JPH01248554A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JPH01248554A
JPH01248554A JP63077330A JP7733088A JPH01248554A JP H01248554 A JPH01248554 A JP H01248554A JP 63077330 A JP63077330 A JP 63077330A JP 7733088 A JP7733088 A JP 7733088A JP H01248554 A JPH01248554 A JP H01248554A
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input
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voltage
input buffer
integrated circuit
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Toshio Mitsumoto
敏雄 三本
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は半導体集積回路装置に関し、特に入力バッファ
回路の誤動作を防止することのできる半導体集積回路装
置に関する。
(従来の技術) 半導体集積回路装置には入力バッファ回路及び出力バッ
ファ回路が設けられることがある。そのような半導体集
積回路装置の構成を第5図に示す。
第5図に於いて、−点鎖線で囲まれた部分が考慮してい
る半導体集積回路装置1である。この半導体集積回路袋
f1では、入力端を構成する入力パッド2と入力バッフ
ァ回路3との間に静電破壊防止用の抵抗4が接続されて
いる。抵抗4と入力バッファ回路3との間の接続点5と
共通接地、*Gdとの間には、保護用としてnチャネル
のMOS電界効果型トランジスタ(以下、必要に応じて
「MO3FETJ又はrFET、と略称する)6が接続
されている。
入力バッファ回路3は、pチャネルMOSFET8及び
nチャネルMOSFET9を、それぞれのゲート及びド
レインを共通接続することにより構成されており、共通
接続されたゲートが上記接続点5に接続されており、共
通接続されたドレイン側は出力ノード10に接続されて
いる。この出力ノード10は、図示しない集積回路装置
の他の内部回路に接続されている。
他方、集積回路装置1の出力側には、同様にp及びnチ
ャネルMO3FET11.12のドレインを共通に接続
して構成された出力バッファ回路13が設けられている
。共通接続されたドレインに出力信号パッド14が接続
されており、該出力パッド14から出力を取り出し得る
ようにされている。
また、入力バッファ回路3及び出力バッファ回路13は
共通接地1iGdに共通に接続されており、出力側に於
いては共通接地線Gdに電極パッド15が電気的に接続
されている。
インダクタンスL、及びL2は、出力バッド14及び電
極パッド15より導出されており、かつシステム側に接
続するため配線手段によるインダクタンス分を等価的に
それぞれ示したものである。
即ち、ボンディングワイヤ、パッケージ・フレームの配
線及びプリント配線基板上の種々の配線手段に含まれる
インダンクタンスの総和を等価的に示すものである。ま
た、Cは、この半導体集積回路装置1の出力信号の負荷
容量を示す、尚、16はシステムに於ける基準電位端子
を示し、17は集積回路装置1以外のシステムを構成し
ている部分を示している。
上記構成に於いては、システムの他の部分17より接続
ライン18を介して入力パッド2に信号が入力されると
、その入力情報に対応した出力信号が出力バッファ回路
13の出力バッド14に現れ、該出力情報がインダクタ
ンスL、を介してシステムの他の部分17に送られる。
(発明が解決しようとする課題) 上記のような構成の半導体集積回路装置では、出力バッ
ファ回路13が「ロー」レベルの信号を出力しようとし
た場合、外部配線のインダクタンスL2により、半導体
集積回路装置1の共通接地線G、にノイズ成分が発生し
、該ノイズにより入力バッファ回路3の入力反転電圧が
変動し、入力バッファ回路3が誤った情報を集積回路装
置1内に伝えるという問題がある。
上述の現象は、出力バッファ回路13の駆動能力が大き
く、高速の半導体集積回路装置に於いて、よりま著に発
生し、従って半導体集積回路装置の高速化に対する大き
な障害となっていたばかりでなく、高速の半導体s、′
1f1回路装置を用いたシステム設計を困難なものにし
ている。
上述の問題点のメカニズムを、以下により詳細に説明す
る。
第5図の構成に於いて、初期状態として、出力バッファ
回路13が「ハイコレベルの信号を出力しており、MO
SFETI 1がオン状態、負荷容量Cには「ハイ」レ
