JPH01167306A - 耐塩性吸水剤およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は耐塩性吸水剤詮よびその製造方法に関するもの
である。更に詳しくは、製造時および使用時に凝集する
事がない耐塩性吸水剤およびその製造方法に関するもの
である。

（従来の技術） スルホン酸基を含有する高分子架橋体は、耐塩性、耐熱
水性、耐光性、耐酸性、耐アルカリ性等に優れるため、
工業用や土木用のシール材等に利用されている。これら
の用途では、粒子径が１００μｍ以下の高分子架橋体微
粒子をゴムやグラスチック等の各種バインダーに混合し
たものが用いられている。しかしながら、スルホン酸基
言有高分子架橋体は吸湿性が強く１％に微粒子状の場合
Ｖｃｒｉ。

吸湿等が原因で凝集しやすいという問題点があった。

このために、高分子架橋体の微粒子を効率よく製造でき
なかったり、それを各種用途に使用する時に凝集して製
品の性能低下の原因となることがあった。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は、上記問題点を解決するものである。

したがって１本発明の目的は、耐塩性吸水剤の製造時あ
るいにゴムやグラスチック等の各種バインダー−・の混
線分数時等に凝集する仁とがなく、生産性および作業性
の優れた耐塩性吸水剤を提供することである。

（問題点を解決するための手段および作用）本発明は、
−数式（１） （ただし　Ｂ１は水素またはメチル基、Ｒ２は炭素数２
〜４の直鎖法もしくは分岐鎖状のアルキレン基、Ｘは−
Ｎｌ（−まｆｃは一〇−、Ｙは水素、アルカリ金属、ア
ルカリ土類金属、アンモニウム基または有懺置換アンモ
ニウムｉｔ示す。） で表わされるスルホン酸基含有不飽和単量体２゜〜１０
０モルチおよびその他の重合性単量体θ〜８０モルチか
らなる単量体成分を重合して得られる高分子架橋体の表
面上で、−数式（■）（Ｒ皆ＳｉｉＸ）４−ｍ（１） （ただし、Ｒは置換基があってもよい、アルキル基、ア
リール基または不飽和脂肪族残基、Ｘはアルコキシ基、
アシロキシ基、水素原子、ハロダンマｔｉｔ 原子または水酸基、ｍはンゴ３の歴数を示し、ｍ個のＲ
および４−ｍ個のＸはそれぞれ異なっていてもよい。）
で表わされるケイ素化合物および／または七の２〜１０
量体を組合反応させてなる耐塩性吸水剤に関するもので
ある。

ま之、本発明は、−数式 ％式％（１１ （ただし、Ｒは水素ま念はメチル基、Ｒは炭素数２〜４
の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレ／基、Ｘは−ＮＨ
−または一〇−１Ｙは水素、アルカリ金属、アルカリ土
類金属、アンモニウム基または有機置換アンモニウム基
を示す。） で表わされるスルホン酸基含有不飽和単量体２０〜１０
０モルチおよびその他の重合性単量体Ｏ〜８０モルチか
らなる単量体成分を重合して得られ且つ絶乾１董に対し
て１〜２００重量％の範囲の水を含有してなる高分子架
橋体を一般式（１１）％式％） （ただし、Ｒ３は置換基があってもよ、い、アルキル基
、アリール基または不飽和Ｊ石肪族ｆｉ基、Ｘはア個の
Ｒ３および４−ｍ個のＸはそれぞれ異なっていてもよい
。）で表わされるケイ素化合物および／またはその２〜
１０量体に泉貞的に不活性な溶媒に分散場せ、得られた
市分子架倫体の溶媒分紋欣に前記−数式（ｉｔ）で衆わ
されるケイ素化合物および／またはその２〜１０を体を
該高分子架橋体１００重量部に対して０．１〜１００重
量部の範囲の割合で添加し、０〜２００℃の温度に保持
することにより、高分子架橋体粒子の表面上でケイ素化
合物および／またにその２〜１０を体を縮合反応させる
ことを特徴とする耐塩性吸水剤の製造方法に関するもの
である。

