JPH01203888A - 熱処理炉 - Google Patents
熱処理炉Info
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- JPH01203888A JPH01203888A JP2635488A JP2635488A JPH01203888A JP H01203888 A JPH01203888 A JP H01203888A JP 2635488 A JP2635488 A JP 2635488A JP 2635488 A JP2635488 A JP 2635488A JP H01203888 A JPH01203888 A JP H01203888A
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 59
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 19
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
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- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
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Landscapes
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産呈上互肌■公立
本発明はセラミック材料からなる被熱処理物を所望のガ
ス雰囲気のもとで熱処理するのに使用される熱処理炉に
関する。
ス雰囲気のもとで熱処理するのに使用される熱処理炉に
関する。
従来坐肢血
近年、積層セラミックコンデンサ等のセラミック電子部
品は、その小形化および高性能化に伴い、熱処理される
セラミック電子部品材料にボアやボイドの無いものが求
められている。このボアやボイドを無くすには、セラミ
ック電子部品材料の熱処理時にガス雰囲気を制御するこ
とが対策方法として挙げられ、たとえば、酸化物セラミ
ックの熱処理は、酸素ガス雰囲気中で行うことが好まし
い。
品は、その小形化および高性能化に伴い、熱処理される
セラミック電子部品材料にボアやボイドの無いものが求
められている。このボアやボイドを無くすには、セラミ
ック電子部品材料の熱処理時にガス雰囲気を制御するこ
とが対策方法として挙げられ、たとえば、酸化物セラミ
ックの熱処理は、酸素ガス雰囲気中で行うことが好まし
い。
ところで、従来、セラミック電子部品材料を雰囲気ガス
中で熱処理するには、トンネル炉やたとえば第7図に示
すようなバッチ炉が使用されている。
中で熱処理するには、トンネル炉やたとえば第7図に示
すようなバッチ炉が使用されている。
第7図のバッチ炉は、炉本体41の炉壁42を貫通して
設けられた開口部43より炉本体41の内部に矢印A1
で示すように、雰囲気ガスが供給され、上記炉本体41
の内部にて匣44.44・・・に収容された被熱処理物
(図示せず)が上記雰囲気ガス中にて熱処理されるよう
にしたものであり、炉壁42には加熱ヒータ(図示せず
)、が設けられている。上記圧44.44・・・は、炉
本体41の炉床41a上にスペーサ45を介して配置さ
れた台板46上に多段に積載される。上記炉本体41の
内部にて発生した排ガスはガス排出口47に挿通した排
気ダクト48より、上記炉本体41の外部に矢印A2で
示すように排出される。
設けられた開口部43より炉本体41の内部に矢印A1
で示すように、雰囲気ガスが供給され、上記炉本体41
の内部にて匣44.44・・・に収容された被熱処理物
(図示せず)が上記雰囲気ガス中にて熱処理されるよう
にしたものであり、炉壁42には加熱ヒータ(図示せず
)、が設けられている。上記圧44.44・・・は、炉
本体41の炉床41a上にスペーサ45を介して配置さ
れた台板46上に多段に積載される。上記炉本体41の
内部にて発生した排ガスはガス排出口47に挿通した排
気ダクト48より、上記炉本体41の外部に矢印A2で
示すように排出される。
(”° しよ゛と る口 占
ところで、第7図のような構成を有する従来のバッチ炉
で、炉本体41内のガス雰囲気の制御は可能であるが、
雰囲気ガスは単に炉本体41の開口部43から炉本体の
内部に供給されるだけであるから、炉本体41の内部に
てガス雰囲気が均一になるには時間がかかり、炉本体4
