JPH0434552A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

Info

Publication number
JPH0434552A
JPH0434552A JP2142947A JP14294790A JPH0434552A JP H0434552 A JPH0434552 A JP H0434552A JP 2142947 A JP2142947 A JP 2142947A JP 14294790 A JP14294790 A JP 14294790A JP H0434552 A JPH0434552 A JP H0434552A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diazonium salt
arom
light
acid
dyes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2142947A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2627571B2 (ja
Inventor
Koichi Kawamura
浩一 川村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2142947A priority Critical patent/JP2627571B2/ja
Priority to US07/705,360 priority patent/US5310618A/en
Priority to DE4117962A priority patent/DE4117962A1/de
Publication of JPH0434552A publication Critical patent/JPH0434552A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2627571B2 publication Critical patent/JP2627571B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D335/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D335/04Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D335/10Dibenzothiopyrans; Hydrogenated dibenzothiopyrans
    • C07D335/12Thioxanthenes
    • C07D335/14Thioxanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
    • C07D335/16Oxygen atoms, e.g. thioxanthones
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/0091Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes having only one heterocyclic ring at one end of the methine chain, e.g. hemicyamines, hemioxonol
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/10The polymethine chain containing an even number of >CH- groups
    • C09B23/102The polymethine chain containing an even number of >CH- groups two heterocyclic rings linked carbon-to-carbon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/10Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、紫外域から可視光域にわたる広い波長域にお
いて分光増感され、かつ高感度の、新規な芳香族ジアゾ
ニウム化合物を含有する感光性組成物に関する。
[従来技術] 従来芳香族ジアゾニウム化合物は種々の感光性組成物に
用いられて来た。たとえばその光分解性を利用してカン
ブリング剤と組み合わせて染料画像形成に、またそのモ
ノマーもしくはバインダーとの光架橋性あるいは光子溶
性を利用して印刷版、ブルーフマスクフィルムおよびレ
ジストの分野で広く用いられている。このような感光性
組成物への適用はJ、Koser著” Light 5
ensitive SystemsJohn Wile
y & 5ons Inc、 (1965)およびA。
Re1ser著″Photoreactive Pol
ymers ” John Wiley& 5ons 
Inc、  (1989)に述べられている。
しかしながら、芳香族ジアゾニウム化合物を用いた感光
性組成物において、高感度でかつ紫外域から可視波長域
に感光する決定的な系は未だ提案されていない。
上記感光性組成物においては、使用される光分解性芳香
族ジアゾニウム化合物の光分解に必要なエネルギーは一
般に極めて大きく、その感光波長も可視の青色部までで
ある。このため、感光性組成物が使用できる範囲は低感
度かつ紫外線焼き付けの材料に止まっている。
このため、光分解性芳香族ジアゾニウム化合物の可視域
の分光増感に関しては精力的に研究が行われており、例
えばリボフラビン、ポルフィリン、クロロフィル等のあ
る特定の染料が分光増悪剤になることが知られている。
又、他の増感法としてはE、 Inoueらにより” 
Photographic 5cienceand E
