JPH01263648A - 輻射線感応性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は、放射線感応性材料に関する。

先行技術とその問題点 従来、輻射線の一種である光の照射によって機能する光
機能材料には多くのものが知られているが、光機能材料
にはその機能発現の作用機構により、いくつかの群に分
類される。

例えば、材料自身は光センサーとして機能し、受は取っ
た光のエネルギーを？＆ａのプロセスで有効利用するも
の、材料自身が光反応を起こし、その結果とし色素等の
有用物を形成（もしくは形成不能になる）するもの、材
料が光反応により顕著な物性変化を起こし、その変化を
有効利用するもの等が知られている。光センサーとして
機能するものとしては銀塩写真におけるハロゲン化銀と
電子写真における光導電体がその代表であり両者とも優
れた画像形成技術として確固たる地位を築いている。し
かし、これらのシステムは画像形成の処理が煩雑なこと
、あるいはフルカラー化のためのシステムが複雑になる
こと等の問題点を有しており、さらに簡易な画像形成法
が望まれていた。

また、光機能材料が光反応を起こして有用物を形成ない
し消失するものとしてはジアゾニウム塩やアジド化合物
、四臭化炭素と芳香族アミンから成るラジカル写真組成
物等の感光性材料を用いたカラー画像形成法、有機金属
化合物や電荷移動錯体の光イオン化反応等による画像形
成法などが知られているが、この群に属するものの一般
的特性として材料の安定性が乏しく、また形成できる有
用物が限られるという問題点がある。

−力先レドックス反応を利用した画像形成系は、コバル
）　（ＩＩＩ）錯体と光還元剤を組合せた系（特開昭５
０−１３９７２２、同５０−１３９７２３、同５Ｏ−１
３９７２４）、テルル（１■）化合物と光還元剤を組合
せた系（特開昭５０−４５６２２、同５Ｏ−１５０４２
７）、銅錯体と光還元剤を組合せた系（米国特許３，８
５９，０９２、同３．８６０，５００．同３，８６０，
５０１）などがある、光レドックス反応は材料の安定性
は良好であり、本発明の一般式（１）の化合物と、該化
合物と光レドックス反応で酸化還元カップルを形成する
光還元剤とを組合した系は、発現出来る機能が従来の技
術に比較して広い。

また、光機能材料のうち光反応の結果として顕著な物性
変化を起こすものにも広範な材料が知られている。

製版用感光性樹脂としては重クロム酸塩を感光材料に用
いた系、ポリケイヒ酸ビニルの光架橋反応を用いた系、
アジド化合物とノボラック樹脂の混合系、光重合開始剤
とビニル糸上ツマ−を組合わせた系、ジアゾニウム塩ポ
リマーを用いた系、０−キノンジアジド類とはノボラッ
ク樹脂を組合わせた系、シリコン樹脂の側鎖にアクリロ
イル基やケイヒ酸基を導入した系などが実用されている
。

またこれらの感光性材料は製版材料以外にもＵＶ硬化性
インクや塗料等にも用いられている。この群に属するも
のの大部分は光反応の結果、重合や架橋を起こし、不溶
化するものであるが、逆に、光の当たった部分が可溶化
する、いわゆるポジ型の感光材料でＵＶ光に感じ、有用
なものは現在のところ、０−キノンジアジド類のみであ
り、新たなポジ型感光材料の出現゛が望まれていた。

■　発明の目的 本発明の目的は、輻射線の照射によって種々の機能を発
現することが可能な輻射線感応性材料を堤供することに
ある。

■　発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち、本発明は下記一般式（Ｉ）で表わされる化合
物、及び該化合物と酸化還元カップルを形成しうる光還
元剤を含むことを特徴とする輻射線感応性材料である。

一般式（１） （上記一般式（１）において、Ｎは窒素原子を表わし、
Ｘは酸素原子（−０−）、イオウ原子＜−Ｓ−＞、また
は窒素原子を含む基（−Ｎ−）を表わす。

Ｒ１、Ｒｔ　ＳＲ１およびＲ４は、それぞれ、単なる結
合手、置換もしくは非置換のアルキル基、了り−ル基、
複素環基もしくはアシル基、または置換もしくは非置換
のアルキル基もしくはアリール基を導入したスルホニル
基を表わす。ここで、Ｒ’、Ｒ”およびＲ３のうちの少
なくとも１つは置換もしくは非置換の７リール基もしく
は複素環基を表わず。Ｒ１、ＲＥ　、Ｒ３およびＲ４は
互いに結合して環を形成してもよい。

ＵＧは、輻射線を照射された光還元剤と酸化還元カップ
ルを形成することにより生ずるＮ−Ｘ結合の開裂をひき
かねとして放出される基を表わす。

また、実線は結合を、破線はそのうちの少なくとも１つ
が結合していることを表わす。）さらに詳しく説明する
と、Ｒ１とＲ３は少なくともそのいずれかが、アリール
基、あるいは複素環基であることが好ましく、さらに好
ましくは、ハメットλｐ値で正の値を有する基によって
一つ以上置換されたアリール基あるいは複素環基である
ことが好ましい。

ハメットのλρ値が正のものの例としては置換あるいは
無置換のカルバモイル基、スルホニル基、スルファモイ
ル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アンモニオ
基、アブ基、スルフィニル基あるいはニトロ基、シアノ
基、トリフルオロメチル基、ニトロソ基、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子などが挙げられる。

アリール基、複素環基の例としては、フェニル基、ナフ
チル基、アンスラニル基、ピリジル基、ビラジル基、ピ
リミジル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサシリル
基、イミダゾリル基、チアゾリル基、アザインデニル基
、インデニル基、ピロリル基、フェニルチオ基、などが
挙げられる。

