JPH01220843A - マスタースライス集積回路 - Google Patents

マスタースライス集積回路

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JPH01220843A
JPH01220843A JP4657288A JP4657288A JPH01220843A JP H01220843 A JPH01220843 A JP H01220843A JP 4657288 A JP4657288 A JP 4657288A JP 4657288 A JP4657288 A JP 4657288A JP H01220843 A JPH01220843 A JP H01220843A
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JP
Japan
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chips
integrated circuit
chip
wirings
scribe region
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Pending
Application number
JP4657288A
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English (en)
Inventor
Toshiji Ayabe
綾部 利治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH01220843A publication Critical patent/JPH01220843A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は同一の半導体ウェハに形成される複数個の集積
回路チップで構成するマスタースライス集積回路に関す
る。
(従来の技術〕 従来、−枚の半導体ウェハに形成した同一の素子構成を
有する複数のチップに対して、配線パターンのみ変更し
た回路を構成することにより多品種の集積回路を構成す
るマスタースライス集積回路が実用化されている。
例えば、第3図に示すように、−枚の半導体ウェハに、
素子構成が同じ複数(4個)のチップ1〜4を形成し、
これらのチップに対して夫々同じ或いは異なる配線パタ
ーンを形成することにより回路構成が同じ或いは相違し
た、各種の集積回路F〜■を形成している。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のマスタースライス集積回路では、各チッ
プはスクライブ領域により規定されており、形成される
集積回路はこのチップ単位の素子規模として構成される
。このため、これ以上の素子規模の回路を構成する場合
には、素子規模の大きな別のチップに形成するか、或い
は回路構成を分割°して複数の別個の集積回路として構
成したものを−の基板に夫々搭載して配線接続する構成
がとられている。
しかしながら、前者の構成では素子規模の異なるチップ
を複数種類用意する必要があり、生産及びその管理が面
倒になるという問題がある。また、後者の構成ではチッ
プ相互を別の配線で接続するために、■チップで構成し
た回路と同等の特性を得ることが難しいという問題があ
る。
本発明は素子規模の異なる集積回路を一種類のチップで
構成して、前記各問題を解消したマスタースライス集積
回路を提供することを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のマスタースライス集積回路は、同一の半導体ウ
ェハに形成され、スクライブ領域によって区画された同
一或いは異なる素子構成をした複数個のチップを、スク
ライブ領域を横切る配線によって相互に接続し、これら
の相互接続されたチップで1つの集積回路を構成してい
る。
〔作用〕
上述した構成では、相互接続するチップ数を任意に設定
することにより、大きな素子規模の集積回路や異なる素
子規模の集積回路を1つの素子規模のチップで構成でき
る。
〔実施例〕
次に、本発明を図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1実施例の概略平面図である。ここ
では−枚のウェハに形成した4つのチップ1〜4を図示
しており、各チップ1は夫々間−又は異なる内部回路1
1〜14が形成され、かつ各チップ1〜4の周辺部には
夫々電極パッド21〜24が形成されている。また、各
チップ1〜4はスクライブ領域5によって区画されてい
る。
そして、ここではチップ1と2を夫々−組とし、内部回
路11と12を前記スクライブ領域5を横切る配線6に
より相互に接続し、これらで所望の集積回路Aを構成し
ている。同様にチップ3と4を一組とし、内部回路13
と14を前記スクライブ領域5を横切る配線7により相
互に接続し、所望の集積回路Bを構成している。この場
合、配線7と8のパターンを変えることにより、夫々異
なる集積回路A、Bが構成される しかる上で、後の工程においてスクライブ領域5を図示
破線で示すように切断することにより、集積回路A、B
を独立したマスタースライス集積回路として構成できる
したがって、この構成ではチップ1〜4の素子規模が小
さい場合でも、2つのチップを一組として構成すること
により、集積回路A、Bのように2倍の素子規模を有す
る集積回路が構成できる。
第2図は本発明の第2実施例の概略平面図であり、第1
図と同一部分には同一符号を付しである。
この実施例では、チップ1と2を一組とし、夫々の内部
回路11.12をスクライブ領域5を横切る配線6によ
って相互に接続して集積回路Cを構成する。また、チッ