ベルが充電されており、入力パッド2には「ハイ」レベ
ルの入力信号電圧■1Nが与えられているものとする。
上記の初期状態から、集積回路装置1が「ロー」レベル
を出力しようとした場合の各ノードの波形を第6図に示
す。
第5図の構成に於いて、FETIIがオフ状態となった
後にFET12がオン状態となると、容量Cに蓄積され
ていた電荷は、インダクタンスし3、FET12、及び
インダクタンスL2の経路でその瞬間に放電される。こ
の放tt流により、インダクタンスL2の両端にスパイ
ク状の電圧が発生し、共通接地線Gdに第6図(b)に
示したスパイク状のノイズ電圧が発生する。
このノイズは、共通接地線G、を介して入力バッファ回
路3に伝搬し、FET8及び9により構成されたインバ
ータ回路の入力反転電圧を第6図(c)の破線20で示
すように変動させる。
上記入力反転電圧をVXとした場合、入力パッド2に与
えられている入力電圧VINとの間の関係が、■I N
 < V 、となった時点で入力バッファ回路3の出力
が反転し、第6図(d)に示したスパイク状の信号が集
積回路装置1内に伝搬され、集積回路装置の誤動作を引
き起こすことになる。
よって、本発明の目的は、上述のような共通接地線を介
して入力バッファ回路に加えられるノイズ成分による入
力バッファ回路の誤動作を確実に防止することができる
構成を備えた半導体集積回路装置を提供することにある
(課題を解決するための手段) 本発明の半導体集積回路装置は、入力端側に接続された
入力バッファ回路、出力バッファ回路、及び両バッファ
回路に共通に接続された共通接地線を有する半導体集積
回路装置であって、該入力端側にソースが、該入力バッ
ファ回路にドレインが接続されているMOS電界効果型
トランジスタと、該MOS電界効果型トランジスタのゲ
ートに、負又は正の所定の値の電圧を印加するために、
該ゲートと負又は正の電位との間に接続された抵抗手段
と、該MOS電界効果型トランジスタのゲートと該共通
接地線との間に接続された静電容量手段とを備えており
、そのことにより上記目的が達成される。
また、前記MOS電界効果型トランジスタのゲートとド
レインとの間に第2の静電容量手段を設けるようにして
もよい。
あるいは、前記MOS電界効果型トランジスタのドレイ
ンと前記共通接地線との間に第3の静電容量手段を設け
るようにしてもよい。
(作用) 本発明の半導体集積回路装置では、入力バッファ回路の
入力端側に入力端との間に上述のようなMOSFETが
接続されており、このFETのゲートが静電容量手段を
介して並びに負又は正の電位に抵抗手段を介して共通接
地線に接続されている。従って、出力バッファ回路側か
らスパイク状のノイズ電圧が共通接地線を介して大力バ
ッファ回路側に伝えられたとしても、上記の負又は正の
電位を基準とするノイズ電圧に対応したスパイク状の電
圧がMOSFETのゲートに与えられる。
それ故、入力バッファ回路の入力反転電圧がノイズによ
りスパイク状に変動したとしても、入力バッファ回路の
入力電圧も入力反転電圧と同期して変動するため、従来
例の場合のような入力バッファ回路の誤反転現象を防止
することができる。
(実施例) 本発明を実施例について以下に説明する。
第1図は本発明の第1の実施例を示す回路図である。第
1図には、半導体集積回路装置の入力バッファ回路及び
それよりも入力側の部分のみを図示している。
入力パッド2は静電破壊防止用の抵抗4に接続されてい
る。抵抗4の他端は、後述のようにp型のMOSFET
22を介して、破線で囲まれた入力バッファ回路3に電
気的に接続されている。尚、7は保護用のMOSFET
を示している。
入力バッファ回路3は、前述の第5図の入力バッファ回
路3と同様であるため、同一部分に同一の参照番号を付
することによりその説明を省略する。また、特に図示は
していないが、出力側についても、第5図に示した集積
回路装置1と同様に構成されている。従って、共通接地
線G、は図示しない出力バッファ回路に接続されている
抵抗4の出力側の接続点21はp型のMOSFET22
のソースに、該FETのドレインは入力バッファ回路3
に接続されている。このMOSFET22のゲートは、
抵抗23を介して負の基準電位−■8に接続されている
。また、FET22のゲート側の接続点24と共通接地
線G、との間にコンデンサ25が接続されている。
次に、第1図の回路の動作を説明する。第5図の従来例
の説明の場合と同様にノイズ成分が共通接地線G、に重
畳した場合の動作を説明する。
入力バッド2に「ハイ」レベルの入力信号電圧VINが
与えられている状態に於いて、出力バッファ回路側の放
電電流に起因するノイズ成分が共通接地線G、に重畳し
た場合の各ノードの波形を第2図に示す。
共通接地線G、に第2図(a)に示すノイズ成分を重畳
した場合、FET8,9により構成されたインバータ回
路の入力反転電圧は第2図(c)に破線30で示すよう
