JPH01230553A

JPH01230553A - 含窒素複素環四級塩及びその製造方法

Info

Publication number: JPH01230553A
Application number: JP5778388A
Authority: JP
Inventors: Nobuhiko Uchino; 内野　暢彦; Takanori Hioki; 孝徳日置
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1988-03-11
Filing date: 1988-03-11
Publication date: 1989-09-14

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は含窒素複素環四級塩の製造方法に関するもので
あり、さらに詳しく言えば３位にアルキル基金有し、弘
、５位に縮合環を有するλ−アルキルーベンゾオキサシ
リウム、チアゾリウム、セレナゾリウム、テルラゾリウ
ムもしくはイミダゾリウム四級塩類などの製造方法及び
それにより得られた新規な四級塩化合物に関するもので
ある。

（従来の技術）四級塩化合物はそれ自体写真用添加剤として用いられる
ほか、感光材料用増感色素、染料、レーザー色素などの
機能性化合物合成の中間体、原料として有用である。

このような四級塩化合物（下記に示す一般式（Ａ）の合
成法としては下記の（ａ）および（ｂ）ルートがよく知
られている（例えば、アイ・キプリアノ；ｙ　（Ｌ　Ｋ
ｉｐｒｉａｎｏｖ　）、アイ・ケイ・ウシエフ　−ｙ　
（１，に、　Ｕｓｈｅｎｋｏ　）　、ジャーナル・オヅ
・ジェネラル・ケミストリー・オブ・ザ・ユーエスエユ
アー＃（Ｊ、Ｇｅｎ、Ｃｈｅｍ、（Ｕ、Ｓ、Ｓ、Ｒ，）
Ｘ／７巻λ２０／〜２２０７頁（／り≠７年）および第
１り巻／ｊ７ｊ頁、および／ｊ／？頁（ｌり≠２年およ
びエイチ・アクスト（Ｈ，Ｑｕａｓｔ）　、イー・シュ
ミット（Ｅ、　Ｓ　ｃ　ｈｍｓ　ｔ　ｔ　）、ベリヒテ
（Ｂｅｒ、）＠／　”巻、１４１頁（１５’ＡＰ）に記
載されている。）一般式（Ａ）Ｃａ）ルート（式中、Ｘｌｌ　、Ｘ１ｚ、Ｘ１３は離脱基、Ｘ１４は
水素原子もしくはアリール基、Ｒ１１は置換もしくは無
置換のアルキル基、Ｒ１２は置換もしくは無置換のアル
キル基、置換もしくは無置換のアリール基、Ｙｌｌは水
素原子、−価の有機残基、Ｚｕは酸素原子、硫黄原子、
セレン原子、テルル原子などを示す。）一般的には、原料としての（Ｈ）の入手あるいは合成が
比較的容易なことから＜ａ＞ルートによる（Ａ）の合成
の方が（ｂ）ルートに比べて簡便であるとされている。

（発明が解決しようとする問題点）しかし、（ａ）ルートでの合成法では化合物（Ｂ）にお
いてＹｌｌが弘、５位の縮合環を表わすとき、その立体
障害のため、Ｒ１１がプロピル基以上の置換基を持つ化
合物（Ａ）ｔ−合成することはその非常な低収率のため
に単離することが困難であり、その工業的な製造が困難
であった。

例えばその低収率であることは次の通りである。

反応率２！チ反応率　、２嗟そこで、このような弘、３倍に縮合環を有する四級塩類
を、高収率で単離可能な方法で合成する合成法の開発が
望ツれていた。

一方、（ｂ）ルートの合成法は、出発物質である化合物
（Ｃ）の入手が困難であった。そのため化合物（Ｃ）に
おいてＹｌｌが弘、ｊ位の縮合環を表わすとき、この合
成ルートによる合成法について十分に研究がなされてい
ないのが実情である。

一方、このような化合物（Ａ）において≠、５位の縮合
環を有するような四級塩Ｕｔ−１高収率で、単離可能な
方法で合成する方法の開発が望まれていた。

（問題点を解決するための手段）本発明者らは上記の従来法の欠点を克服するため種々検
討を重ねた結果、化合＊（Ｃ）のＹｌｌが弘、ｊ位の縮
合環を表わすものの高収率の合成法を確立し、しかもこ
の化合物を出発物質として、化合物（Ａ）において≠、
５位に縮合環を表わす化合物が意外にも前記（ｂ）ルー
トによって高収率で合成できることを見出し、この知見
に基づき本発明をなすに至った。