1内での匣44.44・・・の積載状態や各匣44の内
部に収容される被熱処理物10.10.・・・の収容状
態によっては、第8図に矢印にて示す如くガスの廻り込
みが不足して雰囲気むらが生じる。このため、開口部4
3近くに位置する匣44内に収容された被熱処理物10
.10.・・・は比較的よく焼きしまるが、開口部43
から離れて位置する匣44内に収容された被熱処理物1
0.10.・・・は焼きしめが不足するといった問題が
あった。
で、炉本体41内のガス雰囲気の制御は可能であるが、
雰囲気ガスは単に炉本体41の開口部43から炉本体の
内部に供給されるだけであるから、炉本体41の内部に
てガス雰囲気が均一になるには時間がかかり、炉本体4
1内での匣44.44・・・の積載状態や各匣44の内
部に収容される被熱処理物10.10.・・・の収容状
態によっては、第8図に矢印にて示す如くガスの廻り込
みが不足して雰囲気むらが生じる。このため、開口部4
3近くに位置する匣44内に収容された被熱処理物10
.10.・・・は比較的よく焼きしまるが、開口部43
から離れて位置する匣44内に収容された被熱処理物1
0.10.・・・は焼きしめが不足するといった問題が
あった。
本発明の目的は、良好な特性を有する被熱処理物を、こ
れが加熱される炉内位置に拘らずに得ることができる熱
処理炉を提供することである。
れが加熱される炉内位置に拘らずに得ることができる熱
処理炉を提供することである。
口 占 ”′ るための
本発明に係る熱処理炉は、雰囲気ガスが通流する流路内
に収容された被熱処理物が熱処理される熱処理炉におい
て、上記流路の内部には雰囲気ガスの流れを調整するフ
ァンを備えており、雰囲気ガスが被熱処理物にほぼ均一
に当たるようにしたことを特徴とする。
に収容された被熱処理物が熱処理される熱処理炉におい
て、上記流路の内部には雰囲気ガスの流れを調整するフ
ァンを備えており、雰囲気ガスが被熱処理物にほぼ均一
に当たるようにしたことを特徴とする。
作−一部
本発明にあっては、ファンにより雰囲気ガスの流れが調
整され、この雰囲気ガスが被熱処理物にほぼ均一に当た
ることとなる。
整され、この雰囲気ガスが被熱処理物にほぼ均一に当た
ることとなる。
実−一施一一■
第1図は本発明をバッチ炉に適用した場合の一実施例を
示す平面断面図、第2図は本焼成ゾーン近傍を示す正面
断面図であり、図中1は本焼成ゾーンである。本焼成ゾ
ーン1は筒状に形成されており、この炉壁2には図示し
ない加熱用ヒータが設けられて本焼成ゾーンl内の雰囲
気温度を一定に維持できるようにしである。
示す平面断面図、第2図は本焼成ゾーン近傍を示す正面
断面図であり、図中1は本焼成ゾーンである。本焼成ゾ
ーン1は筒状に形成されており、この炉壁2には図示し
ない加熱用ヒータが設けられて本焼成ゾーンl内の雰囲
気温度を一定に維持できるようにしである。
本発明ゾーン1には第2図に示す如く炉床la上にスペ
ーサ5を介して配した台板6上に多段に匣4.4・・・
が積載され、この匣4内には多数の被熱処理物10.1
0.・・・が入れられており、被熱処理物10は加熱さ
れる。
ーサ5を介して配した台板6上に多段に匣4.4・・・
が積載され、この匣4内には多数の被熱処理物10.1
0.・・・が入れられており、被熱処理物10は加熱さ
れる。
本発明ゾーン1の両側にはガス予熱ゾーン11と排ガス
ゾーン21とが設けられており、これらゾーン1,11
.21は炉本体を構成する。本焼成ゾーン1にはガス予
熱ゾーン11から排ガスゾーン21に向けて雰囲気ガス
が通流するようになっており、また雰囲気ガスを循環使
用すべく排ガスゾーン21とガス予熱ゾーン11とは循
環流路30が設けられている。
ゾーン21とが設けられており、これらゾーン1,11
.21は炉本体を構成する。本焼成ゾーン1にはガス予
熱ゾーン11から排ガスゾーン21に向けて雰囲気ガス
が通流するようになっており、また雰囲気ガスを循環使
用すべく排ガスゾーン21とガス予熱ゾーン11とは循
環流路30が設けられている。
循環流路30のガス予熱ゾーン11寄りの位置にはガス
人口31が設けられており、ガス人口31には図示しな
い雰囲気ガス供給源から所望の雰囲気ガスが供給される
ようになっている。ガス人口31から供給された雰囲気
ガスは、ガス予熱ゾーン11に設けた複数の吸引用ファ
ン12,12゜・・・にて吸引されてガス予熱ゾーン1
1に入ってここで予熱される。予熱された雰囲気ガスは
本焼成ゾーン1に入ったのち排気ゾーン21に送られ、
排気ゾーン21に設けたガス冷却装置22にて冷却され