本発明で用いられるスルホン酸基含有不飽和単量体は、
−数式（１）で表わされるものであり１例えば２−アク
リルアばビー２−メチルプロパンスルホン［，２−スル
ホエテル（メタ）アクリレート、３−スルホプロピル（
メタ）アクリレート、１−スルホプロ／ｆ　７−２−イ
ル（メタ）アクリレート、２−スルホプロピル（メタ）
アクリレート、１−スルホブタン−２−イル（メタ）ア
クリレート、２−スルホブチル（メタ）アクリレート、
３−スルホブタン−２−イル（メタ）アクリレート等の
不飽和スルホン酸やそれらのリチウム・ナトリウム・カ
リウム等のアルカリ金属塩、カルシウム・マグネシウム
等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、有機置換ア
ンモニウム塩を挙げることができ、これらの中から１種
または２種以上を用いることができる。

本発明で使用することができるその他の重合性単量体と
しては、例えばアクリル酸、メタクリル醒、クロトン酸
、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸等
の不飽和カルボン酸ならびにそれらのアルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、有機置換アンモ
ニウム塩等のカルボキシル基含有不飽和単量体；（メタ
）アクリルアばド、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビ
ニル、Ｎ、Ｎ−ツメチルアミノエチル（メタ）アクリレ
−）、２−（メタクリロイルオキシエチル）トリメチル
アンモニウムクロリド等の水溶性不飽和単量体；ヒドロ
キクエチル（メタ）アクリレート。

ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリ：ｒ−
ｆ　Ｖ　７　りＩＪコールモノ（メタ）アクリレート、
ポリプロピレングリフールモノ（メタ）アクリレート、
メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート、メトキシポリプロピレングリコールモノ（メタ）
アクリレート、メトキシポリブチレングリコール七ノ（
メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレング
リコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシポリエチ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポ
リエチレングリコール・ポリグロビレングリコール七ノ
（メタ）アクリレート、フェノキシボリエテレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、ペンノルオキシボリエ
テレングリコールモノ（メタ）アジリレート、メチル（
メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブ
チル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エス
テル；及びスチレン、塩化ビニル、ブタノエン、イソゾ
レン、エチレン、プロピレン等の疎水性不飽オロ単虚体
などを挙げることができ、これらの１　ｒｒｌ又ぼ２種
以上上用いることができる。

本発明では単量体成分中にスルホン酸基官有不飽和単量
体を２０〜１００モルチ含むことが必要である。２０モ
ルチ未満では、得られる吸水剤の耐塩性が低くなったり
吸水倍率が小さくなったりする。

本発明において高分子架橋体を得るに際し、単量体成分
中に必要により架橋剤を加えることができる。これらの
架橋剤としては１例えばノビニルベンゼン、エテレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ノエチレングリコー
ルノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールソ
（メタ）アクリレート、ｆロビレングリコールゾ（メタ
）アクリレート、ポリプロレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、トリメテロールプロノ９ノトリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールノ（メタ）アクリレート
、　Ｎ、Ｎ−メチレンビスアクリルアミド、インシアヌ
ル酸トリアリル、トリメチロールゾロパンツアリルエー
テル等の１分子中にエチレン系不飽和基を２個以上有す
る化曾物；エチレングリコール、ノエチレングリコール
、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、
グリセリン、ポリグリセリン、プロピレングリコール、
ノエタノールアばン、トリエタノールアミン、ポリプロ
ピレングリコール、ポリビニルアルコール、ペンタエリ
スリトール、ソルビット、ソルビタン。