すなわち本発明は、一般式（Ｉ）で表わされる四級塩化
合物を調製するに当り、一般式（Ｉ）（式中、Ｚは酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル
原子、−Ｎ−（ただし、Ｒ３は水素原子、（ただし、Ｒ
４ｓ　Ｒ５は水素原子、アルキル基をそれぞれＶｌ、Ｖ
２と同義である）を示し、（Ｒ１はアルキル基を示し、
Ｒ２はアルキル基、アリール基、Ｖｌ、ｖ２は水素原子
、アルキル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルフ
ァモイル基、カルボキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、
アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはアリー
ル基金示し、Ｑは縮合環を形成するに必要な原子群を示す。

Ｘ１ｅは陰イオンを示す。ｎ＝ｏまたは７以上の整数で
ある。ただし、分子内塩を形成するときはｎ＝ｏである
。、）一般式（Ｉｆ）で表わされる化合物と一般式（ＩＩＩ）
または一般式（Ｗ）または一般式（Ｖ）で表わされる化
合物とを反応させることを特徴とする含窒素複素環四級
塩の製造方法である。

一般式（ＩＩ）（式中、２％Ｒ１、Ｖｌ、■２及びＱは前記と同じ意味
をもつ。）一般式（ＩＩＩ）Ｒ２−Ｃ−Ｘ２（式中、Ｒ２は前記と同じ意味をもち、Ｘ２は離脱基金
表わす。）一般式（■）Ｒ２−Ｃ（Ｘ３）３（式中、Ｒ２は前記と同じ意味をもち、Ｘ３は離脱基を
表わす。）一般式（Ｖ）Ｒｚ　　Ｃ（Ｘ４）　＝　ＮＸ５（式中、Ｒ２は前記と同じ意味をもち、Ｘ４は離脱基、
Ｘ５は水素原子またはアリール基金表わす。）なお、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のアルキル基、Ｒ
２、Ｒ３のアリール基は置換基によって置換されていて
もよい。

またｖｌ、ｖｌのアルキル基、アシル基、アシルオキシ
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルフ
ァモイル基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシ基
、アリール基は置換基によって置換されていてもよい。

また、本発明は一般式（Ｗ）で表わされる新規な含窒素
複素環四級塩化合物である。

一般式（Ｗ）（式中、Ｒ５は炭素数３〜／♂のアルキル基金表わす。

Ｘ６°は陰イオンを表わす。ｍは０以上の数である。た
だし、分子内塩を形成するときはｍ＝Ｏである。）次に、上記一般式（１〜（ｌで表わされる化合物ニオは
ルＺ１　ｓ　Ｒ１、Ｒ２、Ｖｌ、ｖｌ、Ｑ、　Ｘ工、Ｘ
２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、ｘ６゜についてさらに詳細に説
明する。

Ｚは炭素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子、ま
たは−Ｎ−（ただし、Ｒ３は水素原子、無置換アルキル
基（例えばメチル基、エチル基など）、置換アルキル基
（例えばコーヒドロキシエチル基など）、無置換アリー
ル基（例えばフェニル基など）、置換アルキル基（例え
ばｐ−クロロフェニル、ｐ−メチルフェニル、ｐ−メト
キシフェニル基など））を表わす。

Ｒ１は好ましくは炭素数／を以下の無置換アルキル基（
例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピルａ、ｎ−ブチ
ル基、ｎ−アミル基など）、置換アルキル基（置換基と
して例えば、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、ハロ
ゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子など
）、ヒドロキシ基、炭素数ｒ以下のアルコキシカルボニ
ル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボ
ニル基など）、炭素数ｒ以下のアルコキシ基（例えばメ
トキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチル
オキシ基など）、炭素数ＩＯ以下の単環式のアリールオ
キシ基（例えばフェノキシ基ｓ　ｐ　　Ｆ　’）ルオキ
シ基など）％炭素数３以下のアシルオキシ基（何えばア
セチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、炭素数
？以下のアシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基
、ベンゾイル基、メシル基など）、カルバモイル基（例
エバカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイル基
、モルホリノカルボニル基、ピＲリジノカルボニル基な
ト）、スルファモイル基（例えばスルファモイル基、Ｎ
、Ｎ−ジメチルスルファモイル基など）、炭素数ＩＯ以
上のアリール基（例えばフェニル基、弘−クロルフェニ
ル基、弘−メチルフェニル基、α−す７チル基など）、
ビニル基などで置換された炭素数／ｒ以下のアルキル基
）が好ましい。