Ｒ１、Ｒｓの好ましい例としては少なくとも一つ以上の
電子吸引性基によって置換されたアリールａ、例えば、
４−ニトロフェニル基、２−ニトロフェニルＭ、２−ニ
トロ−４−Ｎ−／　チル−Ｎ−ｎ−オクチルスルファモ
イルフェニルＬ２−ニトロ−４−Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−
ヘキサデシルスルファモイルフェニル基、２−ニトロ−
４−Ｎ−メチル−Ｎ−（３−カルボキシプロピル）スル
ファモイルフェニル基、２−ニトロ−４−Ｎ−エチル−
Ｎ−（２−スルホエチル）スルファモイルフェニル基、
２−ニトロ−４−Ｎ−ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−（３−ス
ルホプロピル）スルファモイルフェニル基、２−ニトロ
−４−Ｎ−（２−シアノエチル）−Ｎ−（（２−ヒドロ
キシエトキシ）エチル）スルファモイルフェニル基、２
−ニトロ−４−ジエチルスルファモイルフェニル基、２
−ニトロ−４−ジ−ｎ−ブチルスルファモイルフェニル
基、２−ニトロ−４−ジ−ｎ−オクチルスルファモイル
フェニル基、２−ニトロ−４−メチルスルファモイルフ
ェニル基、２−ニトロ−４−ｎ−ヘキサデシルスルファ
モイルフェニル基、２−ニトロ−４−Ｎ−メチル−Ｎ−
（４−ドデシルスル、ｈニルフェニル）スルファモイル
フェニル基、２−ニトロ−４−（３−メチルスルファモ
イルフェニル）スルファモイルフェニル基、４−ニトロ
−２−Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ドデシルスルファモイルフ
ェニル基、４−ニトロ−２−Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−オク
タデシルスルファモイルフェニル基、４−ニトロ−２−
ジエチルスルファモイルフェニル基、４−ニトロ−２−
ジ−ｎ−オクタデシルスルファモイルフェニル基、２−
ニトロ−４−クロロフェニル基、２−ニトロ−４−Ｎ−
、’チルーＮ−ｎ−ブチルカルバモイルフェニル基、２
−ニトロ−４−Ｎ−メチル−Ｎ−（３−カルボキシプロ
ピル）カルバモイルフェニル基、２−ニトロ−４−ジエ
チルカルバモイルフェニル基、２−ニトロ−４−ジ−ｎ
−オクチルカルバモイルフェニル基、２−ニトロ−４−
メチルカルバモイルフェニル基、２−ニトロ−４−ｎ−
ヘキサデシルカルバモイルフェニル基、２−ニトロ−４
−Ｎ−メチル−Ｎ−（４−ドデシルスルホニルフェニル
）カルバモイルフェニル基、４−ニトロ−２−Ｎ−メチ
ル−Ｎ−ｎ−７’チルカルバモイルフエニル基、４−ニ
トロ−２−Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイル
フェニル基、４−ニトロ−２−Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ヘ
キサデシルカルバモイルフェニル基、４−ニトロ−２−
Ｎ−エチル−Ｎ−（２−スルホエチル）カルバモイルフ
ェニル基、４−ニトロ−２−ｎ−ヘキサデシルカルバモ
イルフェニル基、４−ニトロ−２−Ｎ−メチル−Ｎ−（
４−ドデシルスルホニルフェニル）カルバモイルフェニ
ル基、２．４−ジメタンスルホニルフェニル基、２−メ
タンスルホニル−４−ベンゼンスルホニルフェニル基、
２−ｎ−オクタンスルホニル−４−メタンスルホニルフ
ェニル基、２−ｎ−テトラデカンスルホニル−４−メタ
ンスルホニルフェニルフェニル基、２−ｎ−ヘキサデカ
ンスルホニル−４−メタンスルホニルフェニルＬ　２．
４−ジーｎ−Ｆデカンスルホニルフェニル基、２．４−
シトデカンスルホニル−５−トリフルオロメチルフェニ
ル基、２−ｎ−デカンスルホニル−４−シアノ−５−ト
リフルオロメチルフェニル基、２−シアノ−４−メタン
スルホニルフェニルＬ　２，４．６−トリシアノフェニ
ル基、２．４−ジシアノフェニルｌｓ、２−ニトロ−４
−メタンスルホニルフェニル基、２−ニトロ−４−ｎ−
ドデカンスルホニルフェニル基、２−ニトロ−４−（２
−スルホエチルスルホニル）フェニル基、２−ニトロ−
４−カルボキシメチルスルホニルフェニル基、２−ニト
ロ−４−カルボキシフェニル基、２−ニトロ−４−エト
キシカルボニル−５−ｎ−ブトキシフエニ）Ｌｔｄ、２
−ニトロ−４−エトキシ力ロボニルー５−ｎ−ヘキサデ
シルオキシフェニル基、２−ニトロ−４−ジエチルカル
バモイル−５−ｎ−ヘキサデシルオキシフェニル基、２
−ニトロ−４−シアノ−５−ｎ−ドデシルフェニル基、
２．４−ジニトロフェニル基、２−ニトロ−４−ｎ−デ
シルチオフェニル基、３．５−ジニトロフェニル基、２
−二トロー３．５−ジメチル−４−ｎ−ヘキサデカンス
ルホニル基、４−メタンスルホニル−２−ベンゼンスル
ホニルフェニル基、４−ｎ−オクタンスルホニル−２−
メタンスルホニルフェニル基、４−ｎ−テトラデカンス
ルホニル−２−メタンスルホニルフェニル基、２．５−
シトデカンスルホニル−４−トリフルオロメチルフェニ
ルＬ４−ｎ−デカンスルホニル−２−シアノ−５−トリ
フルオロメチルフェニル基、４−シアノ−２−メタンス
ルホニルフェニル基、４−ニトロ−２−メタンスルホニ
ルフェニル基、４−ニトロ−２−ｎ　−ドデカンスルホ
ニルフェニル基、４−ニトロ−２−（２−スルホエチル
スルホニル）フェニル基、４−ニトロ−２−カルボキシ
メチルスルホニルフェニル基、４−ニトロ−２−カルボ
キシフェニル基、４−ニトロ−２−エトキシカワボニル
−５−ｎ−ヘキサデシルオキシフェニル基、４−ニトロ
−２−ジエチルカルバモイル−５−ｎ−ヘキサデシルオ
キシフェニル基、４−ニトロ−２−ｎ−デシルチオフェ
ニル基、４−ニトロ−３，５−ジメチル−２−ｎ−ヘキ
サデカンスルホニル基、４−ニトロナフチル基、２．４
−ジニトロナフチル基、４−ニトロ−２−ジオクチルカ
ルバモイル−５−（３−スルホベンゼンスルホニルアミ
ノ）ナフチル基、２，３，４．５．６−ペンタフルオロ
フェニル基、２−ニトロ−４−ペンゾイルフヱニル基、
２．４−ジアセチルフェニル基、２−ニトロ−４−トリ
フルオロメチルフェニル基、４−ニトロ−２−トリフル
オロメチルフェニル基、４−ニトロ−３−トリフルオロ
メチルフェニル基、２，４゜５−トリシアノフェニル基
、３．４−ジシアノフェニル基、２−クロロ−４，５−
ジシアノフェニル基、２−ブロモ−４，５−ジシアノフ
ェニル基、４−メタンスルホニル基、４−ｎ−ヘキサデ
カンスルホニルフェニル基、２−デカンスルホニル−５
−トリフルオロメチルフェニル基、２−二トロー５−メ
チルフェニル基、２−ニトロ−５−〇−オクタデシルオ
キシフェニル基、２−ニトロ−４−Ｎ−（ビニルスルホ
ニルエチル）−Ｎ−メチルスルファモイルフェニル基、
２−メチル−６−二トロベンツオキサゾールー５−イル
基、など。

複素環基の例としては、例えば、２−ピリジル基、３−
ピリジル基、４−ピリジル基、５−ニトロ−２−ピリジ
ル基、５−ニトロ−Ｎ−ヘキサデシルカルバモイル−２
−ピリジル基、３．５−ジシアノ−２−ピリジル基、５
−ドデカンスルホニル−２−ピリジル基、５−シアノ−
２−ピラジル基、４−ニトロチオフェン−２−イル基、
５−ニトロ−１，２−ジメチルイミダゾール−４−イル
基、３．５−ジアセチル−２−ピリジル基、１−ドデシ
ル−５−カルバモイルピリジニウム−２−イル基、５−
ニトロ−２−フリル基、５−ニトロベンツチアゾール−
２−イル基、など）が挙げられる。

Ｒ：、Ｒ４はＲ１、Ｒｓと同様にアリール基または複素
環基であってもかまわないが、アシル基、アルキル基、
スルホニル基であっても良い。

Ｒ１，Ｒｘ　、Ｒ２、Ｒ４がアリール基、複素環基以外
の例としては、ヱ上土上基、７う」仁Ｆｋ恭−（置換さ
れてもよいアルキル基、アラルキル基。

例えば、メチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基
、クロロメチル基、ジメチルアミノメチル基、エトキシ
カルボニルメチル基、アミノメチル基、アセチルアミノ
メチル基、エチル基、２−（４−ドデカノイルアミノフ
ェニル）エチル基、カルボキシエチル基、アリル基、３
．３．３−トリクロロプロピル基、ｎ−プロピル基、１
ｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、１ｓｏ−ブチル基、
５ｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチルＭ、Ｓ
　ｅ　Ｃ−ペンチル％、ｔ−ペンチル基、シクロペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、５ｅｃ−ヘキシル基、ｔ−ヘキ
シル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、５ｅｃ−
オクチル基、ｔ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウン
デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−
ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、５ｅｃ−ヘキサ
デシル基、ｔ−ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシル基、
ｔ−オクタデシル基、など）、 ヱ土欠三及蓋（置換されてもよいアルケニル基。

例えば、ビニル基、２−クロロビニル基、１−メチルビ
ニル基、２−シアノビニル基、シクロヘキセン−１−イ
ル基、など） アルキニル基（置換されてもよいアルキニル基。

例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−エトキシ
カルボニルメチル基、など） ヱ之止基（置換されてもよいアシル基。例えば、アセチ
ル基、プロピオニル基、ブチロイル基、ｉｓ。

−ブチロイル基、２．２−ジメチルプロピオニル基、ベ
ンゾイル基、３．４−ジクロロベンゾイル基、３−アセ
チルアミノ−４−メトキシベンゾイル基、４−メチルベ
ンゾイル基、４−メトキシ−３−スルホベンゾイル基、
など）、 久土主玉土益（置換されてもよいスルホニル基。

例えば、メタンスルホニル基、ごタンスホニル基、クロ
ルメタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、ブタン
スルホニル基、ｎ−オクタンスルホニル基、ｎ−ドデカ
ンスルホニル基、ｎ−ヘキサデカンスルホニル基、ベン
ゼンスルホニルＬ４−トルエンスルホニル基、４−ｎ−
ドデシルオキシベンゼンスルホニル暴、など）、 ｈ）Ｌ／／Σ％−（／と五（置換されてもよいカルバモ
イル基。例えば、カルバモイル基、メチルカルバモイル
基、ジメチルカルバモイル基、ビス−（２−メトキシエ
チル）カルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、シク
ロへキシルカルバモイル基、ジ−ｎ−オクチルカルバミ
ル基、３−ドデシルオキシプロピルカルバモイル基、ヘ
キサデシルカルバモイル基、３−（’２．４−ジーｔ−
ペンチルフェノキシ）プロピルカルバモイル基、３−オ
クタンスルホニルアミノフェニルカルバモイル基、ジ−
ｎ−オクタデシルカルバモイル基、など）があげられる
。

本発明では、一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物の中でも
次の一般式（ｎ）で表わされる化合物ガ好ましい。

一般式（ＩＩ） （Ｔｉｍｅ）ｔ−Ｕ　ＧはＲ３、ＲＳの少なくとも一方
に結合する。

Ｙは二価の連結基であり好ましくは−（Ｃ・０）−ある
いは−５ｏｔ−である。Ｘは前記と同じ意味を表わす。

Ｒ４はＸ、Ｙと結合し、窒素原子を含めて丘ないし六員
の単環あるいは縮環の複素環を形成する原子群を表す。

以下にこの複素環にあたる部分について（Ｔｉｍｅ）ｔ
　ＵＧの結合位置も含めて、好ましい例について記す。

ここでＲ＠　、Ｒ％　、Ｒ２Ｏは水素原子、アルキル基
、アリール基、またはへテロ環基２等が好ましい。

Ｒｌ　ｌはアシル基、スルホニル基を表わす。

次に−（Ｔ　ｉｍｅ）Ｌ−ＵＧについて詳述する。

Ｔｉｍｅは、輻射線を照射された光還元剤との酸化還元
カップルの形成により生じる窒素−酸素、窒素−窒素、
あるいは窒素−硫黄結合の開裂をひきかねとして、後続
する反応を介してＵＧを放出する基を表す。

