JPH01220152A - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体の製造方法Info
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- JPH01220152A JPH01220152A JP63042174A JP4217488A JPH01220152A JP H01220152 A JPH01220152 A JP H01220152A JP 63042174 A JP63042174 A JP 63042174A JP 4217488 A JP4217488 A JP 4217488A JP H01220152 A JPH01220152 A JP H01220152A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
この発明は、レーザビームを用いて情報の記録・再生を
行なう情報記録媒体の製造方法に関する。
行なう情報記録媒体の製造方法に関する。
（従来の技術）
レーザビームを用いて光学的に情報の記録・再生を行う
のに、基板上に形成された記録膜に、記録すべき情報に
対応させたパルス変調レーザビームを照射して局部的に
加熱を行なうことにより、ビットと称される孔部を形成
する情報記録媒体が知られている。
のに、基板上に形成された記録膜に、記録すべき情報に
対応させたパルス変調レーザビームを照射して局部的に
加熱を行なうことにより、ビットと称される孔部を形成
する情報記録媒体が知られている。
このような情報記録媒体は■記録密度が極めて高く大容
量化が可能であること、■情報の記録や再生を非接触で
行なうので記録媒体の摩耗がないこと、■高速アクセス
が可能でおること、などの利点がおり、いわゆる光ディ
スクや光カードに応用されている。なお、情報記録媒体
は情報のアクセスを可能とするため、基板に光学ヘッド
案内用の溝（グループ）を設けることから、基板材料と
しては光学的特性に優れグループ成形性の良い透明樹脂
材料が適している。
量化が可能であること、■情報の記録や再生を非接触で
行なうので記録媒体の摩耗がないこと、■高速アクセス
が可能でおること、などの利点がおり、いわゆる光ディ
スクや光カードに応用されている。なお、情報記録媒体
は情報のアクセスを可能とするため、基板に光学ヘッド
案内用の溝（グループ）を設けることから、基板材料と
しては光学的特性に優れグループ成形性の良い透明樹脂
材料が適している。
情報記録媒体は記録膜の材質によって種々の型に分けら
れる。ユーザが記録できる型の媒体は、光ビームの照射
により光学的性質が変化する記録膜を、透明な基板上に
形成したもので、再生方法はレーザビームを記録膜に向
は照射し、その反射光を検出して記録情報を読み出すの
が一般的である。
れる。ユーザが記録できる型の媒体は、光ビームの照射
により光学的性質が変化する記録膜を、透明な基板上に
形成したもので、再生方法はレーザビームを記録膜に向
は照射し、その反射光を検出して記録情報を読み出すの
が一般的である。
記録膜の材質として、カルコゲン化合物、有機色素、希
土類−遷移金属等が利用される。これ等の光学的変化を
利用した記録膜を透明樹脂基板上に形成し実用化されて
いるが、記録膜単層では充分な寿命を持つ材料は極めて
少なかった。媒体寿命を保持するため、有機成分マトリ
ックス中に金属微粒子を分散させた構造や新たな保護膜
で記録膜を被覆する方法がとられる。しかしながら、依
然として環境テスト等の加速劣化特性や、高温高湿度履
歴による記録膜の変質、記録・再生特性の低下が現われ
、これらの改善が要望されている。
土類−遷移金属等が利用される。これ等の光学的変化を
利用した記録膜を透明樹脂基板上に形成し実用化されて
いるが、記録膜単層では充分な寿命を持つ材料は極めて
少なかった。媒体寿命を保持するため、有機成分マトリ
ックス中に金属微粒子を分散させた構造や新たな保護膜
で記録膜を被覆する方法がとられる。しかしながら、依
然として環境テスト等の加速劣化特性や、高温高湿度履
歴による記録膜の変質、記録・再生特性の低下が現われ
、これらの改善が要望されている。
（発明が解決しようとする課題）
