JPH01257519A - 放電加工用加工液の供給装置 - Google Patents

放電加工用加工液の供給装置

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JPH01257519A
JPH01257519A JP8310088A JP8310088A JPH01257519A JP H01257519 A JPH01257519 A JP H01257519A JP 8310088 A JP8310088 A JP 8310088A JP 8310088 A JP8310088 A JP 8310088A JP H01257519 A JPH01257519 A JP H01257519A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
machining
value
machining fluid
tank
machining liquid
Prior art date
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Pending
Application number
JP8310088A
Other languages
English (en)
Inventor
Masami Fujikura
藤倉 雅美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sodick Co Ltd
Original Assignee
Sodick Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sodick Co Ltd filed Critical Sodick Co Ltd
Priority to JP8310088A priority Critical patent/JPH01257519A/ja
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は放電加工用加工液の供給装置に関し、更に詳細
に述べると、使用済みの放電加工液の比抵抗値を加工に
支障をきたすことのない状態に制御しうる加工液供給装
置に関する。
(従来の技術) 例えば、ワイヤカット放電加工においては、加工液とし
て水が用いられるが、使用済みの加工液はチップその他
の不純物が混入される等してその比抵抗値が著しく低下
してしまうので、それをその1ま再び加工液として使用
することはできない。
そこで、従来から、使用済み加工液を一旦所定のタンク
内に入れ、この使用済み加工液をフィルタ、イオン交換
樹脂に通すなどして再生し、加工液の経済的な運用を図
っているのが現状である。
ところで、従来のこの種の装置では、使用済み加工液タ
ンク内の加工液の比抵抗を計測しておき、この計測され
た比抵抗の値が、予め定められた所定の上限値と下限値
との間に保持されるよう、イオン交換装置等の純水化器
を作動させている(例えば特公昭57−22691号公
報参照)。
(発明が解決しようとする課題) しかし、従来の装置のように1加工液の比抵抗を所定の
範囲内に保持する場合には、上限値の設足と下限値との
設定を行なわなければならAいが、その設定を誤まると
比抵抗値の制御動作がうまく行なわれない。特に、タン
ク内の水の比抵抗値の分布が一様でない場合に生じ易す
く、このような場合には、さらに不必要な脱イオン化動
作が行なわれるなどしてその動作が不安定になシ、純水
化器の寿命が短縮するなどの問題点も有している。
本発明の目的は、したがって、制御目標値の設定操作が
簡単であり、使用済み加工液を加工に必要なf9r賛の
状態に戻すための加工液の再生動作が円滑に行なわれる
ようにし、純水化器の寿命の短縮が生じないようにした
放電加工用加工液の供給装置を提供することにある。
(課題を解決するだめの手段) 上記目的を達成するための本発明の特徴は、放電加工用
加工液を供給するための装置において、使用済み加工液
を受け入れるためのタンクと、該タンク内の加工gを取
り込み純水器を通して加工液を再びタンク内に戻す浄化
gc置と、前自己タンク内の加工液の比抵抗を計測する
計測手段と、該計測手段に応答し7加工准の比抵抗値が
所定の値に違したか否かを検出する検出手段と、該検出
手段に応答し加工液の比抵抗値が所定の値に達した場合
に所定の一定時間だけ前記浄化装置の作動を停止させる
手段とを備えて成る点にある。
(作用) タンク内に戻される使用済加工′ly、は、浄化装置に
よって浄化され、タンク内に戻される。このためタンク
内の加工液の比抵抗は次第に上昇する。
加工液の比抵抗が所定の値に達したことが検出手段によ
って検出されると、浄化装置の作動が所定の一定時間だ
け停止せしめられ、しかる後、浄化装dKよυタンク内
の加工液の浄化が開始される。
(実施例) 以下、図示の一実施例によシネ発明の詳細な説明する。
第1図には、本発明による加工液供給装置の一実施例が
示されている。加工液供給袋f1は、ワイヤカット放電
加工機2へ水を加工液として供給するための装置であシ
、水である加工液3の入っているタンク4を備えている
。タンク4内の加工液3#′i、加工液供給・9イブ5
の途中に設けられた供給ボンf6によって、該加工液供
給・々イf5を介してワイヤ力、ト放電加工機2に送給
される。
ワイヤ力、ト放m加工機2において使用された使用済み
の加工液は、ドレイン・!イf7を介してタンク4内に
戻される、 したがって、タンク4内の加工液3は、ワイヤカット放
電加工機2における加工の進行に応じて汚れ、その比抵
抗が漸次低「する。このよりにして加工8I3の比抵抗
が低下すると、放て加工に悪影@筆を及ぼすので、この
比抵抗値を放亀訓工に悪影響を与えるζ4とのない範囲
に保持する必要がある。このため、加工液供給装置1は
、タンク4内の加工液3の浄化を行ないその比抵抗を高
めるための浄化装rt、10を備えている。
浄化装置10は、循環通路11中に、循環ポンf12、
電磁式の開閉弁13、フィルタ14、イオン交換樹脂を
含んで成るイオン交換装置15が図示の如く設けられて
いる。なお、ボンf12と開閉弁13との間には、リリ
ーフ弁16を有するリターン・4イグ17が設けられて
いる。リリーフ弁16は、開閉弁13が閉成されること
にょ〕循環ポンプ12の出口側圧力か所定値以上となっ
た場合に1この圧力上昇に応答して開かれ、循1ボング
