JPH0283373A - 5員環の複素環化合物及びその製造方法 - Google Patents
5員環の複素環化合物及びその製造方法Info
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Landscapes
- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は5員環の複素環化合物及びその製造方法に関す
る。
る。
〔従来の技術]
含窒素複素環にチオ基(R’S基=R′は任意の置換基
を示す)を導入するにはハロゲン置換複素環とR’SH
の反応、チオキソ基を有する複素環のアルキル化もしく
はアリール化、アゾ化合物とR’SHとのカップリング
反応が主なものである。しかし複素環のハロゲン化はそ
の制御条件が難しく、好ましくない反応が起こり、又好
ましくない反応生成物がしばし得られる事が多く、目的
とするハロゲン化複素環を得るのが困難な場合が多い。
を示す)を導入するにはハロゲン置換複素環とR’SH
の反応、チオキソ基を有する複素環のアルキル化もしく
はアリール化、アゾ化合物とR’SHとのカップリング
反応が主なものである。しかし複素環のハロゲン化はそ
の制御条件が難しく、好ましくない反応が起こり、又好
ましくない反応生成物がしばし得られる事が多く、目的
とするハロゲン化複素環を得るのが困難な場合が多い。
さらにチオキソ体やジアゾニウム塩を合成する時にそれ
ぞれの複素環に応じた良い方法がなく、本発明のチオ基
を有する複素環を合成する事は容易ではない。しかもシ
アノ基を有する複素環を合成するのは非常に困難といわ
ざるをえない。
ぞれの複素環に応じた良い方法がなく、本発明のチオ基
を有する複素環を合成する事は容易ではない。しかもシ
アノ基を有する複素環を合成するのは非常に困難といわ
ざるをえない。
〔発明が解決しようとする問題点]
含窒素複素環化合物は農医薬、香料、ポリマーの原料等
に使用されている利用範囲の広い化合物群である。特に
シアノ置換複素環はシアノ基を他の官能基に変換出来る
ので、きわめて価値があると考えられる。さらにチオ基
の導入によりW換反応を行なうことによって、チオ基を
他の求核試剤と置き変えることが可能となるため、いっ
そうの有用性が期待されるものである。
に使用されている利用範囲の広い化合物群である。特に
シアノ置換複素環はシアノ基を他の官能基に変換出来る
ので、きわめて価値があると考えられる。さらにチオ基
の導入によりW換反応を行なうことによって、チオ基を
他の求核試剤と置き変えることが可能となるため、いっ
そうの有用性が期待されるものである。
本発明はチオ基を有するモノシアノ複素環を実用的に製
造する方法を堤供するものである。
造する方法を堤供するものである。
本発明は一般式(1)
〔式中、Rはへテロ環基で置換されていてもよいアルキ
ル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基
又は置換基を存してもよいアリール基を、nは0、l、
2を、Yは水素、シアノ基、カルバモイル基、チオカル
バモイル基又は弐C0OR” (式中、R2は水素、
アルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す。)で
表わされる基を、R1は、置換基を有してもよいアルキ
ル基、置換基を有してもよいアラルキル基、シクロアル
キル基、アルケニル基、置換基を有してもよいアリール
基、アシル基、メルカプト基、アミノ基、置換基を有し
てもよいヘテロ環基又は弐C0OR3(式中、R3は水
素、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す。
ル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基
又は置換基を存してもよいアリール基を、nは0、l、
2を、Yは水素、シアノ基、カルバモイル基、チオカル
バモイル基又は弐C0OR” (式中、R2は水素、
アルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す。)で
表わされる基を、R1は、置換基を有してもよいアルキ
ル基、置換基を有してもよいアラルキル基、シクロアル
キル基、アルケニル基、置換基を有してもよいアリール
基、アシル基、メルカプト基、アミノ基、置換基を有し
てもよいヘテロ環基又は弐C0OR3(式中、R3は水
素、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す。
)で表わされる基を、mは0.1.2(mが2のときR
’ は同一であっても相異っていてもよい。)を、Zは
C,N、S、Se、Cを表し、点線は各結合が二重結合
をとりうることを示す。〕で表わされる化合物及びその
製造方法である。
’ は同一であっても相異っていてもよい。)を、Zは
C,N、S、Se、Cを表し、点線は各結合が二重結合
をとりうることを示す。〕で表わされる化合物及びその
製造方法である。
本発明の化合物において、チオ基とシアノ基を同時に複
素環に導入するためには下記−儀式CI+)で示される
、3位にR3基(Rは前記と同じ意味を示す。)をもつ
2.3−ジアミノアクリロニトリル(以下DAANと略
