JPH01251627A - リード細線を有する電気装置の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
不発E)3は、半導体装置等のリード細mビ有する電気
装置の製造方法に関する。
装置の製造方法に関する。
混成集積回路装置において1.多数の電極体の相互間暑
接続するリード細線をボールボンディング(ネールヘッ
ド′ボンディング)とステッチボンディングすることは
広〈実施されている。
接続するリード細線をボールボンディング(ネールヘッ
ド′ボンディング)とステッチボンディングすることは
広〈実施されている。
ところで、ボールボンディング部はリード細線の直径の
2〜3倍のボールビ形成して固着した部分であるので、
比較的に高い信頼性を有している。
2〜3倍のボールビ形成して固着した部分であるので、
比較的に高い信頼性を有している。
一方、ステッチボンディング部はリード細線を押し潰し
た状態に形成されているので、ボールボンディング部よ
りも弱く結合されている。従って。
た状態に形成されているので、ボールボンディング部よ
りも弱く結合されている。従って。
ステッチボンディング部の結合強度の向上が要望さIし
ている。また、リード細線を有する混成集積回路装置の
小型化が要求されている。
ている。また、リード細線を有する混成集積回路装置の
小型化が要求されている。
そこで1不発EUは1.″X、チッチボンディング部の
強度の向上が可能であると共に、装置の小型化が可能な
リード細線ン有する電気装置の製造方法を提供すること
にある。
強度の向上が可能であると共に、装置の小型化が可能な
リード細線ン有する電気装置の製造方法を提供すること
にある。
上記問題点を解決し、上記目的を達成するための本発明
は、第1の被ボンディング部分と第2の被ボンディング
部分を接続する第1の配線用リード細線と、前記第2の
被ボンディング部分と第3の被ボンディング部分又は前
記第1の被ボンディング部分とを接続する第2の配線用
リードalfj!とン有する′IIt気装置の製造方法
において、キャピラリから繰り出さn7’(細線を前記
第1の被ボンディング部分にポールボンディングした後
に前記第2の被ポンディング部分にステッチボンディン
グし、次に、前記キャピラリから繰り出された細線を前
記ステッチボンディング部分の少なくとも一部?覆うよ
うにポールボンディングし、しかる後、前記第3の被ボ
ンディング部分又は前記第1の被ボンディング部分にス
テッチボンディングすることを特徴とするリード細線を
有する1勿装置の製造方法に係わるものである。
は、第1の被ボンディング部分と第2の被ボンディング
部分を接続する第1の配線用リード細線と、前記第2の
被ボンディング部分と第3の被ボンディング部分又は前
記第1の被ボンディング部分とを接続する第2の配線用
リードalfj!とン有する′IIt気装置の製造方法
において、キャピラリから繰り出さn7’(細線を前記
第1の被ボンディング部分にポールボンディングした後
に前記第2の被ポンディング部分にステッチボンディン
グし、次に、前記キャピラリから繰り出された細線を前
記ステッチボンディング部分の少なくとも一部?覆うよ
うにポールボンディングし、しかる後、前記第3の被ボ
ンディング部分又は前記第1の被ボンディング部分にス
テッチボンディングすることを特徴とするリード細線を
有する1勿装置の製造方法に係わるものである。
〔作 用]
上記発明においては、第2の被ボンディング部分に第1
の配線用リード細線が、ステッチボンディングされた後
に、少なくともこの一部を含むようにポールボンディン
グを行って第2の配線用リード細kw設ける。こrしに
より、ステッチボンディング部がポールボンディングに
よって補強さFLる。
の配線用リード細線が、ステッチボンディングされた後
に、少なくともこの一部を含むようにポールボンディン
グを行って第2の配線用リード細kw設ける。こrしに
より、ステッチボンディング部がポールボンディングに
よって補強さFLる。
また、第2の被ボンディング部分における第2の配線用
リード細線の接続のための面積を低減することができる
。
リード細線の接続のための面積を低減することができる
。
次に1本発明の一実施例に係わる混成集積回路装置の製
造方法を第1図〜第3因によって説明する。
造方法を第1図〜第3因によって説明する。
完成した混成集積回路の一部?説明的に示す第1図にお
いて、第1の支持板1の上に第1の半導体素子としての
モノリシックICチップ2が半田(図示せず)で固着さ
れ、また第2の支持板3の上に第2の半導体素子として
のパワートランジスタチップ4が半田(図示ゼず)で固
着されている。
いて、第1の支持板1の上に第1の半導体素子としての
モノリシックICチップ2が半田(図示せず)で固着さ
