JPH04241482A - ガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ装置Info
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- JPH04241482A JPH04241482A JP349791A JP349791A JPH04241482A JP H04241482 A JPH04241482 A JP H04241482A JP 349791 A JP349791 A JP 349791A JP 349791 A JP349791 A JP 349791A JP H04241482 A JPH04241482 A JP H04241482A
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- 230000031070 response to heat Effects 0.000 claims 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 5
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 abstract 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 10
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002784 hot electron Substances 0.000 description 1
- 238000005369 laser isotope separation Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
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- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、主放電電極間の空間を
予備電離してレーザ光をパルス発振する予備電離方式の
ガスレーザ装置に関する。
予備電離してレーザ光をパルス発振する予備電離方式の
ガスレーザ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、図3に示すような予備電離方式
のガスレーザ装置1が知られている。このガスレーザ装
置1は、放電チャンバ2内にガスレーザ媒質を封入して
おり、さらに、放電チャンバ2内に、ガスレーザ媒質を
含んだガス流を発生させる送風機3、ガス流を通過させ
て熱交換する熱交換器4a、および、ガス流を浄化する
フィルタ4bとを収納している。
のガスレーザ装置1が知られている。このガスレーザ装
置1は、放電チャンバ2内にガスレーザ媒質を封入して
おり、さらに、放電チャンバ2内に、ガスレーザ媒質を
含んだガス流を発生させる送風機3、ガス流を通過させ
て熱交換する熱交換器4a、および、ガス流を浄化する
フィルタ4bとを収納している。
【0003】さらに、ガスレーザ装置1は、陽極5aと
陰極5aとからなる主放電電極5と、この主放電電極3
の両側部に配設された陽極側スパークピン6a…および
陰極側スパークピン6b…により構成された予備電離電
極6とを有している。そして、ガスレーザ装置1はガス
流を循環させ、このガス流を主放電電極5と予備電離電
極6とに供給する。
陰極5aとからなる主放電電極5と、この主放電電極3
の両側部に配設された陽極側スパークピン6a…および
陰極側スパークピン6b…により構成された予備電離電
極6とを有している。そして、ガスレーザ装置1はガス
流を循環させ、このガス流を主放電電極5と予備電離電
極6とに供給する。
【0004】また、ガスレーザ装置1はピーキングコン
デンサ7…を、各陰極側スパークピン6b…と直列に接
続するとともに、主放電電極5と並列に接続している。 そして、ガスレーザ装置1は、充電電源8、蓄電コンデ
ンサ9、および、高電圧スイッチ10を有しており、充
電電源8から蓄電コンデンサ9へ電力を供給する。
デンサ7…を、各陰極側スパークピン6b…と直列に接
続するとともに、主放電電極5と並列に接続している。 そして、ガスレーザ装置1は、充電電源8、蓄電コンデ
ンサ9、および、高電圧スイッチ10を有しており、充
電電源8から蓄電コンデンサ9へ電力を供給する。
【0005】さらに、ガスレーザ装置1は、高電圧スイ
ッチ10を介して主放電電極5と予備電離電極6とへパ