12が過負荷状態となるのを防止することができる。開
閉弁13が開かれている場合には、循環ポンf12によ
りて加圧されたタンク4内の加工液3は、フィルタ14
においてチ、76等のブ9ミが除去された後、イオン交
換装7115に送られ、ここで脱イオン化され、例えば
10 Q−avh程度の比抵抗状態とされてタンク4に
戻される。
符号20で示されるのは、タンク4内の加工液3の比抵
抗値を検出するためのセンサであり、センサ20からの
検出信号Sは判別回路21に入力される。判別回路21
は検出信号SK応答し、加工液3の比抵抗値が所定の値
、例えば10’Ω−1以上か否かを判別する回路であり
、その判別結果を示す判別信号りをタイマ30に出力す
る。
判別信号りは、加工液3の比抵抗値が所定値以上の場合
に高レベルで、その比抵抗値が所定値に達していない場
合に低レベルとなる信号であシ、タイマ30は判別信号
りのレベルが低レベルから高)/ペルに変化したことく
応答してトリガされ、可変抵抗器31のセット状態によ
シ定まる所定の時間Tだけ高レベルとなる駆動信号Mを
出力する。
駆動信号Mは常開型の開閉弁13に印加され、開閉弁1
3は駆動信号Mが高レベルとなることに応答して閉成さ
れる。所定時間Tが経過した後、駆動イに号Mのレベル
が低レベルとなると、開閉弁13は再び開かれる。
次に、第1図に示した加工液供給装置1の動作につき、
第2図を参照しながら説明する。
時刻toにおいては、加工#:3の比抵抗値が所定値に
ま′r:達しておらず、従って、開閉弁13が開かれて
おり浄化装fIOによってタンク4内の加工液3が浄化
されており、時間の経過と共に加工液3の比抵抗が上昇
している。時刻tlにおいて加エフ便3の比抵抗値が所
定のjlf Aに達すると、判別信号りの1ノベルが「
し」から「H」に変化し、タイマ30がトリガされる。
これによシ駆動信号Mのレベルが「H」となシ、開閉弁
13は開状態とされる。開閉弁13の閉状態はタイマ3
0の働きにより時間Tだけ継続せしめられるので、時刻
t2までその閉状態が続く。したがって、tl (t(
t。
の期間はポンプ12からの加工液3はリターンパイプ1
7を介してタンク4内に戻され、加工g3の浄化が停止
される。このため、この間に放電加工が行なわれていれ
ば、ドレインパイプ7から戻される使用済加工液のため
に、加工液3の比抵抗は第2図に示される如く所定の率
で低下する。この低下率は放電加工の状態に依存する。
時刻t!においてタイマ3の動作が終了し、駆動信号M
のレベルが再び「L」となると、開閉弁13が開き、浄
化装flllOによる加工液3の浄化動作が再び開始さ
れる。このブこめ、加工液3の比抵抗は、第2図に示さ
れるように、再び上昇しはじめる。時刻t3において加
工液3の比抵抗が所定値Aに達すると、浄化装置3の浄
化動作は停止(二せしめられる。以後、同様にして、上
述の動作を繰返す”。
このような構成によれば、上述の如く、目標比抵抗値の
Wl 屋はその上限値のみであるから、極めて簡単で、
設定誤りを生じる虞れは全くない。さらに、浄化装置1
0による加工液3の浄化動作が適宜の休止時間Tをもっ
て間歇的に実行されるので、タンク4内の加工fi3の
比抵抗値が不均一であってもこれによって浄化動作が直
ちに影gを受けるく゛ごとがない。すなわち、例えばセ
ンサ20の近傍の比抵抗がたまたま低い父は烏い場合で
も、休止期間Tの間に生じる加J゛液3の流動でその値
が均・−化されうるので、安定な浄化動作を行なわせる
ことができる。この結果、浄化装置10のイオン交換装
置15に不要なA荷が掛るの紮防IEする効果があり、
その寿命の煤層を有効に防止することができる。
本装置では、力D−:iT欣の比抵抗の下限11区d1
、タイマ30においてセットされる時間Tを放電加工の
状態に見合った適宜の値に調整することにより変化させ
ることが可能である。
(発明の効果) 本発明罠よれば、上述の如く、目標の比抵抗状態を得る
ための設定操作が簡単なうえに、加工液の浄化動作を適
宜の休止期間をもって間歇に実行されるので、タンク内
の加工液の比抵抗の不均一性によシ動作が不安定になる
ことがなく、浄化装置に不要な負荷が掛ることもないの
で、その釉命を従来に比べて大きく延ばずことかできる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す概略慣成図、第2図は
第1図に示す装置の作動を説明するだめのグラフである

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、放電加工用加工液を供給するための装置において、
    使用済み加工液を受け入れるためのタンクと、該タンク
    内の加工液を取り込み純水器を通して加工液を再びタン
    ク内に戻す浄化装置と、前記タンク内の加工液の比抵抗
    を計測する計測手段と、該計測手段に応答し加工液の比
    抵抗値が所定の値に達したか否かを検出する検出手段と
    、該検出手段に応答し加工液の比抵抗値が所定の値に達
    した場合に所定の一定時間だけ前記浄化装置の作動を停
    止させる手段とを備えて成ることを特徴とする放電加工
    用加工液の供給装置。
JP8310088A 1988-04-06 1988-04-06 放電加工用加工液の供給装置 Pending JPH01257519A (ja)

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JP8310088A JPH01257519A (ja) 1988-04-06 1988-04-06 放電加工用加工液の供給装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03239415A (ja) * 1990-02-13 1991-10-25 Mitsubishi Electric Corp 放電加工機の加工液処理装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6125724A (ja) * 1984-07-10 1986-02-04 Inoue Japax Res Inc 放電加工装置用加工液管理装置

Patent Citations (1)

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