JPH01183000A - 誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置 - Google Patents

誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置

Info

Publication number
JPH01183000A
JPH01183000A JP63007318A JP731888A JPH01183000A JP H01183000 A JPH01183000 A JP H01183000A JP 63007318 A JP63007318 A JP 63007318A JP 731888 A JP731888 A JP 731888A JP H01183000 A JPH01183000 A JP H01183000A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
information
line pair
error
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63007318A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichiro Masuko
益子 耕一郎
Kiyohiro Furuya
清広 古谷
Kazutami Arimoto
和民 有本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP63007318A priority Critical patent/JPH01183000A/ja
Priority to US07/271,491 priority patent/US5003542A/en
Publication of JPH01183000A publication Critical patent/JPH01183000A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F11/00Error detection; Error correction; Monitoring
    • G06F11/07Responding to the occurrence of a fault, e.g. fault tolerance
    • G06F11/08Error detection or correction by redundancy in data representation, e.g. by using checking codes
    • G06F11/10Adding special bits or symbols to the coded information, e.g. parity check, casting out 9's or 11's
    • G06F11/1008Adding special bits or symbols to the coded information, e.g. parity check, casting out 9's or 11's in individual solid state devices
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F11/00Error detection; Error correction; Monitoring
    • G06F11/07Responding to the occurrence of a fault, e.g. fault tolerance
    • G06F11/08Error detection or correction by redundancy in data representation, e.g. by using checking codes
    • G06F11/10Adding special bits or symbols to the coded information, e.g. parity check, casting out 9's or 11's
    • G06F11/1076Parity data used in redundant arrays of independent storages, e.g. in RAID systems