ルス電圧を印加する。そして、ガスレーザ装置1は、予
備電離電極6のスパークピン6a…、6b…間に形成さ
れた放電ギャップ11にスパーク放電を生じさせ、スパ
ーク放電に伴い発生した紫外線を利用して主放電電極5
の空間を予備電離する。
ッチ10を介して主放電電極5と予備電離電極6とへパ
ルス電圧を印加する。そして、ガスレーザ装置1は、予
備電離電極6のスパークピン6a…、6b…間に形成さ
れた放電ギャップ11にスパーク放電を生じさせ、スパ
ーク放電に伴い発生した紫外線を利用して主放電電極5
の空間を予備電離する。
【0006】そして、ガスレーザ装置1は、主放電電極
5に主放電を発生させてレーザ光を励起し、励起された
レーザ光を、図示しないレーザ共振器により共振してパ
ルス発振する。
5に主放電を発生させてレーザ光を励起し、励起された
レーザ光を、図示しないレーザ共振器により共振してパ
ルス発振する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
なレーザ装置1においては、パルス発振の繰返し率を高
めてパルス発振を高速化する場合、ガス流の循環速度と
放電繰返し率とを高めることが行われるが、これらのう
ちの放電繰返し率を高めると、パルス毎のレーザ発振エ
ネルギが次第に低下してしまう。
なレーザ装置1においては、パルス発振の繰返し率を高
めてパルス発振を高速化する場合、ガス流の循環速度と
放電繰返し率とを高めることが行われるが、これらのう
ちの放電繰返し率を高めると、パルス毎のレーザ発振エ
ネルギが次第に低下してしまう。
【0008】つまり、パルス繰返し率には上限があり、
その値は例えば数kHzである。
その値は例えば数kHzである。
【0009】このため、レーザ装置1のレーザ出力を連
続的な加工に応用する場合には、加工スピードに限界が
ある。
続的な加工に応用する場合には、加工スピードに限界が
ある。
【0010】さらに、レーザ装置1をレーザ同位体分離
に適用する場合には、高速で移動する処理物体にレーザ
光が照射されるが、パルス繰返し速度がプロセスの制約
になり、分離濃縮度を高めることができず、実用化が困
難である。
に適用する場合には、高速で移動する処理物体にレーザ
光が照射されるが、パルス繰返し速度がプロセスの制約
になり、分離濃縮度を高めることができず、実用化が困
難である。
【0011】本発明の目的とするところは、放電繰返し
率を高めても安定した放電を行うことができ、高速動作
が可能なガスレーザ装置を提供することにある。
率を高めても安定した放電を行うことができ、高速動作
が可能なガスレーザ装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するために本発明は、ガスレーザ媒質が封入された放
電チャンバ内に主放電電極と予備電離電極とを有し、予
備電離電極に放電ギャップを形成し、主放電電極と予備
電離電極とに電圧を印加してレーザ光をパルス発振する
ガスレーザ装置において、予備電離電極に、予備電離に
伴う発熱に応じて変形し放電ギャップを変化させるバイ
メタルを設けたことにある。
成するために本発明は、ガスレーザ媒質が封入された放
電チャンバ内に主放電電極と予備電離電極とを有し、予
備電離電極に放電ギャップを形成し、主放電電極と予備
電離電極とに電圧を印加してレーザ光をパルス発振する
ガスレーザ装置において、予備電離電極に、予備電離に
伴う発熱に応じて変形し放電ギャップを変化させるバイ
メタルを設けたことにある。
【0013】そして、本発明は、予備電離電極の過度な
温度上昇を防止し、放電繰返し率を高めても安定した放
電を行えるようにした。
温度上昇を防止し、放電繰返し率を高めても安定した放
電を行えるようにした。
【0014】
【実施例】以下、本発明の各実施例を図1および図2に
基づいて説明する。なお、従来の技術の項で説明したも
のと重複するものについては同一番号を付し、その説明
は省略する。
基づいて説明する。なお、従来の技術の項で説明したも
のと重複するものについては同一番号を付し、その説明
は省略する。
【0015】図1は本発明の第1の実施例を示すもので
、図中の21は予備電離方式のガスレーザ装置である。 このガスレーザ装置21は、断面を環状に設定された略
円筒型の放電チャンバ2を有しており、この放電チャン
バ2の中に送風機3を収納している。さらに、ガスレー
ザ装置21は、熱交換器4aとフィルタ4bとを略18
0度間隔で放電チャンバ2内に配置しており、これら熱
交換器4a、送風機3、および、フィルタ4bを略90
度毎に並べている。