プ3.4は夫々独立したチップとし、チップ内での配線
(図示せず)により比較的規模の小さい集積回路り、E
を構成している。
この構成では、チップ2個で形成される集積回路と、チ
ップ1個で形成される集積回路のように、素子規模の異
なる集積回路を一枚のウェハに混在させることができる
ここで、必要に応じて3個以上のチップをスクライブ領
域を横切る配線によって接続して極めて大きな規模の集
積回路を構成することも可能である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、スクライブ領域によって
区画された複数個のチップを、スクライブ領域を横切る
配線によって相互に接続して1つの集積回路を構成する
ので、相互接続するチップ数を任意に設定することによ
り、大きな素子規模の集積回路や異なる素子規模の集積
回路を1つの素子規模のチップで構成できる。また、同
一のウェハに素子規模の異なる集積回路が構成できるの
で、規模の異なるチップを用意する必要はなく、生産及
び管理を容易なものにできる。更に、複数のチップはウ
ェハ上で配線して相互接続しているので、単一のチップ
で構成した集積回路と同等の特性が得られることは言う
までもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例の概略平面図、第2図は本
発明の第2実施例の概略平面図、第3図は従来構成の概
略平面図である。 1〜4・・・チップ、5・・・スクライブ領域、6.7
・・・スクライブ領域を横切る配線、11〜14・・・
内部回路、21〜24・・・電極パッド、A−I・・・
集積回路。 第1図 第2図 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、同一の半導体ウェハに形成され、スクライブ領域に
    よって区画された同一或いは異なる素子構成をした複数
    個のチップを、前記スクライブ領域を横切る配線によっ
    て相互に接続し、これらの相互接続されたチップで1つ
    の集積回路を構成したことを特徴とするマスタースライ
    ス集積回路。
JP4657288A 1988-02-29 1988-02-29 マスタースライス集積回路 Pending JPH01220843A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001099194A2 (en) * 2000-06-16 2001-12-27 Infineon Technologies North America Corp. Semiconductor arrangement
JP2002280521A (ja) * 2001-03-21 2002-09-27 Samsung Electronics Co Ltd 集積回路構造をもつウェハ、集積回路メモリチップ、メモリ素子および集積回路メモリ製造方法
WO2001099188A3 (en) * 2000-06-16 2003-04-24 Infineon Technologies Corp Semiconductor package and method
JP2014186509A (ja) * 2013-03-22 2014-10-02 Research Organization Of Information & Systems 半導体チップ、半導体チップ接続システム

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001099194A2 (en) * 2000-06-16 2001-12-27 Infineon Technologies North America Corp. Semiconductor arrangement
WO2001099194A3 (en) * 2000-06-16 2002-05-02 Infineon Technologies Corp Semiconductor arrangement
WO2001099188A3 (en) * 2000-06-16 2003-04-24 Infineon Technologies Corp Semiconductor package and method
US6730989B1 (en) 2000-06-16 2004-05-04 Infineon Technologies Ag Semiconductor package and method
US6815803B1 (en) 2000-06-16 2004-11-09 Infineon Technologies Ag Multiple chip semiconductor arrangement having electrical components in separating regions
US7060529B2 (en) 2000-06-16 2006-06-13 Infineon Technologies Ag Multiple chip semiconductor arrangement having electrical components in separating regions
JP2002280521A (ja) * 2001-03-21 2002-09-27 Samsung Electronics Co Ltd 集積回路構造をもつウェハ、集積回路メモリチップ、メモリ素子および集積回路メモリ製造方法
JP2014186509A (ja) * 2013-03-22 2014-10-02 Research Organization Of Information & Systems 半導体チップ、半導体チップ接続システム

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