れ、また第2の支持板3の上に第2の半導体素子として
のパワートランジスタチップ4が半田(図示ゼず)で固
着されている。
第1及び第2の支持板1.3i!J−ドフレームの一部
であって、ここに外部リードが連結されている。リード
フレームは更に、非連結外部リード7゜8.9等ン有す
る。ICチップ2は、上面に複数の金属電極10.17
.72,13.14.15.16′¥有し、下面に第3
図に示す金属電極17を鳴丁ル。パワートランジスタチ
ップ3は上面にエミッタ電極18とベース電極19とを
有し、下面に第3図に示すコレクタ電極20を有する。
であって、ここに外部リードが連結されている。リード
フレームは更に、非連結外部リード7゜8.9等ン有す
る。ICチップ2は、上面に複数の金属電極10.17
.72,13.14.15.16′¥有し、下面に第3
図に示す金属電極17を鳴丁ル。パワートランジスタチ
ップ3は上面にエミッタ電極18とベース電極19とを
有し、下面に第3図に示すコレクタ電極20を有する。
ICチップ2における第1の被ボンディング部分として
の電極11とトランジスタチップ4における第2の被ボ
ンディング部分としてのエミッタ電極18とは第1の配
線用リード細線21aで接続サレ、エミッタ電極18と
第3の被ボンディング部分としての外部リード9とは第
2の配線用リード細a21bで接続されている。他の電
極相互間及び電極と外部リード7.8との間は別の配線
用リード細線22でそれぞれ接続されている。ここで5
重要なことは、第1の配線用リード細線21aの一端が
ポールボンディングで電極11に接続すれ、他端がステ
ッチボンディングでエミッタ電極18に結合され、第2
の配線用リードall線21bの一端が第1の配線用リ
ード細線21のステッチボンディング部分の少なくとも
一部ビ覆うようにポールボンディングされ、他端が外部
リード9にステッチボンディングされていることである
。
の電極11とトランジスタチップ4における第2の被ボ
ンディング部分としてのエミッタ電極18とは第1の配
線用リード細線21aで接続サレ、エミッタ電極18と
第3の被ボンディング部分としての外部リード9とは第
2の配線用リード細a21bで接続されている。他の電
極相互間及び電極と外部リード7.8との間は別の配線
用リード細線22でそれぞれ接続されている。ここで5
重要なことは、第1の配線用リード細線21aの一端が
ポールボンディングで電極11に接続すれ、他端がステ
ッチボンディングでエミッタ電極18に結合され、第2
の配線用リードall線21bの一端が第1の配線用リ
ード細線21のステッチボンディング部分の少なくとも
一部ビ覆うようにポールボンディングされ、他端が外部
リード9にステッチボンディングされていることである
。
第1図で破線23で示す部分は絶縁性合成樹脂によって
被覆される。なお、電極10〜16、エミッタ[極18
.及びベース電極19はアルミニウム電極であり、第1
及び第2の配線用リード細M21a、21b及びその他
のリード細線22は金(Au ) MfI線である。
被覆される。なお、電極10〜16、エミッタ[極18
.及びベース電極19はアルミニウム電極であり、第1
及び第2の配線用リード細M21a、21b及びその他
のリード細線22は金(Au ) MfI線である。
次に、第1及び第2の配線用リード細線21a。
21bのボンディング方法を第3図ン参照して詳しく述
べる。まず、第3図囚に示す如く、ワイヤボンダのキャ
ピラリ24の中央のワイヤ繰り出し孔25から繰り出さ
れている細線21の先端に電気スパークまたは水素炎に
てポール2(5’a’2形成する。ここで、ボール26
aの直径は細線21の直径の2〜3倍Qてする。
べる。まず、第3図囚に示す如く、ワイヤボンダのキャ
ピラリ24の中央のワイヤ繰り出し孔25から繰り出さ
れている細線21の先端に電気スパークまたは水素炎に
てポール2(5’a’2形成する。ここで、ボール26
aの直径は細線21の直径の2〜3倍Qてする。
次に、第3図(BJに示すように、第1の被ボンディン
グ部分である電極11VCポール26aYキヤピラリ2
4の先端加工面で押し付ける。このとき、電極11は加
熱されており、キャピラリ24には電極11の表面と平
行する方向に超音波による撮動が腑見られている。これ
により、熱圧着ボンディングと超音波ボンディングの併
用により、電極11に、!8821が釘頭状に接続され
たポールボンディング部26が形成される。
グ部分である電極11VCポール26aYキヤピラリ2
4の先端加工面で押し付ける。このとき、電極11は加
熱されており、キャピラリ24には電極11の表面と平
行する方向に超音波による撮動が腑見られている。これ
により、熱圧着ボンディングと超音波ボンディングの併
用により、電極11に、!8821が釘頭状に接続され
たポールボンディング部26が形成される。