グルコース、マンニット、マンニタン、ショ糖。

ブドウ糖等の多価アルコール；エチレングリコールノグ
リシノルエーテル、グリセリンノグリシジルエーテル、
ポリエチレングリコールノグリシノルエーテル、グロビ
レングリコールノグリシノルエーテル、ボリデロビレン
グリコールノグリシノルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールノグリシノルエーテル、１，６−ヘキサンノオール
ノグリシノルエーテル、トリメチロールゾロ／４ンノグ
リシノルエーテル、トリメチロールプロパントリクリシ
ジルエーテル、グリセリントリグリシツルエーテル等の
ポリエポキシ化合物等が挙げられ、これらの１種またｒ
ｉ２檀以上を用いることができる。架橋剤として多価ア
ルコールを用いる場合には１５０℃〜２５０℃で、ポリ
エポキシ化合物を用いる場合は５０℃〜２５０℃で重合
後熱処理することが好ましい。架橋剤の使用は得られる
耐塩性吸水剤の吸水倍率を容易に制御できる点で好まし
い。

本発明では、単葉体成分を重合後に架橋剤を加えて、高
分子架橋体を得ることも可能である。

本発明において高分子架橋体を得るための重合方法は、
従来から知られているいかなる方法でも良く、例えばラ
ジカル重合触媒を用いる方法や。

放射線・電子線・紫外線等を照射する方法が挙げられる
。ラジカル重合触媒としては、過酸化水素。

ベンゾイルパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキ
サイド等の過酸化物、アゾビスインブチロニトリル等の
アゾ化合物、過硫酸アンモニウム、。

過ｊｇｋｍカリウム等の過硫酸塩等のラジカル発生剤や
、これらと亜硫酸水素ナトリウム、Ｌ−アスコルビン酸
、第−鉄塩等の還元剤との組み合わせによるレドックス
系開始剤が用いられる。重合系溶媒としては１例えば水
、メタノール、エタノール。

アセトン、ジメチルホルムアミド、ツメチルスルホキ７
ド、ヘキサン、シクロヘキサン、キシレノ、トルエン、
ベンゼン等やこれらの混合物ｔ″便用ることができる。

重合時の温度は用いる触媒の種類にエリ異なるが、比較
的低温の方が高分子架橋体の分子量が大きくなり好まし
い。しかし、重合が完結するためには２０℃以上１００
ｔｌ：以下の範囲内であることが好ましい。

重合系の単量体濃度には特に制限はないが、重合反応の
制御の容易さと収率・経済性を考慮すれば、２０〜８０
重ｔＳの範囲にあることが好ましい。重合形態としては
種々の形態を採用できるが、例えば懸濁重合、注型重合
、双腕型ニーグーの剪断力によりｒル状言水重合体を細
分化しながら重合する方法（特開昭５７−３４１０１号
）が挙げられる。これらの中でも、球形の微粒子が得ら
れるという点で（逆相）＠濁重合が特に好ましい。

本発明でその表面上で特定のケイ素化合物および／また
はその２〜１０［体を縮合反応さぜる高分子架構体粒子
の平均粒子径には、特に制限はないが、平均粒子径が１
００μ以下のものが好ましい。１００μを越えると、ゴ
ムやグラスチック等の各種パイングーへの混線分散が困
難になることがある。また、一般に平均粒子径がｌＯＯ
μを越える粒子では特定の処理を行わすとも凝集しにく
くなる傾向があるため、本発明におけるケイ素化合物に
よる処理効果が小さくなる。

本発明で用いられるケイ素化合物および／またはその２
〜１０量体は、前記−数式（１１）で表わされるケイ素
化合物および／またはその２〜１０を体であり１例えば
オルトメチルシリケート、オルトエチル７リケート、オ
ルトプロピルシリケート、オルトブチルシリケート等の
オルトアルキルシリケート及びそれらの２〜１０：ｉ体
；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリアセトキシ７ラン、メチルビニルノメト
キシシラン、ｒ−（メタ）アクリロキシグロビルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシグロピルトリメトキシ
シラン、ｒ−アミノプロピルトリエトキシシラン、ｒ−
（２−アミノエテル）アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、ｒ−アニリノグロビルトリメトキ７シラン、ｒ−（
２−アミノエチル）アミノグロビルメチルノメトキ７シ
ラン、ｒ−メルカグトゾロビルトリメトキシシラン、ｒ
−クロログロビルトリメトキシ７ラン、β−（３，４エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等の
シランカップリング剤；メチルトリメトキ７７ラン、メ
チルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシ
ラン、オクタデシルトリエトキシ７ラン、メチルオクタ
デシルノメトキシ７ラン、ノメチルノメトキシシラン、
ノフェニルノメトキシシラン、フェニルトリメトキシ７
ラン、フェニルトリエトキシシラン、ノフェニルノエト
キシシラ７等のアルキルまたはアリールアルコキシシラ
ン；フェニルトリクロロシラン、ノフェニルノクロロ７
ラン、トリフェニルクロロシラン、メチルトリクロロシ
ラン、メテルノクロロシラン、ツメチルクロロシラノ、
エテルトリクロロ７ラン、プロピルトリクロロシラン、
ブチルトリクロロシラン。