記する。)、あるいはその有機塩 (p−トルエンスルホン酸塩等)、無機塩(塩酸塩等)
を出発原料として用いる。
素環に導入するためには下記−儀式CI+)で示される
、3位にR3基(Rは前記と同じ意味を示す。)をもつ
2.3−ジアミノアクリロニトリル(以下DAANと略
記する。)、あるいはその有機塩 (p−トルエンスルホン酸塩等)、無機塩(塩酸塩等)
を出発原料として用いる。
(1) イミダゾールの製造法(a)
(III)
[IV)
式中、R′は水素もくしはアルキル基、R5はアルキル
基を示す。
基を示す。
なお、本発明において
イミダゾールを表現しているが、
れてもよい性質のものである。本発明の以下の、同様の
化合物の記載においては1つの局在化された弐によって
化合物を表現した。
化合物の記載においては1つの局在化された弐によって
化合物を表現した。
反応溶媒は通常エステル類例えば酢酸エステルが用いら
れるが、プロトン性の有機溶媒例えばエタノール、メタ
ノールのようなアルコール等も用いられ、ニトリル類、
エーテル類、芳香族炭化水素例えばトルエン等も用いて
も良い。又、それらの混合溶媒でも良い。
れるが、プロトン性の有機溶媒例えばエタノール、メタ
ノールのようなアルコール等も用いられ、ニトリル類、
エーテル類、芳香族炭化水素例えばトルエン等も用いて
も良い。又、それらの混合溶媒でも良い。
反応は室温から還流温度で行なわれる。
触媒は必要に応じてp−)ルエンスルホン酸のような打
開[a硫酸のような無機酸等が用いられる。
開[a硫酸のような無機酸等が用いられる。
(2)イミダゾールの製造法(1))
(V) (Vl)
式中、R″″はハロゲンを示す。
反応溶媒はテトラヒドロフランのようなエーテル類やア
セトニトリルのようなニトリル類、メタノール等のアル
コール類が用いられるが、クロロホルム等のようなハロ
ゲン化炭化水素でも使用出来る。反応温度は通常O′C
から室温で行なわれる。
セトニトリルのようなニトリル類、メタノール等のアル
コール類が用いられるが、クロロホルム等のようなハロ
ゲン化炭化水素でも使用出来る。反応温度は通常O′C
から室温で行なわれる。
(3)イミダゾールの製造法(C)
〔■〕 〔■〕
式中 R?はアルキル基、アルコキシ基又はアリール基
を示す。
を示す。
反応溶媒はイミダゾールの製造法(a)で示した溶媒が
用いられる。
用いられる。
反応の触媒として五酸化燐、硫酸等の無機酸やシュウ酸
、P−トルエンスルホン酸等の有機酸が用いられる。
、P−トルエンスルホン酸等の有機酸が用いられる。
(4)イミダゾールの製造法(d)
([X ) NCCN=CHR’ N
CCNtlz式中、R8はアルキル基、置換基を有して
もよいアリール基、ヘテロ環基又は式C0OR’ (
式中、R9はアルキル基、アラルキル基又はアリール基
を示す。)を示す。
CCNtlz式中、R8はアルキル基、置換基を有して
もよいアリール基、ヘテロ環基又は式C0OR’ (
式中、R9はアルキル基、アラルキル基又はアリール基
を示す。)を示す。
シッフ塩基の製造に際して原料に2種類のアミン基があ
ることからシッフ塩基は(通常主生成物としてシアノ基
側のアミノ基とのシッフ塩基が得られる)2種の異性体
が生成するが、異性体を分離しても、分離しなくても得
られるイミダゾールは同一物質である。
ることからシッフ塩基は(通常主生成物としてシアノ基
側のアミノ基とのシッフ塩基が得られる)2種の異性体
が生成するが、異性体を分離しても、分離しなくても得
られるイミダゾールは同一物質である。
シッフ塩基の製造時の反応溶媒はイミダゾールの製造法
(a)で示した溶媒が用いられる。脱水触媒は五酸化燐
等が適時使用される。シッフ塩基は通常、反応系から沈
澱析出するので濾過してそのまま用いるか、通常の方法
で精製したものを用いる。シッフ塩基のイミダゾールへ
の環化反応は適当な酸化剤を用いて行なわれる。酸化剤
は硝酸、亜臭素酸ナトリウム、二酸化セレン等の無機酸
化剤、23−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ペンツ
キノン、N−ハローコハク酸イミド等の有機酸化剤が用
いられる。
(a)で示した溶媒が用いられる。脱水触媒は五酸化燐
等が適時使用される。シッフ塩基は通常、反応系から沈
澱析出するので濾過してそのまま用いるか、通常の方法
で精製したものを用いる。シッフ塩基のイミダゾールへ
の環化反応は適当な酸化剤を用いて行なわれる。酸化剤
は硝酸、亜臭素酸ナトリウム、二酸化セレン等の無機酸
化剤、23−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ペンツ
キノン、N−ハローコハク酸イミド等の有機酸化剤が用
いられる。
反応溶媒は用いる酸化剤により適時選ばれる。無機酸化
剤であれば水や水−ジオキサン系が用いられ、有機酸化
剤であればクロロホルム等のハロゲン化炭化水素、酢酸
エチルのようなエステル類、ジメチルボルムアミドのよ
うなホルムアミド類、トルエンなどの芳香族炭化水素、
あるいはそれらの混合溶媒が使用される。
剤であれば水や水−ジオキサン系が用いられ、有機酸化
剤であればクロロホルム等のハロゲン化炭化水素、酢酸
エチルのようなエステル類、ジメチルボルムアミドのよ
うなホルムアミド類、トルエンなどの芳香族炭化水素、