次いで、第3図(C)に示すように、キャピラリ24を
細線21娶繰り出しながら上昇させて大きく引き回すよ
うにして、第2の被ボンディング部分であるエミッタ電
極18に向って移動する。
細線21娶繰り出しながら上昇させて大きく引き回すよ
うにして、第2の被ボンディング部分であるエミッタ電
極18に向って移動する。
次に、第3図0に示すように、エミッタ電極18に対し
てMB線21ビキャビラリ24の加圧面にて押し当て、
細線21ン押し潰してエミッタ電極18に接続する。こ
れにより、ステッチボンディング部27が形成さTしる
。このとき、エミッタ電極18は加熱されており、キャ
ピラリ24には前述のように超音波撮動が謔えられてい
る。
てMB線21ビキャビラリ24の加圧面にて押し当て、
細線21ン押し潰してエミッタ電極18に接続する。こ
れにより、ステッチボンディング部27が形成さTしる
。このとき、エミッタ電極18は加熱されており、キャ
ピラリ24には前述のように超音波撮動が謔えられてい
る。
次に、第3図■に示すように、キャピラリ24?所定の
高さまで上昇さセ、細線21をキャピラリ24から1繰
り出さないように固定した状態としてキャピラリ24を
更に上昇させて細線21を切断する。細a21はステッ
チボンディング部27で押し潰されているので、第3図
[F]に示す如くステッチボンディング部27の端部で
切断され、細!!21がキャピラリ24から賂一定量だ
け導出された状態になる。以上の工程で電極11とエミ
ッタ電極18とが第1の配線用リード細線21aで接続
される。
高さまで上昇さセ、細線21をキャピラリ24から1繰
り出さないように固定した状態としてキャピラリ24を
更に上昇させて細線21を切断する。細a21はステッ
チボンディング部27で押し潰されているので、第3図
[F]に示す如くステッチボンディング部27の端部で
切断され、細!!21がキャピラリ24から賂一定量だ
け導出された状態になる。以上の工程で電極11とエミ
ッタ電極18とが第1の配線用リード細線21aで接続
される。
次に、第3図(G)に示すようにキャピラリ24から導
出されているa3線21娶火花又は炎で加熱してボール
23aを第6図(2)と同様に形成する。
出されているa3線21娶火花又は炎で加熱してボール
23aを第6図(2)と同様に形成する。
次に、このボール28akステツチボンディング部27
の上にキャピラリ24で押し付けて第3図■の場合と同
一の方法でポールボンディング部28を第3図(Hlに
示すように形a:する。
の上にキャピラリ24で押し付けて第3図■の場合と同
一の方法でポールボンディング部28を第3図(Hlに
示すように形a:する。
次に、キャピラリ24乞第6図fIIに示すように上昇
させ、第3の被ワイヤボンディング部分としての外部リ
ード9の先端部上に移動させ、第3図(Jlに示す如く
ステッチボンディング部29ン第6図[F]の工程と同
一の方法で形成する。なお、第3図fJlは第2図のJ
−J線に対応する断面図である。
させ、第3の被ワイヤボンディング部分としての外部リ
ード9の先端部上に移動させ、第3図(Jlに示す如く
ステッチボンディング部29ン第6図[F]の工程と同
一の方法で形成する。なお、第3図fJlは第2図のJ
−J線に対応する断面図である。
その後、キャピラリ24を第3図■[F]と同様に移動
し、J[121を、ステッチボンディング部29から切
断する。これにより、エミッタ電極1日と外部リード9
とが第2の配線用リード細線21bで接続される。第2
の配線用リードa線21bは第2図に示す如く第1の配
線用リード細線21aの延びる方向に対して略直角な方
向に延びている。
し、J[121を、ステッチボンディング部29から切
断する。これにより、エミッタ電極1日と外部リード9
とが第2の配線用リード細線21bで接続される。第2
の配線用リードa線21bは第2図に示す如く第1の配
線用リード細線21aの延びる方向に対して略直角な方
向に延びている。
また、ポールボンディング部28はステッチボンディン
グ@2フ及し゛この近傍のリード細@ 21 aの両方
ビ覆い且つこれ等乞跨ぐように形成されている。
グ@2フ及し゛この近傍のリード細@ 21 aの両方
ビ覆い且つこれ等乞跨ぐように形成されている。
本実施例は次の利虞を有する。
+I+ ポールボンディング部28にステッチボンデ
ィング部27及びこの近傍のリード細線2ia乞跨ぐよ
うに形成するので、ステッチボンディング部27VCよ
る接続の補強が達成される。−!た。
ィング部27及びこの近傍のリード細線2ia乞跨ぐよ
うに形成するので、ステッチボンディング部27VCよ
る接続の補強が達成される。−!た。
ステッチボンディング部27とポールボンディング部2
90合計の肉厚が40〜50〃mとなるため、ステッチ