特にＲ１としては、無置換アルキル基（例えばｎ−プロ
ピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル、
ｎ−オクチルが好ましい。

Ｒ２は無置換アルキル基（例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基）、置換アルキル基（置換基として例え
ば、スルホ基、カルボキシ基で置換され九炭素数／♂以
下のアルキル基）、無置換アリール基（例えばフェニル
基）、置換アリール基（例えばｐ−クロロフェニル、ｐ
−メチルフェニル、ｐ−メトキシフェニル）が好ましい
。

特にＲ２としてはメチル基が好ましい。

ｖｌ、Ｖ２としては、互いに同一でも異なっていてもよ
くそれぞれ水素原子、炭素数ＩＯ以下の無置換のアルキ
ル基（例えばメチル基、エチル基など）、炭素数／♂以
下の置換アルキル基（例えばベンジル基、α−ナフチル
メチル基、λ−フェニルエチル基、トリフルオロメチル
基）、ハロケン原子（例えば塩素原子、フッ素原子、臭
素原子）、Ｄ、ｇ数ｉｏ以下のアシル基（例えばアセチ
ル基、ベンゾイル基、メシル基など）、炭素数１０以下
のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基など）、炭素数
１０以下のアルコキシカルボニル基（側光ばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基など）、置換もしくは無置換のカルバモイル
基（例えばカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニ
ル基など）、置換もしくは無置換のスルファモイル基（
例えばスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジメチルスルファモ
イル基、モルホリノスルホニル基、ピはリジノスルホニ
ル基なト）、カルボキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、
アミノ基、炭素数ｒ以下のアシルアミノ基（例えばアセ
チルアミノ基など）、炭素数１０以下のアルコキシ基（
例えばメトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基など
）、アリール基（例えばフェニル基、トリル基など）が
好ましい。

Ｑは縮合環を表わす。例えば、炭素原子からのみ構成さ
れる縮合環〔例えば無置換ベンゼン環、置換基２有する
ベンゼン環（置換基として例えば、炭素数ＩＯ以下の無
置換のアルキル基（例えばメチル基、エチル基など）、
炭素数／ｒ以下の置換アルキル基（例えばベンジル基、
α−ナフチルメチル基、コーフェニルエチル基、トリフ
ルオロメチル基）、ハロゲン原子（例えば塩素原子、フ
ッ素原子、臭素原子）、炭素数／θ以下のアシル基（例
えばアセチル基、ベンゾイル基、メシル基など）、炭素
数７０以下のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基など
）、炭素数ＩＯ以下のアルコキシカルボニル基（例えば
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基など）、置換もしくは無置換のカ
ルバモイル基（例えばカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルカルバモイル基、モルホリノカルｌニル基、ピ、＜　
リジノカルボニル基など）、置換もしくは無置換のスル
ファモイル基（例えばスルファモイル基、ＮｌＮ−ジメ
チルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基、ピペ
リジノスルホニル基なト）、カルボキシ基、シアノ基、
ヒドロキシ基、アミン基、炭素数を以下のアシルアミノ
基（例えばアセチルアミノ基など）、炭素数７０以下の
アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、ベンジ
ルオキシ基など）、アリール基（例えばフェニル基、ト
リル基など）が好ましい。）シクロはンタジエン環、ト
ロビリデン環など〕または、含へテロ原子縮合環（例えば置換もしくは無置
換のピリジン環、７ラン環、チオフェン環、ピロール環
、チアゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、ト
リアゾール環など）などが好ましい。

特に好ましくは、置換もしくは無置換のベンゼン環であ
る。

Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４は一般に有機合成化学で用いられる脱
離苓を表わし、例えばシェリー・マーチ（Ｊｅｒｒｙ　
Ｍａｒｃｈ　）著「アドパｙス）”−オーミニツク・ケ
ミストリー：リアクション、メカニズム。

アンド・ストラフチャー（ＡｄｖａｎｃｅｄＯｒｇａｎ
ｉｃ　　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ：Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ。

