつ
め、表2に示す各種作物及び各種雑草種子を一定量づつ
播種し、各植物が15〜3葉期(播種後18日1)にな
るまで温室内で生育させた。
製剤できた□ 試験例 1 (茎葉処理) 角型ポット(30x30x9ctfL)に畑地土壌をつ
め、表2に示す各種作物及び各種雑草種子を一定量づつ
播種し、各植物が15〜3葉期(播種後18日1)にな
るまで温室内で生育させた。
表2に示した化合物の乳剤を、表2に示した有効成分量
になるように水に希釈し、さらに「8uvfactan
t’pJK J 0.25%加えた後、その溶液を茎葉
忙むらなく散布した。
になるように水に希釈し、さらに「8uvfactan
t’pJK J 0.25%加えた後、その溶液を茎葉
忙むらなく散布した。
薬剤散布を行ってから21日後に1各雑草への除草効果
及び各作物の薬害程度を、下記の基準に従って判別し、
その結果を表2に示した。
及び各作物の薬害程度を、下記の基準に従って判別し、
その結果を表2に示した。
(以下余白)
評価基準 (11段階)
表2
比#lJ a :ソデイウム 5−〔2−クロロ−4−
(トリフルオロメチル)フェノキシツー2−二トロベン
ゾエート(一般名acifluorfen sodiu
m)特許出願人 三菱油化株式会社 代理人 弁理士 長 谷 正 久 代理人 弁理士 山 本 隆 也
(トリフルオロメチル)フェノキシツー2−二トロベン
ゾエート(一般名acifluorfen sodiu
m)特許出願人 三菱油化株式会社 代理人 弁理士 長 谷 正 久 代理人 弁理士 山 本 隆 也
Claims (1)
- (1)下記式( I )、 ▲数式、化学式、表等があります▼………( I ) 但し式中、R^1は低級アルキル基を、R^2は水素原
子もしくは低級アルキル基を、Rは低 級アルキル基、置換されていてもよいアル ケニル基または置換されていてもよいアル キニル基を、Xはハロゲン原子またはトリ フルオロメチル基を、Yは酸素原子または 硫黄原子を、nは0〜4の整数をそれぞれ 示す。 (但し、n=1で5位のXがトリフルオロメチル基であ
る場合、n=2で3位のXがハ ロゲン原子でかつ5位のXがトリフルオロ メチル基である場合を除く) で表わされる2−ニトロ−5−(置換ピリジルオキシ)
ベンゾヒドロキシム酸誘導体を有効成分として含有する
ことを特徴とする除草剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63096165A JPH01268607A (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 | 2−ニトロ−5−(置換ピリジルオキシ)ベンゾヒドロキシム酸誘導体系除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63096165A JPH01268607A (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 | 2−ニトロ−5−(置換ピリジルオキシ)ベンゾヒドロキシム酸誘導体系除草剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01268607A true JPH01268607A (ja) | 1989-10-26 |
Family
ID=14157724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63096165A Pending JPH01268607A (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 | 2−ニトロ−5−(置換ピリジルオキシ)ベンゾヒドロキシム酸誘導体系除草剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01268607A (ja) |
-
1988
- 1988-04-19 JP JP63096165A patent/JPH01268607A/ja active Pending
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