オクタデシルトリクロロシラン、メチルオクタｒシルノ
ク口口７ラン、ツメチルオクタデシルクロロシラン等が
挙げられ、これらの１棟ｉ′ｆｃは２種か− 以上を用いること令できる。

ケイ素化合物および／ま九はその２〜１０ｉｔ体の使用
量は、高分子架橋体１００重量部に対して０、１〜１０
０重量部であることが好ましい。０．１重量部未満では
、高分子架橋体粒子表面の処理効果が不十分となり、ま
比１ｏｏｚ量部を越えると。

得られる耐塩性吸水剤の吸水倍率が低下する場合がある
。

高分子架橋体粒子の表面上でケイ素化合物および／また
はその２〜１０量体を縮合反応させる場合、高分子架橋
体の絶乾重量に対して１〜２００重量％の範囲の水が高
分子架橋体中に含有されている状態であることが好まし
い。１ｊｔｔｔｓ禾溝の場合は反応速度が非常に遅くな
り、また２００重ｆチを越える場合には反応速度が速く
なりすぎて縮合反応中に高分子架橋体中志が凝集するこ
とがある。

高分子架橋体粒子の表面上でケイ素化合物および／ま友
はその２〜１０を体を縮合反応させる場合、ケイ素化合
物および／またはその２〜１０量体に対し実質的に不活
性な溶媒中で反応全行うことが好ましい。用いられる溶
媒としては、水あるいは水性溶媒のようにケイ素化合物
および／またはその２〜１０量体に反応活性なものでな
い限り特に制限なく１例えばヘキサン、オクタン、シク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノー
ル、エタノール、イソグロビルアルコール、ツメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、二塩化エチレン、クロロホルム、ノエテルエーテ
ル等の１種または２種以上の混合物を挙げることができ
る。

高分子架橋体粒子の表面上でケイ素化合物および／また
はその２〜１０量体を縮合反応させる場合１反応速度を
速くするために公知の縮合反応触媒を添加することがで
きる。用いられる触媒としては％に制限はないが１例え
ばノブチルチンジラウレート、ジプテルチンノアセテー
ト、ノプテルテンノオクトエート、有機アミン等Ｓを挙
げることができる。

また、反応速度を抑制するために、アセチルアセト／、
エテレ／、グリコール等のキレート化剤を添加すること
もできる。

本発明において扁分子架橋体粒子の表面上でケイ素化合
物および／またはその２〜１０量体を縮合反応させるに
は、高分子架橋体粒子を凝集させることなくその表面に
ケイ素化合物および／またはその２〜１０ｉ体の縮合物
を生成できる限り、特に制限はない。しかし、容易にし
かも優れた性能の耐塩性吸水剤が得られるという点で、
高分子架橋体の前記溶媒への分散液にケイ素化合物およ
び／″１九はその２〜１０童体を添加し０〜２００℃の
温度に好ましく　ｆｉＯ，５〜６時間保持する方法が好
ましい。反応温度が０℃未満では反応速度が遅くなって
優れた性能の耐塩性吸水剤が得難く、ま九２００℃を越
える温度では縮合反応中に高分子架橋体の粒子同志が凝
集しやすくなる。

（発明の効果） 本発明の耐塩性吸水剤は、その製造時またはその各種用
途での取り扱い作業時に凝集することがない上に流動性
が良いため、吸水剤本来の性能を十分に発揮でき、また
取り扱い性にも優れている。