ｔは０または１を表わす。

Ｔｉｍｅで表される基は種々公知であり、例えば特開昭
６１−１４７２４４号（５）頁−（６）頁、同６１−２
３６５４９号（８）頁−（１４）頁、特願昭６０−２４
４８７３号（１７）頁−（３６）頁に記載の基が挙げら
れる。

本発明の化合物は産業上に有用な基を画像状に、すばや
く、かつ効率よく放出するので、多くの用途が考えられ
るが、このような機能を応用しうる例として以下の例を
あげることが出来る。

■　本発明の化合物において、有用な基が拡散性の色素
である場合は、水又は溶剤又は混合溶剤、による拡散転
写法、あるいは熱による熱拡散法により色素−画像の形
成が可能である。

■　本発明の化合物において、有用な基が金属錯体の配
位子である場合は水又は溶剤又は混合溶剤による拡散転
写法、あるいは熱拡散法により、金属錯体の画像の形成
が可能である。あるいは有用な基を持つ、本化合物を含
む層中において金属錯体の画像の形成が可能である。

■　本発明の化合物が水あるいは溶剤あるいは混合溶剤
に可溶であり、有用な基が水あるいは溶剤あるいは混合
溶剤に難溶又は不溶の時は、未露光部に残存する本発明
の化合物を溶出して有用な基にもとすく画像を形成しう
る。これによりパターン状の色素又は／およびＵ■吸収
剤又は／および赤外線吸収剤フィルターや、耐光性防止
フィルター。

■　本発明の化合物において写真的に有用な基が、結合
時には無色化合物あるいは吸収波長を変化させた色素で
あって、放出後に有色化あるいは変色する化合物である
場合放出前後で色を変えることが出来る。従ってこれを
利用することにより、画像を形成することが出来る。

■　本発明の化合物において、有用な基がフッ素、塩素
、臭素、ヨウ素の場合、ガラス又は／および二酸化けい
素又は／および、窒化けい素、又は／および一酸化けい
素又は／および、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄
、鉄合金、銀などの合金、などを露光部においてエツチ
ング出来る。

これによりマイクロエレクトロニクステバイスにおける
マイクロリソグラフィーを可能にしたり印刷版のマスタ
ーを作成しえたりする。

■　本発明の化合物において、有用な基が硫黄を含む場
合、露光部に対応した部位におけるパラジウム金属への
メツキ活性を失活しうる。あるいは露光部において、ニ
ッケル金属へのメツキ活性を上げうる、これによりプリ
ント配線への応用、パタン−状メツキが出来る。

■　本発明の化合物において、有用な基が色素を染着し
うる媒染サイトになりうる場合、露光部に対応した部位
において、媒染サイトに色素を染着させえて、色素像を
形成しうる。これによりカラーマイクロフィルターを形
成しうる。

■　本発明の化合物において、有用な基が塩基のプリカ
ーサ−の場合、露光部において、ジアゾカップリングに
よるジアゾ色素の形成、あるいはジアゾ化合物による重
合を開始しうる。

これによりカラー画像又は重合物の画像を形成しうる。

■　本発明の化合物において、有用な基がマイクロリソ
グラフィーで用いられるパターン形成装置の光源（例え
ばｇ線）により褪色しうる場合は、コントラストエンハ
ンスメント（Ｃｏｎｔｒａｓｔ　Ｅｎｈａｎ−ｃｅｗｅ
ｎ　ｔ）をパターン状に行うことが出来てマイクロリソ
グラフィーによりより微細なパターンを形成しうる。

以上述べた用途に使用可能な具体的化合物例を列挙する
が、本発明の範囲はこれら具体例に限定されるものでは
ない。

■で述べた用途に用いられる化合物例としては以下のも
のが挙げら４する。

ｌ　−１３ １−ｌ　５ ′Ｎｏ２ ”Ｃ１ｏＨｚ＋ ２−１０’ａ ）で述べた用途に用いられる化合物例としては以下のも
のが古げられる。

１υ２ ３−　Ｉ　０ ＨｑＣａ’ ＮＵ！　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５Ｌ
Ｉ！シｌｌ！Ｌ＋Ｉｌ！ｌｙＬＩＬｌｎコＵｚＬ＋Ｉ＆
ｌ＋３３ へすｔ （ＣＩ（・）・Ｃ＼　／ＣＨ・−Ｆ （）、 ＮＯ ＼Ｃ１（、ＣＨ２０ＣＩ１．ＣＨ２０ＨＮｏ。

ＮＯ□ 本発明に用いられる化合物の合成に関してはＸが酸素の
ものについては特開昭６２−２１５２７０号に、Ｘが窒
素原子を含む基−Ｎ−である場合には特願昭６２−３４
９５３号に、Ｘが硫黄原子である場合には特開昭６２−
２４４０４８号、特願昭６２−３４９５４号に記載され
ている合成法を参考にすることにより合成することが出
来る。

以下に合成例を述べる。

合成例１ 具体的化合物３−１２の合成 ステップ１５−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシイソオキサ
ゾールの合成 標記化合物は以下の文献、特許に記載の方法を参考にし
て容易に合成することが出来る。

三共研究所年報、２２巻、２１５頁（１９７０）、特公
昭５２−９６７５号、プラタン　ド　ラ　ソシエテ　ケ
ミク　ド　フランセ（Ｂｕｌｌｅｔｉｎ　ｄｅ　Ｉａｓ
ｏｃｉｅｔｅ　ｃｈｉｍｉｑｕｅ　ｄｅ　Ｆｒａｎｃｅ
）　１９７８頁、特開昭５７−２０６６６８号、同５７
−２０６６６７号、テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ）、２０巻、２８３５頁、（１９６４）、特開昭
５８−１９４８６７号、同５７−７０８７８号、特公昭
４９−４８９５３号、特開昭　５９−１９０９７７号、
ジャーナル　オブ　オルガニック　ケミストリー（Ｊｏ
ｕｒｎａｌ　ｏｆ　ＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ
）、４８巻、４３０７頁（１９８３年）、Ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ　ａｎｄ　Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ　Ｂｕｌ
ｌｅｔｉｎ、　　１４巻、２７７頁、Ｈｅｔｅｒｏｃｙ
ｃｌｅｓｓ　１２巻、１０号、１２９７頁、カナデイア
ン　ジャーナル　オブ　ケミストリー　（Ｃａｎａｄｉ
ａｎ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、
６２巻、１９４０頁、特開昭５９−５０１９０７号ステ
ップ２５−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシイソオキサゾー
ルの合成 ヒドロキシルアミン塩酸塩５８３．７ｇを４Ｎ水酸化ナ
トリウム水溶液２リツトルに溶解し、水冷下エタノール
２リットルを添加し、更に４Ｎ水酸化ナトリウム−エタ
ノール（１：１）？ｊ％合溶液を加えて溶液のｐＨを１
０．０に調節した。この溶液にピバロイル酢酸エチルエ
ステル１３８０ｇ、！＝４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液−
エタノール（１：　１）混合溶液を反応溶液のｐＨが１
０．０±０．２、温度がＯ−５℃に調節して滴下した。

滴下終了後、室温で２時間攪はんしたのち、０℃の濃塩
酸水６Ｋｇに注ぎ１２時間放置した。析出した結晶をろ
取し、十分に水洗したのち乾燥した。

収１７７０　ｇ、収率６８．２％、融点９９−１０１℃ ステップ３　Ｎ−ヘキサデシル−３−ニトロ−４−クロ
ロベンゼンスルホンアミドの合成８００ｇの３−二トロ
ー４−クロルベンゼンスルホニルクロリドと１０００＋
ｍｌのジクロロメタンを混合し、これにヘキサデシルア
ミン６００　ｇ。

トリエチルアミン２５１ｍ１のジクロロメタン溶液を滴
下した０反応終了後この反応溶媒を減圧留去し３０００
ｍｌのメタノールを加え加熱し溶解した後ゆっくり冷却
すると結晶が析出した。この結晶をろ取し乾燥した。

収量１０２０ｇ、収率８８％、融点９１−９３℃ステッ
プ４　Ｎ−メチル＝Ｎ〜ヘキサデシルー３−ニトロ−４
−クロロベンゼンスルホンアミドの合成 Ｎ−ヘキサデシル−３−ニトロ−４−クロロベンゼンス
ルホンアミド１７０ｇをアセトン６４０１に溶解し、炭
酸カリウム７９ｇ、ポリエチレングリコール４００　６
ｍｌ、ジメチル硫酸７１ｇを加え５時間加熱還流した。

これにアセトン２４〇−１を加え４０℃で水８７０ｍ１
を滴下し室温まで冷却すると結晶が析出した。結晶をろ
取し、水、メタノールで洗い乾燥した。

収量１６９ｇ、収率９７％、融点７４−７５℃ステップ
５５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−ヘキサデシルスルフ
ァモイル−２−ニトロフェニル）４−イソオキサゾリン
−３−オンの合成Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシル−３−
ニトロ−４−クロロベンゼンスルホンアミド４７０ｇ、
５−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシイソオキサゾール１６
９ｇ、炭酸カリウム１６８ｇ、ジメチルスルホキシド１
．２１を混合し６５℃で６時間反応した。反応液を氷水
に注ぎ析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥した。