この発明は、長寿命で耐環境性に優れしかも高感度を持
ち信頼性の高い情報記録媒体の製造方法を提供すること
を目的とする。
ち信頼性の高い情報記録媒体の製造方法を提供すること
を目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
（ト） レーザビームの照射により情報の記録・再生を
行なう記録膜を有する情報記録媒体の製造方法において
、真空容器内に金属ターゲットとを備え、記録膜は基板
上にＡｒと炭化水素及び弗化炭素との混合ガスを含む雰
囲気中でのターゲットの反応性スパッタリングにより形
成したことを特徴とする。
行なう記録膜を有する情報記録媒体の製造方法において
、真空容器内に金属ターゲットとを備え、記録膜は基板
上にＡｒと炭化水素及び弗化炭素との混合ガスを含む雰
囲気中でのターゲットの反応性スパッタリングにより形
成したことを特徴とする。
■ レーザビームの照射により情報の記録・再生を行な
う記録膜を有する情報記録媒体の製造方法において、真
空容器内に金属ターゲットとを備え、記録膜は基板上に
Ａｒとパラフィン系炭化水素との混合ガスの中にオレフ
ィン系またはアセチレン系またはスチレン系炭化水素の
中のいずれか１種またはこれらの任意の種類の組合わせ
からなるガスを容積で１〜２０ｍｏｌ％添加させた雰囲
気中で反応性スパッタリングにより形成したことを特徴
とする。
う記録膜を有する情報記録媒体の製造方法において、真
空容器内に金属ターゲットとを備え、記録膜は基板上に
Ａｒとパラフィン系炭化水素との混合ガスの中にオレフ
ィン系またはアセチレン系またはスチレン系炭化水素の
中のいずれか１種またはこれらの任意の種類の組合わせ
からなるガスを容積で１〜２０ｍｏｌ％添加させた雰囲
気中で反応性スパッタリングにより形成したことを特徴
とする。
（作 用）
この発明による情報記録媒体の製造方法は、上記のよう
な手段により、 ■ 真空容器内に金属ターゲットとを備え、記録膜は基
板上にＡｒと炭化水素及び弗化炭素の混合ガスを含む雰
囲気中でのターゲットの反応性スパッタリングにより形
成した結果、基板上に金属微粒子と有機成分とが混在し
た記録膜が形成され、長寿命で耐環境性に優れた記録媒
体が（ｑられる。
な手段により、 ■ 真空容器内に金属ターゲットとを備え、記録膜は基
板上にＡｒと炭化水素及び弗化炭素の混合ガスを含む雰
囲気中でのターゲットの反応性スパッタリングにより形
成した結果、基板上に金属微粒子と有機成分とが混在し
た記録膜が形成され、長寿命で耐環境性に優れた記録媒
体が（ｑられる。
■ 同じく、真空容器内に金属ターゲットとを備え、記
録膜は基板上にＡｒとパラフィン系炭化水素との混合ガ
スの中にオレフィン系またはアセチレン系またはスチレ
ン系炭化水素の中のいずれか１種またはこれらの任意の
種類の組合わせからなるガスを容積で１〜２０ｍｏｌ％
添加させた雰囲気中で反応性スパッタリングにより形成
した結果、同様に有機成分マトリックス中に金属微粒子
を分散した構造となり、熱的にも安定した記録媒体を提
供できる。
録膜は基板上にＡｒとパラフィン系炭化水素との混合ガ
スの中にオレフィン系またはアセチレン系またはスチレ
ン系炭化水素の中のいずれか１種またはこれらの任意の
種類の組合わせからなるガスを容積で１〜２０ｍｏｌ％
添加させた雰囲気中で反応性スパッタリングにより形成
した結果、同様に有機成分マトリックス中に金属微粒子
を分散した構造となり、熱的にも安定した記録媒体を提
供できる。
（実施例）
以下、この発明による情報記録媒体の製造方法の実施例
を図面を参照し詳細に説明する。
を図面を参照し詳細に説明する。
第１図はこの発明を実施するためのスパッタリング装置
の構成図でおる。即ち、真空容器■には、混合ガス等が
供給されるガス導入口■及び図示しない真空ポンプに接
続された排気口（３）が設けられている。容器■内には
金属ターゲット及び電極（イ）が設けられ、端子■を介
して図示しない直流（ＤＣ）電源に接続される。また、
容器ω内の前記電極（イ）に対向する位置に基板（へ）
が設置される対向電極■が設けられている。
の構成図でおる。即ち、真空容器■には、混合ガス等が
供給されるガス導入口■及び図示しない真空ポンプに接