また、本発明の耐塩性吸水剤は、コ９ムやグラスチック
等の各椙バインダー中での分散性が良いため、それを混
合または塗布し友ゴム・プラスチック成形品やシート等
は吸水倍率、吸水速度、耐久性に優れている。

したがって１本発明の耐塩性吸水剤は、光・電カケープ
ル用止水材、土木・工業用シール材、水膨張性コ０ム、
溶液のグル化剤、溶媒・油の脱水剤、電気粘性流体等に
有効に利用できる。

（実施例） 以下、実施例により本発明の詳細な説明するが、本発明
の範囲がこれらの実施例にのみ限定されるものではない
。

実施例１ 攪拌機、還流冷却器１滴下ロートおよび窒素ガス導入管
を備えた２１の四つロフラスコに７クロヘキサン１２０
０！ｉｔ−仕込み、ソルビタンモノステアレート１２ｆ
Ｉを添加溶解した後、窒素置換した。一方、滴下ロート
に２−スルホエチルメタクリレートのナトリウムｆｆ１
１５１ＪＦ（０，７０モル〕、メタクリル酸６．５　Ｉ
ｉ（（１，０７５モル）、メタクリル酸ナトリウム２４
．３１１（０，２２５モル）、Ｎ、Ｎ　−メチレンビス
アクリルアミド０．１５４．９　（０，００１モル）、
水２６８Ｉおよび重合開始剤のＶ−５０，（和光紬薬工
業（株）製の２．２′アゾビス（２−アミツノプロパン
）ノハイドロクロライド）０．２ｇを加えて溶解した後
、窒素がスを吹き込んで水溶液内に存在する酸素を除去
した。次いで、滴下ロートの内容物を上記四つロフラス
コに加えて分散させ。

わずかに窒素ガスを導入しつつ湯浴により重合系の温度
を６０〜６５℃に保持して、３時間重合反応を続けた。

その後、シクロヘキサンとの共沸に・より、系内の水を
２３２ｇ留出させた。

次に、オルトメチルシリケート１８Ｊｔ−四つロフラス
コ中に加え、攪拌しながら７０℃で３時間保持し友。七
の後、得られ友懸濁液から固形分を濾過・乾燥して１本
発明の耐塩性吸水剤（υを得意。

得られた吸水剤（１）は、凝集物（４８メツシュ標準篩
未通過物、以下同じ）が０．１％と少なく、流動性に優
れてい友。ま几、吸水剤（１）中の未凝集物（４８メツ
７−標準篩通過物、以下同じ）の平均粒子径を高車レー
デー回折式粒度分布測定装置を用いて測定し比ところ、
１３．２μであった。

比較例１ シクロヘキサンとの共沸により系内の水を留出させるま
では実施例１と同様にし、その後、固形分を濾過・乾燥
して、比較吸水剤（１）を得た。

得られた比較吸水剤（１）は、凝集物が５．２％存在し
、流動性に劣ってい友。また、比較吸水剤（１）中の未
凝集物の平均粒子径は２０．３μｍであった。

実施例２ ２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナ
トリウム２２９Ｉ！（１，０モル）、トリメチロールグ
ロノ量ントリアクリレート０．０５９２Ｎ（０，００２
モル）、水２２１＃、重合開始剤の過硫酸アンモニウム
０．２ｇおよび分散媒としてキシレン１２００．Ｆｔ−
用いる以外は実施例１と同様にして重合を行った。その
後、キシレンとの共沸により系内の水を１２０Ｉ留出さ
せ友。

次に、メチルトリメトキシシラン６．９ｇ’に四つロフ
ラスコ中に加え、攪拌しながら７０℃で３時間保持した
。その後、得られた懸濁液から固形分’ｋ濾過・乾燥し
て、本発明の耐塩性吸水剤（２）を得た。