収量５７６　ｇ、収率１００％、融点６７−６８℃ステ
ップ６５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−（４−
Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル−２−ニ
トロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オンの合
成 ５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデ
シルスルファモイル−２−二トロフェニル）−４−イソ
オキサゾリン−３−オン５５０　ｇ。

塩化亜鉛２００ｇ、パラホルムアルデヒド２００ｇ、酢
酸１．５１を混合し、塩化水素ガスを吹き込みながら１
０時間加熱還流した。冷却後、反応液を水にあけ、析出
した結晶をろ取し、アセトニトリル−メタノール（１ｉ
４）混合溶媒より再結晶した。

収量５８５　ｇ、収率９６％、融点５６℃ステップ７５
−ｔ−ブチル−４−（４−アセチルアミノフェノキシメ
チル’）−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシルス
ルファモイル−２−二トロフェニル）−４−イソオキサ
ゾリン−３−オンの合成 ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２〜（４−Ｎ−メ
チル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル−２−二トロフ
ェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オンｓｏｇ　、
　４−アセチルアミノフェノール１２．６　ｇ　、炭酸
カリウム１３．４ｇ　、アセトン２００■１、よう化ナ
トリウム１．０ｇを混合し、６時間加熱還流した。冷却
後反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルを加え抽出した後、
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧留去し
た。残さにメタノールを加え一晩放置し析出した結晶を
ろ取した。

収量４７．８ｇ、収率８０．８％ ステップ８５−ｔ−ブチル−４−（４−アミノフェノキ
シメチル）−２−（４−Ｎ〜メチル−Ｎ−ヘキサデシル
スルファモイル−２−ニトロフェニル）−４−イソオキ
サゾリン−３−オンの合成 例−６で合成した５−ｔ−ブチル−４−（４−アセチル
アミノフェノキシメチル）−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ
−ヘキサデシルスルファモイル−２−ニトロフェニル）
−４−イソオキサゾリン−３−オン４５ｇとエタノール
２５０ｍ１を混合し、これに水１２５ｎ＋１．濃硫酸２
５ｍ１を加え５時間加熱還流した。反応終了後、冷却し
析出した結晶をろ取し、エタノールで洗浄した後乾燥し
た０元素分析の結果、この結晶には硫酸が１ｉ２分子含
有されていた。

収量４４．１ｇ、融点ｔ２５０℃以上 ステップ９　化合物例３−１２の合成 ５−ｔ−ブチル−４−（４−アミノフェノキシメチル）
−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモ
イル−２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−
３−オン硫酸塩６０ｇをジメチルアセトアミド２００ｍ
１に溶解し室温下濃塩酸１５−１を加え氷冷した。この
溶液に亜硝酸ナトリウム９ｇの５０ｍ＋１水溶液を反応
液の温度を１０℃以下に保ちながら滴下した。滴下後し
ばらくするとジアゾニウム塩が析出しスラリー状になっ
た。

一方、アセチルＨ酸３０ｇを５００ｍｌのジメチルアセ
トアミドに溶解し、ピリジン３０＋ｍｌを加え０℃に調
整した溶液を作っておき、これに水冷下で先のジアゾニ
ウム塩を徐々に加えた。溶液は瞬時に赤色を呈した。添
加終了後室温で３０分激しく撹はんし、希塩酸水に注ぎ
析出した結晶をろ取し、エタノールで洗浄した。得られ
た結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで何度も
精製し目的物を得た。

収量２２ｇ、収率２５％、融点２６０℃以上合成例２ 具体的化合物６−９の合成 ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−（４−Ｎ−メ
チル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル−２−ニトロフ
ェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オン２５０ｇと
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール７５ｇをア
セトン５００ｍ１に溶解し、炭酸カリウム６０ｇを加え
室温で２時間攪はんした。反応混合物を稀塩酸水に注ぎ
酢酸エチルエステルで抽出し、抽出液を水洗後乾燥して
減圧上濃縮した。残さにエタノール１１酢酸エチルエス
テル１００ｍ１を加え再結晶した。

収量２５０　ｇ、収率８２％、融点７３−７５℃合成例
３ 具体的化合物例１−１１の合成 ステップＩ　Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシル−３−ニト
ロ−４−クロロベンズアミドの合成１０２．７ｇの３−
ニトロ−４−クロル安息香酸と８００ｍ１のアセトニト
リルをｌ昆合し、これに塩化チオニル６８．６ｇを加え
、４時間加熱還流した。この溶液にトリエチルアミン６
３．５ｇを加え、５℃とした。次いでメチルオクタデシ
ルアミン１４８．６ｇのクロロホルム溶液をこれに滴下
した０反応終了後、水を加え分液したのち、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。無機物をろ別したのち溶
媒を留去し、アセトニトリル−メタノール（１：　３）
より再結晶した。

収量１８６ｇ、収率７６．０％、融点５５−５６℃ステ
ップ２５−も−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−オ
クタデシルカルバモイル−２−ニトロフェニル）−３−
イソオキサシロンの合成３４．１ｇのＮ−メチル−Ｎ−
オクタデシル−３−ニトロ−４−クロロペンツアミド、
１２．４ｇの５−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシイソオキ
サゾール、１２．４ｇの炭酸カリウムにジメチルホルム
アミド３００ｍ１を加え１００℃にて５時間反応した。

溶媒を減圧留去し酢酸エチルと水を加えて攪はんした後
有機層を取り、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで
主生成物を分取した。

ｎ−ヘキサン−酢酸エチルより再結晶した。

収量１８．０ｇ、収率４３．１％、融点６４℃ステップ
３４−クロルメチル−５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−
メチル−Ｎ−オクタデシルカルバモイル−２−ニトロフ
ェニル）−３−イソオキサシロンの合成 ５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデ
シルカルバモイル−２−二トロフェニル）−３−インオ
キサシロン３６ｇ１バラホルムアルデヒド５．７ｇ、塩
化亜鉛１０．３ｇを酢酸２５０ｍ１と混合し、塩化水素
ガスを吹き込みながら、１００℃２０時間反応した。反
応終了後、冷却し反応混合物を氷水に注いだ。析出した
固体をろ取しクロロホルムにン容解しカラムクロマトグ
ラフィーで精製した。

収量１０．０ｇ、収率２５．６％、融点７７℃ステップ
４４−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノフェノキシ
メチル）−５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ
−オクタデシルカルバモイル−２−ニトロフェニル）−
３−イソオキサシロンの合成 ４−クロルメチル−５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メ
チル−Ｎ−オクタデシルカルバモイル−２−二トロフェ
ニル）−３−イソオキサシロン１０．０ｇと４−ｔ−ブ
トキシカルボニルアミノフェノール４．０ｇ、炭酸カリ
ウム３．０ｇをアセトン１００ｍ１と混合し７時間加熱
還流した。反応終了後、アセトンを留去し酢酸エチルと
水を加えて抽出した。有機層をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製した。

収量９．０ｇ、収率７０．５％、 ステップ５　４−（４−ｔ−アミノフェノキシメチル）
−５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタ
デシルカルバモイル−２−ニトロフエニ、ル）−３−イ
ソオキサシロンの合成４−＜４−１−ブトキシカルボニ
ルアミノフェノキシメチル）−５−ｔ−ブチル−２−（
４−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルカルバモイル−２−
ニトロフェニル）−３−イソオキサシロン５．４ｇを４
０ｍ１のクロロホルムに溶解し５℃に冷却した。ついで
、これにトリフルオロ酢酸１０ｍ１をゆっくり滴下した
。徐々に室温とし１０時間反応した６反応終了後、反応
混合物を重曹水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出物
をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーで精
製した。

収量６．９ｇ、収率９０．８％、 ステップ６　具体的化合物例１−１１の合成４−（４−
ｔ−アミノフェノキシ）メチル−５−【−ブチル−２−
（４−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルカルバモイル−２
−ニトロフェニル）−３−イソオキサシロン５．４ｇを
４０ｍ１のクロロホルムに熔解し０℃に冷却した。これ
にピリジン０．８ｇを加えたのち、下記化合物（ａ）３
．１ｇを添加し２時間反応した０反応終了後、クロロホ
ルムを留去し少量のジメチルホルムアミドに溶解しメタ
ノールを油状物が析出しない程度に加え、攪はんすると
結晶が析出した。この結晶をろ取し再度同様の精製を行
った。

収量３．９ｇ、収率４６．５％、融点１５７−１５９℃ 化合物（ａ） 合成例４ 具体的化合物例１−１２の合成 ステップ１　エチル　４−クロロ−３−ニトロベンゾア
ートの合成 ６ｇの４−クロロ−３−二トロ安患香酸と１７揃１のメ
タノールを混合し室温で攪はんした。これに濃硫酸０．
６ｓｌを加えて、４時間還流した。反応終了後冷却し水
を１７ｍ１加え結晶をろ取した。