あるいはそれらの混合溶媒が使用される。
(5)イミダゾールの製造法(el
(XI )
(XI)は
S [XI] Sで示
される互変異性をとる。
される互変異性をとる。
反応溶媒はエタノールのようなアルコール類、DMF、
DMSO等が用いられ、トリエチルアミン等の塩基の存
在下で行われる。
DMSO等が用いられ、トリエチルアミン等の塩基の存
在下で行われる。
(6)イソイミダゾールの製造法
DAAN+R”CCH2CR’
(XI+)
1I Q
いてもよい性質のものである。
DAANと亜硝酸カリ、亜硝酸ソーダ等の亜硝酸アルカ
リとの反応により得られる。反応溶媒は水あるいは水−
酢酸系が用いられる。
リとの反応により得られる。反応溶媒は水あるいは水−
酢酸系が用いられる。
(8)12.5−チアジアゾールの製造法(Xlll)
RIG、RI+はアルキル基又は了り−ル基を示す。
シンフ塩基生成の条件、反応溶媒の種類、酸化剤のIl
m等はイミダゾールの製造法(d)と同様である。
m等はイミダゾールの製造法(d)と同様である。
(7)1.2.3−)リアゾールの製造法(XIV)
なお、
(XrV)なる局在化された式によって1゜トリアゾー
ルを表現しているが、 [XVI DAANと硫黄トランスファー剤(sulfur tr
ansfar reagenL)、例えば塩化チオニル
、塩化硫黄などとの反応で得られる。
ルを表現しているが、 [XVI DAANと硫黄トランスファー剤(sulfur tr
ansfar reagenL)、例えば塩化チオニル
、塩化硫黄などとの反応で得られる。
反応溶媒はテトラヒドロフランのようなエーテル類が用
いられるが、クロロホルム等のようなハロゲン化炭化水
素も用いられる。
いられるが、クロロホルム等のようなハロゲン化炭化水
素も用いられる。
(9)1.2.5−セレナジアゾールの製造法(XVI
) DAANと二酸化セレンとの反応で得られる。
) DAANと二酸化セレンとの反応で得られる。
反応溶媒は酢酸エチルのようなエステル類、ジメトキシ
エタンのようなエーテル類、トルエンのような芳香族炭
化水素が使用出来る。
エタンのようなエーテル類、トルエンのような芳香族炭
化水素が使用出来る。
反応を円滑に進行させる為に無水硫酸マグネシウム等の
乾燥剤も使用出来る。
乾燥剤も使用出来る。
(10) 2−イミダシロンの製造法
〔X■) (X43
式中、R12は塩素又はイミダゾールを示す。
反応78媒はクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素
類が使用できる。
類が使用できる。
本発明の化合物のスルフィドをスルホキシド、スルホン
にするには通常の有機、無機の酸化剤(例えばm−クロ
ル過安息香酸、過酸化水素等)が用いられる。
にするには通常の有機、無機の酸化剤(例えばm−クロ
ル過安息香酸、過酸化水素等)が用いられる。
反応溶媒は通常用いられる有機溶媒(プロトン性あるい
は非プロトン性溶媒)又は水が使用されるが、製造法の
種類によりそれぞれ適時使用される。
は非プロトン性溶媒)又は水が使用されるが、製造法の
種類によりそれぞれ適時使用される。
反応に使用される触媒はP−)ルエンスルホン酸、シュ
ウ酸のような有機酸、濃硫酸、五酸化燐のような無機酸
が必要に応じて選ばれる。
ウ酸のような有機酸、濃硫酸、五酸化燐のような無機酸
が必要に応じて選ばれる。
又シアノ基を加水分解、脱炭酸することにより、カルバ
モイル基、カルボキシル基を経て水素に変換することが
できる。
モイル基、カルボキシル基を経て水素に変換することが
できる。
本発明化合物の構造は、[R,NMRXMASS等から
決定した。
決定した。
〔実 施 例]
次に実施例を挙げ本発明化合物を更に説明する。
実 施 例 1
4(5)シアノ−5(4)−フェニルチオイミダゾール
(化合物番号1) (Ph:フェニル基を示す。) 2.3−ジアミノ−3−フェニルチオアクリロニトリル
(PhS−DAAN と略記する。)1.9g (0
,01モル)オルツギ酸エチル1.5 g (0,0
1モル)、触媒量のp−トルエンスルホン酸を酢酸エチ
ル100dにとかし20分加熱還流した。反応液を室温
まで冷却後飽和食塩水100ifで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。
(化合物番号1) (Ph:フェニル基を示す。) 2.3−ジアミノ−3−フェニルチオアクリロニトリル
(PhS−DAAN と略記する。)1.9g (0
,01モル)オルツギ酸エチル1.5 g (0,0
1モル)、触媒量のp−トルエンスルホン酸を酢酸エチ
ル100dにとかし20分加熱還流した。反応液を室温
まで冷却後飽和食塩水100ifで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。
酢酸エチルを減圧下溜去して残る残渣をカラムクロマト
グラフィーで精製しく?!L出溶媒、ベンゼン:酢酸エ
チル=1 : 1) 0.8g (収率40%)の目
的物を得た。
グラフィーで精製しく?!L出溶媒、ベンゼン:酢酸エ
チル=1 : 1) 0.8g (収率40%)の目
的物を得た。
m、 p 、 164−165 °C
実 施 例 2
4(5)シアノ−5(4)−シクロへキシルチオ−2メ