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置に関
し、特に、1トランジスタ一1容量方式のダイナミック
型半導体メモリセルアレイを含み、各メモリセルから読
出された情報の誤りを検出して訂正するような誤り訂正
回路を有する半導体メモリ装置に関する。
[従来の技術] 第5図は従来のダイナツク型半導体メモリを示すブロッ
ク図である。この第5図に示した半導体メモリはたとえ
ば特開昭51−74535号公報に示されたものである
まず、第5図を参照して、従来のダイナミック型半導体
メモリについて説明する。メモリセルMco + 0−
MC63+ 63は64行、64列のメモリセルアレイ
によって構成されていて、それぞれはNチャネルMOS
トランジスタQと容量C8で形成される1トランジスタ
一1容量方式のダイナミック型である。各メモリセルM
CQ 、Q〜MCl5l+63にはワード線Wo %W
6.が接続されていて、各ワード線We %W6.は行
デコーダ1により、外部から印加された行アドレス信号
に応じて選択される。また、各メモリセルM Co 、
 。
〜MC63、63には列方向にビット線対BLO。
BL、−BL6.、BL、、が接続されている。
さらに、ダミーセルDM0.0−DMs s 、+には
ダミーワード線DW、、DW、が接続されていて、この
ダミーワード線DWo 、DW、によりいずれかのダミ
ーセルが選択される。
ビット線対BLo 、BLo 〜BL6..BL6、に
はPチャネルMOSトランジスタ6.8およ−びNチャ
ネルMOS)ランジスタフ、9を交差接続したセンスア
ンプSA、〜SA、、が接続されている。これらのセン
スアンプSA、−3A6゜に含まれるPチャネルMO8
)ランジスタロ、8およびNチャネルMOSトランジス
タ7.9の各ソースには、センス信号発生回路2から発
生された活性化信号SP、SNが与えられる。
ビット線対at、o 、BL、、BL、、、BL。
、とI10バス線対I10.Iloとの間にはNチャネ
ルMOSトランジスタ10〜13が接続されている。こ
れらのNチャネルMOS)ランジスタ10〜13のゲー
トには、列デコーダ3からY信号線yo ””’Yli
 3が与えられる。そして、NチャネルMOSトランジ
スタ10〜13はY信号線yo−”Y6.により、ビッ
ト線対BLO,BLO〜BLs s、BL6 aとの間
の導通が制御される。
I10バス線対I10.Iloにはデータ出力メインア
ンプ4とデータ人力バッファ5が接続されている。デー
タ出力メインアンプ4は続出サイクルにおいて、I10
バス線対I10.Iloからの情報をデータ出力Doと
して外部に出力する。
データ人力バッファ5は書込サイクルにおいて、外部か
ら与えられたデータ入力DIをレベル変換し、相補信号
としてI10バス線対I10.Iloに与える。
次に、動作について説明する。読出サイクルにおいて、
たとえばメモリセルM CO+ 0が選ばれたものとす
る。そのとき、行デコーダ1はワード線WOとダミーワ
ード線DWoの電位を上昇させ、予め等電位に充電され
ていたビット線対BLo。
π10−BLli 2 * rL 61に、記憶容量C
sに蓄えられていた電荷が転送される。たとえば、ビッ
ト線BL、にはメモリセルMC,、、の情報電荷が転送
され、反転ビット線BL、には基準電圧を発生させるべ
(ダミーセルDMQ 、Qの電荷が転送される。
続いて、センスアンプ活性化信号SNが低レベルとなり
、活性化信号SPが高レベルとなって、センスアンプS
AG −5A6 aが活性化される。
すなわち、ビット線対BLo、BLO−BLs 31B
Lsaに転送された情報電荷による信号電圧の微小差が
感知されて増幅される。次に、列デコーダ3が外部から
与えられた列アドレス信号に応じてY信号線(今の場合
Yo )が選択され、その電位が上昇してビット線対B
Lo、BLO上の相補信号の電圧がそれぞれI10バス
線対I10.  Iloに伝達され、データ出力メイン
アンプ4によって増幅され、データ出力Doとなって外
部に出力される。
書込サイクルにおいては、読出サイクルと逆の経路でデ
ータが所望のメモ゛リセルに書込まれる。
すなわち、チップ外部から印加されたデータ入力信号D
Iがデータ人力バッファ5によってレベル変換され、相
補信号となってI10バス線対■10、Iloに伝達さ
れる。このI10バス線対I10、Iloの相補データ
入力信号は、列デコーダ3によってたとえばyo信号線
が選択され、ビット線対BLo、BLoに転送される。
そして、そのときに、たとえばワード線Woが選択され
ていれば、このワード線Woとビット線対BLO。
BL、との交点のメモリセルMC,、、に情報が書込ま
れる。
[発明が解決しようとする課題] ところで、従来の半導体メモリは上述のごとく構成され
ており、誤り検出、訂正回路は外部に接続されるのが一
般であった。もし、誤り検出、訂正回路を同一チップ上
に内蔵しようとすると、110バス線対I10.Ilo
を介してメモリセルのデータをメモリセルアレイ外へ伝