収量６．０ｇ、収率９３．５％、 ステップ２５−ｔ−ブチル−２−（４−エトキシカルボ
ニル−２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−
３−オンの合成 ４１３．３ｇのエチル　４−クロロ−３−二トロベンゾ
アート、３０５ｇの５−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシイ
ソオキサゾール、１１のジメチルスルホキシドを混合し
攪はんした。これに３００ｇの重曹を加え９０℃で８時
間反応した。つぎに冷却し１．５１のメタノールを加え
さらに水３１を加えて結晶を析出させ結晶をろ取した。

収量５６０．７ｇ、収率９３．２％、 ステップ３５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−（
４−カルボキシ−２−ニトロフェニル）−４−イソオキ
サゾリン−３ニオンの合成３００．９ｇの５−ｔ−ブチ
ル−２−（４−エトキシカルボニル−２−ニトロフェニ
ル）−４−イソオキサゾリン−３−オン、１９１．１ｇ
のバラホルムアルデヒド、１９１．１ｇの塩化亜鉛、９
１０＋ｗｌの酢酸を混合し塩化水素ガスを吹き込みなが
らスチームバス上で４時間反応した。つぎに水５００ｍ
１を加え２時間反応した。つぎに濃塩酸５００ｍ１を加
えさらに３時間加熱した。この後に加熱を止め室温まで
冷却した。析出した結晶をろ取し水洗したのち乾燥した
。

収量３１９．３ｇ、収率９６％、 ステップ４５−１−ブチル−４−クロロメチル２−（４
−ｎ−ヘキサデシルカルバモイル−２−ニトロフェニル
）−４−イソオキサゾリン−３−オンの合成 ８１．６ｇの５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−
（４−カルボキシ−２−ニトロフェニル）−４−イソオ
キサゾリン−３−オンと４８０ａ＋１の酢酸エチルを混
合し一１５℃に冷却した。この懸濁液にトリエチルアミ
ン３２．６ｓｌを滴下した。

つぎに−１Ｏ℃以下に保ちながらエチルクロロカーボナ
ー）２２．０ｓ＋１を滴下した。５０分間反応したのち
ヘキサデシルアミン４９ｇを添加した。

−１０℃で１０分間反応したのち徐々に室温とし一夜放
置した。つぎに水４００ｍ１をくわえて分液し有機層を
取り濃縮乾固した。残さをメタノールより結晶化させた
。

収量１００．９ｇ、収率７５．９％、 ステップ５５−ｔ−ブチル−４−（４−アミノフェノキ
シメチル）−２−（４−ｎ−ヘキサデジルカルバモイル
−２−ニトロフェニル）−４−インオキサゾリン−３−
オンの合成 ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−（４−ｎ−ヘ
キサデシルカルバモイル−２−ニトロフェニル）−４−
イソオキサゾリン−３−オン５゜８ｇ、炭酸カリウム１
．４ｇ、アセトン４０ｍ１を混合し、０．４ｇのよう化
ナトリウム、０．　４ｍｌのポリエチレングリコールを
添加した。これに４−アセチルアミノフェノール１．７
ｇを加え５時間加熱還流した。反応終了後稀塩酸水を加
えて晶析し結晶をろ取した。この結晶を取り出しエタノ
ール４０ｍ１．濃塩酸２０ｍ１を加えて４時間加熱還流
した。冷却後攪はんすると結晶が析出した。この結晶を
ろ取し、アセトニトリル、アセトンで洗浄した。

収量５．５ｇ、収率７９．４％、融点２２０℃以上 ステップ６　化合物例１−１２の合成 ５−ｔ−ブチル−４−（４−アミノフェノキシメチル）
−２−（４−ｎ−ヘキサデシルカルバモイル−２−ニト
ロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オン塩酸塩
１５０ｇと７５０ｍ１のジメチルアセトアミド、化合物
（ｂ）１４４．８ｇを混合し２０℃以下に保ちながらピ
リジン５１ｍ１を滴下した。室温で２時間攪はんしたの
ち、メタノール１５００ｍｌを添加した。攪拌を続けな
がら、１０ｆ）ＩＩｌｌの水をゆっくりと滴下すると結
晶が析出した。結晶をろ取し、メタノールで洗浄後乾燥
し目的物を得た。

収量１９８ｇ、収率７０，２χ、融点１８０〜１８３℃
合成例５ 具体的化合物例３−１５の合成 ステップＩ　Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシル−３−ニト
ロ−４−クロロベンゼンスルホンアミドの合成 １００ｇの４−クロロ−３−二トロベンゼンスルホニル
クロリドを３００ｍ１のクロロホルムに溶解し、０℃に
冷却した。これにメチルオクタデシルアミン８４．３ｇ
のクロロホルム溶液を滴下した。ついで、トリエチルア
ミン３９．５ｇを０℃−１０℃に保ちながら滴下した。

滴下終了後１時間反応した後溶媒を留去しメタノール５
００ｍ１を加え加熱溶解し放冷し析出した結晶をろ取し
た。

収量１０９　ｇ　、収率７１．２％、融点８６−８７℃
ステップ２５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ
−オクタデシルスルファモイル−２−二トロフェニル）
−４−イソオキサゾリン−３−オンの合成 Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシル−３−ニトロ−４−クロ
ロベンゼンスルホンアミ）’６００ｇ、５−ｔ−ブチル
ー３−ヒドロキシイソオキサゾール２０２ｇ、炭（ｆｉ
カリウム２００　ｇ、ジメチルスルホキシド１．８１を
混合し６５℃で６時間反応した。反応液を氷水に注ぎ析
出した結晶をろ取し、水洗後乾燥した。

収量７０９ｇ、収率９８％、融点６Ｂ−６９°Ｃステッ
プ３５−も−ブチル−４−クロロメチル−２−（４−Ｎ
−メチル−Ｎ−オクタデシルスルファモイル−２−二ト
ロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オンの合成 ５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデ
シルスルファモイル−２−二トロフェニル）−４−イソ
オキサゾリン−３−オン６５０　ｇ。

塩化亜鉛２００　ｇ、パラホルムアルデヒド２００ｇ、
酢酸３．０１を混合し、塩化水素ガスを吹き込みながら
１０時間加熱還流した。冷却後、反応液を水にあけ、析
出した結晶をろ取し、アセトニトリル−メタノール（１
：４Ｈ１ｕ合溶媒より再結晶した。

収量５７９ｇ、収率８２．４％、融点５５−５６　’Ｃ ステップ４ ５−１−ブチル−４−（Ｎ−エチル−Ｎ−（４−ホルミ
ル−３−メチルフェニル）アミノアセトキシメチルｌ　
−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルスルファモ
イル−２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−
３−オンの合成５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２
−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルスルファモイル
−２−二トロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−
オン６．２ｇを７０ｍ１のジメチルスルホキシドに溶解
し、これに４−（Ｎ−メチル−Ｎ−カルボキシメチルア
ミノ）−２−メチルベンツアルデヒド２．７ｇ、炭酸カ
リウム１．７ｇ、よう化ナトリウム０．４ｇを混合し、
６時間室温で反応７した０反応液に水を加え酢酸エチル
で抽出した。

有機層を２回水洗したのち減圧上溶媒を留去した。

残さをメタノールと少量のア七ト二トリルより再結晶し
目的物を得た。

収量７．２ｇ、収率８５．８％ ステップ５　具体的化合物例３−１５の合成５−ｔ−ブ
チル−４−（Ｎ−エチル−Ｎ−（４−ホルミル−３−メ
チルフェニル）アミノアセトキシメチル）　−２−（４
−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルスルファモイル−２−
ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オン５
．５ｇをメタノール１００ｍ１を１昆合し、これに３−
シアノアセトアミドベンゼンスルホン酸　カリウム塩２
゜２ｇ、酢酸アンモニウム０．７ｇを加えて３時間加熱
還流した。反応後冷却し溶媒を減圧留去した。

残すヲクロロホルムーメタノールの溶媒系でシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製した。

収１４．０ｇ、収率５６．２％、λｌｌ１ａｘ（ＣＨＣ
ｌ　ｓ）４２５、　８昆ｍ、　　ｇＩｌｌａｗ（ＣＨＣ
Ｉ！、ｚ）３．　７３　Ｘ　１０’本発明の輻射線感応
性材料は、前記一般式（ｒ）で表わされる化合物及び該
化合物と酸化還元カップルを形成しうる光還元剤を含有
する。

本発明においては前記一般式（１）の化合物と光還元剤
を広い範囲で用いることができる。例えば本発明の一般
式（１）の化合物１モルに対して光還元剤を０．０５モ
ル〜５０モル、特に０．　１〜１０モルの範囲で使用す
ることができる。

次に本発明の用いる光還元剤について説明する。

本発明において光還元剤とは、分子の光分解または光誘
発転位によって還元剤（このものは本発明で一般式（１
）の化合物と酸化還元カップルを生ずる）を生ずる物質
をいう、この還元剤は光照射後瞬間的に、または加熱す
ると一般式（１）の化合物を還元する。