チルイミダゾール(化合物番号2) した。反応液を室温まで冷却後、飽和食塩水100m1
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで一晩乾燥した。酢酸
エチルを減圧下溜去すると結晶が残るので、ヘキサン−
酢酸エチルから再結晶を行い0.42g (収率76%
)の目的物を得た。
チルイミダゾール(化合物番号2) した。反応液を室温まで冷却後、飽和食塩水100m1
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで一晩乾燥した。酢酸
エチルを減圧下溜去すると結晶が残るので、ヘキサン−
酢酸エチルから再結晶を行い0.42g (収率76%
)の目的物を得た。
m、 p、 188〜189 °C
実 施 例 3
2−(p−クロロフェニル)−4(5)−シアノ−5(
4)−フェニルチオイミダゾール(化合物番号13)(
1)3−アミノ−2−(p−クロロベンジリデンアミノ
)−3−フェニルチオアクリロニトリル(A)及び2−
アミノ−3−(p−クロロベンジリデンアミノ)−3−
フェニルチオアクリロニトリル(B)の合成と、(A)
と(B) の分離2.3−ジアミノ−3−シクロヘ
キシルチオアクリロニトリルのp−トルエンスルホン酸
塩0.95g(0,025モル)、オルソ酢酸メチル0
.31 g (0,025モル)を酢酸エチル30mに
混合し1時間加熱還流(A) (B) Ph5−DAAN 2.87gをエタノール301R1
に溶解した溶液にp−クロロヘンズアルデヒド2.3g
を加え室温にて2時間反応させた。反応終了後析出した
結晶を濾過し、結晶部をエタノールより再結晶して目的
物(A) 3.5 gを得た。更に、母液部及び再結母
液を合わせ、溶媒を留去後、カラムクロマトグラフィー
により目的物(A) 0.7g (1成品とのトータル
収率89.3%、悄、p、 137.5〜139℃)と
その異性体(B) 0.3 g (収率6.4%、1
.ρ、145〜147’C) を得た。
4)−フェニルチオイミダゾール(化合物番号13)(
1)3−アミノ−2−(p−クロロベンジリデンアミノ
)−3−フェニルチオアクリロニトリル(A)及び2−
アミノ−3−(p−クロロベンジリデンアミノ)−3−
フェニルチオアクリロニトリル(B)の合成と、(A)
と(B) の分離2.3−ジアミノ−3−シクロヘ
キシルチオアクリロニトリルのp−トルエンスルホン酸
塩0.95g(0,025モル)、オルソ酢酸メチル0
.31 g (0,025モル)を酢酸エチル30mに
混合し1時間加熱還流(A) (B) Ph5−DAAN 2.87gをエタノール301R1
に溶解した溶液にp−クロロヘンズアルデヒド2.3g
を加え室温にて2時間反応させた。反応終了後析出した
結晶を濾過し、結晶部をエタノールより再結晶して目的
物(A) 3.5 gを得た。更に、母液部及び再結母
液を合わせ、溶媒を留去後、カラムクロマトグラフィー
により目的物(A) 0.7g (1成品とのトータル
収率89.3%、悄、p、 137.5〜139℃)と
その異性体(B) 0.3 g (収率6.4%、1
.ρ、145〜147’C) を得た。
A、Bの構造はNMR,[R,MASSスペクトルから
同定したが、特に、AはX線回折により決定した。
同定したが、特に、AはX線回折により決定した。
(2)2−(p−クロロフェニル) −4(5) −
シアノ−5(4)−フェニルチオイミダゾールの合成A
いる6′ A 1.57 gをジオキサンに溶解し、この溶液に発
煙硝酸0.79gを15〜20°Cで滴下した。滴下後
、更に同温度で3時間反応させた後、冷水100mNに
あけ、ベンゼンにて抽出した。ベンゼン層を水洗し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残香をエ
タノールにて再結晶して目的物0.28gを得た。更に
母液部を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製して目的物0.27 gを得た。
シアノ−5(4)−フェニルチオイミダゾールの合成A
いる6′ A 1.57 gをジオキサンに溶解し、この溶液に発
煙硝酸0.79gを15〜20°Cで滴下した。滴下後
、更に同温度で3時間反応させた後、冷水100mNに
あけ、ベンゼンにて抽出した。ベンゼン層を水洗し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残香をエ
タノールにて再結晶して目的物0.28gを得た。更に
母液部を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製して目的物0.27 gを得た。
収率35.3%、m、p、 234〜6°C80,2g
、ニコチンアミド0.1gを5 mlのDMFにとかし
、室温でNC50,1gを撹拌しながら加えた。30分
後反応混合物に酢酸エチル50m1l、飽和食塩水50
mを加え、有機層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を溜去して残る結晶をベンゼンから再結晶
して、0.1 gの白色結晶を得た。収率52%。
、ニコチンアミド0.1gを5 mlのDMFにとかし
、室温でNC50,1gを撹拌しながら加えた。30分
