JPH01187380A - 真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、真空処理装置の排気系の構造に関するもので
ある。

〔発明の概要〕

本発明は、真空処理装置の真空室を排気する方法におい
て、排気系に排気能力の異なった２台の真空ポンプを並
列に設置し、真空室を大気圧から排気する場合、能力の
小さい真空ポンプにより排気を開始し除々に真空引きを
行ない、一定の真空度に到達した時点で排気能力の大き
い真空ポンプの排気に切り換えることにより、真空室内
の急激な圧力差をなくすことが可能になる。

〔従来の技術〕

従来の真空処理装置における一般的な人気からの排気方
法は、１台の真空ポンプにより、排気時間短縮のため急
激な排気を行ない、真空室内の圧力差が大きくなってい
るその対策として、排気開始時の排気量を減少させるた
めに、排気系の途中にダンパーを設ける（第３図）、又
は、排気管の径の大小異なったものを並列に設置し、小
さい径の方から排気を始める（第２図）。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし前述の従来技術では、排気速度は、大きくなるが
、急激な排気により真空室内のパーティクルを巻き上げ
、処理中の製品に吐着する。また、排気量調整用のダン
パー、排気管の径の変更による対策は、排気系につまり
などを生じる可能性を持ってい゛る。

〔課題を解決するための手段〕

本考案の排気方法は、１系統に排気能力の異なった２台
の真空ポンプを設置し、排気系路を変更せず排気量が変
化できることを特徴とする。

〔実　施　例〕

第１図は、本考案の実施例を示す排気系統図である。荒
引き排気系に、排気速度９００．Ｇ／分の真空ポンプ１
と３５０Ｊｌ／分の真空ポンプ２を並列に設置する。排
気方法は、バルブ１、バルブ４を開くことにより、排気
速度の小さい真空ポンプ２により、ゆっくり排気を行な
う、一定の真空度まで到達後、バルブ４を閉じ、バルブ
３を開けることにより排気速度の大きい真空ポンプ１に
より高真空ポンプの使用可能な真空度まで排気を行ない
、最後にバルブ１．２を閉じ高真空用のポンプに切り換
へて真空引きが完了する。

〔発明の効果〕

以上、述べたように本発明の排気方法を行なうことによ
り、大きな圧力差をなくし、パーティクルの巻き上げを
減少させるため、半導体装置製造などにおける、ドライ
エツチング、ＣＶＤ、イオン注入工程などの真空処理装
置などに有効で、処理ウェハーへのけ着を減少させ歩“
留り向によりコストを下げる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の真空処理装置の排気系統略図。 第２図、第３図は、従来の真空処理装置の排気系統略図
。 １・・・真空室 ２・・・高真空用ポンプ ３・・・真空ポンプ（排気速度大） ４・・・真空ポンプ（排気速度率） ５・・・荒引きバルブ ６・・・３用バルブ ７・・・４用バルブ ８・・・ベント用バルブ ９・・・ダンバー

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　大気圧から排気する真空処理装置において、該排気系
   に能力の異なった真空ポンプを２台装置したことを特徴
   とする真空処理装置。