JP2704052B2 - 真空装置 - Google Patents

真空装置

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JP2704052B2
JP2704052B2 JP3040444A JP4044491A JP2704052B2 JP 2704052 B2 JP2704052 B2 JP 2704052B2 JP 3040444 A JP3040444 A JP 3040444A JP 4044491 A JP4044491 A JP 4044491A JP 2704052 B2 JP2704052 B2 JP 2704052B2
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JP
Japan
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pipe
vacuum
valve
gas introduction
gas
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JP3040444A
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JPH04281834A (ja
Inventor
敦 伊藤
Original Assignee
山形日本電気株式会社
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空容器の真空排気及
びガス導入を繰返して行う真空装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図2は従来の真空装置の一例を示す系統
図である。従来、この種の真空装置は、同図に示すよう
に、試料を収納する真空容器1と、この真空容器1を排
気するとともに配管を介して接続される真空ポンプ16
を、この真空ポンプの廃棄するガス量を調節するバルブ
13,14及びニードルバルブ14と、真空容器1にガ
スを導入するバルブ6と、ガスの導入圧力を調節する減
圧弁9と、導入するガスの容量を抑制するバルブ7及び
ニードルバルブ8と、導入されるガスのごみを除去する
フィルタ2とを有していた。
【0003】この真空装置の排気動作は、まず、バルブ
15を開き、バルブ13を閉じた状態で、排気量が絞ら
れた状態で調整されたニードルバルブ14を通して排気
する。その後真空ポンプ側の圧力と真空容器1側の圧力
差がある程度小さくなった時点で、コンダクタンスの高
い排気系統にあるバルブ13を開け排気する。また、真
空状態にある真空容器1を大気に戻すのには、初めバル
ブ7を開けニードルバルブ8で小流量に絞られた系統で
徐々にパージガスを導入する。次に、ガス導入系統と真
空容器1の圧力差がある程度小さくなった時点で、ガス
を多く流せる系統にあるバルブ6を開け、真空容器1を
大気する。真空容器1を真空排気するときあるいは、大
気に戻すときに、真空容器内のゴミを極力舞い上げない
ように、圧力差を急激に変えずに、2段階で真空排気及
び大気導入を図っていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この従来の真空装置で
は、真空容器内のごみを極力舞い上げないようにしてい
るため、真空容器内には外から持ち込まれたごみや内部
で発生したごみが集積されることになり、かえってごみ
の舞い上げが多くなり、真空容器内で処理される試料を
汚染するという問題があった。
【0005】本発明の目的は、かかる問題を解消する真
空装置を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、試料を
収納し処理する真空容器と、この真空容器と第1の配管
を介して接続される第1の開閉バルブと、この第1の開
閉バルブに第2の配管を介して接続される真空ポンプ
と、前記第1の配管と前記第2の配管との間に接続され
る第1のバイパス配管の途中に設けられる流量調節弁お
よび第3の開閉バルブと、前記真空容器に第4の開閉バ
ルブを介してガスを導入する第1のガス導入管を有する
第1のガス導入系統とを備える真空排気装置において、
前記真空容器と接続する第3の配管の開口を開閉する第
5の開閉バルブを介して接続される予備真空容器と、前
記真空ポンプと接続する前記第2の配管と前記予備真空
容器と接続する第4の配管の配管途中に設けられる第6
の開閉弁と、前記真空容器に第7の開閉バルブを介して
前記ガスを導入する第2のガス導入管とガス導入圧調整
器とを有する第2のガス導入系統とを備える真空排気装
置である。また、前記第2のガス導入管の口径は前記第
1のガス導入管の口径より大きいことが望ましい
【0007】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
【0008】図1は本発明の一実施例の真空装置を示す
系統図である。この真空装置は、同図に示すように従来
より真空容器1に取付けられた真空排気系統及びガス導
入系統以外に、新たにガス導入系統であるよりコンダク
タンスの大きい大容量配管4、フィルタ2、バルブ3及
び減圧弁5と、真空排気系統である開閉用のバルブ1
0,12及び予備真空容器11とを設けたことである。
また、バルブ3を含むガス導入系統はバルブ6を含むガ
ス導入系統に比べ導入されるガス圧力が高く設定されて
いる。
【0009】従って、真空状態になっている真空容器1
にガスを導入する際には、新規に設けられたガス導入系
統の配管自体も太いため、バルブ3が開いた時に高圧の
導入ガスが急激に真空容器内に流れ込むことになる。ま
た、真空排気の際は、予め充分に真空排気された予備真
空容器11をもつ真空排気系統のバルブ13,バルブ1
2を開けることで、真空容器1内の気体が急激にある圧
力まで真空排気される。このような事象をとらえて、定
期的に、真空排気及びガス導入を新規に付加させた真空
排気系統及びガス導入系統を交互に動作させることによ
り、真空容器1に蓄積されたごみを一挙に舞い上らせ、
真空容器1の底にごみが落下しない内に真空容器外にご
みを排出することである。
【0010】また、この実施例では、説明し易いよう
に、新に真空排気系統及びガス導入系統を設けたが、図
2に示す従来の真空排気系統及びガス導入系統を利用し
て、真空排気シーケンス及びガス導入シーケンスを変え
ることによって、同様の効果が得られる。すなわち、真
空排気動作及びガス導入動作の際に、バルブ15とニー
ドルバルブ14及びバルブ7とニードルバルブ8とを閉
じて動作させることである。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、真空容器
が試料を処理するとき以外に、より大きい容量をもつガ
ス導入系統とよりコンダクタンスの大きい真空排気系統
と交互に動作させることによって、真空容器内のごみが
多量に舞い上げられ、ごみが真空容器外に排出されるの
で、試料を汚染することのない真空装置が得られるとい
う効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す真空装置の系統図であ
る。
【図2】従来の一例を示す真空装置の系統図である。
【符号の説明】
1 真空容器 2 フィルタ 3,6,7,10,12,13,15 バルブ 4 大容量配管 8,14 ニードルバルブ 5,9 減圧弁 11 予備真空容器

