JPH01165118A - ウエハの周縁部露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 近年、レジストとしてはポジ用のものが使用されること
が多いが、この場合、所要のパターン露光を行う前（ま
たは行った後）に、ウェハの周縁部に露光を与えてウェ
ハ周縁部のレジストを除去することが行われている。

本発明は、周縁部が円弧部と直線部とからなっている半
導体ウェハ、セラミックスウェハ等において、その表面
に塗布されているレジストのうち周縁部のレジストを露
光によって除去するウェハの周縁部を露光するための装
置に関する。

本明細書において、周縁部とは、ウェハの外縁からウェ
ハ中心方向へある幅の領域を指す。

〈従来の技術〉 ウェハは周縁部が円弧部と直線部とからなっているため
、光照射手段をウェハの中心から所要距離の位置に設置
し、ウェハを回転させる周縁部露光装置では、その照射
光は円弧部の表面では、照射すべき周縁部に合致するが
、直線部では、照射位置がウェハ中心からの距離が円弧
部よりも短いために、ウェハの回転によって直線部が照
射位置に来たときに、その照射光は直線部の周縁部表面
を照射せずに直線部の外側を通過して、直線部表面を露
光することができないか、一部の光によって露光できる
としても直線部の露光幅が円弧部の露光幅に比べて著し
く狭くなってしまう。

そこで、従来では、直線部を機械的または光学的に検出
する手段を設けるとともに、直線部が検出されたときに
光照射手段を、その照射位置が円弧部から直線部に沿っ
て移動するように制御するための光照射位置変更機構を
設け、直線部の露光幅が円弧部の露光幅とほぼ等しくな
るように構成していた。

なお、特開昭６０−６０７２４号公報（発明の名称「半
導体露光装置」には、ウェハの中心出しおよび外周直線
部の位置検出をした後に、固設された光照射手段に対し
、ウェハを移動させることによって周縁部露光する装置
が開示されている。

〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、直線部検出手段や光照射位置変更機構の
ために構造が複雑化しているとともに、円弧部露光状態
から直線部露光状態への切り換えおよびその逆の切り換
えのタイミング制御がむずかしく、制御系も繁雑化して
いるという問題があった。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、構造および制御の複雑化を避け、直線部の検出を行
うことなく、直線部と円弧部の両方を、ウェハを回転さ
せるだけで露光することができる装置を提供することを
目的とする。

〈問題点を解決するための手段〉 本第１発明のウェハの周縁部露光装置は、ウェハを載置
して回転するウェハ回転機構と、ウェハ回転機構に載置
されたウェハの表面側に配置され、ウェハの円弧部の表
面に対して光を照射する円弧部露光用の光照射手段と、 ウェハの裏面側に配置され、その照射光が前記円弧部に
よって遮断され、ウェハの直線部に対してはその外側か
ら表面側に通過する方向に光を照射する直線部露光用の
光照射手段と、 ウェハの表面側に配置され、前記直線部の外側から表面
側に通過した光を前記直線部の表面に向けて反射する反
射部材 とを備えたものである。

また、本第２発明のウェハの周縁部露光装置は、上記と
同様のウェハ回転機構と、 ウェハ回転機構に載置されたウェハの裏面側に配置され
、その照射光の一部が前記円弧部によって遮断されると
ともに残りの一部が円弧部の外側から表面側に通過する
方向に光を照射する光照射手段と、 ウェハの表面側に配置され、前記円弧部の外側から表面
側に通過した光を前記円弧部の表面に向けて反射すると
ともに、前記直線部の外側から表面側に通過した光を直
線部の表面に向けて反射する反射部材 とを備えたものである。

また、本第３発明のウェハの周縁部露光装置は、上記と
同様のウェハ回転機構と、 ウェハ回転機構に載置されたウェハの表面側において前
記円弧部の上部位置に配置され、前記円弧部の表面に対
して光を照射する光照射手段と、ウェハの裏面側におい
て光照射手段における光照射部の下部に配置され、前記
直線部が前記光照射部に対応したときにこの直線部の外
側を通過した光照射手段からの光を直線部の外側から表
面側に通過するように反射する第１の反射部材と、ウニ
への表面側に配置され、第１の反射部材からの反射光を
前記直線部の表面に向けて反射する第２の反射部材 とを備えたものである。

〈作用〉 第１発明によれば、ウェハ回転機構によって回転される
ウェハの円弧部が円弧部露光用の光照射　　　　　　−
手段における光照射部を通過しているときには、その光
照射手段が、円弧部の表面を直接的に露光する。

ウェハの円弧部が直線部露光用の光照射手段における光
照射部を通過しているときには、その光照射手段はウェ
ハの裏面に配置されているため、それからの照射光は円
弧部の裏面によって遮断される。そして、直線部が直線
部露光用の光照射手段における光照射部を通過している
ときには、この直線部露光用の光照射手段からの照射光
のうち直線部の外側を通過できた光が表面側に至り、か
つ反射部材によって反射されて直線部の表面を露光する
。

また、第２発明によれば、円弧部が光照射手段における
光照射部を通過しているときには照射光のうち円弧部の
外側から表面側に通過した光は、反射部材によって反射
されて円弧部の表面を露光し、直線部が光照射部を通過
しているときには、円弧部通過時に円弧部裏面で遮断さ
れていた光のうち直線部の外側を通過した光が反射部材
によって反射されて直線部を露光する。