光還元剤は多くのものがあるが、特開昭５０−１３９７
２２号明細書に示されている光還元剤は本発明に適用し
うる。

具体的にはジスルフィド、ジアゾアントロン、ジアゾフ
エナントロン、芳香族カルバジド、芳香族アジド、ジア
ゾニウム塩、芳香族スルホネート、キノン等である。

キノンを例にとってより詳しく説明する。

キノンは本発明の光還元剤として有効である。

好ましいキノンにはオルト−およびパラ−ベンゾキノン
およびオルト−およびパラ−ナフトキノン、フェナント
レンキノンおよびアントラキノンが包含される。これら
のキノンは、その対応する還元剤の転喚を妨げない任意
の置換基または数種の置換基で置換されていてもよく、
または置換基がなくてもよい、各種の置換基が知られて
おり、これらの置換基には次のものが包含されるが、こ
れらに限定されない。第１、第２および第３アルキル、
アルケニル、およびアルキニル、アリール、アルコキシ
、アリールオキシ、アルコキシ、アルキルアリールオキ
シ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルコキシ、アル
コキシアルキル、アルコキシアルキル、アリールオキシ
アルキル、アロイルオキシアルキル、アリールオキシア
ルキシ、アルキルカルボニル、カルボニル、第１および
第２アミノ、アミノアルキル、アミドアルキル、アニリ
ノ、ピペリジノ、ピロリジノ、モルホリノ、ニトロ、ハ
ライドおよびその他の同！２換基。このような了り−ル
置換基は好ましくはフェニル置換基であり、このような
アルキル、アルケニルおよびアルキニル置換基は、単独
の置換基で存在していてもまたはその他の原子、代表的
には２０（好ましくは６）またはそれ以下の炭素原子と
組み合わせて存在していてもよい。

活性水素原子の別の供給源と組み合わせて用いられる特
定の代表的なキノンを第１表に示す。

策土人 １−１２．５−ジメチル−１，４−ベンゾキノン １−２２．６−シメチルー１，４−ベンゾキノン １−３　　ジュロキノン １−４　２−（１−ホルミル−１−メチルエチル−５−
メチル−１．４−ベンゾキノン １−５　　２−（２−シクロヘキサノイル）−３。

６−シメチルー１，４−ベンゾキノン １−６１．４ーナフトキノン ■−７　２−メチル−１．４−ナフトキノン１−８２．
３−ジメチル−１．４−ナフトキノン １−９２．３−ジグコロ−１．４ーナフトキノン 、１−１０２−チオメチル−１，４−ナフトキノン１−
１１　　２−（１−ホルミル−２−プロピル）−１、４
−ナフトキノン １−１２　　２−（２−ベンゾイルエチル）−１．４−
フトキノン １−１３　　９．１０−フェナントレンキノン１−１４
　　２−ｔ−ブチル−９，１０−アントラキノン ！ー１５２ーメチルー１，４ーアントラキノン１−１６
２−メチル−９，１０−アントラキノン好ましい頚に属
する光還元剤は、内部に水素供給源を有するキノン類、
すなわち、活性水素原子を有するキノン類である。この
ようなキノンは、活性水素原子を内部に有していないキ
ノンに（らべて、非常に容易に光還元されやすい。活性
水素原子のないキノンを、外部からの水素原子の供給源
と組み合わせて用いたときでも、また内部に水素供給源
を有するキノンを外部からの水素凍化合物を与えずに同
様に用いたときでも、内部水素源キノンはきわめて容易
な光還元性を示し続ける。

内部水素源キノンを外部水素源化合物と共に用いたとき
は、−ＩＣに光還元がさらに容易になる。しかしながら
、外部水素源化合物を用いないときは、内部水素源キノ
ンの効果は小さい。

光還元性のきわめて容易なキノンを用いると、同しよう
な露光に対しては写真要素の画像濃度が改良され、さら
に露光時間が短くとも同じような画像濃度を生じる。従
って、内部水素源キノンを用いると写真スピードを大き
くしたりおよび／または画像濃度を大きくすることがで
きる。

特に好ましい内部水素源キノンは、環の５および８のい
ずれかに少なくとも１５個の水素原子を有する５，８−
ジヒドロ−１．４−ナフトキノンである．その他の好ま
しい内部水素源キノンは、炭素原子に結合している水素
原子（但し、炭素原子はオキシ置換基の酸素原子にも結
合している）またはアミン置換基の窒素原子に結合して
いる水素原子を有し、さらに炭素と水素との結合が少な
くとも１個のキノンカルポニルニ重結合から離れた８番
目または４番目の結合にあるキノンである。

「アミン置換基」には、アミドとイミンの各置換基が含
まれる。二置換アミン置換基が好ましい。

縮合環が内部水素源キノンに存在していてもよい。

例えばｌ，４゛−ジヒドロ−アントラキノンは内部水素
源キノンとして有用な５，８−ジヒドロ−１。

４−ナフトキノンの一部を有する。内部水素源キノンの
アリールｉＩ！ＪＡ基および置換部分は、好ましくはフ
ェニルまたはフェニレンであり、一方、脂肪族炭化水素
の置換基または置換部分は、好ましくは２０個またはそ
れ以下の炭素原子、最も好ましくは６個またはそれ以下
の炭素原子を有する。

代表的な好ましい内部水素源キノンは第■表に記載され
るものである。

第■表 ・　、な　　　　゛キノン １１−１５．８−ジヒドロ−１，４−ナフＩ・キノンＩ
Ｉ−２５．８−ジヒドロ−２．５．８−４リメチル−１
．　　４−ナフトキノン Ｕ−３２．５−ビス（ジメチルアミノ）−１。

４−ベンゾキノン ｎ−４２．５−ジメチル−３，６ービス（ジメチルアミ
ノ）−１．４−ペンゾキノン Ｉｔ−５２−（１−アセトキシエチル）−５−メチル−
１，４−ベンゾキノン １１−６　２−（１−メトキシエチル）−５−メチル１
．４−ベンゾキノン ｎ−７２−（２−メトキシエトキシ）−１，４−ナフト
キノン ■−８２−（２−エトキシエトキシ）−１，４−ナフト
キノン Ｉｆ−９２−（２−フェノキシ）−エトキシ−１゜４−
ナフトキノン ｎ−１０２−エトキシ−５−メトキシ−１，４−ナフト
キノン ■−１１２−エトキシ−６−メトキシ−１，４−ナフト
キノン ｌｌ−１２２−エトキシ−７−メトキシ−１，４−ナフ
トキノン ■−１３２−ジメチルアミノ−１，４−ナフトキノンｎ
−１４２−メトキシ−１，４−ナフトキノンｌｌ−１５
２−ベンゾイルオキシ−１，４−ナフトキノン ｎ−１６２−メトキシ−３−クロロ−１，４−ナフトキ
ノン Ｉｔ−１７２，３−ジメトキシ−１，４−ナフトキノン Ｕ−１８２−ｎ−プロポキシ−１，４−ナフトキノン ｌｌ−１９２−（３−ヒドロキシプロポキシ）−１゜４
−ナフトキノン ■−２０２−イソプロポキシ−１，４−ナフトキノン ■−２１７−メドキシー２−イソプロポキシ−１゜４−
ナフトキノン ｎ−２２２−ｎ−ブトキシ−１，４−ナフトキノン Ｕ　　２３　２−ｓｅｃ−ブトキシ−１，４−ナフトキ
ノン Ｕ−２４２−メチル−５−モルホリノメチル−１゜４−
ベンゾキノン Ｉｔ−２５２，３，５−）ジメチル−６一モルホリノメ
チル−１，４−ベンゾキノン ｌｌ−２６２，５−ビス（モルホリノ、メチル）−１、
−ベンゾキノン Ｉｔ−２７２−（３−メチル−ｎ−ブトキシ）−１゜４
−ナフトキノン Ｉｔ−２８２−＜６−ヒドロキシ−ｎ−ヘキソキシ）−
１，４−ナフトキノン ｎ−２９２−エトキシ−３−クロロ−１，４−ナフトキ
ノン ｌｌ−３０２−ジ（フェニル）メトキシ−１，４−ナフ
トキノン ｌｌ−３１２−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−クロ
ロ−１，４−ナフトキノン ｎ−３２２−メチル−３−（１−ヒドロキシメチル）エ
チル−１，４−ナフトキノン ｌｌ−３３２−プロモー３−イソプロポキシ−１゜４−
ナフトキノン ｎ−３４２−エトキシ−３−メチル−１，４−ナフトキ
ノン ｌｔ−３５２−クロロ−３−ピペリジノ−１，４−ナフ
トキノン Ｉｆ−３６２−イソプロポキシ−１，４−ナフトキノン
−３，６−ジスルホン酸ナトリウム上に示したような光
還元剤は、活性輻射線に露光した際に、一般式〔Ｉ〕で
示す化合物と酸化還元カップルをつくる。しかしその反
応の仕方とメカニズムには幾分の相違がある。

活性輻射線に露光した際に、多くの光還元剤は−Ｓ式（
１）の化合物と迅速に反応する。キノン光還元剤のある
種のものは、この反応特性を示す。

光還元剤のその他のものも露光した際に酸化還元カップ
ルをつくるが、−Ｓ式（１）の化合物を還元するには、
長時間を要する。多くの場合に、露光した光還元剤と一
般式（１）の化合物からつくられる酸化還元カップルを
加熱して、反応をちょうど良い時期に終らせるようにす
ることが望ましい、最適の加熱温度は、存在している光
還元剤、一般式（１）の化合物、その他の物質および所
望の写真スピードの特定の選択によりかなり異なるが、
代表的には、８０’Ｃないし１５０°Ｃの温度範囲で酸
化還元カップルを加熱するのが好ましい。