たのち、ガス冷却装置22の下流側に設けた複数の排気
用ファン23.23.・・・にて循環流路30に排出さ
れる。前記ガス冷却装置22は本焼成ゾーン1にて加熱
されて高温となった雰囲気ガスがそのままの状態でファ
ン23に当たるのを防止してファン23を熱から保護す
べく設けである。
人口31が設けられており、ガス人口31には図示しな
い雰囲気ガス供給源から所望の雰囲気ガスが供給される
ようになっている。ガス人口31から供給された雰囲気
ガスは、ガス予熱ゾーン11に設けた複数の吸引用ファ
ン12,12゜・・・にて吸引されてガス予熱ゾーン1
1に入ってここで予熱される。予熱された雰囲気ガスは
本焼成ゾーン1に入ったのち排気ゾーン21に送られ、
排気ゾーン21に設けたガス冷却装置22にて冷却され
たのち、ガス冷却装置22の下流側に設けた複数の排気
用ファン23.23.・・・にて循環流路30に排出さ
れる。前記ガス冷却装置22は本焼成ゾーン1にて加熱
されて高温となった雰囲気ガスがそのままの状態でファ
ン23に当たるのを防止してファン23を熱から保護す
べく設けである。
循環流路30に排出されたガスは、循環流路30の中途
に設けた排気口32より一部が外部に排出されると共に
、残りがガス予熱ゾーン11に戻り、循環される。なお
、排気口32は本焼成ゾーン1又は排ガスゾーン21の
天井部に設けてもよい。
に設けた排気口32より一部が外部に排出されると共に
、残りがガス予熱ゾーン11に戻り、循環される。なお
、排気口32は本焼成ゾーン1又は排ガスゾーン21の
天井部に設けてもよい。
前記吸引用ファン12及び排気用ファン23は共に回転
軸の駆動側を炉外に出してあり、炉外に設けた駆動モー
タ(図示せず)にて可及的に熱影響を少なくして回転駆
動される。
軸の駆動側を炉外に出してあり、炉外に設けた駆動モー
タ(図示せず)にて可及的に熱影響を少なくして回転駆
動される。
以上説明した如く雰囲気ガスを本焼成ゾーン1に供給す
る場合には、吸引ファン12、排気ファン23による作
用にて雰囲気ガスが本焼成ゾーン1の全域に亘って均一
に分布し、第2図に矢印にて示す如く各部4,4・・・
に等しいガス量で入り込むことになる。また、加熱ヒー
タ(図示せず)による本焼成ゾーン1内における熱対流
が前記作用にて調整されて、鉛直方向における熱量差が
解消され、各部4,4・・・内の被熱処理物10.10
゜・・・が均一に加熱されることになる。また1個の被
熱処理物10にあっても各部が均一に加熱される。
る場合には、吸引ファン12、排気ファン23による作
用にて雰囲気ガスが本焼成ゾーン1の全域に亘って均一
に分布し、第2図に矢印にて示す如く各部4,4・・・
に等しいガス量で入り込むことになる。また、加熱ヒー
タ(図示せず)による本焼成ゾーン1内における熱対流
が前記作用にて調整されて、鉛直方向における熱量差が
解消され、各部4,4・・・内の被熱処理物10.10
゜・・・が均一に加熱されることになる。また1個の被
熱処理物10にあっても各部が均一に加熱される。
第3図は、ニッケルを内部電極とする積層セラミックコ
ンデンサの未焼成体を多数、本発明炉にて焼成し、得ら
れたセラミックコンデンサに電圧をかけ、これが破壊す
るときの電圧値を特定した結果をまとめたグラフであり
、横軸に破壊電圧値(V)をとり、縦軸に破壊したコン
デンサの累積個数をとって示している。第4図は従来炉
による場合の結果をまとめたグラフである。
ンデンサの未焼成体を多数、本発明炉にて焼成し、得ら
れたセラミックコンデンサに電圧をかけ、これが破壊す
るときの電圧値を特定した結果をまとめたグラフであり
、横軸に破壊電圧値(V)をとり、縦軸に破壊したコン
デンサの累積個数をとって示している。第4図は従来炉
による場合の結果をまとめたグラフである。
これら両図より理解される如く、従来では同時に焼成し
た被熱処理物のうちに焼しめが不足したものが多く存在
して破壊電圧値にバラツキが太きいが、本発明による場
合には焼しめ不足のものが少なく破壊電圧値のバラツキ
が小さい。
た被熱処理物のうちに焼しめが不足したものが多く存在
して破壊電圧値にバラツキが太きいが、本発明による場
合には焼しめ不足のものが少なく破壊電圧値のバラツキ
が小さい。
第5図は本発明をトンネル炉に適用した場合の他の実施
例を示す側面断面図、第6図は第5図のVl−VI線に
よる断面図である。このトンネル炉は周回運動をする無
端ベルト102の上側部に、運動方向に沿って上流側か
らガス予熱ゾーン111、本焼成ゾーン101及び排ガ
スゾーン121がこの順に設けられている。これら3ゾ