後反応混合物に酢酸エチル50m1l、飽和食塩水50
mを加え、有機層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を溜去して残る結晶をベンゼンから再結晶
して、0.1 gの白色結晶を得た。収率52%。
Aの硝酸酸化法で得られた化合物のIRスペクトルとB
のNC3酸化法で得られた化合物の[Rスペクトルは完
全に一致した。
のNC3酸化法で得られた化合物の[Rスペクトルは完
全に一致した。
実 施 例 4
4(5)−ソアノー5(4)−フェニルチオ−2−プロ
ピル−イミダゾール(化合物番号16)実 施 例
5 4(5)−ベンジルチオ−2−(p−クロロフェニル)
−5(4)−シアノ−イミダゾール(化合物番号17) PhS−DAANとn−ブチルアルデヒドとから調製し
たシッフ塩基1.04gをジオキサン6dに溶解し、こ
の溶液に発煙硝酸0.63gを15’Cにて滴下した。
ピル−イミダゾール(化合物番号16)実 施 例
5 4(5)−ベンジルチオ−2−(p−クロロフェニル)
−5(4)−シアノ−イミダゾール(化合物番号17) PhS−DAANとn−ブチルアルデヒドとから調製し
たシッフ塩基1.04gをジオキサン6dに溶解し、こ
の溶液に発煙硝酸0.63gを15’Cにて滴下した。
滴下後更に同温度で2時間反応させた後、冷水にあけ、
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗し無水硫酸
マグネシウムで乾燥後溶媒を留去し、残渣をベンゼンに
て再結晶して、目的物 0.63 gを得た。収率61
.7% 慣、ρ、 152.5〜154°C PhCHzS−DAAN トP−クロロヘンズアルデヒ
ドとから調製したシッフ塩基0.85 gをジオキサン
5 mlに溶解し、この溶液に発煙硝酸0.71 gを
15°Cにて滴下した。滴下後、更に同温度で3.5時
間反応させた後、反応液を水にあけ、酢酸エチルにて抽
出した。酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸マグぶシウム
で乾燥後、溶媒を留去した。残渣をベンゼンにて洗浄し
目的物0.3gを得た。収率35.4%m、p、 22
1”C(分解) 実 施 例 6 4(5)−シアノ−5(4)−フェニルチオ−2−チオ
フ、ンーイミダゾール(化合物番号8)PhS−DAA
Nと3−チオフェンアルデヒドから調製したシップ塩基
1.4g、ニコチンアミド0.6gを10dのDMFに
とかし、NC50,8gを室温で加えた。発熱反応が起
りそのまま2時間撹拌した。
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗し無水硫酸
マグネシウムで乾燥後溶媒を留去し、残渣をベンゼンに
て再結晶して、目的物 0.63 gを得た。収率61
.7% 慣、ρ、 152.5〜154°C PhCHzS−DAAN トP−クロロヘンズアルデヒ
ドとから調製したシッフ塩基0.85 gをジオキサン
5 mlに溶解し、この溶液に発煙硝酸0.71 gを
15°Cにて滴下した。滴下後、更に同温度で3.5時
間反応させた後、反応液を水にあけ、酢酸エチルにて抽
出した。酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸マグぶシウム
で乾燥後、溶媒を留去した。残渣をベンゼンにて洗浄し
目的物0.3gを得た。収率35.4%m、p、 22
1”C(分解) 実 施 例 6 4(5)−シアノ−5(4)−フェニルチオ−2−チオ
フ、ンーイミダゾール(化合物番号8)PhS−DAA
Nと3−チオフェンアルデヒドから調製したシップ塩基
1.4g、ニコチンアミド0.6gを10dのDMFに
とかし、NC50,8gを室温で加えた。発熱反応が起
りそのまま2時間撹拌した。
沈澱物をill i!5 シた濾液に水を加えると結晶
が析出するのでアセトンにとかし活性炭で処理した。
が析出するのでアセトンにとかし活性炭で処理した。
目的物が1.1g (収率78.6%)得られた。
m、p、 198 201 ’C実 施 例
7 4(5)−シアノ−2−(p−メトキンフェニル)5(
4)−フェニルチオイミダゾール(化合物番号14)P
hS−DAANとp−メトキシベンズアルデヒドから調
製されるシッフ塩基1gを20m1のジオキサンにとか
し、室温で20−の水にとかした亜臭素酸ナトリウム0
.9gを撹拌しながら加えた。発熱反応が起り、反応液
は希黄色から褐色に変化した。析出した結晶をσg過し
、ヘンゼンー酢酸エチルから再結晶を行うと0.4g(
収率40%)の目的物が得られた。1.ρ、 182.
5〜184°C0このもののfRスペクトルは硝酸酸化
法で得られたもののスペクトルと完全に一敗した。
7 4(5)−シアノ−2−(p−メトキンフェニル)5(
4)−フェニルチオイミダゾール(化合物番号14)P
hS−DAANとp−メトキシベンズアルデヒドから調
製されるシッフ塩基1gを20m1のジオキサンにとか
し、室温で20−の水にとかした亜臭素酸ナトリウム0
.9gを撹拌しながら加えた。発熱反応が起り、反応液
は希黄色から褐色に変化した。析出した結晶をσg過し
、ヘンゼンー酢酸エチルから再結晶を行うと0.4g(
収率40%)の目的物が得られた。1.ρ、 182.