ボンディング部27のみの厚さ(約10μm)よりも大
@に厚くなる。この結果、ボンディング終了後に、装置
?高温放置試験(例えば200℃、20時間放置)にか
けることによってAIから成るエミッタ電極18とAu
′fJ)ら成るリード細線21aとに基づ< AuAl
2. ALIAI等から成るAu −A1合金層の成長
が生じても、この合金層がステッチボンディング部27
とポールボンディング部28との組み合セボンディング
部の全部に及ぶことはない。このため、クラックに基づ
く接続不良の発生が防止される。もし、約10μmのス
テッチボンディング部27のみであれば、Au −A1
合金層が略全部に拡がり、クラックによる接続不良が発
生する。
90合計の肉厚が40〜50〃mとなるため、ステッチ
ボンディング部27のみの厚さ(約10μm)よりも大
@に厚くなる。この結果、ボンディング終了後に、装置
?高温放置試験(例えば200℃、20時間放置)にか
けることによってAIから成るエミッタ電極18とAu
′fJ)ら成るリード細線21aとに基づ< AuAl
2. ALIAI等から成るAu −A1合金層の成長
が生じても、この合金層がステッチボンディング部27
とポールボンディング部28との組み合セボンディング
部の全部に及ぶことはない。このため、クラックに基づ
く接続不良の発生が防止される。もし、約10μmのス
テッチボンディング部27のみであれば、Au −A1
合金層が略全部に拡がり、クラックによる接続不良が発
生する。
(2)エミッタ電極18上に第2”の配線用リード、i
線21bビ接続するための独豆のスペースヲ設けること
が不要になるので、エミッタ電極18の面積を小さくす
ることができる。
線21bビ接続するための独豆のスペースヲ設けること
が不要になるので、エミッタ電極18の面積を小さくす
ることができる。
第5図は本発明の別の実施例に係わる混成集積回路の一
部を示す平面図である。この実施例は。
部を示す平面図である。この実施例は。
第1の被ボンディング部分と第2の被ボンディング部分
を接続する第1の配線用リード細線と、第2の被ボンデ
ィング部分と第3の被ボンディング部分を接続する第2
の配線用リード細線とを有する電気装置の製造方法にお
いて、キャピラリから繰り出された細線を前記第1の被
ボンディング部分にボールボンディングした後にリード
フレーム上に載置された中継部材の主面に形成されてお
り。
を接続する第1の配線用リード細線と、第2の被ボンデ
ィング部分と第3の被ボンディング部分を接続する第2
の配線用リード細線とを有する電気装置の製造方法にお
いて、キャピラリから繰り出された細線を前記第1の被
ボンディング部分にボールボンディングした後にリード
フレーム上に載置された中継部材の主面に形成されてお
り。
かつリードフレームと電気的に絶縁されている第2の被
ボンディング部分にステッチボンディングし1次に、キ
ャピラリから繰り出された細線を第2の被ボンディング
部分に形成されたステッチボンディング部分の少なくと
も一部を覆うよ5にボールボンディングし、しかる後、
第3の被ボンディング部分にステッチボンディングする
方法に関する。
ボンディング部分にステッチボンディングし1次に、キ
ャピラリから繰り出された細線を第2の被ボンディング
部分に形成されたステッチボンディング部分の少なくと
も一部を覆うよ5にボールボンディングし、しかる後、
第3の被ボンディング部分にステッチボンディングする
方法に関する。
第5図から明らかなように、リードフレームの支持板3
1の上面にはモノリシックICチップ32が半田(図示
せず〕を介して固着されており。
1の上面にはモノリシックICチップ32が半田(図示
せず〕を介して固着されており。
モノリシックICチップ32の側方には中継部材33が
接着剤(図示せず)′?:介して固着されている。中継
部材33はセラミックス等の絶縁材料から成る基板34
の1面に銀−パラジウム等から成る電極体35を有する
ものである。なお、電極体35は下方の支持板31と電
気的に絶縁されている。本実施例ではモノリシックIC
ラッグ32上に形成された第1の金属電極66と第1の
外部リード37とは1本のリード細線38で電気的に接
続されているが、外部リード、の配置さ2’した側から
遠い位置にある第2の金属電極39と第2の外部リード
40とは中継部材33ン介して2本のIJ−ド細a41
.42によって電気的に接続されている。このため、第
2の金属電極39と第2の外部リード40とを1本のリ
ード細線で接続した場合に比べてリード細線の接続距離
が減少するからり一ド細線の大きな垂下を制限すること
ができる。
接着剤(図示せず)′?:介して固着されている。中継
部材33はセラミックス等の絶縁材料から成る基板34
の1面に銀−パラジウム等から成る電極体35を有する
ものである。なお、電極体35は下方の支持板31と電