Ｍｅｃｈａｎｉｓｍ、ａｎｄ　５ｔｒｕｃｔｕｒｅ）Ｊ
（マツフグロラーヒル・コラガクシャ　Ｍｃｇｒａｗ−
ｈｉｌｌＫｏｇａｋｕｓｈａ刊」　／り７７年）（ｙ、
２ｔｊ　〜４Ｌｊλに記載されている離脱基を意味して
おり、具体的には、ヒドロキシ基、アシル基（例えばア
セチル基、プロピオニル基など）、アミノ基、アニリノ
基、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基など
）１、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）な
どが好ましい。

Ｘ５は水素原子またはアリール基金表わす。

Ｘ１ｅは脱離基Ｘ２の陰イオン、または反応後に単離を
容易圧するために変換した陰イオンでもよい。具体的に
は無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであって
もよく、例えばノ１０グンイオン（例えばフッ素イオン
、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど）、置換
アリールスルホン［オン（例えばｐ−）ルエンスルホン
酸イオン、ｐ−クロルフェニルスルホン酸イオンナト）
、ナフタレンジスルホン酸イオン（例えハ、’　ｒ　’
−ナフタレンジスルホン酸イオン）、）ＩＪフルオロメ
タンスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、ア
ルキル硫酸イオン（例えばメチル硫酸イオン、エチル硫
酸イオンなど）、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン
などが挙げられ、この中でもヨウ素イオン、ｐ−１ルエ
ンスルホン酸イオン、アルキル硫酸イオンが好ましい。

本発明方法において一般式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表わさ
れる化合物を一般式（ＩＩ）で表わされる化合物に対し
て７〜７０モル当量用いて反応を行わせることが好まし
く、７〜３モル当量用いるのがより好ましい。−紋穴（
ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表わされる化合物が１モル当量未満
では吸率の減少が著しくなり、１０モル当当量超越ると
生成物を単離するのが困難になる。

反応温度は好ましくはコ！〜コ０°Ｃ１よシ好ましくは
ｔｏ〜／コ０°Ｃであシ、温度が２３０Ｃ未満では反応
の進行が遅く、原料全完全に消失させることが困難であ
シ、コＯＯ°Ｃを越えると生成物の分解のため低収率と
なる。

反応は適宜攪拌下で行うのが好ましい。

反応には、溶媒は必ずしも必要としない。しかし、用い
る反応化合物の組合せと反応条件によって、必要に応じ
溶媒を少量使用することができる。

このような溶媒としては、例えば芳香族炭化水素（ｆｌ
Ｌｔハベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン
など）、エーテル（例えばアニソール、テトラヒドロフ
ランなど）、脂肪族炭化水素（例えばヘキサン、リグロ
イン、デカリンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えばク
ロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素など）、Ｎ−
アルキルラクタム（例えばＮ−メチルピロリドンなト）
、ジアルキルアミド（例えばジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミドなど）、ジアルキルスルホキシド（
例えばジメチルスルホキシドなト）、ニトロベンゼン、
アセトニトリル、ハロゲン化ヘンゼン（例えばクロルベ
ンゼンなど）などがあげられ、反応条件、沸点、溶解性
、反応性、臭気、価格などを考慮して一種もしくはそれ
以上を使用することができる。

本発明方法によれば目的化合物は一般式（Ｉ）で表わさ
れる生成物の溶解度が低い溶媒（例えば、６１エチル、
ヘキサン、エーテル、アセトンなど）を反応溶媒に加え
ることによシ、結晶として単離できる。

次に本発明の方法によυ合成される一般式（Ｉ）で表わ
される化合物の具体例を示す。

化合物乙化合物２７　　　　　Ｃ２Ｈ５化合物ココ　　　　　Ｃ２Ｈ５化合物コ２（発明の効果）本発明方法によれば、３位に置換もしくは無置換アルキ
ル基金有し、≠、！位に縮合環を有するコーアルキルー
ペンゾオキサゾリウム、チアゾリウム、セレナゾリウム
、テルラゾリウムもしくはイミダゾリウム四級塩類など
金高吸率で得ることができ、その単離も容易に行うこと
ができる。本発明方法によれば、これらの目的化合物上
に、比較的自由に種々の置換基を導入することができる
。