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料を収納し処理する真空容器と、この
    真空容器と第1の配管を介して接続される第1の開閉バ
    ルブと、この第1の開閉バルブに第2の配管を介して接
    続される真空ポンプと、前記第1の配管と前記第2の配
    管との間に接続される第1のバイパス配管の途中に設け
    られる流量調節弁および第3の開閉バルブと、前記真空
    容器に第4の開閉バルブを介してガスを導入する第1の
    ガス導入管を有する第1のガス導入系統とを備える真空
    排気装置において、前記真空容器と接続する第3の配管
    の開口を開閉する第5の開閉バルブを介して接続される
    予備真空容器と、前記真空ポンプと接続する前記第2の
    配管と前記予備真空容器と接続する第4の配管の配管途
    中に設けられる第6の開閉弁と、前記真空容器に第7の
    開閉バルブを介して前記ガスを導入する第2のガス導入
    管とガス導入圧調整器とを有する第2のガス導入系統と
    を備えることを特徴とする真空排気装置。
  2. 【請求項2】 前記第2のガス導入管の口径は前記第1
    のガス導入管の口径より大きいことを特徴とする請求項
    1記載の真空排気装置。
JP3040444A 1991-03-07 1991-03-07 真空装置 Expired - Lifetime JP2704052B2 (ja)

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JPH04281834A JPH04281834A (ja) 1992-10-07
JP2704052B2 true JP2704052B2 (ja) 1998-01-26

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6236737A (ja) * 1985-08-09 1987-02-17 Canon Inc 光学系駆動装置
JPS63232833A (ja) * 1987-03-20 1988-09-28 Hitachi Ltd 真空装置の排気方法
JPH01270933A (ja) * 1988-04-25 1989-10-30 Hitachi Ltd 減圧処理装置

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JPH04281834A (ja) 1992-10-07

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Effective date: 19970909