JPH01181582A - ガスレーザ発振装置 - Google Patents

ガスレーザ発振装置

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JPH01181582A
JPH01181582A JP321488A JP321488A JPH01181582A JP H01181582 A JPH01181582 A JP H01181582A JP 321488 A JP321488 A JP 321488A JP 321488 A JP321488 A JP 321488A JP H01181582 A JPH01181582 A JP H01181582A
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JP
Japan
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main
pulse
laser
cathode
discharge
Prior art date
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Pending
Application number
JP321488A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeyuki Takagi
茂行 高木
Tatsumi Goto
後藤 達美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
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Publication of JPH01181582A publication Critical patent/JPH01181582A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0971Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、高繰返し動作を行なうガスレーザ発振装置に
関する。
(従来の技術) 第3図はガスレーザ発振装置の構成図であって、レーザ
管1の内部にはガスレーザ媒質が封入され、かつかまぼ
こ形状の陰極2と陽極3とを対向配置して成る主電極が
配置されている。又、このレーザ管1の内部には、主電
極の長手方向に沿って複数の予備電極4が配列されてお
り、これら予備電極4はその一端がピーキングコンデン
サ5を通して陽極2に接続されるとともに他端が陽極3
に接続されている。さらに、このレーザ管1の内部には
ファン装置6が設けられるとともに熱交換器7が設けら
れている。一方、高圧電源8が備えられ、この高圧電源
8にはサイラトロン9が並列接続されるとともに主コン
デンサ10を通してレーザ管1内部の陽極2が接続され
ている。このサイラトロン9のトリガ電極にはトリガ発
生器11が接続され、さらにこのトリガ発生器111;
パルス発振器12が接続されている。なお、13は主コ
ンデンサ10への充電を行なわしめる為のコイルである
このような構成であれば、高圧電源8から電力が主コン
デンサ10に供給されて充電が行われる。
この状態にパルス発振器12からパルスが出力されると
、このパルスはトリガ発生器11に送られてこのトリガ
発生器11から第4図に示すようなトリガパルスP1が
出力される。このトリガパルスP1はサイラトロン9の
トリガ電極が加わってこのサイラトロン9は導通して短
絡状態となり、主コンデンサ10に蓄えられた電荷が放
出される。
し”かして、陰極2及びピーキングコンデンサ5を通゛
して各予備電極4に電力が供給される。このように電力
がレーザ管1に供給されると、先ず各予備電極4におい
て予備放電が行われ、この放電によって陰極2と陽極3
との間のガスレーザ媒質は予備電離状態となる。そうし
て、陰極2と陽極3との間の印加電圧レベルが所定レベ
ルに達すると、陰極2と陽極3との間で主放電が発生す
る。このとき発生する光が図示しなし光共振器によって
増幅されてレーザ光F1として出力され、以下第2図に
示すように次のトリガパルスP2が出力されると、レー
ザ光F2が出力される。
ところで、以上のようにしてレーザ光F1を発振させる
と、レーザ管1の内部に放電生成物が生成される。この
放電生成物は例えばXeCノエキシマレーザ発振装置で
はCCC10CO2レーザ発、振装置では02であって
、主放電の発生を不安定にするものである。従って、こ
の放電生成物はファン装置6による気流の循環作用によ
って陰極2と陽極3との間から追い出される。このよう
なことがらレーザ光の発生の繰り返し数はファン装置6
の放電生成物の追い出し性能から決められて七まい!0
0〜500回/秒が限界となっている。又、レーザ光F
1のパルス幅は非常に短くて20〜30nsであり、こ
のようなレーザ光F1を上記繰り返し数で発振させても
1essの期間に20nsの間だけしかレーザ光を発振
できない。このため、レーザ出力を大出力化することが
できず、レーザ光の応用分野に適用するには未だ出力の
小さいものとなっている。
(発明が解決しようとする間居点) 以上のように繰返し数に限界があってレーザ゛出力の小
さいものであった。
そこで本発明は、レーザ光を安定した状態でかつその出
力を大きくできるガスレーザ発振装置を提供することを
目的とする。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明は、ガスレーザ媒質が封入されかつ陽極と陰極と
を対向配置して成る主電極を有するレーザ管の主電極間
に主放電を発生させてレーザ発振させるガスレーザ発振
装置において、陽極に対して共通接続された複数の主コ
ンデンサと、これd主コンデンサに蓄えられた電荷を各
主コンデンサグで残りのスイッチング素子のうち所望の
スイッチング素子を導通させる導通タイミング制御手段
とを備えて上記目的を達成しようとするガスレーザ発振
装置である。
(作用) このような手段を備えたことにより、各スイッチング素
子のうち1つのスイッチング素子の導通時からレーザ管
内部に放電生成物が生成される時までの間に所望タイミ
ングで残りのスイッチング素子のうち所望のスイッチン
グ素子がタイミングを異ならせて導通される。しかして
、導通状態となった主コンデンサに蓄えられている電荷
が放電生成物の生成される時までレーザ管に供給される
(実施例) 以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。なお、第3図と同一部分には同一符号を付してその
詳しい説明は省略する。
第1図はガスレーザ発振装置の構成図である。
シの装置には高圧電源20.21が設けられ、これら高
圧電[20,21にそれぞれスイッチング素子としての
サイラトロン22.23が接続されるとともにそれぞれ
主コンデンサ24.25を通してレーザ管1の陰極2が