本発明方法によシ得られる四級塩化合物は、それ自体も
写真添加剤などに用いられる。さらにこの四級塩化合物
の有用性は、この化合物が種々の該電子性の化合物と反
応して有用な化合物が得られることにある。例えば、活
性メチル基金有する複素環四級塩あるいはカルボニル基
のα位に活性メチレンを有する化合物と反応させること
により、写真用増感色素、染料またレーザー色素などと
して有用なシアニン色素、メロシアニン色素を得ること
ができる。本発明により、比較的自由に穐々の置換基金
導入することが可能になったために、それらの色素の特
性（例えば、写真感度、保存安定性など）を広い範囲に
わたって制御することが可能になった。

（実施例）次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。

（実施例／）（：）　２す７）Ｌ：／、　２−ｄ〕チアゾロンの合成
サントメイヤー（Ｓａｎｄｍｅｙｅｒ）、、ベリヒテ（
Ｂｅｒ、）！／り巻ｐ、２ｔｚｒ（ｉ）ｔｔ年）に記載
の方法に準じて、ｌ−アミノ−λ−チオナフトール塩酸
塩コ／／ｆと尿素／２−１を混合し、外温／ｌ００Ｃで
グ時間反応させた。この反応溶液全水コ、！ｔに加える
と結晶が析出した。この結晶全吸引ろ過によシ取シ出し
、乾燥した後にメタノール（ｊ　００　ｘｉ　）とクロ
ロホルム（ｊ　００　ｔｄ　）の混合溶媒を加え、加熱
することにより完溶させた。ただちに自然ろ過した後に
、溶媒をｔｏｏｆ留去した。この反応液を放冷すると結
晶が析出し、これを吸引ろ過で取シ出しイソプロピルア
ルコールで洗浄したところうすいかっ色結晶の２−ナフ
ト（／、コーｄ〕チアゾロンｉ、ｙ３ｙ（収率６０憾）
が得られた。ｍ、ｐ、はコｉｔ−コ、２１０Ｃであった
。

（ｔｔ）　　／　−ｍ−アミルアミノーコーチオナ７ト
ールの合成上記のコーナフトｃ／、２−ｄ〕チアゾロン３！２とに
２ＣＯ３７コ１とアセトニトリル２００ゴ全混合する。

この溶液にヨウ化アミルｊｉｆｆ加え外＠ｔ、ｏ０Ｃで
１時間加熱攪拌する。次に反応溶液を水／、ｊｔに注ぐ
と結晶が析出する。この結晶全吸引ろ過で取り出し乾燥
する。得られた結晶をメタノールで再結晶する。析出し
た結晶を吸引ろ過でとｐ出し、乾燥するとｊ−ｎ−アミ
ル−ナフト〔／、ｒ−ｄ〕チアゾロン／りｙ（収率弘Ｏ
鴫）が得られたｍ、　ｐ、は４７°Ｃであった。

この化合物！？を２０憾ＮａＯＨ水溶液！０−とエタノ
ール２ｊｒｘｌに溶かし６時間加熱還流する。

反応溶液を水２ｒＯｍｌに加え濃塩酸でｐ）（＝約３に
する。次ＫＮａＨＣＯａ　　を中性になるまで加える。

次に酢酸エチルで抽出して溶媒を留去し、乾燥するとオ
イル状の／−ｍ−アミルアミノ−コーチオナフトール弘
、ｊ１（収率ｉｏｏ％）が得られた。

ＧｉＤ　　化合物ｌμの合成次に上記のようにして合成した、／−ｎ−アミルアミノ
−コーチオナフトール／３．１．ｆと塩化アセチル弘、
弘？とベンゼン／λａｄｔｌｌｌｉＬ、、　Ａ時間全還
流させると結晶が析出する。放冷後この結晶を吸引ろ過
で取少出し乾燥すると白色結晶の化合物ｌ弘が≠、７２
（収率コｒ憾）得られた。

ｍ、　ｐ、は１７弘〜／７４°Ｃであった。

（実施例コ）実施例／の（１１）で得られた／−ｎ−アミルアミノ−
λ−チオナフトール／３．６１と無水酢酸！。

６１とパラトルエンスルホン酸１０．Ｉｆｆ、混合し、
外温／６００Ｃで３時間反応させた後、放冷後酢酸エチ
ル１００ｔｙＪｆ加えると結晶が析出する。

この結晶を吸引ろ過で取り出し、乾燥すると淡かっ色結
晶の化合物／ｇがΔ、θ２（収率２．ｒ％　）得られた
。ｍ、ｐ、は／７Ａ−／７２０Ｃであった。

（実施例３）実施例／の（１）、（１１）の方法に準じて、／−ｎ−
プロビルアミノーコーチオナフトールを合成した。

この化合物／２．Ｏｆと塩化アセチル弘、≠２とベンゼ
ン／λ−ｔ−混合し、６時間を還流させると結晶が析出
する。放冷後この結晶を吸引ろ過で取り出し乾燥すると
白色結晶の化合物／２が／λ。