ーン111゜101.121は炉本体を構成し、炉本体
内には無端ベルド102上に台板106を介して多段に
積載された匣104,104・・・が前記運動方向に移
動せしめられていく。ガス予熱ゾーン111にはガス人
口131が設けられ、このガス人口131より雰囲気ガ
スが供給される。一方、排ガスゾーン121には排気口
132が設けられ、ガス予熱ゾーン111に供給された
雰囲気ガスは本焼成ゾーン101を経たのち排ガスゾー
ン121に入り、排気口132より排出される。雰囲気
ガスの供給及び排出は第1図と同様に循環させる構成と
してもよい。
例を示す側面断面図、第6図は第5図のVl−VI線に
よる断面図である。このトンネル炉は周回運動をする無
端ベルト102の上側部に、運動方向に沿って上流側か
らガス予熱ゾーン111、本焼成ゾーン101及び排ガ
スゾーン121がこの順に設けられている。これら3ゾ
ーン111゜101.121は炉本体を構成し、炉本体
内には無端ベルド102上に台板106を介して多段に
積載された匣104,104・・・が前記運動方向に移
動せしめられていく。ガス予熱ゾーン111にはガス人
口131が設けられ、このガス人口131より雰囲気ガ
スが供給される。一方、排ガスゾーン121には排気口
132が設けられ、ガス予熱ゾーン111に供給された
雰囲気ガスは本焼成ゾーン101を経たのち排ガスゾー
ン121に入り、排気口132より排出される。雰囲気
ガスの供給及び排出は第1図と同様に循環させる構成と
してもよい。
本焼成ゾーン101全域の内壁には加熱用に図示しない
加熱ヒータが設けられており、また両側壁には雰囲気ガ
ス流の調整用に複数のファン112.112・・・が夫
々吹付は方向を炉幅方向中央に向けて設けられている。
加熱ヒータが設けられており、また両側壁には雰囲気ガ
ス流の調整用に複数のファン112.112・・・が夫
々吹付は方向を炉幅方向中央に向けて設けられている。
ファン112の回転軸は前同様炉外に出しである。従っ
てこの場合にも前実施例同様に、ファン112の作用に
より雰囲気ガスが本焼成ゾーン101の全域に亘って均
一に分布して各部104.104・・・に等しく入り込
み、また本焼成ゾーン101において加熱ヒータによる
熱対流が調整されて鉛直方向における熱量差が解消され
る。これにより各被熱処理物10.10゜・・・が均一
に加熱され、反応せしめられることになる。また1個の
被熱処理物10にあっても各部が均一に加熱される。
てこの場合にも前実施例同様に、ファン112の作用に
より雰囲気ガスが本焼成ゾーン101の全域に亘って均
一に分布して各部104.104・・・に等しく入り込
み、また本焼成ゾーン101において加熱ヒータによる
熱対流が調整されて鉛直方向における熱量差が解消され
る。これにより各被熱処理物10.10゜・・・が均一
に加熱され、反応せしめられることになる。また1個の
被熱処理物10にあっても各部が均一に加熱される。
1皿皇泣来
以上詳述した如く、本発明による場合には被熱処理物が
均一に加熱され、また反応せしめられるため、加熱が行
われる炉内のどの位置に被熱処理物を置いても良好な特
性を有する被熱処理物を得ることができるという優れた
効果を有する。
均一に加熱され、また反応せしめられるため、加熱が行
われる炉内のどの位置に被熱処理物を置いても良好な特
性を有する被熱処理物を得ることができるという優れた
効果を有する。
第1図は本発明をバッチ炉に適用した場合の一実施例を
示す平面断面図、第2図は本焼成ゾーン近傍を示す正面
断面図、第3図は本発明により製造したコンデンサの破
壊電圧値と破壊したコンデンサの累積個数との関係を示
すグラフ、第4図は従来法による場合のグラフ、第5図
は本発明をトンネル炉に適用した場合の他の実施例を示
す側面゛断面図、第6図は第5図のVI−VI線による
断面図、第7図は従来炉(バッチ炉)の側面断面図、第
8図は従来炉における雰囲気ガス流を示す側面断面図で
ある。 1.101・・・本焼成ゾーン、10・・・被熱処理物
、11.111・・・ガス予熱ゾーン、21,121・
・・排ガスゾーン、12・・・吸引ファン、23・・・
排気ファン、112・・・ファン 第2図 第3図 第4図 動1圧4aL(V) 第6図 ■ \才
示す平面断面図、第2図は本焼成ゾーン近傍を示す正面
断面図、第3図は本発明により製造したコンデンサの破
壊電圧値と破壊したコンデンサの累積個数との関係を示
すグラフ、第4図は従来法による場合のグラフ、第5図
は本発明をトンネル炉に適用した場合の他の実施例を示