ngineering ″17巻28頁および268頁
(1973年)ないし同上誌18巻25頁にメチレンブ
ルー等の増感色素と、p−トルエンスルフィン酸イオン
などの活性剤との組み合せを用いた増感系が提案されて
いる。
しかしながら、これらの従来の方法は、まだ十分な感度
が得られない、安定性が悪い、分光波長域を自由に取る
ことができない、等の欠点があり、実際に商品として使
用される段階までには至っていない。
〔発明が解決しようとする課題] したがって本発明の目的は紫外域から可視域までの光に
対して感度の高い分光増感された新規な芳香族ジアゾニ
ウム化合物を含む感光性組成物を提供することである。
[課題を解決するための手段] 芳香族ジアゾニウム化合物を効率よく分光増感するため
には、光吸収した増感色素からジアゾニウム塩へ効率よ
く光エネルギーを伝達する必要がある。光エネルギーの
伝達様式としてはエネルギー移動、電子移動の2通りの
方式があるがいづれの方式であっても伝達が効率よく進
行するためには少なくとも次の3つの条件を満たすこと
が重要であると考えられる。
1)増感色素の励起寿命が長いこと。
2)励起した色素とジアゾニウム塩との間のエネルギー
移動ルもしくは酸化還元レヘルとの関係が適切なもので
あること。
3)色素とジアゾニウム塩との分子間距離が短いこと。
第3番目の項は溶液中では分子の拡散運動による衝突が
あるためさほど問題とならないが、感光性組成物が実際
に用いられる塗膜系では拡散運動は非常に制約を受ける
ため重要な因子となる。言い換えれば色素からジアゾニ
ウム塩へ効率よくエネルギー伝達がおこるには色素とジ
アゾニウム塩はあらかじめ近い距離に存在していること
が重要である。
これらの事項はN、J、 TURRO著” Moder
n Mo1e−cular Photochemist
ry″第9章(1978)Benjamin/CuCu
mm1n Publishing Co、およびN、J
TURROrchemical Revieiv J 
 (1986) 86巻401−449頁に記載されて
いる。
またM、 A、 Fox、 M、 Chanon W 
” PhotoinducedElectron Tr
ansfer PartA(1988年)161頁から
始まる論文に記載されている。
本発明者らは芳香族ジアゾニウム塩の分光増感を効率よ
く行なわせるため上記の条件を考慮しつつ鋭意研究を重
ねた結果、ある特定の芳香族ジアゾニウム塩が紫外域か
ら可視域までの光に対して高い感度を有することを見い
出し本発明に到達したものである。
すなわち本発明は少なくとも一つの芳香族ジアゾニウム
塩部およびこの芳香族ジアゾニウム塩部の共役発色団で
はない少なくとも一つの光吸収部を同一分子内に有する
新規な芳香族ジアゾニウム塩を用いることにより達成さ
れた。
本発明の新規な芳香族ジアゾニウム塩は次の一般式(1
)で表わされる光吸収部と芳香族ジアゾニウム塩部とが
連結した化合物、もしくは一般式(n)で表わされる光
吸収部と芳香族ジアゾニウム塩部とを構成成分として含
む高分子化合物の形で表わすことができる ( S −)−rf L ’す1−廿D)ア     
  (1)式中りは芳香族ジアゾニウム塩部、Sは光吸
収部テあり、Ll 、L2 、L:IはSとDとを連結
する連結基である。ただしLl、L2、L3によりSと
Dが共役することはない。l、m、n、0、pは整数で
ある。
光吸収部として用いられる発色団としては好ましくは3
00nmより長波長側に吸収係数1000以上の吸収を
有する光吸収化合物残基であり、このような光吸収化合
物としては、従来トリクロロメチル−5−)リアジン系
光重合開始剤、及びアジニウム塩基光重合開始剤の増恣
色素として用いられて来た色素が挙げられる。
具体例としては米国特許第4481276号、同439
9211号、および同4810618号等に記載のメロ
シアニン色素、D E 3541534八号および特開
昭58−29803号等に記載のシアニン色素、米国特
許第4,845,011号記載のアクリジンオレンジな
どのアクリジン系色素、特開昭58−40302号記載
の4−(4−メトキシフェニル)−2,6ジフエニルチ
アピリリウム塩などのチアピリリウム色素、特開昭47
−13103号記載のアリーリデン色素およびスクアリ
リウムなどのオキソ炭素架橋核を有するシアニン色素、
および9.10−ジエチルアントラセン、ピレンなどの
多核芳香族化合物、エオシン、エリスロシン、フルオレ
セインなどのキサンチン系色素が挙げられ、これらはい
づれもシアニン、メロシアニン、アクリジン系色素とと
もに米国特許第4743529号、同4743530号
、同4743531号明細書に記載されている。また米
国特許第4743531号明細書およびRe5earc
h Disclosure 200巻1980年12月
Item20036に記載されているクマリン化合物も
有用である。その他アクリドン、チオキサントンなどの
へテロ芳香族化合物またミヒラーズケトン、ポリアリー
ルアミン、アミノ置換カルコンなどのアミノ芳香族化合
物、ポルフィリン色素、フタロシアニン色素などもを用
である。
これらの色素のうち特に好ましい例としてはメロシアニ
ン色素、シアニン色素、アクリジン系色素、多核芳香族
化合物、キサンチン系色素、クマリン系色素、ヘテロ芳
香族化合物および下記一般式(I[[)で下されるアリ
ーデン色素が挙げられる。
式中Rは炭素数6から20までの置換もしくは非置換の
芳香族環もしくはヘテロ芳香族環を表わす。置換基とし
てはアルキル基、アリール基の他、置換基を有していて
もよいアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、了り−ルア
ミノ、ジアリールアミノ、アルキルチオ、了り−ルオキ
シ、アルコキシ、ヒドロキシ、アシルオキシ、カルボキ
シル、カルボアルコキシ、カルボアリールオキシ、アシ
ル、スルホニル、スルホニルアミド基を挙げることがで