達し、そこで誤り検出、訂正を行なうことになる。そし
て、誤り検出、訂正結果を再度I10バス線対110゜
Iloを介してメモリセルに書込む必要がある。
このために、誤り検出、訂正に長時間を要するという欠
点がある。また、I10バス線対夏10゜丁7百の数を
増加しないようにすると、−度に訂正できるビット数が
限られてしまう。このため、ビット数を増加しようとす
ると、I10バス線対の数が多くなってしまい、チップ
面積が増加するという問題点があった。
それゆえに、この発明の主たる目的は、メモリセルアレ
イと同一チップ上で誤り検出および訂正を実行できる誤
り訂正回路を内蔵し、短時間に誤り検出、訂正を可能な
誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置を提供すること
である。
[課題を解決するための手段] この発明に係る誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置
は、列方向に整列するメモリセルに接続された複数のビ
ット線対のそれぞれが誤り検出手段に接続されるととも
に、第1のスイッチング手段を介して情報反転手段に接
続され、情報反転手段の出力が第2のスイッチング手段
を介してビット線対に接続され、誤り検出手段がいずれ
かのビット線対の情報の誤りを検出したことに応じて、
そのビット線対に対応する第1のスイッチング手段が制
御され、対応するビット線対が情報反転手段から切り離
されるとともに、第2のスイッチング手段が制御されて
、反転された情報が対応するビット線対に出力されるよ
うに構成される。
[作用] この発明における誤り訂正回路を有する半導体メモリ装
置は、ビット線対の情報の誤りが検出されたことに応じ
て、ビット線対の情報がそれぞれ反転されて出力される
ことにより、情報の誤りが訂正される。
[発明の実施例] 第1図はこの発明の一実施例の具体的なブロック図であ
り、第2図は第1図に示した誤り検出回路の一例を示す
電気回路図である。
まず、第1図および第2図を参照して、この発明の一実
施例の構成について説明する。なお、第1図に示した誤
り訂正回路を有する半導体メモリ装置は、以下の点を除
いて前述の第5図に示したブロック図と同様にして構成
されている。
ビット線対BL、、BL、−BL、 3.BLG、はN
チャネルMOSトランジスタ41〜44を介して反転増
幅器14〜17の入力に接続されている。これらのNチ
ャネルMOSトランジスタ41〜44は高レベルで導通
し、ビット線対BLO。
BL、−BL、 a、BL6.と反転増幅器14〜17
を接続し、低レベルでこれらを切り離すものである。反
転増幅器14はNチャネルMO3)ランジスタ18とP
チャネルMOSトランジスタ19とを含み、これらのト
ランジスタ18.19のゲートは反転増幅器14の入力
端を構成し、トランジスタ42のソースに接続される。
トランジスタ18.19のドレインは共通接続されてト
ランジスタ41のソースに接続され、トランジスタ18
のソースにはRN信号が与えられ、トランジスタ19の
ソースにはRP倍信号与えられる。同様にして、反転増
幅器15.16および17は、それぞれトランジスタ2
0ないし25を含み、前述の反転増幅器14と同様にし
て構成される。
NチャネルMO8)ランジスタ26,28は反転増幅器
14.16の出力とビット線BLO,BLsaとの間の
導通を制御するものであり、トランジスタ27.29は
反転増幅器15.17の出力と反転ビット線BLO,,
BLG、との間の導通を制御するものである。このため
に、トランジスタ26,28の各ドレインはトランジス
タ41゜43のソースに接続され、トランジスタ26.
28のソースは反転ビット線BL、、BL、、に接続さ
れるとともに誤り検出回路3oに接続される。
また、トランジスタ27.29のソースはビット線BL
、、BL、、に接続されるとともに誤り検出回路30に
接続され、トランジスタ27.29のドレインはトラン
ジスタ42.44のソースに接続されている。
さらに、前述のトランジスタ41ないし44の導通を制
御するために、制御回路40が設けられている。制御回
路40はそれぞれが縦続接続された奇数個のインバータ
31ないし33とNANDゲート34とインバータ35
と、それぞれが縦続接続された奇数個のインバータ36
.37を含む。
そして、制御回路40には、センス信号発生回路2から
活性化信号SPが与えられ、インバータ31の出力から
RP倍信号出力され、インバータ32の出力からRN信
号が出力され、それぞれ反転増幅器14ないし17に与
えられる。また、インバータ35の出力から信号DTが
出力され、トランジスタ41ないし44のゲートに与え
られる。
また、インバータ33.36.37を介して誤り検出回
路30に制御信号が与えられていて、誤り検出回路30
はこの制御信号が与えられたタイミングにおいて誤り検
出信号SYoないしSY、。
をトランジスタ26ないし29のゲートに与える。
次に、第2図を参照して、誤り検出回路30の構成につ
