JPH01251627A - リード細線を有する電気装置の製造方法 - Google Patents

リード細線を有する電気装置の製造方法

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JPH01251627A
JPH01251627A JP63201216A JP20121688A JPH01251627A JP H01251627 A JPH01251627 A JP H01251627A JP 63201216 A JP63201216 A JP 63201216A JP 20121688 A JP20121688 A JP 20121688A JP H01251627 A JPH01251627 A JP H01251627A
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JP
Japan
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bonding
thin
lead
bonded
wiring
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JP63201216A
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English (en)
Inventor
Kazumi Takahata
高畠 和美
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Sanken Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanken Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 不発E)3は、半導体装置等のリード細mビ有する電気
装置の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
混成集積回路装置において1.多数の電極体の相互間暑
接続するリード細線をボールボンディング(ネールヘッ
ド′ボンディング)とステッチボンディングすることは
広〈実施されている。
〔発明が解決しようとする問題点゛〕
ところで、ボールボンディング部はリード細線の直径の
2〜3倍のボールビ形成して固着した部分であるので、
比較的に高い信頼性を有している。
一方、ステッチボンディング部はリード細線を押し潰し
た状態に形成されているので、ボールボンディング部よ
りも弱く結合されている。従って。
ステッチボンディング部の結合強度の向上が要望さIし
ている。また、リード細線を有する混成集積回路装置の
小型化が要求されている。
そこで1不発EUは1.″X、チッチボンディング部の
強度の向上が可能であると共に、装置の小型化が可能な
リード細線ン有する電気装置の製造方法を提供すること
にある。
〔問題点ン解決するための手段〕
上記問題点を解決し、上記目的を達成するための本発明
は、第1の被ボンディング部分と第2の被ボンディング
部分を接続する第1の配線用リード細線と、前記第2の
被ボンディング部分と第3の被ボンディング部分又は前
記第1の被ボンディング部分とを接続する第2の配線用
リードalfj!とン有する′IIt気装置の製造方法
において、キャピラリから繰り出さn7’(細線を前記
第1の被ボンディング部分にポールボンディングした後
に前記第2の被ポンディング部分にステッチボンディン
グし、次に、前記キャピラリから繰り出された細線を前
記ステッチボンディング部分の少なくとも一部?覆うよ
うにポールボンディングし、しかる後、前記第3の被ボ
ンディング部分又は前記第1の被ボンディング部分にス
テッチボンディングすることを特徴とするリード細線を
有する1勿装置の製造方法に係わるものである。
〔作 用] 上記発明においては、第2の被ボンディング部分に第1
の配線用リード細線が、ステッチボンディングされた後
に、少なくともこの一部を含むようにポールボンディン
グを行って第2の配線用リード細kw設ける。こrしに
より、ステッチボンディング部がポールボンディングに
よって補強さFLる。
また、第2の被ボンディング部分における第2の配線用
リード細線の接続のための面積を低減することができる
〔実施例〕
次に1本発明の一実施例に係わる混成集積回路装置の製
造方法を第1図〜第3因によって説明する。
完成した混成集積回路の一部?説明的に示す第1図にお
いて、第1の支持板1の上に第1の半導体素子としての