きる。
a I 、 c 2は互いに同一でも異なっていてもよ
く、各々水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基
、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、置換アリールオキシカルボニル基、アシル基、
置換アシル基、アリールカルボニル基、置換アリールカ
ルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、フルオロアル
キルスルホニル基を表わす。ただしG1とG2が同時に
水素原子となることはない。またcl 、G2はそれが
結合せる炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成し
ていても良い。
G1と02が、それが結合している炭素原子と共に非金
属原子から成る環を形成する場合、環としては通常メロ
シアニン色素で酸性核として用いられるもので、たとえ
ば1.3−ジエチル−2=チオバルビツル酸などのバル
ビッル酸核、3−エチルローダニンなどのローダニン核
などを例として挙げることができる。
nは0もしくは1を表わす。
ただし一般式(I[[)で表されるアリーデン色素残基
が本発明で用いられる新規な芳香族ジアゾニウム化合物
の光吸収部として用いられるためにはR,G’ 、G”
のいづれかは、芳香族ジアゾニウム塩部を連結する結合
りを形成するのに必要な官能基、たとえばカルボキシル
基、ヒドロキシル基、アミノ基、スルホニル基、イソシ
アネート基、チオイソシアネート基、チオール基などの
し1づれかを少なくとも一つ有していることが必要であ
る。
Dで表わされる芳香族ジアゾニウム塩部としてはJ、 
Kosar ”Light 5ensitive Sy
stems(1965年) John Wiley &
 5ons Inc、第6章、第7章で挙げられている
ようなジアゾニウム塩類を用いることができる。
たとえばベンゼンジアゾニウム塩、ナフタレンジアゾニ
ウム塩、ビフェニルジアゾニウム塩、アントラキノンジ
アゾニウム塩などを挙げることができる。これらのジア
ゾニウム塩はメトキシ、エトキシ、ブトキシなどのアル
コキシ基、メチルチオ、フェニルチオなどの置換チオー
ル基、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、フェニルアミ
ノなどの置換アミノ基、カルボメトキシなどのカルボア
ルコキシ基、ハロゲン原子、などの置換基を有していて
もよい。
これらの芳香族ジアゾニウム塩が本発明で用いられるた
めには光吸収部と連結する結合Ll、L!、L3を形成
するのに必要な官能基たとえばカルボキシル基、ヒドロ
キシル基、アミノ基、スルホニル基、イソシアネート基
、チオイソシアネート基、チオール基などのいづれかを
少なくとも一つ有していることが必要である。
Ll 、Ll 、L3はSとDとを共有結合で連結させ
る連結基である。ただしSとDとを直接共役させるもの
ではない。L’ 、L” 、L″で表わされる連結基中
に含まれる結合成分としては次のものを挙げることがで
きる。エステル結合(−CO□−)、アミド結合(−C
ONI(−) 、尿素結合(−NHCONH−) 、チ
オ尿素結合(−NHC5NH−)、スルホニルエステル
結合(−503−) 、スルホンアミド結合(−5O,
N)l −) 、ウレイド結合(−NHCO2−) 、
チオウレイド結合(−NHCSO−)、カーボネート結
合(0CO2) 、エーテル結合(−0−) 、チオエ
ーテル結合(−3−)・アミノ結合(−NH−)など。
Ll、LL、L:lの太きさはSからDへ至るのに通過
する際に含まれる原子数としてLlの場合で2〜20個
、好ましくは2から10個の範囲、また一般式(I[)
の場合L2とL3とを加えた状態で4〜30個、好まし
くは6〜20個の範囲が選択される。整数1.m、n、
o、pの範囲はそれぞれ1〜5.1〜5.1〜15.3
〜200.3〜500でありより好ましい範囲は1〜3
.1〜2.1〜8.5〜50.10〜200である。
本発明に使用される新規な芳香族ジアゾニウム塩は、例
えば以下の方法により合成することができる。
(1)芳香族ニトロ化合物部と光吸収部とが連結された
化合物を合成し、次にそれを還元してアミノ化しジアゾ
化する方法。
(S−+−+L’→−子D’)→(SりL1ヒ→D“)
−一→D′:芳香族ニトロ化合物残基 D#:芳香族アミノ化合物残基 還元、アミノ化の方法については通常よく知られている
方法により行うことができる。例えば西独゛特許111
4704号(1961)明細書に記載された方法を用い
ることができる。
(ii)アミノ芳香族ジアゾニウム塩と光吸収部とを連
結させる方法。
このときの光吸収部はアミノ芳香族ジアゾニウム塩のア
ミノ基と反応しうるような活性部位、例えば酸ハライド
、スルホニルクロリド、イソシアネート、チオイソシア
ネーl、シアヌルクロリドなどの官能基を含んでいる必
要がある。
アミノ芳香族ジアゾニウム塩とシアヌルクロリドとの反
応は、英国特許948637号明細書(1964年公開
)に記載されている。
本発明に使用される芳香族ジアゾニウム塩のアニオンは
、該ジアゾ化合物と安定な塩を形成し、かつ該化合物を
有機溶媒に可溶となすアニオンを含む。これらは、デカ
ン酸および安息香酸などの有機カルボン酸、フェニル燐
酸などの有機燐酸およびスルホン酸を含み、典型的な例
としては、メタンスルホン酸、クロロエタンスルホン酸
、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン
スルホン酸、メシチレンスルホン酸およびアントラキノ
ンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノン−5−スルホン酸、ヒドロキノンスルホン酸、4
−アセチルベンゼンスルホン酸、ジメチル−5−スルホ