気的に絶縁されている。本実施例ではモノリシックIC
ラッグ32上に形成された第1の金属電極66と第1の
外部リード37とは1本のリード細線38で電気的に接
続されているが、外部リード、の配置さ2’した側から
遠い位置にある第2の金属電極39と第2の外部リード
40とは中継部材33ン介して2本のIJ−ド細a41
.42によって電気的に接続されている。このため、第
2の金属電極39と第2の外部リード40とを1本のリ
ード細線で接続した場合に比べてリード細線の接続距離
が減少するからり一ド細線の大きな垂下を制限すること
ができる。
本実施例では第2の金属電極39が第1の被ボンディン
グ部分、中継部材33の電極体35が第2の被ボンディ
ング部分、そして第2の外部リード407jZ第3の被
ボンディング部分となる。また。
グ部分、中継部材33の電極体35が第2の被ボンディ
ング部分、そして第2の外部リード407jZ第3の被
ボンディング部分となる。また。
リード細線41.42はそれぞれ第1の配線用リード細
線と第2の配線用リード細線となる。リード細線41は
第2の金属1極39にボールボンディングされた後、電
極体35にステッチボンディングされている。また、リ
ード細a42は電極体35にリード細線41のステッチ
ボンディング部分の少なく°とも一部を覆うよ5にボー
ルボンディングされた後に、第2の外部リード40にス
テッチボンディングされている。
線と第2の配線用リード細線となる。リード細線41は
第2の金属1極39にボールボンディングされた後、電
極体35にステッチボンディングされている。また、リ
ード細a42は電極体35にリード細線41のステッチ
ボンディング部分の少なく°とも一部を覆うよ5にボー
ルボンディングされた後に、第2の外部リード40にス
テッチボンディングされている。
第5図の実施例では第1図〜第6図に示す実施例ト同様
に第2のボンディング部分の接続強度を増加することが
できる。また、第2の被ポンディング部分(電極体35
)の面積?減少できるため中継部材63を小型化でき、
高密度実装やコストの点で有力となる。また、電極体6
5の面積を小さく形成できるために電極体35と支持板
31との間のギヤパシタンス(対地容量〕を減少するこ
とができる。さらに、リード細線41と42が直接に接
続されているために、電極体35の電気抵抗の回路特性
への影響が回避できる。なお、中継部材33はリードフ
レームの支持板31以外の部分に固着されていてもよい
。
に第2のボンディング部分の接続強度を増加することが
できる。また、第2の被ポンディング部分(電極体35
)の面積?減少できるため中継部材63を小型化でき、
高密度実装やコストの点で有力となる。また、電極体6
5の面積を小さく形成できるために電極体35と支持板
31との間のギヤパシタンス(対地容量〕を減少するこ
とができる。さらに、リード細線41と42が直接に接
続されているために、電極体35の電気抵抗の回路特性
への影響が回避できる。なお、中継部材33はリードフ
レームの支持板31以外の部分に固着されていてもよい
。
本発明は上述の実施例に限定されるものでなく。
例えば次の変形が可能である。
+I+ 第4図に示す如く、第2の配線用リード細a
21bicより”(I C−y”zプ2(D電極11
とxiフッタ極18とを接続してもよい。これにより、
画電極11.13間が二重に接続され、配線の電流容量
を増大させることが可能になり、且つ第2の配線用リー
ド細線21bの一端のボールボンディング部28がステ
ッチボンディング部27の補強に寄与する。
21bicより”(I C−y”zプ2(D電極11
とxiフッタ極18とを接続してもよい。これにより、
画電極11.13間が二重に接続され、配線の電流容量
を増大させることが可能になり、且つ第2の配線用リー
ド細線21bの一端のボールボンディング部28がステ
ッチボンディング部27の補強に寄与する。
(21第2の配線用リード細!ij2 l bの面端を
リードフレーム9及び1cテツプ2以外の第3の手導体
素子に接続する場合にも適用可能である。
リードフレーム9及び1cテツプ2以外の第3の手導体
素子に接続する場合にも適用可能である。
1述から明らかなように5本発明によれば、ステッチボ
ンディング部の補強を達成することができると共に、″
41ボンディング部分の面積を小さくすることができる
。
ンディング部の補強を達成することができると共に、″
41ボンディング部分の面積を小さくすることができる
。
第1図は本発明の一実施例に係わる混成集積回路装置の
一部を説明的に示す平面図。 第2図は第1図の一部を拡大して示す平面図。 第3図囚〜(J+はボンディングを工程順に示す断面図
。 第4図は変形例の混成集積回路装置の一部を示す平面図
。 第5図は別の実施例に係わる混成集積回路装置の一部?