モノリシックICチップ2が半田(図示せず)で固着さ
れ、また第2の支持板3の上に第2の半導体素子として
のパワートランジスタチップ4が半田(図示ゼず)で固
着されている。
第1及び第2の支持板1.3i!J−ドフレームの一部
であって、ここに外部リードが連結されている。リード
フレームは更に、非連結外部リード7゜8.9等ン有す
る。ICチップ2は、上面に複数の金属電極10.17
.72,13.14.15.16′¥有し、下面に第3
図に示す金属電極17を鳴丁ル。パワートランジスタチ
ップ3は上面にエミッタ電極18とベース電極19とを
有し、下面に第3図に示すコレクタ電極20を有する。
ICチップ2における第1の被ボンディング部分として
の電極11とトランジスタチップ4における第2の被ボ
ンディング部分としてのエミッタ電極18とは第1の配
線用リード細線21aで接続サレ、エミッタ電極18と
第3の被ボンディング部分としての外部リード9とは第
2の配線用リード細a21bで接続されている。他の電
極相互間及び電極と外部リード7.8との間は別の配線
用リード細線22でそれぞれ接続されている。ここで5
重要なことは、第1の配線用リード細線21aの一端が
ポールボンディングで電極11に接続すれ、他端がステ
ッチボンディングでエミッタ電極18に結合され、第2
の配線用リードall線21bの一端が第1の配線用リ
ード細線21のステッチボンディング部分の少なくとも
一部ビ覆うようにポールボンディングされ、他端が外部
リード9にステッチボンディングされていることである
第1図で破線23で示す部分は絶縁性合成樹脂によって
被覆される。なお、電極10〜16、エミッタ[極18
.及びベース電極19はアルミニウム電極であり、第1
及び第2の配線用リード細M21a、21b及びその他
のリード細線22は金(Au ) MfI線である。
次に、第1及び第2の配線用リード細線21a。
21bのボンディング方法を第3図ン参照して詳しく述
べる。まず、第3図囚に示す如く、ワイヤボンダのキャ
ピラリ24の中央のワイヤ繰り出し孔25から繰り出さ
れている細線21の先端に電気スパークまたは水素炎に
てポール2(5’a’2形成する。ここで、ボール26
aの直径は細線21の直径の2〜3倍Qてする。
次に、第3図(BJに示すように、第1の被ボンディン
グ部分である電極11VCポール26aYキヤピラリ2
4の先端加工面で押し付ける。このとき、電極11は加
熱されており、キャピラリ24には電極11の表面と平
行する方向に超音波による撮動が腑見られている。これ
により、熱圧着ボンディングと超音波ボンディングの併
用により、電極11に、!8821が釘頭状に接続され
たポールボンディング部26が形成される。
次いで、第3図(C)に示すように、キャピラリ24を
細線21娶繰り出しながら上昇させて大きく引き回すよ
うにして、第2の被ボンディング部分であるエミッタ電
極18に向って移動する。
次に、第3図0に示すように、エミッタ電極18に対し
てMB線21ビキャビラリ24の加圧面にて押し当て、
細線21ン押し潰してエミッタ電極18に接続する。こ
れにより、ステッチボンディング部27が形成さTしる
。このとき、エミッタ電極18は加熱されており、キャ
ピラリ24には前述のように超音波撮動が謔えられてい
る。
次に、第3図■に示すように、キャピラリ24?所定の
高さまで上昇さセ、細線21をキャピラリ24から1繰
り出さないように固定した状態としてキャピラリ24を
更に上昇させて細線21を切断する。細a21はステッ
チボンディング部27で押し潰されているので、第3図
[F]に示す如くステッチボンディング部27の端部で
切断され、細!!21がキャピラリ24から賂一定量だ
け導出された状態になる。以上の工程で電極11とエミ
ッタ電極18とが第1の配線用リード細線21aで接続
される。
次に、第3図(G)に示すようにキャピラリ24から導
出されているa3線21娶火花又は炎で加熱してボール
23aを第6図(2)と同様に形成する。
次に、このボール28akステツチボンディング部27
の上にキャピラリ24で押し付けて第3図■の場合と同
一の方法でポールボンディング部28を第3図(Hlに
示すように形a:する。
次に、キャピラリ24乞第6図fIIに示すように上昇
させ、第3の被ワイヤボンディング部分としての外部リ
ード9の先端部上に移動させ、第3図(Jlに示す如く
ステッチボンディング部29ン第6図[F]の工程と同
一の方法で形成する。なお、第3図fJlは第2図のJ
−J線に対応する断面図である。