いて説明する。誤り検出回路30はシンドローム発生回
路301とレジスタ303とシンドロームデコーダ30
4とANDゲート305と−によって構成されている。
シンドローム発生回路301は排他的論理和回路302
を複数組合わせて構成されており、このシンドローム発
生回路301には、各ビット線対を介して各メモリセル
から読出された情報が与えられる。なお、この第2図に
示したシンドローム発生回路301は、図面を簡略化す
るためにビット線対を1本の線で表わしている。
シンドローム発生回路301で算出されたシンドローム
の各行の要素の信号SY、はレジスタ303によって保
持される。このレジスタ303によって信号SYIと相
補の信号丁Y1が発生され、これらの信号SY、、SY
、はシンドロームデコーダ304に与えられ、シンドロ
ームデコーダ304の出力がANDゲート305に与え
られ、ANDゲート305から誤り検出信号SYo −
5Y6、が出力される。なお、このように構成された誤
り検出回路30は従来から公知の技術であるため、これ
以上の詳細な説明は省略する。
第3図はこの発明の一実施例の動作を説明するためのタ
イミング図である。
次に、第1図ないし第3図を参照して、この発明の一実
施例の動作について説明する。第3図に示したタイミン
グ図は、i番目のワード線WL。
が選択されたときに、j番目のビット線対BL;。
BLiに誤りが検出された場合を示す。チップ外部から
印加された行アドレス信号に応じて、行デコーダ1で選
択されたワード線WL、およびダミーワード線DWk 
(k−0,1)の電位が第3図(a)、  (b)に示
すように上昇し、各ビット線対にメモリセルの情報電荷
が読出され、第3図(C)に示すように電位変化が生じ
る。
次に、センス信号発生回路2が第3図(d)に示すよう
に低レベルの信号SNを出力するとともに、第3図(e
)に示すように高レベルの信号SPを出力する。これら
の信号に応じて、センスアンプSAが活性化され、ビッ
ト線対上の電圧が増幅される。
一方、信号SPはインバータ31ないし33で遅延され
、第3図(g)に示すように、インバータ31の出力で
ある信号RPおよび第3図(h)に示すようにインバー
タ32の出力である信号RNによって反転増幅器14〜
17が活性化される。
さらに、信号SPと遅延された信号SPとがNANDゲ
ート34に与えられてパルス化され、そのパルス出力が
インバータ35によって反転されて第3図(f)に示す
ような信号DTがトランジスタ41〜44に与えられる
。それによって、トランジスタ41ないし44が導通し
、ビット線対BLO*  B LO−B LG 3 +
 B LG aの情報が反転増幅器14〜17に転送さ
れ、電位状態が確定する。
さらに、信号DTの電位が低レベルとなり、トランジス
タ41〜44が非導通となって、ビット線対BL、、B
L、−BL、 、、BL、、と反転増幅器14〜17が
電気的に分離される。その後、誤り検出回路30は各ビ
ット線対のデータを検査することにより、たとえば0番
目のビット線対BLo、BL、に誤りが検出された場合
には、信号SY、を発生し、トランジスタ26.27を
導通させる。トランジスタ26および27が導通したこ
とによって、ビット線BL、の情報を反転する反転増幅
器15の出力がトランジスタ27を介してビット線BL
、に出力され、反転ビット線BLOの情報を反転する反
転増幅器14の出力がトランジスタ26を介して反転ビ
ット線BL、に出力され、ビット線対BLO、BLoの
情報が反転されることになる。
第4図はこの発明の他の実施例を示す詳細なブロック図
である。
この第4図に示した実施例は、誤り検出されたビット線
対に対して、そのビット線対の電位を反転させる前に、
ビット線対BLO、BLo −BLG a r BL6
 aとセンスアンプSA、−3A、。
を切り離し、各ビット線対BLo 、BLo −BLI
f 3 +  BL63を短絡してそれぞれを等電位化
し、ビット線対BLo 、BLo 〜BL、 a、BL
、。
の電位の反転を高速化しようとするものである。
このために、センスアンプSA、−5A63と各メモリ
セルMCO+ 6−MCs a * s 3およびダミ
ーセルDM0 、0−DM6 a 、 +に接続されて
いるビット線対BLO、BL、−BL63.BL6、と
の間には、これらを切り離すためにNチャネルMOSト
ランジスタ51〜54が挿入され、各トランジスタ51
〜54のゲートには信号TGが与えられる。信号TGは
常時は高レベルとなってトランジスタ51ないし54を
導通させるが、ビット線対BLo 、BL、−BL、 
3.BL、。
の情報の誤りが検出されたとき、信号TGが低レベルど
なって、センスアンプSA、−SA、、が各メモリセル
MC0,6−MC6B 、63およびダミーセルDM0
 、6−0M5 @ 、 Hから切り離される。
さらに、各ビット線対BLo 、BL、−BL63 +
  B LG @の間を短絡するために、NチャネルM
OS)ランジスタ55,56が接続される。これらのト
ランジスタ55.56の各ゲートには信号EQが与えら