イソフタレートなどの脂肪族並びに芳香族スルホン酸、
2゜2’、4.4’−テトラヒドロキシベンヅフェノン
、1;2.3−)リヒドロキシヘンゾフェノン、2.2
’、4−)リヒドロキシベンゾフェノンなどの水酸基含
有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオ
ロ硼酸などのハロゲン化ルイス酸、ClO4,10、な
どの過ハロゲン酸、Cjl!  % B rなとのハロ
ゲン酸などが挙げられるが、これに限られるものではな
い。
本発明で用いられる新規な芳香族ジアゾニウム塩のい(
つかの例を以下に記す。ただし本発明は以下の化合物t
こ限定されるものではないことはもちろんである。
−i式(1)もしくは(’II )で示される新規なジ
アゾニウム化合物を含む感光性組成物は、アルカリ可溶
な樹脂と組み合わせ特に感光性印刷版の感光層、フォト
レジスト等に有用である。アルカリ可溶な樹脂として組
み合わせるとき一般式(I)もしくは(It)で示され
る新規な芳香族ジアゾニウム化合物の量は全体の感光性
組成物の量に対して5〜80重量%が適当であり、より
好ましくは10〜40重量%である。
アルカリに可溶性の樹脂としては、この性質を有するノ
ボラック樹脂があり、たとえばフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m −/ p−混合
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾ
ール(m−1p又はm−/p−混合のいずれでもよい)
混合ホルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアル
デヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒドロ
キシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、特
開昭51−34711号公報に開示されているようなフ
ェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、特開平2
−866号公報に記載のスルホンアミド基を有するアク
リル系樹脂や、ウレタン系の樹脂、等種々のアルカリ可
溶性の高分子化合物を含有させることができる。
その他のアクリル系樹脂としては、側鎖にカルボン酸を
有する付加重合体であり、例えば特開昭59−4461
5号、特公昭54−34327号、特公昭5B−125
77号、特公昭54−25957号、特開昭54−92
723号、特開昭59−53836号、特開昭59−7
1048号各公報定記載されている、メタクリル酸共重
合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロ
トン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化
マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボ
ン酸を有する酸性セルロース誘導体がある。この外に水
酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたも
のなどが有用である。特にこれらの中では、〔ベンジル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び
〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/
必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重
合体が好適である。
これらのアクリル可溶性高分子化合物は、重量平均分子
量が500〜200,000のものが好ましい。
かかるアルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の80
重量%以下の添加量で用いられる。
本発明の新規なジアゾニウム化合物はまたラジカル重合
可能な不飽和化合物と組み合わせて光重合系感光性組成
物として用いることができる。
光重合系感光性組成物の形成に使用できるラジカル重合
可能な不飽和化合物としては、たとえば、ポリオールの
不飽和エステル、特にアクリル酸又はメタクリル酸のエ
ステルが好ましい。具体例としては、エチレングリコー
ルジアクリレート、グリセリントリアクリレート、ポリ
エステルポリアクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、1.3−プロパンジオールジメタクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、12.
4−ブタントリオールトリメタクリレート、トリメチロ
ールエタントリアクリレート、ペンタエリトリットジメ
タクリレート、ペンタエリトリットトリメタクリレート
、ペンタエリトリットテトラメタクリレート、ペンタエ
リトリットジアクリレート、ペンタエリトリットトリア
クリレート、ペンタエリトリットテトラアクリレート、
ジペンタエリトリットポリアクリレート、1,3−プロ
パンジオールジアクリレート、1.5−ベンタンジオー
ルジメタクリレート、200〜400の範囲の分子量を
有するポリエチレングリコールのビスアクリレート、ビ
スメタクリレート及び類似の化合物を挙げることができ
る。
また不飽和化合物としては、不飽和アミドを用いること
もでき、その例としてはα、ω−ジアミンを存するアク
リル酸及びメククリル酸の不飽和アミド及びエチレンビ
スメタクリルアミドを挙げることができる。不飽和アミ
ドのアルキレン鎖は炭素原子によって開かれていてもよ
い。ただし、光重合性七ツマ−はこれらの化合物に限定
されるものではない。
光重合性モノマーの量は全組成物の90重量%以下の添
加量で用いられる。