、図中の21は予備電離方式のガスレーザ装置である。 このガスレーザ装置21は、断面を環状に設定された略
円筒型の放電チャンバ2を有しており、この放電チャン
バ2の中に送風機3を収納している。さらに、ガスレー
ザ装置21は、熱交換器4aとフィルタ4bとを略18
0度間隔で放電チャンバ2内に配置しており、これら熱
交換器4a、送風機3、および、フィルタ4bを略90
度毎に並べている。
【0016】そして、ガスレーザ装置21は放電チャン
バ2内にガスレーザ媒質を封入しており、送風機3を駆
動し、矢印A、Aで示すように放電チャンバ2内を循環
するガス流を発生させる。
バ2内にガスレーザ媒質を封入しており、送風機3を駆
動し、矢印A、Aで示すように放電チャンバ2内を循環
するガス流を発生させる。
【0017】さらに、放電チャンバ2の中には、主放電
電極5と予備電離電極22とが設けられている。これら
のうち主放電電極5は、放電チャンバ2の径方向に並ん
だ陽極5aと陰極5aとからなり、熱交換器4aおよび
フィルタ4b対して略90度離間している。
電極5と予備電離電極22とが設けられている。これら
のうち主放電電極5は、放電チャンバ2の径方向に並ん
だ陽極5aと陰極5aとからなり、熱交換器4aおよび
フィルタ4b対して略90度離間している。
【0018】上記予備電離電極22は、主放電電極5の
陽極5aと陰極5bとが並んだ方向に向い合ったスパー
クピンにより構成されており、陰極側にピン状のバイメ
タル23…(2つのみ図示)を備えている。そして、予
備電離電極22は、バイメタル23…を陽極側のスパー
クピンに対して離間させており、バイメタル23…と陽
極側のスパークピンとの間に放電ギャップ24…を形成
している。
陽極5aと陰極5bとが並んだ方向に向い合ったスパー
クピンにより構成されており、陰極側にピン状のバイメ
タル23…(2つのみ図示)を備えている。そして、予
備電離電極22は、バイメタル23…を陽極側のスパー
クピンに対して離間させており、バイメタル23…と陽
極側のスパークピンとの間に放電ギャップ24…を形成
している。
【0019】また、ピーキングコンデンサ7…が陰極側
のスパークピンに直列に接続されている。さらに、この
ピーキングコンデンサ7…は主放電電極5の陰極5bと
並列に接続されている。そして、ピーキングコンデンサ
7…は、充電電源8、蓄電コンデンサ9、および、高電
圧スイッチ10等と接続されており、充電電源8の出力
電圧を、蓄電コンデンサ9および高電圧スイッチ10等
を介して印加される。
のスパークピンに直列に接続されている。さらに、この
ピーキングコンデンサ7…は主放電電極5の陰極5bと
並列に接続されている。そして、ピーキングコンデンサ
7…は、充電電源8、蓄電コンデンサ9、および、高電
圧スイッチ10等と接続されており、充電電源8の出力
電圧を、蓄電コンデンサ9および高電圧スイッチ10等
を介して印加される。
【0020】上述の構成のガスレーザ装置21は、高電
圧スイッチ10のオンに伴って電荷移行を発生させ、電
荷を放電ギャップ24…に通過させて、放電ギャップ2
4…にスパークを生じる。そして、ガスレーザ装置21
は、陽極側のスパークピンからバイメタル24…へ電荷
を移行させ、ピーキングコンデンサ7…を充電する。
圧スイッチ10のオンに伴って電荷移行を発生させ、電
荷を放電ギャップ24…に通過させて、放電ギャップ2
4…にスパークを生じる。そして、ガスレーザ装置21
は、陽極側のスパークピンからバイメタル24…へ電荷
を移行させ、ピーキングコンデンサ7…を充電する。
【0021】さらに、ガスレーザ装置21は、放電ギャ
ップ24…に生じた紫外線により主放電電極5の空間部
に電荷を発生させ、発生した電荷を種として、ピーキン
グコンデンサ7…に蓄積された電荷を主放電電極5の空
間部に放出する。そして、ガスレーザ装置21は、主放
電電極5をスパークさせてレーザ光を励起し、励起され
たレーザ光を図示しないレーザ共振器により共振してパ
ルス発振する。
ップ24…に生じた紫外線により主放電電極5の空間部
に電荷を発生させ、発生した電荷を種として、ピーキン
グコンデンサ7…に蓄積された電荷を主放電電極5の空
間部に放出する。そして、ガスレーザ装置21は、主放
電電極5をスパークさせてレーザ光を励起し、励起され
たレーザ光を図示しないレーザ共振器により共振してパ
ルス発振する。
【0022】さらに、バイメタル23…は、放電ギャッ
プ24…における放電に伴い温度上昇する。そして、バ
イメタル23…は、放電繰返し率が高められて電力損が
大となり、温度上昇が過度になると、温度に応じて変形