れる。この信号EQは常時は低レベルとなっているが、
情報の誤りが検出されたとき、高レベルになってトラン
ジスタ55.56を導通させ、各ビット線対BLo 、
BLo −BL。
3 + BLG @の間を短絡させる。
このように、情報の誤りが検出されたとき、センスアン
プ5Ao−3A、□と各メモリセルMCo、oないしM
C6@、saおよびダミーセルDMO,OないしDM6
3 + +を切り離し、各ビット線対BLo 、BLo
−BL、、、BLGaを短絡化することにより、各ビッ
ト線対BLo、BLO−at、6a 、BL6 aの電
位の反転を高速化することか可能となる。
なお、前述の第1図および第4図に示した実施例におい
て、反転増幅器14ないし17のそれぞれに含まれるト
ランジスタ18ないし25の各ソースに信号RP、RN
を与えるようにしたが、これに限ることなく、電源電位
と接地電位のように固定電位を与えるように構成しても
よい。
[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、いずれかのビット線
対の情報の誤りが検出されたことに応じて、各ビット線
対を対応する情報反転手段から切り離すとともに1.情
報反転手段によって反転された情報を対応するビット線
対に出力して、強制的にビット線対の情報を書き換える
ようにしたので、I10/(ス線対の数を増加させるこ
となく誤り訂正回路を半導体メモリに内蔵でき、しかも
チップ面積の増加を極力抑えて高速で誤り検出および訂
正が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す詳細なブロツク図で
ある。第2図は第1図に示した誤り検出回路の一例を示
すブロック図である。第3図はこの発明の一実施例の動
作を説明するためのタイミング図である。第4図はこの
発明の他の実施例を示す詳細なブロック図である。第5
図は従来の半導体メモリを示すブロック図である。 図において、1は行デコーダ、2はセンス信号発生回路
、3は列デコーダ、4はデータ出力メインアンプ、5は
データ人力バッファ、10ないし13.18.20,2
2.24.26ないし28゜51ないし56はNチャネ
ルMO8)ランジスタ、14ないし17は反転増幅器、
19. 21.23゜25はPチャネルMO8)ランジ
スタ、30は誤り検出回路、31ないし33.35ない
し37はインバータ、34はNANDゲート、40は制
御回路、MC,;  はメモリセル、舅はワード線、B
L、、BL、はビット線、SA、はセンスアンプ、Il
o、IloはI10線を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  行および列からなるマトリクス状に配列され、それぞ
    れが情報を記憶する複数のメモリセルを有するメモリセ
    ルアレイ、 それぞれが前記行方向に整列するメモリセルを接続する
    ための複数のワード線、 前記列方向に整列するメモリセルが接続されそれぞれが
    折返しビット線を構成する複数のビット線対、 前記複数のビット線対に接続され、各ビット線対の情報
    の誤りを検出する誤り検出手段、 前記各ビット線対のそれぞれに対応して設けられ、対応
    するビット線対の情報を反転させるための情報反転手段
    、 前記各ビット線対と前記各情報反転手段とを接続するた
    めの第1のスイッチング手段、 前記各情報反転手段によって反転された情報を対応する
    ビット線対に出力するための第2のスイッチング手段、
    および 前記誤り検出手段がいずれかのビット線対の情報の誤り
    を検出したことに応じて、そのビット線対に対応する第
    1のスイッチング手段を制御して、対応するビット線対
    を前記情報反転手段から切り離すとともに、対応する第
    2のスイッチング手段を制御して、前記反転された情報
    を対応するビット線対に出力させるための制御手段を備
    えた、誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置。
JP63007318A 1988-01-14 1988-01-14 誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置 Pending JPH01183000A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63007318A JPH01183000A (ja) 1988-01-14 1988-01-14 誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置
US07/271,491 US5003542A (en) 1988-01-14 1988-11-15 Semiconductor memory device having error correcting circuit and method for correcting error

