JPH01227449A - ウエハプローバ - Google Patents

ウエハプローバ

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JPH01227449A
JPH01227449A JP63054564A JP5456488A JPH01227449A JP H01227449 A JPH01227449 A JP H01227449A JP 63054564 A JP63054564 A JP 63054564A JP 5456488 A JP5456488 A JP 5456488A JP H01227449 A JPH01227449 A JP H01227449A
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JP
Japan
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wafer
chip
chuck
probe
height
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JP63054564A
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Inventor
Yoshito Marumo
丸茂 芳人
Takashi Chiku
知久 孝
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
この発明は半導体ウェハのプローブテストを行なうため
のウエハブローバに関し、半導体ウェハを精度よく測定
するのに適したウェハブローバを提供するものである。
【従来の技術】
半導体装置の製造工程においては、ウェハ上にウェハチ
ップが完成すると、プローブテストと呼ばれ電極パッド
にプローブ針を接触させてウェハチップの電気的特性検
査が行なわれる。 このような検査においては、プローブ位置において、プ
ローブ針が一定の針圧でウェハチップの電極パッドに接
触しているか否かが検査精度に大きく影響するものであ
った。 従来、このプローブ針がウェハの電極バッド上へ接触す
る場合の針圧は、ウェハの厚さやウェハ表面の傾きによ
って影響されるため、プローブ針に対してウェハチャッ
クの2軸方向の移動量を制御することにより調整されて
いた。
【発明が解決しようとする問題点1 しかしながら、本発明者等は針圧への影響因子として、
ウェハの厚さの不均一やウェハ表面の傾き、針圧を受け
た場合のウェハチャックのたわみ量等が非常に大きい影
響力を持っていることを発見した。 近年のウェハの高密度化に伴い、第9図に示すように、
プローブ針21がプローブカード22に垂直に設置され
るようになった。このような場合には、わずかな針圧の
違いによりプローブ針21に過度の負荷がかかって変形
し、負荷が除かれたのちもその変形が残ってしまい、プ
ローブ針21が使用できなくなってしまう。 この発明の目的は、かかる従来の問題点に対処してなさ
れたもので、ウェハの高さや変形に関係なく、適正な針
圧で高精度にウェハを検査できるウエハブローバを提供
することである。 【問題点を解決するための手段】 すなわちこの発明のウエハブローバは、ウェハなウェハ
チャックによって移動可能に保持するとともに、ハイド
センサでウェハ上の1チップごとにその特定点の高さを
検出し、プローブ位置においてウェハチャックを各チッ
プに応じてY軸方向に移動量を調整することにより、ウ
ェハとプローブ針との間隔を常に一定に保持しつつ、ウ
ェハ上、 の各チップを検査することを特徴とするもの
である。
【実施例】
以下、この発明の一実施例を図面を用いて説明する。第
1図ないし第4図はこの発明のウエハブローバの一実施
例を示し、第1図はその概略平面 図、第2図は側面図
、第3図はダミーウェハの用法を示す概略平面図、第4
図はウェハチャックの駆動方向を示す斜視図である。 プローブ位置に設置したプローブカード等からなるプロ
ーブ手段1と、ウェハ12の相対的移動により各チップ
13ごとに検査される0例えばウェハ12が上下、X軸
−Y軸方向に移動することにより検査される。上記上下
移動において、あらかじめ定められた位置に設けられた
ハイドセンサ2の位置を、ウェハチャック11に吸着さ
れたウェハ12が通過することにより、ウェハ12内の
全チップ13について、その高さがハイドセンサ2によ
り検知される。すなわち、第2図に示すようにウェハ1
2の端縁がハイドセンサ2を縦横に横切った際の2点X
+ 、XsおよびYr、Yzのその交点をウェハ12の
中心0として以後の基準とする。そして上記中心Oを起
点として、うす巻き状ないし蛇行状に移動させ、ウェハ
12上の各チップ13をハイドセンサ2によって検知す
る。 この検知結果はメモリに記憶させておく。 4は、マイクロスコープζ撮像カメラ3からの出力によ
るTVモニタで、ウェハ12のチップ13に設けた電極
パッドにプローブ位置においてプローブ針21をコンタ
クトさせ、その針跡の位置やサイズを確認するために使
用される。すなわち第4図に示すように、ウェハ12を
吸着したウェハチャック11をX軸、Y軸、Y軸方向お
よびθ方向に駆動させ、確認した針跡によってウェハ1
2の姿勢を制御するのである。 なお、上記ハイドセンサ2によって各チップ13の高さ
を検知する前に、このTVモニタ4でウェハ12を観察
してチップ13内のどの位置を検知するかを決定する。 その後ウェハ12をへイトセンサ2の視野位置まで、移
動させ、上記手順でウェハ12の中心0を決定して、各