する。そして、バイメタル23…は、矢印B、Bで示す
ように基端部を支点として、主放電電極5a、5bが並
んだ方向と交わる方向に変位する。そして、バイメタル
23…は、先端部を陽極側スパークピンから遠ざけ、放
電ギャップ24…を拡大させる。
プ24…における放電に伴い温度上昇する。そして、バ
イメタル23…は、放電繰返し率が高められて電力損が
大となり、温度上昇が過度になると、温度に応じて変形
する。そして、バイメタル23…は、矢印B、Bで示す
ように基端部を支点として、主放電電極5a、5bが並
んだ方向と交わる方向に変位する。そして、バイメタル
23…は、先端部を陽極側スパークピンから遠ざけ、放
電ギャップ24…を拡大させる。
【0023】つまり、放電繰返し率が高められてパルス
発振動作が高速化されると、両スパークピンの先端部が
高温になる。そして、放電繰返し率が過度に高められる
と、両スパークピンが溶解し、熱電子が発生し易くなる
。
発振動作が高速化されると、両スパークピンの先端部が
高温になる。そして、放電繰返し率が過度に高められる
と、両スパークピンが溶解し、熱電子が発生し易くなる
。
【0024】そして、放電ギャップ24…における紫外
線発生量は放電ギャップ24…における消費電力に依存
するため、放電ギャップ24…の大きさが一定である場
合には、熱電子の放出が盛んになるにつれて紫外線の発
生量が低下し、主放電電極5における電圧降下が少なく
なると考えられる。
線発生量は放電ギャップ24…における消費電力に依存
するため、放電ギャップ24…の大きさが一定である場
合には、熱電子の放出が盛んになるにつれて紫外線の発
生量が低下し、主放電電極5における電圧降下が少なく
なると考えられる。
【0025】しかし、上述のように予備電離電極22に
バイメタル23…を備えたガスレーザ装置21において
は、パルス発振動作が高速化されて両スパークピンの温
度が上昇すると、バイメタル23…が温度に応じて変形
し、放電ギャップ24…が拡大される。
バイメタル23…を備えたガスレーザ装置21において
は、パルス発振動作が高速化されて両スパークピンの温
度が上昇すると、バイメタル23…が温度に応じて変形
し、放電ギャップ24…が拡大される。
【0026】このため、予備電離電極22における電力
損は減少するが、電圧降下を十分な値に保つことができ
、紫外線発生量の低下を防止できる。そして、放電繰返
し率を高めても、十分な予備電離を行うことができ、主
放電を安定化させることができる。そして、予備電離の
放電特性を向上させることができる。
損は減少するが、電圧降下を十分な値に保つことができ
、紫外線発生量の低下を防止できる。そして、放電繰返
し率を高めても、十分な予備電離を行うことができ、主
放電を安定化させることができる。そして、予備電離の
放電特性を向上させることができる。
【0027】したがって、放電繰返し率の増大に伴うレ
ーザ発振エネルギの低下を防止でき、高速で安定したレ
ーザ発振が可能になる。
ーザ発振エネルギの低下を防止でき、高速で安定したレ
ーザ発振が可能になる。
【0028】なお、本実施例では、バイメタル23…を
陰極側に設けているが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、例えば、バイメタル23…を陽極側に連結し
てもよい。
陰極側に設けているが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、例えば、バイメタル23…を陽極側に連結し
てもよい。
【0029】図2は本発明の第2の実施例を示している
。そして、図中の31は予備電離方式のガスレーザ装置
であり、このガスレーザ装置31の予備電離電極22に
は、バイメタル32…が設けられている。
。そして、図中の31は予備電離方式のガスレーザ装置
であり、このガスレーザ装置31の予備電離電極22に
は、バイメタル32…が設けられている。
【0030】このバイメタル32…は、主放電電極5の
陽極5aと陰極5bとが並んだ方向と交わる方向に延び
るとともに、その中間部を鋭角に折曲されている。さら
に、バイメタル32…は、その先端部を陽極側のスパー
クピンに対して離間させており、陽極側のスパークピン
との間に放電ギャップ33…を形成している。
陽極5aと陰極5bとが並んだ方向と交わる方向に延び
るとともに、その中間部を鋭角に折曲されている。さら
に、バイメタル32…は、その先端部を陽極側のスパー
クピンに対して離間させており、陽極側のスパークピン
との間に放電ギャップ33…を形成している。
【0031】つまり、バイメタル32…は、放電ギャッ