接続されている。
さて、26は導通タイミング制御手段であって、これは
サイラトロン22.23のうち一方のサイラトロン例え
ばサイラトロン22の導通時からレーザ管1の内部に放
電生成物が生成される時までの間に所望タイミングで他
方のサイラトロン23を導通させる機能を持ったもので
ある。具体的には所定期間例えば1OIIs毎にパルス
を発生するパルス発振器27、このパルス発振器27か
らのパルスを主放電発生時から放電生成物の生成される
までの期間例えば20〜100nsの期間遅延して送出
するデイレイパルス発振器28、パルス発振器27から
のパルスを受けて直ぐにトリガパルスをサイラトロン2
2のトリガ電極に加えるトリガ発生器29及びデイレイ
パルス発振器28からのパルスを受けて直ぐにトリガパ
ルスをサイラトロン23のトリガ電極に加えるトリガ発
生器30から構成されている。
次に上記の如く構成された装置の作用について第2図に
示す動作タイミング図を参照して説明する。各高圧電源
20.21から各主コンデンサ24.25に電力が供給
され、各主コンデンサ24.25は充電された状態にあ
る。この状態にパルス発振器27からパルスがトリガ発
生器29及びデイレイパルス発振器28に送出されると
、トリガ発生器29は直ぐにトリガパルスTrlを送出
する。このトリガパルスTriはサイラトロン22のト
リガ電極に加わることによってこのサイラトロン22は
導通状態となる。従って、主コンデンサ24に蓄えられ
ている電荷が放電されて陰極2及びピーキングコンデン
サ5を通して各予備電極4に電力が供給される。このよ
うに電力がレーザ管1に供給されると、前述したように
先ず各予備電極4において予備放電が行われ、この放電
によって陰極2と陽極3との間のガスレーザ媒質は予備
電離状態となる。そうして、陰極2と陽極3との間の印
加電圧レベルが所定レベルに達すると、陰極2と陽極3
との間で主放電が発生する。
このとき発生する光が図示しなし光共振器によって増幅
されてレーザ光E1として発振される。
一方、デイレイパルス発振器28はパルスを20〜10
0ns遅延してトリガ発生器30に送出する。
このトリガ発生器30はパルスを受けると直ぐにトリガ
パルスT rl−を送出する。このトリガパルスTrl
″がサイラトロン23のトリガ電極に加わるとこのサイ
ラトロン22は導通状態となって主コンデンサ24に蓄
えられている電荷が放電されて陰極2及びピーキングコ
ンデンサ5を通して各予備電極4に電力が供給される。
かくして、各予備電極4において予備放電が行われ、こ
の放電によって陰極2と陽極3との間のガスレーザ媒質
は予備電離状態となり、陰極2と陽極3との間で主放電
が発生する。そうして、このとき発生する光が図示しな
し光共振器によって増幅されてレーザ光E2として発振
される。
ところで、トリガパルスT rl−によって陰極2と陽
極3との間に主放電が発生するとき、前の主放電つまり
トリガパルスTriによって発生した主放電による電子
、イオンが残留していて強力な予備電離の状態となって
いる。従って、トリガパルスTrlどによる主放電は前
回の主放電よりも空間的に均一で安定し、かつその出力
も大きくなる。
そうして各サイラトロン22.23にトリガパルスが加
わっていない期間、各サイラトロン22゜23は非導通
状態となっているので、この期間に各主コンデンサ24
.25は充電される。そして、−1ト寸ルス発振器27
の前記パルス発生からioms期間廊遇すると再びパル
ス発振器27からパルスが送出・され、このパルスを受
けてトリガ発生器29からトリガパルスTr2が送出さ
れる。しかして、サイラトロン22の導通により主コン
デンサ24に蓄えられている電荷が放電して陰極2及び
各予備電極4に電力が供給され、もって陰極2と陽極3
との間に主放電が発生してレーザ光E3が発振される。
これから20〜100ns経過の後、トリガ発生器30
からトリガパルスTr2−が送出され、もって上記作用
と同様してレーザ光E4が発振される。
このように上記一実施例においては、各サイラトロン2
2.23のうち一方のサイラトロン22の導通時からレ
ーザ管1の内部に放電生成物が生成される時までの間に
所望タイミングで他方のサイラトロン23を導通させ、
各主コンデンサ24゜25に蓄えられている電荷を放電
生成物の生成される時まで放電させる構成としたので、
1回のレーザ光例えばElとE2との合成パルス光のパ
ルス幅を長くできて、この結果レーザ光出力を大出力化
にできる。しかも放電生成物が生成される時まで放電さ
せるので安定したレーザ光を発振できる。又、デイレイ
パルス発振器28での遅延時間を変更することによって
1回のレーザ光のパルス幅を任意に変えることができる
なお、本発明は上記一実施例に限定されるものもなくそ
の主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。例えば、高
圧電源20及び主コンデンサ24の各容量を小さくして
主コンデンサ24に蓄えられる電荷量を小さくシ、これ
によりトリガパルスTriによる主放電を小さくして次
のトリガパルスT rl−による主放電の予備電離とし
て作用させてもよい。この場合、トリガパルスTrl”
による主放電の大きさは大きくなり、かつトリガパルス
Trlによる主放電が小さいために安定したレーザ光の
発振ができるようになる。つまり、主放電が小さくなる
ことによりアーキング等の発生が無くなるからである。
又、1回のレーザ光発振にトリガパルスを2回発生して
いるが、1回目のトリガパルス発生時から放電生成物が
生成されるまでの期間内に多数のトリガパルスを発生さ
せてレーザ光のパルス幅をより長くするようにしてもよ
い。この場合、高圧電源、サイラトロン、主コンデンサ
及びトリガ発生器を発生させるトリガパルス数の分だけ
設ける二とになる。さらに、し−ザ管1内のインダクタ
ンス成分を少なくして主放電の期間を短くし、放電生成
物が生成されるまでの期間に多数の主放電を行なうよう
にしてもよい。
[発明の効果] 以上詳記したように本発明によれば、レーザ光を安定し
た状態でかつその出力を大きくできるガスレーザ発振装
置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
′R41図は本発明に係わるガスレーザ発振装置の一実
施例を示す構成図、第2図は同装置の動作タイミング図
、第3図及び第4図は従来のガスレーザ発振装置を説明
するための図である。 1・・・レーザ管、2・・・陰極、3・・・陽極、4・
・・予備電極、5・・・ピーキングコンデンサ、6・・
・ファン装置、7・・・熱交換器、20.21・・・高
圧電源、22゜23・・・サイラトロン、24.25・
・・主コンデンサ、26・・・導通タイミング制御手段
、27・・・dルス発生器、28・・・デイレイパルス
発振器、29・・・トリガ発生器、30・・・トリガ発
生器。 出願人 工業技術院長 飯塚幸三 第2図 −、i、11− −−           −五 工