その後、キャピラリ24を第3図■[F]と同様に移動
し、J[121を、ステッチボンディング部29から切
断する。これにより、エミッタ電極1日と外部リード9
とが第2の配線用リード細線21bで接続される。第2
の配線用リードa線21bは第2図に示す如く第1の配
線用リード細線21aの延びる方向に対して略直角な方
向に延びている。
また、ポールボンディング部28はステッチボンディン
グ@2フ及し゛この近傍のリード細@ 21 aの両方
ビ覆い且つこれ等乞跨ぐように形成されている。
本実施例は次の利虞を有する。
+I+  ポールボンディング部28にステッチボンデ
ィング部27及びこの近傍のリード細線2ia乞跨ぐよ
うに形成するので、ステッチボンディング部27VCよ
る接続の補強が達成される。−!た。
ステッチボンディング部27とポールボンディング部2
90合計の肉厚が40〜50〃mとなるため、ステッチ
ボンディング部27のみの厚さ(約10μm)よりも大
@に厚くなる。この結果、ボンディング終了後に、装置
?高温放置試験(例えば200℃、20時間放置)にか
けることによってAIから成るエミッタ電極18とAu
′fJ)ら成るリード細線21aとに基づ< AuAl
2. ALIAI等から成るAu −A1合金層の成長
が生じても、この合金層がステッチボンディング部27
とポールボンディング部28との組み合セボンディング
部の全部に及ぶことはない。このため、クラックに基づ
く接続不良の発生が防止される。もし、約10μmのス
テッチボンディング部27のみであれば、Au −A1
合金層が略全部に拡がり、クラックによる接続不良が発
生する。
(2)エミッタ電極18上に第2”の配線用リード、i
線21bビ接続するための独豆のスペースヲ設けること
が不要になるので、エミッタ電極18の面積を小さくす
ることができる。
〔他の実施例〕
第5図は本発明の別の実施例に係わる混成集積回路の一
部を示す平面図である。この実施例は。
第1の被ボンディング部分と第2の被ボンディング部分
を接続する第1の配線用リード細線と、第2の被ボンデ
ィング部分と第3の被ボンディング部分を接続する第2
の配線用リード細線とを有する電気装置の製造方法にお
いて、キャピラリから繰り出された細線を前記第1の被
ボンディング部分にボールボンディングした後にリード
フレーム上に載置された中継部材の主面に形成されてお
り。
かつリードフレームと電気的に絶縁されている第2の被
ボンディング部分にステッチボンディングし1次に、キ
ャピラリから繰り出された細線を第2の被ボンディング
部分に形成されたステッチボンディング部分の少なくと
も一部を覆うよ5にボールボンディングし、しかる後、
第3の被ボンディング部分にステッチボンディングする
方法に関する。
第5図から明らかなように、リードフレームの支持板3
1の上面にはモノリシックICチップ32が半田(図示
せず〕を介して固着されており。
モノリシックICチップ32の側方には中継部材33が
接着剤(図示せず)′?:介して固着されている。中継
部材33はセラミックス等の絶縁材料から成る基板34
の1面に銀−パラジウム等から成る電極体35を有する
ものである。なお、電極体35は下方の支持板31と電
気的に絶縁されている。本実施例ではモノリシックIC
ラッグ32上に形成された第1の金属電極66と第1の
外部リード37とは1本のリード細線38で電気的に接
続されているが、外部リード、の配置さ2’した側から
遠い位置にある第2の金属電極39と第2の外部リード
40とは中継部材33ン介して2本のIJ−ド細a41
.42によって電気的に接続されている。このため、第
2の金属電極39と第2の外部リード40とを1本のリ
ード細線で接続した場合に比べてリード細線の接続距離
が減少するからり一ド細線の大きな垂下を制限すること
ができる。
本実施例では第2の金属電極39が第1の被ボンディン
グ部分、中継部材33の電極体35が第2の被ボンディ
ング部分、そして第2の外部リード407jZ第3の被
ボンディング部分となる。また。
リード細線41.42はそれぞれ第1の配線用リード細
線と第2の配線用リード細線となる。リード細線41は
第2の金属1極39にボールボンディングされた後、電
極体35にステッチボンディングされている。また、リ
ード細a42は電極体35にリード細線41のステッチ
ボンディング部分の少なく°とも一部を覆うよ5にボー
ルボンディングされた後に、第2の外部リード40にス
テッチボンディングされている。
第5図の実施例では第1図〜第6図に示す実施例ト同様
に第2のボンディング部分の接続強度を増加することが