5〜184°C0このもののfRスペクトルは硝酸酸化
法で得られたもののスペクトルと完全に一敗した。
実 施 例 8
2−ブトキシカルボニル−4(5)−ンアノー5(4)
−フェニルチオイミダゾール(化合物番号IPhS−D
AANとグリオキシル酸ブチルから調製したシッフ塩基
1.9g、トリエチルアミン0.7gをクロロホルム1
00affiにとかした)6液にNC50,9gを室温
で撹拌しながら加えた。2時間後反応溶液に水100滅
を加えて分液したのちクロロホルム層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。粗生成物をカラムクロマトグラフィ
ー(ベンゼン−酢酸エチル=4 : 1)で精製を行な
い1.1g(収率58!!/6)の結晶を得た。
−フェニルチオイミダゾール(化合物番号IPhS−D
AANとグリオキシル酸ブチルから調製したシッフ塩基
1.9g、トリエチルアミン0.7gをクロロホルム1
00affiにとかした)6液にNC50,9gを室温
で撹拌しながら加えた。2時間後反応溶液に水100滅
を加えて分液したのちクロロホルム層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。粗生成物をカラムクロマトグラフィ
ー(ベンゼン−酢酸エチル=4 : 1)で精製を行な
い1.1g(収率58!!/6)の結晶を得た。
m、p、 128.5〜129.5°C実 施 例
9 4(5)−シアノ−2−メチル−5(4)−フェニルチ
オイミダゾール(化合物番号3) Phi−DAAN 1.9gをエタノール10m1に溶
解し、この溶液にアセチルアセトン1.1gを加え、次
に20〜30’Cで五酸化リン0.4gを4回に分けて
添加した。更に室温で2.5時間反応した後反応混合物
を水にあけ析出した結晶を濾過した。得られた結晶を乾
燥後、酢酸エチルベンゼン混合溶媒にて再結晶して、目
的物を1.6g得た。収率74%m、p、 174−1
75°C 実 施 例 10 4(5)−シアノ−5(4)−エチルチオ−2−メチル
イミダヅール(化合物番号18) tS DAANのp トルエンスルホン酸塩3.15 gを炭酸ソーダで中和して得られたEtS −DAAN
をエタノール20trrlに溶解し、この溶液にアセチ
ルアセトン1.1gを加えた0次に五酸化リン0.4g
を5〜io’cにて4回に分けて添加し、同温度で2時
間反応した。反応終了後、反応液を水にあけ、力性ソー
ダ水溶液で中和して、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去した。残渣をベンゼンにて洗浄して目的物を0.1
5g得た。収率45%m、p、 148〜I49°C 実 施 例 11 2−メルカプト−5−フェニルチオイミダゾール−4−
チオカルボキサミド(化合物番号22)PhS −DA
AN3.82 gのエタノール20dの溶液に二硫化炭
素2.3g及びトリエチルアミン2.22gを加え還流
下3時間反応させた。反応終了後、反応液を水にあけて
、酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣を酢
酸エチル−ベンゼンの混合溶媒で洗浄して目的物1.3
gを得た。 収率24.3% 鋼、ρ、230°C(
分解)実 施 例 12 4(5)−シアノ−5(4)−フェニルチオ−2イミダ
シロン(化合物番号33) Ph5−DAANl、9gを100#Il!のクロロホ
ルムにとかした溶液に室温でカルボニルジイミダゾール
2gを加えた。わずかな発熱があり、10分後に結晶が
析出した。結晶を濾過し水で充分洗浄しエタノールから
(同時に活性炭で処理)再結晶を行ない、0.6g(収
率30%)の白色生成物を得た。
9 4(5)−シアノ−2−メチル−5(4)−フェニルチ
オイミダゾール(化合物番号3) Phi−DAAN 1.9gをエタノール10m1に溶
解し、この溶液にアセチルアセトン1.1gを加え、次
に20〜30’Cで五酸化リン0.4gを4回に分けて
添加した。更に室温で2.5時間反応した後反応混合物
を水にあけ析出した結晶を濾過した。得られた結晶を乾
燥後、酢酸エチルベンゼン混合溶媒にて再結晶して、目
的物を1.6g得た。収率74%m、p、 174−1
75°C 実 施 例 10 4(5)−シアノ−5(4)−エチルチオ−2−メチル
イミダヅール(化合物番号18) tS DAANのp トルエンスルホン酸塩3.15 gを炭酸ソーダで中和して得られたEtS −DAAN
をエタノール20trrlに溶解し、この溶液にアセチ
ルアセトン1.1gを加えた0次に五酸化リン0.4g
を5〜io’cにて4回に分けて添加し、同温度で2時
間反応した。反応終了後、反応液を水にあけ、力性ソー
ダ水溶液で中和して、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去した。残渣をベンゼンにて洗浄して目的物を0.1
5g得た。収率45%m、p、 148〜I49°C 実 施 例 11 2−メルカプト−5−フェニルチオイミダゾール−4−
チオカルボキサミド(化合物番号22)PhS −DA
AN3.82 gのエタノール20dの溶液に二硫化炭
素2.3g及びトリエチルアミン2.22gを加え還流
下3時間反応させた。反応終了後、反応液を水にあけて
、酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣を酢
酸エチル−ベンゼンの混合溶媒で洗浄して目的物1.3
gを得た。 収率24.3% 鋼、ρ、230°C(
分解)実 施 例 12 4(5)−シアノ−5(4)−フェニルチオ−2イミダ
シロン(化合物番号33) Ph5−DAANl、9gを100#Il!のクロロホ
ルムにとかした溶液に室温でカルボニルジイミダゾール
2gを加えた。わずかな発熱があり、10分後に結晶が
析出した。結晶を濾過し水で充分洗浄しエタノールから
(同時に活性炭で処理)再結晶を行ない、0.6g(収
率30%)の白色生成物を得た。
僧、ρ、 252−255°C(分解)実 施 例
l3 4(5)−シアノ−2−メチル−2−(2−オキソプロ
ピル) −5(4)−フェニルチオイソイミダゾール(
化合物番号25) 実 施 例 14 4(5)−シアノ−5(4)−フェニルチオ−1,2゜
3−トリアゾール(化合物番号31) Ph5−DAANとアセチフレアセトンから調製したシ
・ンフ塩基2.7g、ニコチンアミド1.3gをDMF
IO−にとかした溶液に、氷水で冷却しながらNC51
,6gを徐々に加えた。室温で1時間撹拌した後、10
0m水中に反応混合物を注ぎ、酢酸エチル50am!で
抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を情夫
後の残渣(約3.2g) をカラムクロマトグラフィー
で処理をすると油状生成物が得られ、その後結晶化した
のでベンゼン−ヘキサンから再結晶を行い1.1g(収
率38χ)の目的物を得た。m、p、89−90’CP
h1−DAAN 1.9gを水5dと酢酸1.2gの溶
液に懸濁し、10〜I5°Cにて亜硝酸ナトリウム0.