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  ガスレーザ媒質が封入されかつ陰極と陽極とを対向配
    置して成る主電極を有するレーザ管の前記主電極間に主
    放電を発生させてレーザ発振させるガスレーザ発振装置
    において、前記陰極に対して共通接続された複数の主コ
    ンデンサと、これら主コンデンサに蓄えられた電荷を前
    記各主コンデンサごとに前記陰極に供給させる複数のス
    イッチング素子と、前記各スイッチング素子のうち1つ
    のスイッチング素子の導通時から前記レーザ管内部に放
    電生成物が生成される時までの間に所望の異なったタイ
    ミングで残りの前記スイッチング素子のうち所望のスイ
    ッチング素子を導通させる導通タイミング制御手段とを
    具備したことを特徴とするガスレーザ発振装置。
JP321488A 1988-01-12 1988-01-12 ガスレーザ発振装置 Pending JPH01181582A (ja)

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JP321488A JPH01181582A (ja) 1988-01-12 1988-01-12 ガスレーザ発振装置

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3515938A (en) * 1968-04-05 1970-06-02 Hughes Aircraft Co Control circuit for a multiple pulse laser machining device
JPS4825275A (ja) * 1971-08-04 1973-04-02
US3766492A (en) * 1972-07-25 1973-10-16 Us Army Laser pumping system
JPS6398172A (ja) * 1986-10-15 1988-04-28 Toshiba Corp 高速繰返しパルスガスレ−ザ装置

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