に変動する。
他方、接続点24は、コンデンサ25により共通接地線
G4に接続されているので、該接続点24には第2図(
d)に示すように負電位(Ve)を基準電位とする上記
ノイズ電圧に対応したスパイり状電圧が発生し、これが
FET22のゲートに与えられる。
MOSFET22のチャネル領域とゲートとは酸化膜を
介して容量結合されている。また、接続ライン26はF
ET22のチャネル領域と接続されている。従って、接
続点24におけるスパイク状の電位変化が、接続ライン
26に伝達され、第2図(d)に実線で示すように変化
する。
FET22のゲート電位がスパイク状に上昇するため、
チャネル領域のインピーダンスは、ノイズ成分が大きい
程、即ちスパイク状のゲート電位上昇が大きい程高くな
り、接続ライン26の電荷がFET22を介して接続点
21側に逆流するのを妨げる方向に働く、それ故、接続
ライン26に於けるスパイク状の電位上昇は助長される
よって、入力バッファ回路3の入力反転電圧がスパイク
状に変動したとしても、第2図(c)に示すように接続
ライン26より与えられる入力電圧が入力反転電圧に対
応して同相で変動することになる。従って、従来例で説
明したような入カバソファ回路の誤反転現象は発生しな
い。
第3図は、本発明の第2の実施例を示す回路図である。
この実施例では、第1図の実施例の構成に加えて、さら
に第2のコンデンサ31が、コンデンサ25とFET2
2のゲートとの間の接続点32と、接続ライン26との
間に挿入されている。
この第2のコンデンサ31を挿入することにより、前述
の接続ライン26におけるスパイク状の電位上昇をより
大きくすることができる。
第4図は、本発明の第3の実施例を示す回路図である。
この第3の実施例では、第1図の実施例の構成に加えて
、第3のコンデンサ33が接続ライン26と共通接地線
G、との間に接続されており、第2の実施例と同様に接
続ライン26に於けるスパイク状の電位上昇をより大き
くすることが可能とされている。
尚、基板バイアス発生回路を内蔵した集積回路装置では
、第1図〜第3図に示した負電位−■。とじては、負極
性の基板バイアス電圧を用いることもできる。
(発明の効果) 以上のように、本発明によれば、入力端と入力バッファ
回路との間にMOSFETが接続されており、このMO
SFETのゲートが抵抗手段を介して負又は正の所定の
値の電位に接続されており、かつ静電容量手段を介して
共通接地線に接続されているので、共通接地線にスパイ
ク状のノイズが加えられたとしても、入力バッファ回路
の入力反転電圧の変動に応じて入力電圧も同相で変動す
ることになる。よって、入力バッファ回路のスパイク状
のノイズによる誤動作を確実に防止することができ、従
って非常に強力な駆動能力を有する出力バッファを内蔵
することが可能となり、半導体集積回路装置の高速化が
容易となる。更に、このような高速の半導体集積回路装
置を使用したシステム設計も容易となる。
−f 4日 第1図は本発明の第1の実施例を示す回路図、第2図(
a)〜(e)はその実施例における各ノードの電圧波形
を示す図、第3図は本発明の第2の実施例を示す回路図
、第4図は本発明の第3の実施例を示す回路図、第5図
は従来例を示す回路図、第6図(a)〜(d)は従来例
の各ノードの電圧波形を示す図である。
1・・・半導体集積回路装置、2・・・入力パッド、3
・・・入力バッファ回路、22・・・pチャネルMOS
FET、23・・・抵抗、25・・・コンデンサ、Gd
・・・共通接地線、−VB・・・負電位。
以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、入力端側に接続された入力バッファ回路、出力バッ
    ファ回路、及び両バッファ回路に共通に接続された共通
    接地線を有する半導体集積回路装置であって、 該入力端側にソースが、該入力バッファ回路にドレイン
    が接続されているMOS電界効果型トランジスタと、 該MOS電界効果型トランジスタのゲートに、負又は正
    の所定の値の電圧を印加するために、該ゲートと負又は
    正の電位との間に接続された抵抗手段と、 該MOS電界効果型トランジスタのゲートと該共通接地
    線との間に接続された静電容量手段とを備えている半導
    体集積回路装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH03152797A (ja) * 1989-11-08 1991-06-28 Toshiba Corp 半導体集積回路
US6806516B2 (en) * 2002-05-30 2004-10-19 Renesas Technology Corp. Semiconductor device and system

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