次に本発明に用いる光還元剤アジュバン）　（ａｄｊｕ
−ｖａｒ＋Ｌ）について説明する。

本発明に用いられる光還元剤はその対応する還元剤に変
える過程で、その分子中の原子の位置が移動したり、ま
たは原子数が変化する。内部水素源キノンは、その対応
する還元剤への変換を許すことを、この分子に初めから
存在している原子に完全に依存する代表的な光還元剤で
ある。その他の光還元剤では、その対応する還元剤への
変換には、還元剤の形成を可能にするのに必要な原子を
与えるアジュバントを光還元剤と一緒に存在させる必要
がある。例えば、内部水素源のないキノンにおいては、
水素原子の外部供給源としての働きを行ないうるアジュ
バントと一緒に用いる必要がある。光還元剤を還元剤に
変えるのを促進させるには、還元剤への変換に不可欠な
原子が光還元剤中の存在する場合でもまた存在しない場
合でも、光還元剤をアジュバント、例えば代部水素源と
一緒に用いるとよいことが判った。

アジュバントとして用いられるものは、写真要素に含ま
れている成分またはこれらの反応生成物と反応しない。

活性水素原子を与える公知の任意の化合物である。使用
に適しているものは、水素原子が炭素原子に結合してお
り、置換基もまたこの炭素原子に結合しており、炭素と
水素との結合が非常に弱く、そのため水素原子が活性に
なりゃすいを機化合物である。好ましい水素源化合物は
、水素原子が炭素原子に結合しており、この炭素原子が
、またオキシ置換基の酸素原子および／またはアミン置
換基の三価の窒素原子に結合している化合物である。こ
こで用いられる「アミン置換基」にはアミドとイミンの
各置換基が包含される。通常の炭素原子に結合した水素
原子で、きわだっ高活性を与える代表的な好ましい置換
基は、オキシ置換基、例えばヒドロキシ、アルコキシ、
了り−ルオキシ、アルキルアリールオキシおよびアルア
ルコキシの各置換基およびアミノ置換基、例えばアルキ
ルアリールアミノ、ジアリールアミノ、アミド、Ｎ、Ｎ
−ビス（１−シアノアルキル）アミノ、Ｎ−アリール−
Ｎ−（１−シアノアルキル）アミノ、Ｎ−アルキル−Ｎ
−（１−シアノアルキル）アミノ、Ｎ、Ｎ−ビス−（１
−カルブアルコキシアルキル）アミノ、Ｎ−アリール−
Ｎ−（１−カルブアルコキシアルキル）アミノ、Ｎ−ア
ルキル−Ｎ−（１−カルブアルコキシアルキル）アミン
、Ｎ、Ｎ−ビス−（１−ニトロアルキル）アミノ、Ｎ−
アルキル−Ｎ−（１−ニトロアルキル）アミノ、Ｎ−ア
リール−Ｎ−（１−ニトロアルキル）アミノ、Ｎ、Ｎ−
ビス（１−アシルアルキル）アミン、Ｎ−アルキル−Ｎ
−（１−アシルアルキル）アミノ、Ｎ−アリール−Ｎ−
（１−アシルアルキル）アミン等である。アリール置換
基およびこの置換基部分は、好ましくは、フェニルまた
はフェニレンであり、一方、脂肪族炭化水素置換基およ
び置換基部分は、好ましくは、２０個またはそれ以下の
炭素原子および最も好ましくは６個またはそれ以下の炭
素原子を有している。活性水素原子を容易に与える代表
的な化合物で本発明に用いられるものは、次に示される
。活性水素原子を与えるのに有用な公知の化合物は米国
特許第３゜３８３．２１２号にも開示されている。

第ｍ表 艮釦ソａ組鉢ＬＬが与 ポリ　（エチレングリコール） １１１−１　　カルボキシメチルセルロースＩ［＋−２
ポリ　（ビニルホルマル） Ｉ［１−３フェニル−１，２−エタンジオール［［［−
４ニトリロトリアセトニトリル■−５トリエチルニトリ
ロトリアセテートｌ１１−６　　ポリ　（エチレングリ
コール）Ｉ［１−７ポリ　（ビニルブチラール）１［１
−８ポリ　（ビニルアセタール）Ｉ［１−９１，４−ヘ
ンゼンジメタノール■−１０メチルセルロース Ｉ［［−１１セルロースアセテートブチレートＩ［１−
１２２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸 ｌｌｌ−１３１，３−ビス（ヒドロキシメチル）尿素ｍ
−１４４−ニトロベンジルアルコールｌｌｌ−１５４−
メトキシヘンジルアルコールｌ−１６２，４−ジメトキ
シヘンシルアルコールＩ［１−１７３，４−ジクロコフ
ェニルグリコール１１１−１８Ｎ−（ヒドロキシメチル
）ヘンズアミド［［１−１９Ｎ−（ヒドロキシメチル）
フタルイミド１［［−２０５−（ヒドロキシメチル）−
ウラシルヘミハイドレート ■−２１ニトリロトリ酢酸 ＩＩ＋−２２２，２’、　　２’−）リエチルニトリロ
トリブロピオネート ｍ−２３２，２’、２”−ニトリロトリアセトフエノン ■−２４ポリ　（ビニルアセテート） ■−２５ポリ　（ビニルアルコール） ■−２６エチルセルロース 本発明の写真要素内に添加される外部水素源アジュバン
トは、実際には複数の作用を行なう。例えば、上に記載
されたポリマーはバインダーとして、更には活性水素原
子源を与える化合物として用いられる。これらの化合物
は、外部水素源化合物として意図されており、活性水素
原子が光還元剤に入っていないという点を強調している
にすぎないものである。

本発明の輻射線感応性組成物は、一般式（１）の化合物
と光還元剤と組み合わせて通常は、所定の溶媒にて溶解
し、これを塗設して膜として用いるが、この際、各種樹
脂等のバインダー成分を用いてもよい。また、膜中には
、その用途に応じ、塩基もしくは酸あるいはその前駆体
、分散用助剤（高沸点オイル、界面活性剤など）等を添
加してもよい。

この他、成型体としたり、あるいは溶液系で用いたりす
ることもできる。

本発明の一般式（＋）で表わされる化合物を含有する放
射綿惑応性組成物は、前記した■〜［相］の例に示すよ
うに、種々の画像形成方法やエツチング、メツキ等に適
用できる。

■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、輻射線の照射によって、適宜、目的に
応じて種々の機能を発現することが可能な輻射線感応性
組成物が得られる。

■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

側Ｕ片上 ポリエチレンテレフタレート支持体上に次の順に各層を
塗布して試料１を作製した。

（１）ゼラチン３．　０ｇＩｎ（、下記重合体ラテック
ス媒染剤を３．０ｇ／ｒｄを含有する媒染層。

（２）ヒドロキシエチルセルロース０．　５ｇＩｎ（ヲ
含む層。

（３）化合物１−２を１．０ｇＩｎ（、光還元剤として
（１−１４）　　１．　５ｇ／ｒｒ＋、トリシクロへキ
シルホスフェート０．０５ｇ／ｒｒｒ、ゼラチン２．　
０ｇ１０ｆを含む層。

次に５００Ｗキセノンランプを光源として、連続階調の
つｘ　７ジを通して、試料ｌに２分間光照射（露光）し
たのち、６０°Ｃ９０％ＲＨの条件下に３０分間保存し
た。この試料の塗布面側にカッターナイフで１本の切れ
目を入れたあと、粘着テープを均一に貼りつけて、次に
このテープを引きはがすと、層（３）の色材を含む層は
テープ側にもって行かれ、支持体側には層（１）の媒染
層が残っており、この媒染層にマゼンタ色の陰画（光量
が大きいところで高濃度で光量が少ないところでは低濃
度）がきれいに出来ていた。

この色像の透過濃度を測ったところ、Ｄｍａｘ＝２．Ｏ
Ｄｍｉｎ＝０．０８であった。

ｌｆｔ１Ｊ汁１ 実施例１の試料ｌに対して、層（２）を除いて、層（３
）にゼラチンの代わりにヒドロキシエチルセルロース２
．　０ｇ／ｒｒｆを用いて試料２を作製した。

解像力テスト用の微細パターンを通して露光したほかは
実施例１と同様に処理したところ、支持体上に残った層
（１）には非常にシャープな像が得られた。

この像を＝ｎｉ鏡で観察すると線中５μの微細な線もシ
ャープに見えた。

天１韮」− ポリエチレン支持体上に、次の層を塗布して試料３を作
製した。

ｌ）化合物１−３を１．０ｇ／ｒｒｒ、光還元剤として
（■−３６）１．５ｇ／ｎ（、トリシクロへキシルホス
フェート０．　０５ｇ／ｎ？、ゼラチン２．０ｇ／ｍを
含む層。