プ33…における放電に伴い温度上昇し、温度に応じて
変形する。そして、バイメタル32…は、矢印C、Cで
示すように基端部を支点として、主放電電極5の陽極5
aと陰極5bとが並んだ方向に略沿った方向に変位する
。そして、バイメタル32…は、先端部を陽極側のスパ
ークピンから遠ざけ、放電ギャップ33…を拡大させる
。
プ33…における放電に伴い温度上昇し、温度に応じて
変形する。そして、バイメタル32…は、矢印C、Cで
示すように基端部を支点として、主放電電極5の陽極5
aと陰極5bとが並んだ方向に略沿った方向に変位する
。そして、バイメタル32…は、先端部を陽極側のスパ
ークピンから遠ざけ、放電ギャップ33…を拡大させる
。
【0032】したがって、第1の実施例と同様に、放電
繰返し率の増大に伴うレーザ発振エネルギの低下を防止
でき、高速で安定したレーザ発振が可能になる。
繰返し率の増大に伴うレーザ発振エネルギの低下を防止
でき、高速で安定したレーザ発振が可能になる。
【0033】なお、本発明は、要旨を逸脱しない範囲で
種々に変形することが可能である。
種々に変形することが可能である。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ガスレー
ザ媒質が封入された放電チャンバ内に主放電電極と予備
電離電極とを有し、予備電離電極に放電ギャップを形成
し、主放電電極と予備電離電極とに電圧を印加してレー
ザ光をパルス発振するガスレーザ装置において、予備電
離電極に、予備電離に伴う発熱に応じて変形し放電ギャ
ップを変化させるバイメタルを設けたものである。
ザ媒質が封入された放電チャンバ内に主放電電極と予備
電離電極とを有し、予備電離電極に放電ギャップを形成
し、主放電電極と予備電離電極とに電圧を印加してレー
ザ光をパルス発振するガスレーザ装置において、予備電
離電極に、予備電離に伴う発熱に応じて変形し放電ギャ
ップを変化させるバイメタルを設けたものである。
【0035】したがって本発明は、予備電離電極の過度
な温度上昇を防止し、放電繰返し率を高めても安定した
放電を行えるという効果がある。
な温度上昇を防止し、放電繰返し率を高めても安定した
放電を行えるという効果がある。
【図1】本発明の第1の実施例を概略的に示す構成図。
【図2】本発明の第2の実施例を同じく概略的に示す構
成図。
成図。
【図3】従来例を示す同じく構成図。
2…放電チャンバ、5…主放電電極、、21、31…ガ
スレーザ装置、22…予備電離電極、23、32…バイ
メタル、24、33…放電ギャップ。
スレーザ装置、22…予備電離電極、23、32…バイ
メタル、24、33…放電ギャップ。
Claims (1)
- 【請求項1】 ガスレーザ媒質が封入された放電チャ
ンバ内に主放電電極と予備電離電極とを有し、上記予備
電離電極に放電ギャップを形成し、上記主放電電極と上
記予備電離電極とに電圧を印加してレーザ光をパルス発
振するガスレーザ装置において、上記予備電離電極に、
予備電離に伴う発熱に応じて変形し上記放電ギャップを
変化させるバイメタルを設けたことを特徴とするガスレ
ーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP349791A JPH04241482A (ja) | 1991-01-16 | 1991-01-16 | ガスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP349791A JPH04241482A (ja) | 1991-01-16 | 1991-01-16 | ガスレーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04241482A true JPH04241482A (ja) | 1992-08-28 |
Family
ID=11558985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP349791A Pending JPH04241482A (ja) | 1991-01-16 | 1991-01-16 | ガスレーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04241482A (ja) |
-
1991
- 1991-01-16 JP JP349791A patent/JPH04241482A/ja active Pending
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