チップ13ごとにその高さを検知する。得られた各チッ
プ13ごとの高さのデータは、メモリに記憶しておく。 次にウェハ12はプローブ位置まで移送され、各チップ
13ごとに電気的に測定される。その際ウェハチャック
11は、第5図のように各チップ13ごとにプローブ針
21に接触させるように動作するが、各チップ13ごと
の高さに応じてY軸方向に移動量を調整する。この調整
は、ウェハチャック11の駆動系を、メモリに記憶され
た各チップ13ごとの高さのデータに応じて制御するこ
とにより行なわれる。なおウェハ12のX軸ないしY軸
方向の傾きは、TVモニタ4の位置で修正されているの
で、プローブ位置においては調整す    □る必要が
ない。 この実施例においては、検査すべきウェハ12をプロー
ブ位置に移送してウェハ12上の各チップ13を電気的
に測定するのに際し、次の準備工程を経るようにしたも
のである。 すなわち、先ずウェハチャック11のチャックトップの
各部位にグいてのたわみ量を、ブローブ針21による針
圧との関係において測定する。測定に際しては第6図に
示すように、プローブ位置のヘッドプレート33に支持
された、上下方向に進退自在のマグネスケール34を使
用する。すなわち、ウェハチャック11のチャックトッ
プ31にウェイト32を載せ、この状態でウェハチャッ
ク11をZ軸方向に上昇させてマグネスケール34の先
端に当接させる。そしてウェハチャック11のチャック
トップ31の各部位についてそのたわみ量を検出する。 上記たわみ量は、通常ウェハチャックの支柱部分との関
係からウェハチャックの中心においては少なく、周辺部
分において大きくなる。しかしながら、ウェハチャック
11の材質等の要素もあってかなりのバラツキを有する
ものである。 このようにして測定したウェハチャック11のチャック
トップ31のたわみ量は、メモリに記憶させておき、の
ちのプローブ工程においてウェハチャック11の2軸方
向の駆動を制御するのに使用する。このようにして針圧
の狂いを低減することにより、より一層高精度にウェハ
な検査することができる。 なお同時に、下記に示すような手段で、ウェハチャック
11のZ軸方向の移動の際の停止位置のズレを検出した
ところ、移動速度によって第8図のAに示すような振動
が生じていることが判明した。 ズレの検出には第7図に示すように、プローブ位置のヘ
ッドプレート33に支持されたオシロスコープ35を使
用する。すなわち、ウェハチャック11のチャックトッ
プ31にウェイト32を載せ、この状態でウェハチャッ
ク11をZ軸方向に上昇させてオシロスコープ35でそ
の位置を検出する。そしてチャックトップ31の各部位
についてその振動量を検出する。 このようにして測定したウェハチャック11の振動はそ
のZ軸方向の速度に大きく影響されるため、本発明者等
は種々検討した結果、ウェハチャック11のZ軸方向の
駆動を2段階制御することによって解消できることを見
いだした。このようにして振動量を低減することにより
、より一層高精度にウェハを検査することができる。 次にこの発明のウエハプローバの動作について説明する
。 通常のロード、アンロード手段でダミーウェハ14をプ
ローブ位置に移送する0次いでダミーウェハ14上の任
意の位置に、プローブ針21で針跡かうなるマーク15
を付してTVモニタ4の位置まで回送する。そして、こ
のダミーウェハ14上のマーク15をTVモニタ4で確
認するとともに、プローブ位置との間の距離りを検出す
る。得られたデータはRAM等のメモリに記憶させてお
く。 次に、検査すべきウェハ12をプローブ位置に移送して
、ウェハ12のチップ13に設けた電極パッドにプロー
ブ位置においてプローブ針21をコンタクトさせる。プ
ローブ針21の針跡等のマーク23を付された検査すべ
きウェハ12は、TVモニタ4によって上記マーク23
の位置やサイズが確認される。それと同時に、ウェハ1
2を吸着したウェハチャック11をX軸、Y軸、Z軸方
向およびθ方向に駆動させ、確認した針跡等のマーク2
3によってウェハ12の姿勢を制御する。 その後、ウェハ12はプローブ位置に送られ、各チップ
13ごとに通常のテストを受ける。 上記各工程において、ウェハチャック11のたわみ量に
応じた制御がZ軸方向について行なわれる。また、第8
図のBに示すように、ウェハチャック11をZ軸方向に
駆動する際には、上昇過程の大半は高速で移動させ、停
止位置に近すいた時点で低速にするという2段階で動作
させる。このようにすれば、上記振動を解消して非常に
制度よく、しかも速度を落とさずにテスト等を行なうこ
とができる。 なお、チップ13内のどの位置の高さをへイトセンサ2
によって測定するかは、マイクロスコープと撮像カメラ
3からの出力によるTVモニタ4内の映像を、TVモニ
タ4内中心に位置する十字マーク5に合わせることによ
り指示する。十字マーク5の下に位置する点が、X、Y
方向へどれだけ移動すればハイドセンサ2の真下にくる
かが判れば、T Vモニタ4に指示したチップ13内の
点を正確にハイドセンサ2の下へ移動することが可能と
なる。 この移動量は、例えば以下の方法を取ることにより実行
可能となる。まず、上記ウェハチャック11がへイトセ
ンサ2の真下を縦および横に横切ツタ際の2点、X+、
XaおよびY In Y a ノ中心、lの中心0であ
り、ハイドセンサ2の真下にウェハチャック11が移動
する座標となる。 次に、TVモニタ4の十字マーク5の真下をウェハチャ
ック11が縦および横に横切った際の2り中心がTVモ
ニタ4の十字マーク5の下に移動センサ2とTVモニタ