本発明における感光性組成物中には酸素の影響を少なく
するためにベヘン酸、ベヘン酸アミドなどのワックス剤
を添加してもよい。
本発明における感光性組成物中には、露光後直ちに可視
像を得るための焼出し剤、画像着色剤としての染料やそ
の他のフィラーなどを加えることができる。露光後直ち
に可視像を得るための可視像形成剤としては露光によっ
て酸を放出する光酸発生化合物と塩を形成し得る有機染
料の組合せを代表としてあげることができる。具体的に
は特開昭50−36209号公報、特開昭53−812
8号公報に記載されている0−ナフトキノンジアジド−
4−スルホン酸ハライドと塩形成性有機染料の組合せや
特開昭53−36223号、同54−74728号、同
60−3626号、同61−143748号、同61−
151644号、同63−58440号公報に記載され
ているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合
せをあげることができる。画像の着色剤として前記の塩
形成性有機染料以外に他の染料も用いることができる。
塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性染料
及び塩基染料をあげることができる。
具体的には、オイルイエロー#1o1、オイルイエロー
#130、オイルピンク#312、オイルグリーンBG
、オイルブルーBO3,オイルブルー#603、オイル
ブラックBY、オイルブランクBS、オイルブラックT
−505(以上、オリエント化学工業株式会社製)、ビ
クトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(C1
42555)、メチルバイオレット(CI42535)
、ローダミンB (CT45170B)、マラカイトグ
リ−7(CI 42000) 、メチL/7ブルー((
152015)などをあげることができる。また、特開
昭62−293247号公報に記載されている染料は特
に好ましいこれらの光酸発住剤と染料とを合わせた添加
量は全組成量の約0.3重量%〜約5重量%が好ましい
本発明における感光性組成物は、上記各成分を溶解する
溶媒に溶かして支持体上に塗布し、感光性平版印刷版と
する。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロラ
イド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、
1〜メトキシ−2−プロパツール、1−メトキシ−2−
プロピルアセテート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルホルムアミド、水、N−メチルピロ
リドン、テトラヒドロフルフリルアルコール、アセトン
、ジアセトンアルコール、メタノール、エタノール、イ
ソプロパツール、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使
用する。そして、上記成分中の濃度(固形分)は、2〜
50重量%である。また、塗布量は用途により異なるが
、例えば感光性平版印刷版についてぃえば−船釣に固形
分として0.5〜3.0 g / n?が好ましい。塗
布量が薄くなるにつれ感光性は大になるが、感光膜の物
性は低下する。
本発明における感光性組成物中には、塗布性を良化する
ための界面活性剤、例えば特開昭62−170950号
公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加
することができる。好ましい添加量は、全感光性組成物
の0.01〜1重量%、さらに好ましくは0.05〜0
.5重量%である。
上記の感光性組成物が塗布されて用いられるとき、その
支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられる。
該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチック(
例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンな
ど)がラミネートされた紙、また、例えばアルミニウム
(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などのような
金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、
酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなど
のようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラ
ミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフ
ィルムなどがあげられる。
これらの支持体のうち、感光性平版印刷版の作成にはア
ルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安価
であるので特に好ましい。更に、特公昭4B−1832
7号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目型て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
本発明の感光性組成物に対する現像液とてしは、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第ニ
リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン
酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウ
ム、アンモニア水、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シドなどのようなアルカリ剤の水?8液が適当であり、
それらの濃度が0.1〜10重景%、好ましくは0.5
〜5重量%になるように添加される。
露光に使用される光源としては超高圧、中圧、低圧の各
水銀灯はカーボンアーク灯、ケミカルランプ、キセノン
ランプ、タングステンランプ、メタルハライドランプ、
可視および近赤外の各種レーザー、蛍光灯、および太陽
光などがある。
〔発明の効果〕
本発明の感光性組成物は、紫外域から可視域までの広い
波長域の光に対して感度が高い。
以下実施例をもって本発明を説明するが本発明はこれに
限定されるものではない。
〈合成例1〉ジアゾニウム化合物(4)の合成下記のル
ートで合成した。
止澄土し0口」1番底 ジシクロへキシルカルボジイミド5.4gを200−の
塩化メチレンに溶解し、内温を0℃に冷却した。10g
の化合物(A)を加え3分間攪拌したのち内温を室温に
上げて15分間攪拌した。
p−ニトロアニリンを3.1g加え一夜攪拌をつづけた
。反応液を水にあけ酢酸エチル500−を用いて抽出し
た。抽出液を200−まで濃縮した後、生じた結晶を濾
取した。
収量  4.1g 融点  192℃ 赤外吸収スペクトル 1630 am−’(−CONH
−)1740 cm−’(−COOC2H5)ヒム (
C)のム 化合物(B)6g、塩化アンモニウム0.5g、イソプ
ロパツール300−および水30−を加えて窒素気流下
30分間加熱還流した。次に鉄粉0.6gをゆっくり加
え2時間加熱還流した。反応終了後鉄粉を濾過し、濾液
を放冷すると結晶が析出した。
収量  3.2g 融点  180℃ 赤外吸収スペクトル 3500および3400■−’(Nl2)ジアゾニウム
化人 (4)のム 化合物(C)5.4gを100−の5%塩酸溶液に溶解
した後O℃に冷却した。この水溶液を攪拌しながら、亜
硝酸ナトリウム0.69 gを51R1の水に溶かした
液を少しづつ添加した。30分間攪拌をつづけた後へキ
サフルオロりん酸カリウム2.0gの水50W11溶液
を攪拌しながら添加した。生じた黄色沈殿を濾取し乾燥
した。
収量  4.0g 赤外吸収スペクトル 2260α〜’ (−N、” ) 実施例1 砂目立てし、陽極酸化処理されたアルミ板の上に下記感
光液を乾燥後の塗布重量が1.5g/rrlとなるよう
に塗布して感光層を設け、感光性平版印刷版を作成した
このようにして作成した感光性平版印刷版をオーク師製
ジェットライト2000で5C−46フイルターを使用
し、460nm以下の光をカントして露光した。
感度測定には富士PSステップガイド(富士写真フィル
ム側製、初段の透過光学濃度が0.05で順次0.15
増えていき15段まであるスランプタブレント)を使用
して行った。100秒間露光後5iOz/Na2Oのモ
ル比が1.74の珪酸ナトリウムの5.26%水溶液(
pH= 12.7 )で現像したところ、9段までの感
光層は残存し、10段から感光層が完全に除去されたネ
ガ画像が得られた。
このようにして現像した後、十分水洗し、ガム引きした
のち常法の手順で印刷したところ、10.0(10枚印
刷することができた。
比較例1 ジアゾニウム化合物(4)を次の感光物に代えたほかは
実施例1と全く同様な方法にて感光性平版印刷版を作成
した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 少なくとも一つの芳香族ジアゾニウム塩部と、この芳香
    族ジアゾニウム塩部の共役発色団ではない、少なくとも
    1つの光吸収部とを同一分子内に有する化合物を含有す
    ることを特徴とする感光性組成物。
JP2142947A 1990-05-31 1990-05-31 感光性組成物 Expired - Fee Related JP2627571B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2142947A JP2627571B2 (ja) 1990-05-31 1990-05-31 感光性組成物
US07/705,360 US5310618A (en) 1990-05-31 1991-05-24 Light-sensitive compositions and articles utilizing a compound or polymer containing an aromatic diazonium salt group and a light-absorbing residue of a sensitizing dye for trichloromethyl-s-triazine or azinium salt photopolymerization initiators
DE4117962A DE4117962A1 (de) 1990-05-31 1991-05-31 Lichtempfindliche zusammensetzung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2142947A JP2627571B2 (ja) 1990-05-31 1990-05-31 感光性組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0434552A true JPH0434552A (ja) 1992-02-05
JP2627571B2 JP2627571B2 (ja) 1997-07-09

Family

ID=15327351

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2142947A Expired - Fee Related JP2627571B2 (ja) 1990-05-31 1990-05-31 感光性組成物

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5310618A (ja)