8gを水2dに溶解した溶液を加えた。室温にて30分
反応後酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を水洗後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥して、溶媒ヲ留去した。残
渣を炭酸ナトリウムに溶解し、不溶物を除去後、濃塩酸
にて酸性とし、酢酸エチルで抽出した後、溶媒を情夫し
て、得られる残渣をヘンゼンにて再結晶して目的物1.
2 gを得た。
l3 4(5)−シアノ−2−メチル−2−(2−オキソプロ
ピル) −5(4)−フェニルチオイソイミダゾール(
化合物番号25) 実 施 例 14 4(5)−シアノ−5(4)−フェニルチオ−1,2゜
3−トリアゾール(化合物番号31) Ph5−DAANとアセチフレアセトンから調製したシ
・ンフ塩基2.7g、ニコチンアミド1.3gをDMF
IO−にとかした溶液に、氷水で冷却しながらNC51
,6gを徐々に加えた。室温で1時間撹拌した後、10
0m水中に反応混合物を注ぎ、酢酸エチル50am!で
抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を情夫
後の残渣(約3.2g) をカラムクロマトグラフィー
で処理をすると油状生成物が得られ、その後結晶化した
のでベンゼン−ヘキサンから再結晶を行い1.1g(収
率38χ)の目的物を得た。m、p、89−90’CP
h1−DAAN 1.9gを水5dと酢酸1.2gの溶
液に懸濁し、10〜I5°Cにて亜硝酸ナトリウム0.
8gを水2dに溶解した溶液を加えた。室温にて30分
反応後酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を水洗後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥して、溶媒ヲ留去した。残
渣を炭酸ナトリウムに溶解し、不溶物を除去後、濃塩酸
にて酸性とし、酢酸エチルで抽出した後、溶媒を情夫し
て、得られる残渣をヘンゼンにて再結晶して目的物1.
2 gを得た。
収率59,4% m、p、 118−119.5°C実
施 例 15 4(5)−シアノ−5(4)−フェニルチオ−125−
チアジアゾール(化合物番号27)Ph5−DMAN2
g、 l−リエチルアミン0.2gをテトラヒドロ
フラン100mff1にとかし、0°Cで塩化チオニル
2.5gを徐々に加えた。滴下終了後室温で2時間撹拌
した。
施 例 15 4(5)−シアノ−5(4)−フェニルチオ−125−
チアジアゾール(化合物番号27)Ph5−DMAN2
g、 l−リエチルアミン0.2gをテトラヒドロ
フラン100mff1にとかし、0°Cで塩化チオニル
2.5gを徐々に加えた。滴下終了後室温で2時間撹拌
した。
テトラヒドロフランを溜去して残る残渣に酢酸エチル1
00mを加え飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
一晩乾燥した。酢酸エチルを溜去し、1.9gの牛油状
結晶を、ヘキサンから再結晶を行うと針状結晶1g(収
率46%)を得た。
00mを加え飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
一晩乾燥した。酢酸エチルを溜去し、1.9gの牛油状
結晶を、ヘキサンから再結晶を行うと針状結晶1g(収
率46%)を得た。
梱、ρ、 39−40’C
実 施 例 16
4(5)−シアノ−5(4)−フェニルチオ−I+2゜
5−セレナジアゾール(化合物番号2日)PhS−DM
AN 0.5gを酢酸エチル30dにとかし、硫酸マグ
ネシウムIgを加え、撹拌しながら酸化セレン1.5
gを加えた。30分後反応混合物に活性炭を加えて濾過
し、濾液を溜去して残る結晶をベンゼン−ヘキサンを用
いて再結晶を行い0.5g(収率70%)の淡黄色針状
結晶を得た。
5−セレナジアゾール(化合物番号2日)PhS−DM
AN 0.5gを酢酸エチル30dにとかし、硫酸マグ
ネシウムIgを加え、撹拌しながら酸化セレン1.5
gを加えた。30分後反応混合物に活性炭を加えて濾過
し、濾液を溜去して残る結晶をベンゼン−ヘキサンを用
いて再結晶を行い0.5g(収率70%)の淡黄色針状
結晶を得た。
m、p、 119−121.5℃
実 施 例 17
2−アミノ−4(5)−シアノ−5(4)−フェニルチ
オイミダゾール(化合物番号36) クロロシアン1.23gのテトラヒドロフラン溶液に5
〜lO°C7IPhS −DMAN3.82 gを加え
、lOoCで10時間反応した0反応後、反応液を水に
あけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗して、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去した。残渣を
酢酸エチルより再結晶して目的物2.9gを得た。
オイミダゾール(化合物番号36) クロロシアン1.23gのテトラヒドロフラン溶液に5
〜lO°C7IPhS −DMAN3.82 gを加え
、lOoCで10時間反応した0反応後、反応液を水に
あけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗して、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去した。残渣を
酢酸エチルより再結晶して目的物2.9gを得た。
収率67% m、p、 207〜209°C上記実施例
を含めて、本発明化合物の代表例を第1表に示す。
を含めて、本発明化合物の代表例を第1表に示す。
(注1)
(注3)
(注2)
(注4)
〔発明の効果〕
本発明の化合物は、農医薬、香料、染料、ポリマー等の
原料ないし中間体として有用であり、DAANを出発原
料として工業的に有利に製造できる。
原料ないし中間体として有用であり、DAANを出発原
料として工業的に有利に製造できる。
出
願
人
日本曹達株式会社
代
理
人(71
横 山 吉 美
Claims (11)
- (1)一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 〔式中、Rはヘテロ環基で置換されていてもよいアルキ
ル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基
又は置換基を有してもよいアリール基を、nは0、1、
2を、Yは水素、シアノ基、カルバモイル基、チオカル
バモイル基又は式COOR^2(式中、R^2は水素、
アルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す。)で
表わされる基を、R^1は、置換基を有してもよいアル
キル基、置換基を有してもよいアラルキル基、シクロア
ルキル基、アルケニル基、置換基を有してもよいアリー
ル基、アシル基、メルカプト基、アミノ基、置換基を有
してもよいヘテロ環基又は式COOR^3(式中、R^
3は水素、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を
示す。)で表わされる基を、mは0、1、2(mが2の
ときR^1は同一であっても相異っていてもよい。)を
、ZはC、N、S、Se、Cを表わし、点線は各結合が
二重結合をとりうることを示す。〕で表わされる化合物
。 - (2)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物と一般式〔III〕R^4C(OR^5)_3(式中
、R^4は水素もしくはアルキル基、R^5はアルキル
基を示す。)で表わされる化合物とを反応させることを
特徴とする一般式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕 (式中、R及びR^4は前記と同じ意味を示す。)で表