続された排気口（３）が設けられている。容器■内には
金属ターゲット及び電極（イ）が設けられ、端子■を介
して図示しない直流（ＤＣ）電源に接続される。また、
容器ω内の前記電極（イ）に対向する位置に基板（へ）
が設置される対向電極■が設けられている。
基板■は１３０ｍｍφ、厚ざ１，２履のポリカーボネイ
ト、ポリメチルメタアクリレートあるいはエポキシ等の
透明樹脂材料からなり、基板表面には図示しないが８０
０オングストロ一ム程度の深さに記録・再生用案内溝（
グループ）が予め形成されている。
ト、ポリメチルメタアクリレートあるいはエポキシ等の
透明樹脂材料からなり、基板表面には図示しないが８０
０オングストロ一ム程度の深さに記録・再生用案内溝（
グループ）が予め形成されている。
第一の発明による記録膜の形成手順は、まず真空容器（
ト）の内部を排気口■を通して２ Ｘ １Ｏ−６Ｔｏｒ
ｒ程度まで排気した後、ガス導入口■より炭化水素（Ｃ
Ｈ４）ガス及び弗化炭素ガス並びにＡｒガスとの混合ガ
スを導入する。ＣＨ４ガスと弗化炭素ガス及びＡｒガス
の混合容積量は夫々１０３ＣＣＨの計３０３ＣＣ）ｌ、
容積比を１：１：１の割合とする。そこで、容器内ガス
圧力を５ Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒとした後に、ターゲッ
ト（イ）と対向電極■との間に例えば０．５ＡのＤＣ電
力を供給し反応性スパッタリングを行う。
ト）の内部を排気口■を通して２ Ｘ １Ｏ−６Ｔｏｒ
ｒ程度まで排気した後、ガス導入口■より炭化水素（Ｃ
Ｈ４）ガス及び弗化炭素ガス並びにＡｒガスとの混合ガ
スを導入する。ＣＨ４ガスと弗化炭素ガス及びＡｒガス
の混合容積量は夫々１０３ＣＣＨの計３０３ＣＣ）ｌ、
容積比を１：１：１の割合とする。そこで、容器内ガス
圧力を５ Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒとした後に、ターゲッ
ト（イ）と対向電極■との間に例えば０．５ＡのＤＣ電
力を供給し反応性スパッタリングを行う。
この結果、基板（６）上に記録膜が堆積形成されて情報
記録媒体が作製される。なお、基板０は１８ｒｐｍの速
度で回転させ、堆積膜の均一化を計っている。
記録媒体が作製される。なお、基板０は１８ｒｐｍの速
度で回転させ、堆積膜の均一化を計っている。
［実施例−１］
金属ターゲットに）にＴｅを使用する。基板（６）上に
記録膜を堆積させるのに、まずＣＨ４ガスと弗化炭素（
ＣＦ４ ）ガスとＡｒガスとの容積比が１：１：１から
なる総ｉ ３０ＳＣＣ）ｌの混合ガスを導入する。この
ようにして、スパッタリングを行った結果、４０秒間で
５０ｎｍの厚さの記録膜を得ることかできた。
記録膜を堆積させるのに、まずＣＨ４ガスと弗化炭素（
ＣＦ４ ）ガスとＡｒガスとの容積比が１：１：１から
なる総ｉ ３０ＳＣＣ）ｌの混合ガスを導入する。この
ようにして、スパッタリングを行った結果、４０秒間で
５０ｎｍの厚さの記録膜を得ることかできた。
この結果、第２図にその記録媒体の断面模式に示すよう
に、スパッタリング混合ガス組成とターゲットとの関係
から、基板■上に堆積形成された記録膜（６１）はＴｅ
微粒子からなる光吸収部（６１１）と有機成分（６１２
）のマトリックス部から構成される。
に、スパッタリング混合ガス組成とターゲットとの関係
から、基板■上に堆積形成された記録膜（６１）はＴｅ
微粒子からなる光吸収部（６１１）と有機成分（６１２
）のマトリックス部から構成される。
このようにして得られた情報記録媒体を８５℃−９０％
ＲＨの高温高湿度槽内で加速劣化試験による耐環境テス
トを行った。この耐環境テスト後に波長（λ）が８００
ｎｍのレーザ光による光透過率（Ｔ／Ｔｏ、）は第３図
に示すように３０００時間後も変化せず良好な結果が得
られた。また、同じく波長８００ｎｍのレーザパルス光
を１ＪｉＩｎφに絞り、記録膜（６１）に照射してピッ
トを形成し、光反＠量の差を２値記録出力として測定し
た結果、４５ｄＢ以上のＳ／Ｎ比が得られた。
ＲＨの高温高湿度槽内で加速劣化試験による耐環境テス
トを行った。この耐環境テスト後に波長（λ）が８００
ｎｍのレーザ光による光透過率（Ｔ／Ｔｏ、）は第３図
に示すように３０００時間後も変化せず良好な結果が得
られた。また、同じく波長８００ｎｍのレーザパルス光
を１ＪｉＩｎφに絞り、記録膜（６１）に照射してピッ
トを形成し、光反＠量の差を２値記録出力として測定し
た結果、４５ｄＢ以上のＳ／Ｎ比が得られた。
なお、この実施例において、弗化炭素としてＣ２Ｆ６や
０３ ＦＢを使用しても全く同様な効果が得られた。ま
た、金属ターゲットについても、Ｔｅに限らず、Ｉｎ、
Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂ ｉ、Ｓｅ。
０３ ＦＢを使用しても全く同様な効果が得られた。ま
た、金属ターゲットについても、Ｔｅに限らず、Ｉｎ、
Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂ ｉ、Ｓｅ。
Ａｃｔ、Ｇａ、ＡＳ、（３ｅの各単体おるいはこれらの
任意の組合わせ合金についても同様な効果が得られる。
任意の組合わせ合金についても同様な効果が得られる。
第二の発明による記録媒体の製造方法は、前記第一の発
明におけるスパッタリングガスの組成を若干変更したも
ので、炭化水素と弗化炭素のガスに代え、パラフィン系
炭化水素を用いた混合ガスとするとともに、この混合ガ
スの中にオレフィン系またはアセチレン系またはスチレ
ン系炭化水素の中のいずれか１種またはこれらの任意の
種類の組合わせからなるガスを容積で１〜２０ｍ０＋％
添加させた雰囲気中で反応性スパッタリングを行わしめ
たものである。具体的例を次に説明する。
明におけるスパッタリングガスの組成を若干変更したも
ので、炭化水素と弗化炭素のガスに代え、パラフィン系
炭化水素を用いた混合ガスとするとともに、この混合ガ
スの中にオレフィン系またはアセチレン系またはスチレ
ン系炭化水素の中のいずれか１種またはこれらの任意の
種類の組合わせからなるガスを容積で１〜２０ｍ０＋％
添加させた雰囲気中で反応性スパッタリングを行わしめ
たものである。具体的例を次に説明する。
［実施例−２］
ＣＨ４とＡｒとの混合ガスにＣ２Ｈ２ガスを流量容積比
で５％添加したスパッタリングガスを使用し、実施例−
１と同様な工程で基板（へ）表面に°約５０ｎｍの厚ざ
の記録膜を堆積させ情報記録媒体を作製したが、実施例
−１同様にテスト・評価を行ったが、いずれも同様な特
性効果が得られた。特に、記録膜の加速劣化テストによ
る光透過率についても、第４図に示すように０２ Ｈ２
ガスを添加しない場合（２）と比較し、良好な特性０が
得られた。また、発熱ピーク特性曲線についても、第５
図に示すように０２ Ｈ２を添加しない場合０と比較し
高温側にシフトした特性に）が得られた。
で５％添加したスパッタリングガスを使用し、実施例−
１と同様な工程で基板（へ）表面に°約５０ｎｍの厚ざ
の記録膜を堆積させ情報記録媒体を作製したが、実施例
−１同様にテスト・評価を行ったが、いずれも同様な特
性効果が得られた。特に、記録膜の加速劣化テストによ
る光透過率についても、第４図に示すように０２ Ｈ２
ガスを添加しない場合（２）と比較し、良好な特性０が
得られた。また、発熱ピーク特性曲線についても、第５
図に示すように０２ Ｈ２を添加しない場合０と比較し
高温側にシフトした特性に）が得られた。
また、ＣＨ４と八ｒとの混合ガスにスチレンガスを約１
０ｍ０Ｉ％添加したスパッタリングガスを使用し、実施
例−２と同様な工程で基板（６）表面に約５０ｎｍの厚
さの記録膜を堆積させ情報記録媒体を作製し、同様にテ
スト・評価を行った結果、いずれも同様な特性効果が得
られた。
０ｍ０Ｉ％添加したスパッタリングガスを使用し、実施
例−２と同様な工程で基板（６）表面に約５０ｎｍの厚
さの記録膜を堆積させ情報記録媒体を作製し、同様にテ
スト・評価を行った結果、いずれも同様な特性効果が得
られた。
なお、実施例−２と同様な方法でＣ２Ｈ４゜Ｃ２Ｈ２、
スチレンの添加量を種々変えて記録膜を作製しテスト・
評価を行った結果、耐加速劣化特性に効果のあるガス添
加量は１〜２０ｍｏｌ％であることが分った。
スチレンの添加量を種々変えて記録膜を作製しテスト・
評価を行った結果、耐加速劣化特性に効果のあるガス添
加量は１〜２０ｍｏｌ％であることが分った。
また、上記実施例では金属ターゲットをＴｅとして説明
したが、その他のＪｎ、３ｅ、ｐｂ。
したが、その他のＪｎ、３ｅ、ｐｂ。
Ｂ ｉ、ｓｂ、 Ａｇ、ａａ、ＡＳ及びＧｅのいずれか
の金属単体もしくはこれらの任意の組合わせからなる合
金を使用しても同様な効果が得られる。
の金属単体もしくはこれらの任意の組合わせからなる合
金を使用しても同様な効果が得られる。
［発明の効果］
以上説明のように、この発明の製造方法によれば、特に
耐環境性に優れ長寿命で、記録・再生特性の優れた情報
記録媒体を提供することができる。
耐環境性に優れ長寿命で、記録・再生特性の優れた情報
記録媒体を提供することができる。
第１図はこの発明に係る情報記録媒体の製造に使用する
反応性スパッタリング装置の構造を示す概要図、第２図
はこの発明による製造方法によって作製された情報記録
媒体の断面模式図、第３図ないし第５図はいずれもこの
発明による製造方法によって作製された情報記録媒体の
特性を示す図で、耐環境テストにおける光透過率特性図
（第３図、第４図）、および発熱ピーク特性図（第５図
）である。 （υ・・・真空容器 ■・・・ガス導入口 （イ）・・・金属ターゲット及び電極 （６）・・・基板
反応性スパッタリング装置の構造を示す概要図、第２図
はこの発明による製造方法によって作製された情報記録
媒体の断面模式図、第３図ないし第５図はいずれもこの
発明による製造方法によって作製された情報記録媒体の
特性を示す図で、耐環境テストにおける光透過率特性図
（第３図、第４図）、および発熱ピーク特性図（第５図
）である。 （υ・・・真空容器 ■・・・ガス導入口 （イ）・・・金属ターゲット及び電極 （６）・・・基板
Claims (2)
- （１）レーザビームの照射により情報の記録・再生を行
なう記録膜を有する情報記録媒体の製造方法において、
真空容器内に金属ターゲットとを備え、記録膜は基板上
にＡｒと炭化水素及び弗化炭素との混合ガスを含む雰囲
気中でのターゲットの反応性スパッタリングにより形成
したことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。 - （２）レーザビームの照射により情報の記録・再生を行
なう記録膜を有する情報記録媒体の製造方法において、
真空容器内に金属ターゲットとを備え、記録膜は基板上
にＡｒとパラフィン系炭化水素との混合ガスの中にオレ
フィン系またはアセチレン系またはスチレン系炭化水素
の中のいずれか１種またはこれらの任意の種類の組合わ
せからなるガスを容積で１〜２０ｍｏｌ％添加させた雰
囲気中で反応性スパッタリングにより形成したことを特
徴とする情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63042174A JPH01220152A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 情報記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63042174A JPH01220152A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 情報記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01220152A true JPH01220152A (ja) | 1989-09-01 |
Family
ID=12628612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63042174A Pending JPH01220152A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 情報記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01220152A (ja) |
-
1988
- 1988-02-26 JP JP63042174A patent/JPH01220152A/ja active Pending
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