JP (1) JP2627571B2 (ja)
DE (1) DE4117962A1 (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5302757A (en) * 1992-09-14 1994-04-12 Eastman Kodak Company Ultraviolet light sensitive onium salts
GB9404805D0 (en) * 1994-03-11 1994-04-27 Minnesota Mining & Mfg Novel developing agents for (photo)thermographic systems
US6140022A (en) * 1996-07-19 2000-10-31 Agfa-Gevaert, N.V. Radiation sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
TW574628B (en) * 1996-12-10 2004-02-01 Morton Int Inc High resolution positive acting dry film photoresist
DE19719721C1 (de) * 1997-05-09 1998-09-24 Syntec Ges Fuer Chemie Und Tec UV-Dosimeterfolie
US5847133A (en) * 1997-05-23 1998-12-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ionic halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiators
US6010821A (en) 1997-05-23 2000-01-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous developable color proofing elements
US7041427B2 (en) * 2001-09-27 2006-05-09 Agfa Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
CA2485252A1 (en) * 2002-05-10 2003-11-20 Qlt Inc. Methods of using thiazolidine derivatives to treat cancer or inflammation
WO2007008472A2 (en) * 2005-07-08 2007-01-18 Colorado Seminary, Which Owns And Operates The University Of Denver Photoinduced signal amplification through externally sensitized photofragmentation in masked photosensitizers
WO2007070761A2 (en) * 2005-12-12 2007-06-21 Colorado Seminary, Which Owns And Operates The University Of Denver Method for encoding and screening combinatorial libraries
US7985785B2 (en) * 2007-01-15 2011-07-26 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
WO2009026313A1 (en) * 2007-08-20 2009-02-26 Colorado Seminary, Which Owns And Operates The University Of Denver Photoinduced signal amplification through externally sensitized photofragmentation in masked photosensitizers and photoamplified fluorescence turn-off system
EP2053095B2 (en) * 2007-09-28 2017-02-22 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP5344892B2 (ja) * 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
WO2018194169A1 (ja) * 2017-04-21 2018-10-25 日産化学株式会社 感光性樹脂組成物

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4833907A (ja) * 1971-09-07 1973-05-15

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3778270A (en) * 1970-11-12 1973-12-11 Du Pont Photosensitive bis-diazonium salt compositions and elements
DD154402A1 (de) * 1980-12-15 1982-03-17 Fred Walkow Diazoniumsalze enthaltendes diazotypiematerial
GB8314918D0 (en) * 1983-05-31 1983-07-06 Vickers Plc Radiation sensitive compositions