す側面゛断面図、第6図は第5図のVI−VI線による
断面図、第7図は従来炉(バッチ炉)の側面断面図、第
8図は従来炉における雰囲気ガス流を示す側面断面図で
ある。 1.101・・・本焼成ゾーン、10・・・被熱処理物
、11.111・・・ガス予熱ゾーン、21,121・
・・排ガスゾーン、12・・・吸引ファン、23・・・
排気ファン、112・・・ファン 第2図 第3図 第4図 動1圧4aL(V) 第6図 ■ \才
Claims (1)
- (1)雰囲気ガスが通流する流路内に収容された被熱処
理物が熱処理される熱処理炉において、上記流路の内部
には雰囲気ガスの流れを調整するファンを備えており、
雰囲気ガスが被熱処理物にほぼ均一に当たるようにした
ことを特徴とする熱処理炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2635488A JPH01203888A (ja) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2635488A JPH01203888A (ja) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | 熱処理炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01203888A true JPH01203888A (ja) | 1989-08-16 |
Family
ID=12191137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2635488A Pending JPH01203888A (ja) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01203888A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100258824B1 (ko) * | 1996-11-26 | 2000-06-15 | 시마자키 기요시 | 승화물 대책 부착 열처리장치 |
JP2009085589A (ja) * | 2008-11-20 | 2009-04-23 | Tdk Corp | 脱バインダ用治具 |
JP2012077982A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Uht Corp | 熱処理炉 |
JP2012097969A (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-24 | Tdk Corp | 加熱炉 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6145682A (ja) * | 1984-08-10 | 1986-03-05 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 撮像装置の光軸調整方式 |
JPS62129683A (ja) * | 1985-11-28 | 1987-06-11 | 同和鉱業株式会社 | 雰囲気熱処理方法 |
-
1988
- 1988-02-05 JP JP2635488A patent/JPH01203888A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6145682A (ja) * | 1984-08-10 | 1986-03-05 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 撮像装置の光軸調整方式 |
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JP2009085589A (ja) * | 2008-11-20 | 2009-04-23 | Tdk Corp | 脱バインダ用治具 |
JP2012077982A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Uht Corp | 熱処理炉 |
JP2012097969A (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-24 | Tdk Corp | 加熱炉 |
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