JPH01248155A - レチクル製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体集積回路の製造に用いるレチクルの製造
方法に関するものである。

従来の技術 従来のレチクル製造方法について説明する。

第２図は光方式レチクル描画装置での描画側露光パター
ン図である。図中、１は露光部であり、２は未露光部で
ある。

第３図は縮小カメラを用いてレチクル製造を行った露光
パターン図である。図中の番号は第２図と同様である。

まず、光方式レチクル描画装置で描画を行えば、第２図
のように露光される筈のパターンが、縮小カメラを用い
てレチクル製造を行うと、レンズ歪みのために第３図の
ような湾曲したパターンとなる。そのため、両方式で製
作したレチクルに互換性はない。

半導体装置の製作には、通常１０〜２０枚にも及ぶ多数
のレチクルが必要なうえに、各レチクルの重ね合せ精度
も要求される。そのため、縮小カメラを用いて製造した
レチクルを再製作、あるいはパターンの変更の場合、同
様に、縮小カメラを用いて製作している。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記従来の製造方法では、過去に縮小カ
メラを用いて製造したレチクルの変更品の製造のために
は、再び、同じ縮小カメラを用いなければならず、同装
置自体の遅速性により、多大な時間と費用が必要となる
。

本発明は上記従来の問題点を解決するもので、光方式レ
チクル描画装置に与えるレチクルパターンデータを、縮
小カメラのレンズ歪みデータによって補正することによ
り、高速対応性能の光方式レチクル描画装置を用いて縮
小カメラによって製造されたレチクルと互換性を持っレ
チクルの製造方法を提供することを目的とする。

課組を解決するための手段 この目的を達成するために本発明のレチクル製造方法は
、レチクルを製造する光方式レチクル描画装置に供給す
るパターンデータを、レチクル描画を行う前に１００μ
ｍ以下の単位矩形に分割する工程と、矩形パターンの座
標値を縮小カメラのレンズ歪みのデータを用いて加工を
行う工程とを備えている。

作用 この構成によって、描画されたパターンは、縮小カメラ
の光学系と同様の歪みを生じるため、縮小カメラによっ
て製造されたレチクルと互換性を持つことができる。

実施例 以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。

第１図は光方式レチクル描画装置での描画例である。図
中、１は露光部であり、２は未露光部である。

まず、パターンデータを矩形分割を行い、その一つ一つ
の矩形を、あらかじめ測定していた縮小カメラのレンズ
歪みのデータを用いて座標補正を行う。そして、作成さ
れたパターンデータを光方式レチクル描画装置を用いて
描画すると、第１図のような露光パターンが得られる。

発明の詳細 な説明してきたように、本発明によれば、光方式レチク
ル描画装置用パターンデータに、あらかじめ縮小カメラ
のレンズ歪みに基づく座標値補正を加えることで、縮小
カメラで製造されたレチクルと互換性を持つレチクルを
製造することができる。

【図面の簡単な説明】

装置でレチクル製造を行った時の従来例露光パターン図
、第３図は光方式レチクル描画装置での従来例露光パタ
ーン図である。 １・・・・・・露光部、２・・・・・・未露光部。 代理人の氏名　弁理士　中尾敏男　ほか１名２・−未露
光酔 第２図 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　光方式レチクル描画装置に対して、単位矩形に分割し
   たパターンデータを供給し、同パターンの座標値を所定
   の制御データを用いて移動させて描画する工程をそなえ
   たレチクル製造方法。