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63007318A JPH01183000A (ja) 1988-01-14 1988-01-14 誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01183000A true JPH01183000A (ja) 1989-07-20

Family

ID=11662636

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63007318A Pending JPH01183000A (ja) 1988-01-14 1988-01-14 誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5003542A (ja)
JP (1) JPH01183000A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7331011B2 (en) 2004-01-26 2008-02-12 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit device

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR940010838B1 (ko) * 1991-10-28 1994-11-17 삼성전자 주식회사 데이타 출력 콘트롤 회로
JP3067866B2 (ja) * 1991-11-26 2000-07-24 沖電気工業株式会社 半導体記憶装置
US5644583A (en) * 1992-09-22 1997-07-01 International Business Machines Corporation Soft error correction technique and system for odd weight row error correction codes
US5434871A (en) * 1992-11-17 1995-07-18 Unisys Corporation Continuous embedded parity checking for error detection in memory structures
US5666371A (en) * 1995-02-24 1997-09-09 Unisys Corporation Method and apparatus for detecting errors in a system that employs multi-bit wide memory elements
US5511164A (en) * 1995-03-01 1996-04-23 Unisys Corporation Method and apparatus for determining the source and nature of an error within a computer system
US5748547A (en) * 1996-05-24 1998-05-05 Shau; Jeng-Jye High performance semiconductor memory devices having multiple dimension bit lines
US20050036363A1 (en) * 1996-05-24 2005-02-17 Jeng-Jye Shau High performance embedded semiconductor memory devices with multiple dimension first-level bit-lines
US6219814B1 (en) 1996-12-23 2001-04-17 International Business Machines Corporation Method and apparatus for selectively varying error correcting code (ECC) power in a direct access storage device (DASD)
US7051264B2 (en) * 2001-11-14 2006-05-23 Monolithic System Technology, Inc. Error correcting memory and method of operating same
JP4583703B2 (ja) * 2002-10-30 2010-11-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
US7341765B2 (en) * 2004-01-27 2008-03-11 Battelle Energy Alliance, Llc Metallic coatings on silicon substrates, and methods of forming metallic coatings on silicon substrates
JP4413091B2 (ja) * 2004-06-29 2010-02-10 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
US7392456B2 (en) * 2004-11-23 2008-06-24 Mosys, Inc. Predictive error correction code generation facilitating high-speed byte-write in a semiconductor memory
US7644341B2 (en) * 2004-12-30 2010-01-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Method and system for correcting soft errors in memory circuit

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4070648A (en) * 1976-06-18 1978-01-24 Ncr Corporation Computer to computer communication system
JPS592057B2 (ja) * 1979-02-07 1984-01-17 株式会社日立製作所 エラ−訂正・検出方式
JPS595497A (ja) * 1982-07-02 1984-01-12 Hitachi Ltd 半導体rom
JPS61214298A (ja) * 1985-03-20 1986-09-24 Toshiba Corp 誤り訂正機能を備えた半導体記憶装置
JPH0752757B2 (ja) * 1985-04-12 1995-06-05 株式会社日立製作所 半導体記憶装置
US4712197A (en) * 1986-01-28 1987-12-08 Motorola, Inc. High speed equalization in a memory

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7331011B2 (en) 2004-01-26 2008-02-12 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit device
US7949933B2 (en) 2004-01-26 2011-05-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit device

Also Published As

Publication number Publication date
US5003542A (en) 1991-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6205076B1 (en) Destructive read type memory circuit, restoring circuit for the same and sense amplifier
KR0177776B1 (ko) 고집적 반도체 메모리 장치의 데이타 센싱회로
US4879692A (en) Dynamic memory circuit with improved sensing scheme
US4932002A (en) Bit line latch sense amp
TWI483266B (zh) 具有自定時位元線增強電路之記憶體及其方法
JPH01183000A (ja) 誤り訂正回路を有する半導体メモリ装置
JP2698030B2 (ja) Dram構造
JPH0352676B2 (ja)
KR100865906B1 (ko) 저전압 감지 증폭기 및 방법
US4031522A (en) Ultra high sensitivity sense amplifier for memories employing single transistor cells
US9589608B2 (en) Semiconductor memory device
JPH0917183A (ja) 半導体記憶装置
JP2006324007A (ja) Dramアレイ用ビット線プリチャージ手法
JP4357249B2 (ja) 半導体記憶装置
JP2609211B2 (ja) メモリセルの検査回路装置および方法
KR19980073725A (ko) 독출 동작시 소모되는 전류를 줄이기 위한 반도체 메모리 장치와 이의 데이터 독출방법
US6385103B1 (en) Semiconductor memory device having a circuit for testing memories
US6487132B2 (en) Integrated circuit memory devices having multiple input/output buses and precharge circuitry for precharging the input/output buses between write operations
US5495449A (en) Semiconductor memory device
JPH01224991A (ja) 半導体メモリ装置
JPH0758590B2 (ja) 半導体記憶装置
US6765830B2 (en) Memory device with SRAM interface and DRAM cells
CN115547383B (zh) 一种存储电路及磁性随机存储器读关键电路
WO2023082734A1 (zh) 一种读出电路、存储器以及存储器数据的读出方法
JPH02244485A (ja) 半導体記憶装置