わされる化合物の製造方法。 - (3)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物と一般式〔V〕R^6CN(式中、R^6はハロゲ
ンを示す。)で表わされる化合物とを反応させることを
特徴とする一般式〔VI〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔VI〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物の製造方法。 - (4)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物と一般式〔VII〕▲数式、化学式、表等があります
▼ (式中、R^7はアルキル基、アルコキシ基又はアリー
ル基を示す。)で表わされる化合物とを反応させること
を特徴とする一般式〔VIII〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔VIII〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物の製造方法。 - (5)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物と一般式〔IX〕R^8CHO〔式中R^8はアルキ
ル基、置換基を有してもよいアリール基、ヘテロ環基又
は式COOR^9(式中R^9はアルキル基、アラルキ
ル基又はアリール基を示す。)で表わされる化合物と反
応させ、次いで酸化させることを特徴とする一般式〔X
〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔X〕 (式中、R及びR^8は前記と同じ意味を示す。)で表
わされる化合物の製造方法。 - (6)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物とCS_2とを反応させることを特徴とする一般式
〔X I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔X I 〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物の製造方法。 - (7)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物と一般式〔XII〕▲数式、化学式、表等があります
▼ (式中、R^1^0及びR^1^1は、アルキル基又は
アリール基を示す。)で表わされる化合物と反応させ、
次いで酸化させることを特徴とする一般式〔XIII〕▲
数式、化学式、表等があります▼〔XIII〕 (式中、R、R^1^0及びR^1^1は前記と同じ意
味を示す。)で表わされる化合物の製造方法。 - (8)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物と亜硝酸アルカリと反応させることを特徴とする一
般式〔XIV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔XIV〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物の製造方法。 - (9)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物と硫黄トランスファー試薬と反応させることを特徴
とする一般式〔XV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔XV〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物の製造方法。 - (10)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物と二酸化セレンと反応させることを特徴とする一般
式〔XVI〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔XVI〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物の製造方法。 - (11)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物と一般式〔XVIII〕R^1^2COR^1^2(式
中、R^1^2は塩素又はイミダゾール基を示す。)と
を反応させることを特徴とする一般式〔XVIII〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔XVIII〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。)で表わされる化
合物の製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63233627A JPH0283373A (ja) | 1988-05-19 | 1988-09-20 | 5員環の複素環化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12072888 | 1988-05-19 | ||
JP63-120728 | 1988-05-19 | ||
JP63233627A JPH0283373A (ja) | 1988-05-19 | 1988-09-20 | 5員環の複素環化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0283373A true JPH0283373A (ja) | 1990-03-23 |
Family
ID=26458254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63233627A Pending JPH0283373A (ja) | 1988-05-19 | 1988-09-20 | 5員環の複素環化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0283373A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996010019A1 (fr) * | 1994-09-26 | 1996-04-04 | Shionogi & Co., Ltd. | Derive imidazole |
CN104230914A (zh) * | 2014-08-26 | 2014-12-24 | 盐城师范学院 | 1,2,4-三唑类化合物及其制备方法 |
-
1988
- 1988-09-20 JP JP63233627A patent/JPH0283373A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996010019A1 (fr) * | 1994-09-26 | 1996-04-04 | Shionogi & Co., Ltd. | Derive imidazole |
US5910506A (en) * | 1994-09-26 | 1999-06-08 | Shionogi & Co., Ltd. | Imidazole derivatives as anti-HIV agents |
US6147097A (en) * | 1994-09-26 | 2000-11-14 | Shionogi & Co., Ltd. | Imidazole derivatives as anti-HIV agents |
CN104230914A (zh) * | 2014-08-26 | 2014-12-24 | 盐城师范学院 | 1,2,4-三唑类化合物及其制备方法 |
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