示す平面図である。 2・・モノリシックICチップ、4・・・パワートラン
ジスタチップ、9・・・外部リード、11・・・電極。 18・・・工ξツタ電極、21a・・・第1の配線用リ
ード細線、21b・・・第2の配線用リード細線、24
・・・キャピラリ、26・・・ポールボンディング部、
27・・・ステッチポンディング部、28・・・ポール
ボンディング部、29・・・ステッチポンディング部。 代 理 人 高 野 則 次第1図 第2図 −0 第3図 第3図 21a 第3図 第4図
一部を説明的に示す平面図。 第2図は第1図の一部を拡大して示す平面図。 第3図囚〜(J+はボンディングを工程順に示す断面図
。 第4図は変形例の混成集積回路装置の一部を示す平面図
。 第5図は別の実施例に係わる混成集積回路装置の一部?
示す平面図である。 2・・モノリシックICチップ、4・・・パワートラン
ジスタチップ、9・・・外部リード、11・・・電極。 18・・・工ξツタ電極、21a・・・第1の配線用リ
ード細線、21b・・・第2の配線用リード細線、24
・・・キャピラリ、26・・・ポールボンディング部、
27・・・ステッチポンディング部、28・・・ポール
ボンディング部、29・・・ステッチポンディング部。 代 理 人 高 野 則 次第1図 第2図 −0 第3図 第3図 21a 第3図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 第1の被ボンディング部分と第2の被ボンディング部
分を接続する第1の配線用リード細線と、前記第2の被
ボンディング部分と第3の被ボンディング部分又は前記
第1の被ボンディング部分とを接続する第2の配線用リ
ード細線とを有する電気装置の製造方法において、 キャピラリから繰り出された細線を前記第1の被ボンデ
ィング部分にボールボンディングした後に前記第2の被
ボンディング部分にステッチボンディングし、次に、前
記キャピラリから繰り出された細線を前記ステッチボン
ディングの部分の少なくとも一部を覆うようにボールボ
ンディングし、しかる後、前記第3の被ボンディング部
分又は前記第1の被ボンディング部分にステッチボンデ
ィングすることを特徴とするリード細線を有する電気装
置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63201216A JPH01251627A (ja) | 1987-12-30 | 1988-08-12 | リード細線を有する電気装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-336115 | 1987-12-30 | ||
JP33611587 | 1987-12-30 | ||
JP63201216A JPH01251627A (ja) | 1987-12-30 | 1988-08-12 | リード細線を有する電気装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01251627A true JPH01251627A (ja) | 1989-10-06 |
Family
ID=26512661
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63201216A Pending JPH01251627A (ja) | 1987-12-30 | 1988-08-12 | リード細線を有する電気装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01251627A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002353267A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ワイヤボンディング方法 |
KR100388295B1 (ko) * | 2000-10-26 | 2003-06-19 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 와이어 본딩 구조 및 그 방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5712530A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-22 | Hitachi Ltd | Wire bonding method |
-
1988
- 1988-08-12 JP JP63201216A patent/JPH01251627A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5712530A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-22 | Hitachi Ltd | Wire bonding method |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100388295B1 (ko) * | 2000-10-26 | 2003-06-19 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 와이어 본딩 구조 및 그 방법 |
JP2002353267A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ワイヤボンディング方法 |
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