4の十字マーク5との間の距離すなわち移動量となる。 したがって、上記ハイドセンサ2によって各チップ13
の高さを検知する前に、このTVモニタ4でウェハ12
を観察してチップ13内のどの位置を検知するかを決定
する。 その後ウェハ12をへイトセンサ2の位置まで移動させ
、上記手順でウェハ12の中心0を決定して、各チップ
13ごとにその高さを検知する。 チップ13のX方向およびY方向の大きさは、あらかじ
めキーボード等を用いて人力することにより、ブローバ
内部に記憶されている。したがって、へイトセンサ2の
真下にTVモニタ4にて指示した特定点が移動した後は
、あらかじめ記憶されたチップ13の大きさ分だけ移動
することにより、ウェハ12上の各チップ13上の特定
点の高さ測定が可能となる。得られた各チップ13ごと
の高さのデータは、メモリに記憶しておく。 次にウェハ12はプローブ位置まで移送され、上述のよ
うに各チップ13ごとに電気的に測定される。なおこの
プローブ工程において、プローブ位置、ハイドセンサ2
およびTVモニタ4の間の距離LL、Liを、ウェハ1
2の中心0等を基準にして計測しておき、そのデータに
応じてウェハチャック11の移動量を制御するようにす
れば、プローブ工程全体を自動的に行なわせることがで
きる。 上記実施例では、ウェハに形成される全チップについて
の高さを検知し、この検知信号により各チップの針圧を
あらかじめ定めた針圧に補正する例について説明したが
、ウェハを複数のブロックに分割し、ブロック単位で針
圧調整してもよい。 ブロックは例えば中心部、周辺部の5分割などである。 さらにあらかじめ定められた位置のチップやダミーチッ
プのみ高さ検知してもよい。
【発明の効果】
この発明のウエハブローバは、各ウェハの高さを検出し
ておき、この検出値に応じてプローブ針と電極パッドと
の相対的移動量を補正することにより、常にあらかじめ
定めた針圧で検査でき、高精度な測定が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明のウエハブローバの一実施例を示す概
略平面図、第2図はその側面図、第3図はダミーウェハ
の用法を示す概略平面図、第4図はウェハチャックの駆
動方向を示す斜視図、第5図はプローブ工程におけるウ
ェハのZ軸方向の動作を示す概略側面図、第6図はウェ
ハチャックのたわみ員を検出する手段を示す概略側面図
、第7図はウェハチャックの停止位置のズレな検出する
手段を示す概略側面図、第8図はウェハチャックの停止
時の振動を示すグラフ、第9図は従来の場合のプローブ
針が変形したところを示す概略側面図、第10図は針圧
を受けた場合のウェハチャックのたわみを示す概略側面
図である。 1・・・プローブ手段   2・・・へイトセンサ3・
・・マイクロスコープと撮像カメラ4・・・そニタ  
    11・・・ウェハチャック12・・・ウェハ 
    13・・・チップ14・・・ダミーウェハ  
15・・・マーク21・・・プローブ針   22・・
・ブローブヵード23・・・マーク     31・・
・チャックトップ32・・・ウェイト    33・・
・ヘッドプレート34・・・マグネスケール 35・・
・オシロスコープ特許出願人  東京エレクトロン株式
会社、−−A、ノ 第  1  図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ウェハをウェハチャックによって移動可能に保持す
    るとともに、ハイトセンサでウェハ上の1チップごとに
    その特定点の高さを検出し、プローブ位置においてウェ
    ハチャックを各チップに応じてZ軸方向に移動量を調整
    することにより、ウェハとプローブ針との間隔を常に一
    定に保持しつつ、ウェハ上の各チップを検査することを
    特徴とするウェハプローバ。
JP63054564A 1988-03-08 1988-03-08 ウエハプローバ Expired - Fee Related JPH0680711B2 (ja)

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JPH0680711B2 JPH0680711B2 (ja) 1994-10-12

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6906542B2 (en) 2001-03-16 2005-06-14 Tokyo Electron Limited Probing method and prober
US7899917B2 (en) 2007-02-01 2011-03-01 Microsoft Corporation Synchronization framework for occasionally connected applications

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US6906542B2 (en) 2001-03-16 2005-06-14 Tokyo Electron Limited Probing method and prober
US7417445B2 (en) 2001-03-16 2008-08-26 Tokyo Electron Limited Probing method and prober for measuring electrical characteristics of circuit devices
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