US4946373A (en) * 1985-02-28 1990-08-07 Hoechst Celanese Corporation Radiation-polymerizable composition
DE3738863A1 (de) * 1987-11-16 1989-05-24 Hoechst Ag Lichtempfindliche druckplatte fuer den wasserlosen offsetdruck
US4914000A (en) * 1988-02-03 1990-04-03 Hoechst Celanese Corporation Three dimensional reproduction material diazonium condensates and use in light sensitive

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4833907A (ja) * 1971-09-07 1973-05-15

Also Published As

Publication number Publication date
US5310618A (en) 1994-05-10
DE4117962A1 (de) 1991-12-05
JP2627571B2 (ja) 1997-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4966828A (en) Carbonylmethylene-heterocyclic compounds containing trihalogenomethyl groups, process for their preparation, and light-sensitive mixture containing the compounds
US4696888A (en) Light-sensitive compounds possessing trichloromethyl groups, a process for their production and light-sensitive mixtures containing these compounds
US5055579A (en) Heterocyclic compounds containing 4,6-bis-trichloromethyl-s-triazin-2-ly groups
JPH0434552A (ja) 感光性組成物
US4481276A (en) Photopolymerizable composition containing a combination of photoinitiators
US5914215A (en) Sensitized photopolymerizable compositions and use thereof in lithographic printing plates
JPS5928329B2 (ja) 光重合性組成物
EP0828182B1 (en) Storage-stable photoimageable compositions with improved leuco dye
US5922508A (en) Photopolymerizable recording material
JP2538992B2 (ja) 光重合性組成物
US5519136A (en) Radiation sensitive compounds
JPH051286B2 (ja)
CA2038963A1 (en) Photopolymerizable mixture and recording material prepared therefrom
US4477556A (en) Acidic o-nitroaromatics as photoinhibitors of polymerization in positive working films
JP2639853B2 (ja) 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物
US5057398A (en) Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing same
JPS6133028B2 (ja)
US5821030A (en) Lithographic printing plates having a photopolymerizable imaging layer overcoated with an oxygen barrier layer
JP2000275823A (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
US5049477A (en) Radiation responsive composition
US5212307A (en) Light-sensitive bis-trichloromethyl-s-triazines, and process for their preparation
JP2856755B2 (ja) オキサジアゾール化合物、感光性組成物および該化合物の製造法
US5216158A (en) Oxadiazole compounds containing 4,6-bis-trichloromethyl-S-triazin-2-yl groups, process for their preparation
JPS60138539A (ja) 感光性組成物
EP0470581A2 (en) Aromatic diazo compounds, production method thereof and photosensitive compositions using the same

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees