JPH01206686A - プリント配線用基板 - Google Patents

プリント配線用基板

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JPH01206686A
JPH01206686A JP3253588A JP3253588A JPH01206686A JP H01206686 A JPH01206686 A JP H01206686A JP 3253588 A JP3253588 A JP 3253588A JP 3253588 A JP3253588 A JP 3253588A JP H01206686 A JPH01206686 A JP H01206686A
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copper foil
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adhesion
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Yoshitomo Tsutsumi
堤 善朋
Kunio Mori
邦夫 森
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Toshiba Chemical Corp
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    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、銅箔と樹脂との接着性かよく、かつ耐酸性、
耐熱性に優れたプリント配線用基板に関する。
(従来の技術) 従来から、プリント配線用基板において基板内層に銀箔
が埋め込まれることがあり、内層銀箔とプリプレグの樹
脂との接着力を高めるために種々の検討がなされてきた
。 @箔表面は未処理のままで樹脂と接着させても十分
な接着力を得ることは困難であるし、また接着させたも
のを高温で長時間処理すると基板にデラミネーション等
が発生する。 そのため、基板として必要な接着力を得
るには、一般に銅箔の表面を処理する工程が採られる。
 従来は、かかる表面処理方法として、基板の製造工程
で銅表面に酸化第1SFI、酸化第2銅等の銅の酸化物
層を形成する方法や、銀箔の製造工程で表裏両面に粗面
化処理を施した両面処理銀箔を使用する方法が用いられ
ている。
ところで、上記した銅表面に酸化物層を形成する方法で
は、過硫酸カリウムを含むアルカリ性水溶液や亜塩素酸
ナトリウムを含むアルカリ性水溶液で処理して酸化物層
を形成さぜる。 これは接着力に加えて多層プリント配
線板の耐熱・−でも十分な特性値が得られるという利点
を有するが、酸化物層は酸に接触すると加水分解して容
易に溶解する。 そのなめ、多層プリント配線板製造に
おけるドリル加工後のスルーホールメツキ工程で、酸を
含む溶液で処理するとスルーホールメツキのまわりにハ
ローイングが発生し、プリント配線板の信頼性を著しく
悪くするという欠点がある。
一方粗面化処理を施した両面処理銅箔は耐酸性か良好で
あるが、酸化物層を形成した銅箔に比べて耐熱性が劣る
という問題点がある。
(発明か解決しようとする課題) 本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもの
で銀箔と樹脂との接着力がよく、If酸性、耐熱性に優
れたプリント配線用基板を提供しようとするものである
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明者らは、上記の目的を達成しようと鋭意研究を重
ねた結果、熱硬化性樹脂にトリアジンチオール類を配合
したものと、密着性向上処理を施した銀箔を用いること
によって、上記目的を達成することが可能であることを
見いたし1本発明を完成しなものである。
すなわち、本発明は、特定のトリアジンチオール類を配
合しな熱硬化性樹脂を基材に含浸・乾燥させたプリプレ
グと、密着性向上処理を施した銀箔とを一体に成形して
、前記プリプレグと前記銀箔とを接着させてなることを
特徴とするプリプレグ配線用基板である。
本発明に用いるトリアジンチオール類は、次の一般式を
有するものである。
具体的な化合物としては、一般式中のR基およびM基が
第1表に示される誘導体が挙けられ、これらのトリアジ
ンチオール類は単独もしくは2種以上混合して使用でき
る。
第1表 本発明に用いる熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、
ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂等が挙げられ、特に限定されるものではない。 そ
して、これらの熱硬化性樹脂は単独もしくは2種以上混
合して使用できる。
前述したトリアジンチオール類を熱硬化性樹脂に混合し
て溶剤で希釈調製してワニスとし、これを基材に含浸・
乾燥してプリプレグをつくる。
基材として通常使用されるカラスクロス、力ラス不織布
、有機質基材等か用いられる。
本発明に用いる銀箔は、密着性向上処理を施した銀箔で
、過WL酸カリウムを含むアルカリ性水溶液や亜塩素ナ
トリウムを含むアルカリ水溶液等で処理して酸化物層を
形成した@箔や、粗面化処理を行った銅箔が使用される
こうして得られたプリプレグを密着向上処理した銅箔を
有する内層板の銅パターン層に重ねて加圧成形してプリ
ント配線用基板をつくることができる。
(作用) 本発明において、熱硬化性樹脂に特定のトリアジンチオ
ール類を配合したことによって@箔と樹脂との接着性が
向上し、密着性向上処理した@箔すなわち酸化物層を形
成した銀箔を用いることによって耐酸性が良好となり、
一方粗面化処理を施した両面処理箔では耐熱性が良好と
なる。 従つて、本発明によれば接着性のよい、がっ耐
熱性、耐酸性に優れたプリント配線用基板を得ることが
できる。
(実施例) 次に本発明を実施例によって具体的に説明する。
以下の実施例および比較例における「部」、「%」とは
、それぞれ「重量部」、「重量%」を意味する。
実施例 1 難燃性エポキシ樹脂アラルダイト8011(チバガイギ
ー社製、商品名> 90部、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂YDCN−220HH(京都化成社製、商品
名)10部の合計1oo部に、硬化剤としてジシアンジ
アミド3部、トリアジンチオール誘導体E(第1表に示
した)5部および硬化促進剤としてベンジルジメチルア
ミン0.15部を配合し、溶剤を加えてワニスを調製す
る。 このワニスをガラスクロス7628 (旭シュニ
ーベル社製、商品名)に含浸・塗布乾燥して樹脂付着量
42%、ゲルタイム100秒のプリプレグをつくった。
厚さ0.41、銀箔厚さ70μmノ両面板TLC−W−
551M(東芝ケミカル社製、商品名 銅張積層板AN
]I[格PR−4)にテストパターンを露光して、エツ
チング牽行い内層板を得た。 この内層板の銅箔面を、
Na CI 0235 g/l 。
NaOI(12μm、Na3PO4・112H2O6/
lからなる処理溶液に、95°C,3分間黒色酸化処理
を行った。
黒色酸化処理を行った内層板の上下面に、前記のプリプ
レグ3枚ずつを重ね合せ、さらにその上下面に厚さ18
μmの銅箔を重ね合せ、170 ’Cの温度、圧力40
 kgf/cm’で90分間成形して、4層のプリント
配線用基板を製造した。
実施例 2 エポキシ樹脂アラルタイト6071 (チバガイギー社
製、商品名)85部とクレゾールノボラック型エポキシ
樹脂YDCN〜220HH(前出)15部の合計100
部に、硬化剤としてジシアンジアミド3部、トリアジン
チオール誘導体C(第1表に示しな)10部、および硬
化促進剤としてペンシルジメチルアミン0.15部を配
合し、溶剤を加えてワニスを調製しな。 このワニスを
ガラスクロス、  7628(前出)に含浸塗布して、
樹脂付着量39%、ゲルタイム100秒のプリプレグを
つくった。
日鉱り−ルドフォイール社製厚さ70μm両面処理@箔
を表裏に有するMEL−W−4M (東芝ケミカル社製
、商品名 銅銀積層板ANSI規格G−10)にテスト
パターンを露光して、エツチングを行い内層板をつくっ
た。
この内層板の上下面に前記のプリプレグ3枚ずつを重ね
合せ、更にその上下面に厚さ18μmの未処理銅箔(福
山金属箔粉工業社製)を重ね合せて、温度170℃、圧
力40 kgf/cn+2で90分間成形して、4層の
プリント配線用基板を製造しな。
実施例 3 ポリイミド樹脂(東芝ケミカル社製)100部にトリア
ジンチオール誘導体F(第1表に示した)5部を配合し
、溶剤を加えてワニスを嗣製しな。
このワニスをガラスクロス7628 (前出)に含浸・
塗布乾燥して、樹脂付着量40%1、ゲルタイム90秒
の1リプレクをつくった。
厚さ0,41、銅箔厚さ70.u mの両面板TLC−
W−583M(東芝ケミカル社製ポリイミド樹脂銅張積
層板、商品名)にテストパターンを露光して、エツチン
グを行い内層板をつくった。
この内層板の銀箔面を実施例1で用いた処理溶液で、9
5℃、3分間黒色酸化処理を行った。 この内層板の上
下面に前記のプリプレグ3枚ずつを重ね合せ、更にその
上下面に厚さ18μmの未処理銀箔(福山金属箔粉工業
社製)を重ね合せ、温度190°C2圧力50 kgf
/cm’ テ120分間成形して、4層のプリント配線
用基板を製造した。
比較例 1 実施例1において、トリアジンチオール誘導体Eを用い
ないでワニス調製をした以外はすべて実施例1と同一に
して、4層のプリント配線用基板を製造しな。
比較例 2 実施例2において、トリアジンチオール誘導体Cを用い
ないでワニス調製をした以外はすべて実−10= 施例2と同一にして、4層のプリント配−用基板を製造
した。
比較例 3 実施例3において、トリアジンチオール誘導体Fを用い
ないでワニス調製をした以外はすべて実施例3と同一に
して、4層のプリント配線用基板を製造した。
実施例1〜3および比較例1〜3で製造した4層のプリ
ント配線用基板について、銀箔引きはがし強さ、半田耐
熱性、耐塩酸性の試験を行ったのでその結果を第2表に
示したが、いずれも本発明の効果が確認された。 なお
半田耐熱性の試験は、煮沸2時間、4時間、6時間の処
理後、260°Cの半田浴に30秒間浸漬したときのデ
ラミネーション発生の状態を評価した。 また耐塩酸性
の試験は、0.9φのドリル穴明は後、1/4−塩酸に
10.20゜30分間浸漬した後のハローイングの発生
を目視検査によって評価しな。
第2表 (単位) *1 :○印・・・異常なし、×印・・・デラミネーシ
ョン発生 *2 :○印・・・異常なし、×印・・・ハローインク
発生[発明の効果] 以上の説明および第1表からも明らかなように、本発明
のプリント配線用基板は銀箔と樹脂との接着性が良く、
耐熱性、耐酸性に優れたもので、これを使用して信頼性
の高いプリント配線板を得ることができる。
特許出願人 東芝ケミカル株式会社 代理人   弁理士 諸1)英二

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Rは−SH基又は炭化水素置換のアミノ基を、
    Mは水素原子又はアルカリ金属原子を表す)で示される
    トリアジンチオール類を配合した熱硬化性樹脂を基材に
    含浸・乾燥させたプリプレグと、密着性向上処理を施し
    た銅箔を有する内層板とを一体に成形して、前記プリプ
    レグと前記銅箔とを接着させてなることを特徴とするプ
    リント配線用基板。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001164093A (ja) * 1999-12-06 2001-06-19 Fujitsu Ltd 樹脂組成物およびそれを用いたビルドアップ配線基板
JP2007221099A (ja) * 2006-12-11 2007-08-30 Toa Denka:Kk 密着剤及び複合体

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001164093A (ja) * 1999-12-06 2001-06-19 Fujitsu Ltd 樹脂組成物およびそれを用いたビルドアップ配線基板
JP4648508B2 (ja) * 1999-12-06 2011-03-09 富士通株式会社 樹脂組成物およびそれを用いたビルドアップ配線基板
JP2007221099A (ja) * 2006-12-11 2007-08-30 Toa Denka:Kk 密着剤及び複合体

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