できる。また、第2の被ポンディング部分(電極体35
)の面積?減少できるため中継部材63を小型化でき、
高密度実装やコストの点で有力となる。また、電極体6
5の面積を小さく形成できるために電極体35と支持板
31との間のギヤパシタンス(対地容量〕を減少するこ
とができる。さらに、リード細線41と42が直接に接
続されているために、電極体35の電気抵抗の回路特性
への影響が回避できる。なお、中継部材33はリードフ
レームの支持板31以外の部分に固着されていてもよい
〔変形例〕
本発明は上述の実施例に限定されるものでなく。
例えば次の変形が可能である。
+I+  第4図に示す如く、第2の配線用リード細a
21bicより”(I C−y”zプ2(D電極11 
とxiフッタ極18とを接続してもよい。これにより、
画電極11.13間が二重に接続され、配線の電流容量
を増大させることが可能になり、且つ第2の配線用リー
ド細線21bの一端のボールボンディング部28がステ
ッチボンディング部27の補強に寄与する。
(21第2の配線用リード細!ij2 l bの面端を
リードフレーム9及び1cテツプ2以外の第3の手導体
素子に接続する場合にも適用可能である。
〔発明の効果〕
1述から明らかなように5本発明によれば、ステッチボ
ンディング部の補強を達成することができると共に、″
41ボンディング部分の面積を小さくすることができる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係わる混成集積回路装置の
一部を説明的に示す平面図。 第2図は第1図の一部を拡大して示す平面図。 第3図囚〜(J+はボンディングを工程順に示す断面図
。 第4図は変形例の混成集積回路装置の一部を示す平面図
。 第5図は別の実施例に係わる混成集積回路装置の一部?
示す平面図である。 2・・モノリシックICチップ、4・・・パワートラン
ジスタチップ、9・・・外部リード、11・・・電極。 18・・・工ξツタ電極、21a・・・第1の配線用リ
ード細線、21b・・・第2の配線用リード細線、24
・・・キャピラリ、26・・・ポールボンディング部、
27・・・ステッチポンディング部、28・・・ポール
ボンディング部、29・・・ステッチポンディング部。 代  理  人   高  野  則  次第1図 第2図   −0 第3図 第3図 21a 第3図 第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  第1の被ボンディング部分と第2の被ボンディング部
    分を接続する第1の配線用リード細線と、前記第2の被
    ボンディング部分と第3の被ボンディング部分又は前記
    第1の被ボンディング部分とを接続する第2の配線用リ
    ード細線とを有する電気装置の製造方法において、 キャピラリから繰り出された細線を前記第1の被ボンデ
    ィング部分にボールボンディングした後に前記第2の被
    ボンディング部分にステッチボンディングし、次に、前
    記キャピラリから繰り出された細線を前記ステッチボン
    ディングの部分の少なくとも一部を覆うようにボールボ
    ンディングし、しかる後、前記第3の被ボンディング部
    分又は前記第1の被ボンディング部分にステッチボンデ
    ィングすることを特徴とするリード細線を有する電気装
    置の製造方法。
JP63201216A 1987-12-30 1988-08-12 リード細線を有する電気装置の製造方法 Pending JPH01251627A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002353267A (ja) * 2001-05-23 2002-12-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd ワイヤボンディング方法
KR100388295B1 (ko) * 2000-10-26 2003-06-19 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 와이어 본딩 구조 및 그 방법

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JPS5712530A (en) * 1980-06-27 1982-01-22 Hitachi Ltd Wire bonding method

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