得られた吸水剤（２）は、凝集物が０．３チと少なく、
流動性に優れていた。また、吸水剤（２）中の未凝集物
の平均粒子径は３５．６μｍであり九。

比較例２ 重合終了までは実施例２と同様にし、その後キシレンと
の共沸で系内の水を２００ｇ留出させた。

その後、固形分を濾過・乾燥して、比較吸水剤（２）を
得た。

得られた比較吸水剤（２）は、凝集物が７．２　％存在
し、流動性に劣ってい友。ま九、比較吸水剤（２）中の
未凝集物の平均粒子径は４０．３μｍでめった。

実施例３ ２−スルホエチルメタクリレートのナトリウム塩９０．
８Ｆ（０，４２モル）、メタクリル！　４．３１（０，
０５モル）、メタクリル酸ナトリウム１４．０．９（０
，１３モル）アクリルアミド２８．４　Ｆ　（０，４０
モル）、エチレングリコールノグリシソルエーテル０．
０８７　＃　（０，０００５モル）、水２００ｇ、菖合
開始剤の過硫酸アンモニウム０・ＩＩＩおよび分散媒と
してｎ−ヘキサン１０００Ｊ’ｅ用いる以外に実施例１
と同様にして重合を行ったつその後ｎ−へキサンとの共
沸により系内の水を１８０ｇ留出させた。

次に、ビニルトリエトキシシラン１．５．９　、オルト
エテルシリケート９．０．９’を四つロフラスコ中に加
え、攪拌しながら７０℃で５時間保持した。その後、得
られた懸濁液から固形分ｔ−濾過・乾燥して１本発明の
耐塩性吸水剤（３）を得た。

得られた吸水剤（３）は、凝集物が０．１チと少なく、
流動性に優れていた。また、吸水剤（３）中の未凝集物
の平均粒子径は２７．３μｍであった。

比較例３ ｎ−へキサンとの共沸により系内の水を留出させるまで
は実施例３と同様にし、その佼、固形分ｔ−濾過・乾燥
して、比較吸水剤（３ノヲ得た。

得られた比較吸水剤（３）は、凝集物が８．１％存在し
、流動性に劣っていた。

実施例４ ５００ゴの円筒形モノやラブルフラスコに３−スルホグ
ロビルアクリレートのモノエタノールアミンｍ７７Ｎ（
０，３モル）、メトキシポリエチレングリコールモノメ
タクリレート（平均１分子めたり１０個のエチレンオキ
シド単位を含むもの）１０８Ｎ（０，２モル）、Ｎ、Ｎ
−メチレンビスアクリルアミド０．０３８５．９　（０
，０００２５モル）および水２７０１１を仕込み、攪拌
して均一に溶解させ友。

フラスコ内を窒素置換し次後、湯浴で４０℃に加熱し、
１０％過硫酸アンモニウム水溶液０．５１および１チＬ
−ア艮コルビン酸水溶液０．５．９を添加し、攪拌を停
止して重合させた。重合開始後発熱し、３０分後に６８
℃まで上昇した。重合系の温度が下がり始め友のを確認
した後、１に浴を９０℃に上昇させ、史に９０℃で１時
間保持した。得られた高分子架橋体の含水グルを細分化
した後、乾燥・粉砕・分級して、２００メツシ一標準篩
通過物を得た。

次に、この２００メツシユ標準篩通過物２０ｊ’を相対
湿度８０チの室内に１時間放置して、２Ｆの水分を均一
に吸湿させた。このものをトルエン８０１１中に分散さ
せ、得られ九分散液にエチルシリケート４０（コルコー
ト（株）製）４．９ｆ：加えた後、７０℃で４時間保持
した。その後、この分散液から固形分を濾過・乾燥し、
不発明の耐塩性吸水剤（４）を得た・ 比較例４ 実施例４と同様にして得られた高分子架橋体の含水グル
を乾燥・粉砕したのち２００メツシユ標準篩で分級して
、比較吸水剤（４）ヲ得た。

実施例５〜８および比較例５〜８ 実施例１〜４で得られた本発明の耐塩性吸水剤（１）〜
（４）および比較例１〜４で得られた比較吸水剤（１ン
〜（４）’ｔ、−ｔ−れぞれ２５Ｃ，６（１％Ｒ）１０
恒温恒湿室に放置し、０〜２時間経過説の流動性を目視
で調べた。結果を吸水倍率とともにｒｌｃ１表に示した
。