７１（収率ｒ３ｂ）得られた。ｍ、　ｐ、は／乙ｇ〜／
６り０Ｃであった。

（実施例≠）実施例／の（１）、（ＩＩ）の方法に準じて、／−ｎ−
プチルアミノ−コーチオナフトール全合成した。この化
合物／２．７？と塩化アセチル弘、４ｔ１とベンゼン／
−２ｙｄを混合し、４時間を還流させると結晶が析出す
る。放冷後この結晶を吸引ろ過で取り出し乾燥すると白
色結晶の化合物／３が７．０１（収率ｔＡｅ６）得られ
た。ｍ、　ｐ、は１７／〜／７３０Ｃであった。

（実施例り実施例／の（１）、（１１）の方法に準じて、／−ｎ−
オクチルアミノーコーチオナフトール全合成した。

この化合物／ｊ、Ｉｔと塩化アセチル弘、＜＜ｙとベン
ゼンｌλｌＩ７’ｉ混合し、を時間全還流させると結晶
が析出する。放冷後この結晶全吸引ろ過で取り出し乾燥
すると白色結晶の化合物／？が３．λ２（収率／７壬）
得られた。ｍ、　ｐ、はｌ♂／〜／１３°Ｃであった。

（実施例６）実施例／の（１）、（１１）の方法に準じて、／−ｎ−
アミルアミノ−２−ナフトール全合成した。この化合物
／Ｊ、ＡＰと塩化アセチル≠、≠２とベンゼン／２−を
混合し、２時間全還流させると結晶が析出する。放冷後
この結晶全吸引ろ過で取シ出し乾燥すると白色結晶の化
合物３が弘、Ｑｌ（収率２ｊ％　）得られた。ｍ、　ｐ
、は／７３〜／７ｊ０Ｃであった。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式（ I ）で表わされる四級塩化合物を調製
するに当り、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｚは酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル
原子、▲数式、化学式、表等があります▼（ただし、Ｒ
＿３は水素原子、アルキル基、アリール基を表わす）、
▲数式、化学式、表等があります▼（ただし、Ｒ＿４、
Ｒ＿５は水素原子、アルキル基を示す）、または▲数式
、化学式、表等があります▼（ただし、Ｖ＿３、Ｖ＿４
はそれぞれＶ＿１、Ｖ＿２と同義である）を示し、Ｒ＿
１はアルキル基を表わし、Ｒ＿２はアルキル基、アリー
ル基を表わし、Ｖ＿１、Ｖ＿２は水素原子、アルキル基
、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、アルコキ
シカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、
カルボキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、ア
シルアミノ基、アルコキシ基またはアリール基を示し、
Ｑは縮合環を形成するに必要な原子群を示し、Ｘ＿１＾
■は陰イオンを示す。ｎ＝０または１以上の整数である
。ただし、分子内塩を形成するときはｎ＝０である。）
一般式（II）で表わされる化合物と、一般式（III）ま
たは一般式（IV）または一般式（Ｖ）で表わされる化合
物とを反応させることを特徴とする含窒素複素環四級塩
化合物の製造方法。一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｚ、Ｒ＿１、Ｖ＿１、Ｖ＿２及びＱは前記と同
じ意味をもつ。）一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿２は前記と同じ意味をもち、Ｘ＿２は離脱
基を表わす。）一般式（IV）Ｒ＿２−Ｃ（Ｘ＿３）＿３（式中、Ｒ＿２は前記と同じ意味をもち、Ｘ＿３は離脱
基を表わす。）一般式（Ｖ）Ｒ＿２−Ｃ（Ｘ＿４）＝ＮＸ＿５（式中、Ｒ＿２は前記と同じ意味をもち、Ｘ＿４は離脱
基、Ｘ＿５は水素原子もしくはアリール基を表わす。）
（２）一般式（VI）で表わされる含窒素複素環四級塩化
合物。一般式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿５は炭素数３〜１８のアルキル基を表わす
。Ｘ＿６＾■は陰イオンを表わす。ｍは０以上の数であ
る。ただし、分子内塩を形成するときはｍ＝０である。）