２）　ゼラチン０．　５ｇ／ｎ（、硬膜剤としてトリア
クリロイルトリアジン（０，０２ｇ／ｒｒｒ）を含む保
ＡＩ層。

実施例１と同様にして露光した後、ｐＨ１０，０の糧衝
’／（１（Ｂｒｉｔｔｏｎ−Ｒｏｂｉｎｓｏｎ’ｓ）に
１０分間浸漬し、次に３０秒間水洗した後、自然乾燥し
た。

この試料は黄色の陽画（光量多いところが低濃度）が出
来ていた。

光反応で放出した色素は緩衝液中で溶出し、光量が少な
いところは光反応せずに色素放出しない色材のまま残っ
たためである。

人旌炭↓ 下塗りを施したポリエチレンテレフタレートフィルム（
厚さ１００μｍ）に、次の塗布液を塗布して温風乾燥し
た乾燥膜厚４．０μｍの膜を作成した（試料Ａ）。

ゼラチン　　　　　　　　　　　　　２．５ｇ本発明の
化合物１−１４１．８ｇ 光還元剤（Ｕ−３６）　　　　　　　　１．８ｇムコク
ロル酸（１％水溶液）　　　　　　３ｍｌ水　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０ｍＮ紙の両
面を厚さ８０μｍのポリエチレンを設け、表面をコロナ
処理で親水化した支持体に、ポリ（アクリル酸メチルー
コーＮ、Ｎ、Ｎ−）ジメチル−Ｎ−ビニルヘンシルアン
モニウムクロライド（アクリル酸メチルとビニルヘンシ
ルアンモニウムクロライドの比率は１：１）の共重合体
を塗布し、乾燥膜厚３．０μｍの膜を作成した（試料Ｂ
）。

試料Ａを像状に高圧水銀灯で７０秒露光したのち、水に
湿らせて、試料Ｂと密着させ６０秒放胃した。試料Ａと
試料Ｂとをはがすと試料Ａの露光部に対応して試料Ｂに
マゼンタの色素像が形成ささ、試料への露光部は未露光
部に比較して濃度１／６以下になった。

実苅３限 下塗りを施したポリエチレンテレフタレートフィルム（
厚さ１００μ＋１１）に、本発明の化合物１−２１を０
．１ｇ、光還元剤（［−１４）を０゜０８ポリビニルブ
チラール樹脂０．２ｇをエチルアルコール５ｍｌに溶解
した塗布液をロッドバーで塗布し、乾燥厚さ３．４μｍ
の膜を作った（試料Ｃ）。一方別の下塗りを施したポリ
エチレンテレフタレートフィルム（厚さ２０μ慨）に、
スチレンとトリへキシルアミノメチルスチレンのモル比
５０　：　５０の共重合体を含む塗布液を乾燥厚さ３０
μｍに塗設した（試料Ｄ）。

試料Ｃを、キセノンランプで７０秒像状露光したのら、
１００℃に１２秒加熱し、試料Ｃと試料りとをはがした
。試料りには試料Ｃの露光部に対応したイエロー色素像
が形成され、試料Ｃの露光部は未露光部に比較して濃度
が１７１０以上になった。

１施１− シリコウェファ−上に、二酸化けい素をＣＶＤ法により
４００人厚定設けた。これに本発明の化合物５−６　０
．５ｇ、光還元剤（Ｉ＋−２０）を０．４ｇアルコール
可溶性ポリビニルブチレート０．３ｇをエチルアルコー
ル 液に溶かしスピンナーで塗布し、乾燥後１５０Ｗの高圧
水銀灯を１０分間マスクを通して露光した。

その後エチルアルコールｌ　Ｑｍｆｆに塩酸１ｍβを加
えた溶液で塗膜を溶解すると光照射した部分の二酸化け
い素はエツチングされていた。

ス差貰ユ ポリビニルブチラール１ｇをエチルアルコール７ｍｌお
よび酢酸エチル３ｍｌに７容解し、これに本発明の化合
物６−２を０．７ｇと光還元剤（Ｉ−１３）０．６ｇを
溶解して塗布液（１１）を作った。

ガラス基板に塩化ニッケル０．１ｇとポリビニルホルマ
ール樹脂０．５ｇをジメチルホルムアミトに溶解した溶
液を乾燥厚さ２μｍに塗設した。

これに上記の塗布液をスピンナーで塗布した（乾燥膜厚
２μｍ）。濃度マスクを透してキセノン光を４０秒間照
射したのち、上層のみを溶解除去し、さらに銀の無電解
メツキ浴に浸したところ、露光部のみに銀が沈積した。

露光ぶてはニッケルの含有硫黄化合物が生じ、メッキ核
となったものと思われる。

大旋涜Ｉ ＡＢＳ樹脂の板を粗面化液に１０分浸漬し、次いで二塩
化スズ３０ｇ／Ｉｔと塩９２　Ｑ　ｍ　Ｉ　／　Ｉ含む
触媒付与液に１分間浸し、さらに塩化パラジウム０．２
５ｇ／７１と塩酸４　ｍ　１　／　１を含む活性化液に
９０秒浸し、ＡＢＳ樹脂の表面部分に金属パラジウムを
析出させた。この仮に本発明の化合物６−９０．８ｇと
光還元剤Ｎ−１３）１．２ｇをポリビニルピロリドン４
％エチルアルコール溶液１０ｍ１に？容かした溶液をス
ピンナーで塗布した。

塗布膜は完全には乾燥しなかったが、殆んど固体の皮膜
を形成した。これに引伸し露光によって、水銀灯のｇ線
を３分間照射したのち、塗膜を温湯で除去した。次いで
市販の無電解銅メツキ浴に室温で９０秒浸漬させると未
露光部は銅メ・２キされた。これより露光部ではパラジ
ウムは失活しているものと見られる。

１詣■■ 本発明の化合物１０−１１．０ｇと、光還元剤（■−２
０）Ｏ，ａｇとをトルエン１ｍｌおよびメチルセロソル
ブ３ｍｍ１に溶解して塗布液を作った。シリコーンウェ
ファ−に二酸化けい素を８００人真空蒸着した基板をヘ
キサメチンジシラザンで前処理し、これに上記塗布液を
スピンコードし、乾燥膜厚１．０μｍのホトレジスト皮
膜を作った。これをホントプレート上にのせて、９０℃
３０秒プリベークした後、プロキシミティーテストパタ
ーンマスクを通して超高圧水銀灯を備えたキャノンＰＬ
Ａ−５２０を用いて１２秒露光した。

さらにポストベークとして１４０℃、５０秒加熱した。

次いでテトラエチルアンモニウムハイドロオキサイドを
含むアルカリ性の現像薬で３０秒現像したところ、１．
５μｍのラインアンドスペースが解像しうるパターンが
得られた。

災施開土■ 下塗り済のポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ
１００μｍ）に次の塗布液を塗布し、温風乾燥して乾燥
膜厚２．５μｍの黄色の膜を作成した。

ポリビニルブチラール　　　　　　　１．Ｏｇ本発明の
化合物　２−１２　　　　　１．２μｍ−ブチルベンゾ
フェノン　　　　　１．０ｇエチルアルコール　　　　
　　　　　９．０ｍｊブチルアルコール　　　　　　　
　　１．０ｍｌ別にポリエチレンテレフタレートフィル
ム（厚さ２０μｌ１１）にポリビニルブチラール１．０
ｇに塩化ニッケル０．６ｇ、エチルアルコール８ｍｌの
液を塗布して膜厚３．０μｍの受像シートを作った。

本発明の化合物を含む厚さ１００μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルムを透してＩＫＷキセノンランプで
像状に５０秒露光し、次いでフィルムと受像シートを密
着させて１５０　’Ｃ１１２秒加熱したのち、受像シー
トを剥した。

受像シー）には露光部に対応してマゼンタ色の画像が形
成され、その色の極大吸収波長は５３０ｎｍ、光学濃度
はマクベス濃度計グレイフィルターをつけて測定すると
０．９５であった。

特許出願人　富士写真フィルム株式会社／

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 下記一般式〔 I 〕で表わされる化合物及び該化合物と
   酸化還元カップルを形成しうる光還元剤を含むことを特
   徴とする輻射線感応性組成物。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上記一般式（ I ）において、Ｎは窒素原子を表わし
   、Ｘは酸素原子（−Ｏ−）、イオウ原子（−Ｓ−）、ま
   たは窒素原子を含む基▲数式、化学式、表等があります
   ▼を表わす。 Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は、それぞれ、単
   なる結合手、置換もしくは非置換のアルキル基、アリー
   ル基、複素環基もしくはアシル基、または置換もしくは
   非置換のアルキル基もしくはアリール基を導入したスル
   ホニル基を表わす。ここで、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾
   ３のうちの少なくとも１つは置換もしくは非置換のアリ
   ール基もしくは複素環基を表わす。Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ
   ＾３およびＲ＾４は互いに結合して環を形成してもよい
   。 ＵＧは、輻射線を照射された光還元剤との酸化還元カッ
   プル形成により生ずるＮ−Ｘ結合の開裂をひきがねとし
   て放出される基を表わす。 また、実線は結合を、破線はそのうちの少なくとも１つ
   が結合していることを表わす。）