実施例９〜１２および比較例９〜１２ 実施例１〜４で得られた耐塩性吸水剤（１）〜（４ンお
よび比較例１〜４で得られた比較吸水剤（１）〜（４ン
をそれぞれ６０１クロロプレンゴム１００．９．亜鉛華
（１号）５ｇ、酸化マグネシウム４ｙ、ｐ、ｐＬノアミ
ノノフェニルメタン２Ｉｌおよび２−メルカグトベンゾ
テアゾール２Ｉをロールで１５分間混練したのち、１６
０℃で２０分間プレス加硫して。

１１厚のゴム複合体シートを得た。このシートを２　ｃ
ｍ　Ｘ　２　個に裁断し、合成海水中に浸漬した場合の
膨鉤倍率を経時的に測定し、シートの膨―速度および経
時安定性を調べた。その結果を第２表に示した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （ただし、Ｒ＾１は水素またはメチル基、Ｒ＾２は炭素
   数２〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、Ｘ
   は−ＮＨ−または−Ｏ−、Ｙは水素、アルカリ金属、ア
   ルカリ土類金属、アンモニウム基または有機置換アンモ
   ニウム基を示す。） で表わされるスルホン酸基含有不飽和単量体２０〜１０
   ０モル％およびその他の重合性単量体０〜８０モル％か
   らなる単量体成分を重合して得られる高分子架橋体粒子
   の表面上で、一般式（II）▲数式、化学式、表等があり
   ます▼（II） （ただし、Ｒ＾３は置換基があってもよい、アルキル基
   、アリール基または不飽和脂肪族残基、Ｘはアルコキシ
   基、アシロキシ基、水素原子、ハロゲン原子または水酸
   基、ｍは０又は１〜３の整数を示し、ｍ個のＲ＾３およ
   び４−ｍ個のＸはそれぞれ異なっていてもよい。）で表
   わされるケイ素化合物および／またはその２〜１０量体
   を縮合反応させてなる耐塩性吸水剤。 ２、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （ただし、Ｒ＾１は水素またはメチル基、Ｒ＾２は炭素
   数２〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、Ｘ
   は−ＮＨ−または−Ｏ−、Ｙは水素、アルカリ金属、ア
   ルカリ土類金属、アンモニウム基または有機置換アンモ
   ニウム基を示す。） で表わされるスルホン酸基含有不飽和単量体２０〜１０
   ０モル％およびその他の重合性単量体０〜８０モル％か
   らなる単量体成分を重合して得られ且つ絶乾重量に対し
   て１〜２００重量％の範囲の水を含有してなる高分子架
   橋体を一般式（II）▲数式、化学式、表等があります▼
   （II） （ただし、Ｒ＾３は置換基があってもよい、アルキル基
   、アリール基または不飽和脂肪族残基、Ｘはアルコキシ
   基、アシロキシ基、水素原子、ハロゲン原子または水酸
   基、ｍは０又は１〜３の整数を示し、ｍ個のＲ＾３およ
   び４−ｍ個のＸはそれぞれ異なつていてもよい。）で表
   わされるケイ素化合物および／またはその２〜１０量体
   に実質的に不活性な溶媒に分散させ、得られた高分子架
   橋体の溶媒分散液に前記一般式（II）で表わされるケイ
   素化合物および／またはその２〜１０量体を該高分子架
   橋体１００重量部に対して０．１〜１００重量部の範囲
   の割合で添加し、０〜２００℃の温度に保持することに
   より、高分子架橋体粒子の表面上でケイ素化合物および
   ／またはその２〜１０量体を縮合反応させることを特徴
   とする耐塩性吸水剤の製造方法。 ３、高分子架橋体の溶媒分散液中の高分子架橋体分散粒
   子の平均粒子径が１００μ以下である特許請求の範囲第
   ２項記載の耐塩性吸水剤の製造方法。