この場合、円弧部通過時でも照射光の一部は必ず円弧部
の外側を通過し、直線部通過時に残りの照射光が通過す
る。

また、第３発明によれば、円弧部が光照射手段における
光照射部の下を通過しているときは光照射手段からの照
射光は円弧部を直接的に露光する。

直線部が光照射手段における光照射部の下を通過してい
るときには、照射光は直線部の外側から第１の反射部材
に入射しそこで反射され、その反射された光のうち直線
部の外側から表面側に至る光が第２の反射部材によって
さらに反射されて直線部の表面を露光する。

〈実施例〉 以下、各発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。

星土光里夏災施舅 第６図はウェハの周縁部露光装置の概略構成図である。

第６図において、１はウェハＷを露光箇所Ｐに搬送する
搬送機構であり、左右のベルト２と、これらのベルト２
を掛張するプーリー３と、ベルト２を駆動するモータ４
とから構成されている。６は露光箇所Ｐに設けられたウ
ェハ回転機構であり、スピンチャック７と、このスピン
チャック７を回転するモータ８と、スピンチャック７と
ともにモータ８を昇降するエアシリンダ９とから構成さ
れている。

スピンチャック７は、ウェハＷが露光箇所Ｐに到達する
までは、第６図（Ａ）のように、ベルト２の搬送経路よ
りも下方に待機している。ウェハＷが露光箇所Ｐで停止
した後には、第６図（Ｂ）のように、エアシリンダ９の
伸長に伴って搬送経路よりも上方に突出しベルト２から
ウェハＷを受　′け取るようになっている。

第１図はウェハの周縁部露光装置を示す一部破断の正面
図、第２図はその要部の平面図である。

ウェハＷの周縁部１０は円弧部１０ａと直線部１０ｂと
から構成され、ウェハＷにおける金属膜等の表面会面に
レジスト（図示せず）が塗布されている。

ここで、周縁部１０とは、既に述べたとおり、ウェハＷ
の外縁からウェハ中心方向へのある幅の領域を指す、す
なわち、円弧部１０ａとは、ウェハＷの円弧状の外縁を
形成する円弧り、と、この外縁円弧り、から一定の幅だ
け小径の円弧である二点鎖線で示した円弧Ｌ３とで挟ま
れた領域を指す。

また、直線部ｔａｂとは、ウェハＷの直線状外縁を形成
する直線（オリエンテーションフラット）Ｌ３と、この
外縁直線り、から一定の幅だけ隔てた位置を通る点線で
示した電線Ｌ４とで挟まれた領域を指す。

図示は省略しであるが、上限位置にあるスピンチャック
７の横倒部には、ウェハＷの周縁部１０に作用してウェ
ハＷの中心Ｏをスピンチャック７の中心０′に位置合わ
せするアライメント機構が設けられている。

スピンチャック７の中心０′を通ってベルト２の搬送方
向Ｘに対して直角な方向Ｙの直線り上にウェハＷの周縁
部１０のうちの円弧部１０ａの表面のレジスト部分に対
して光ｌ、を照射する円弧部露光用の光照射手段１１が
設けられている。

この光照射手段１１は、図示しない光源から導出された
光ファイバ１２と、光ファイバ１２の端部を保持する保
持具１３とを備えている。保持具１３は、光ファイバ１
２の先端面である光照射部１２ａがスピンチャック７に
吸着されたウェハＷの表面に対して平行で、かつ、ウェ
ハＷの円弧部１０ａの回転軌跡の上部に位置するように
光ファイバ１２の端部を保持している。

光照射手段１１は、ウェハＷのサイズ変更に対応するた
めに、スピンチャック７の中心０′を通る直線りに沿っ
てその位置を変更できるように構成されている。すなわ
ち、保持具１３の下板１３ａはネジ１４によって固定ベ
ース１５に取り付けられるが、固定ベース１５のネジ穴
１５ａがＹ方向に沿って複数組形成されており、ネジ穴
１５ａの選択によって保持具１３の位置を変更できるよ
うに構成しである。

スピンチャック７の中心０′に関して円弧部露光用の光
照射手段１１とは反対側において、ウェハＷの裏面側に
直線部露光用の光照射手段１６が配置されているととも
に、ウェハＷの表面側に反射部材１７が配置されている
。

光照射手段１６は、図示しない光源から導出された光フ
ァイバ１８と、光ファイバ１Ｂの端部を保持する保持具
１９とを備えている。保持具１９は反射部材１７も取り
付けている。

保持具１９は、光ファイバ１８の先端面である光照射部
１８ａから照射された光ｊ！２が円弧部１０ａの裏面に
よって遮断され、直線部１０ｂに対してはその外側から
ウェハＷの表面側に光ｌ、が通過するように、光照射部
１６の位置と方向とを定めて光ファイバ１８の端部を保
持している。

反射部材１７は、スピンチャック７に吸着された”　ウ
ェハＷの表面に対して平行な姿勢で、光照射部１８ａか
ら照射され直線部１０ｂの外側から表面側に通過した光
ｊ！ｚを直線部１０ｂの表面のレジスト部分に向けて反
射する位置に取り付けられている。

この直線部露光用の光照射手段１６はウェハＷの裏面側
に位置するもので、スピンチャック７の上昇時にはウェ
ハＷの周縁部１０に接触しないように横外側位置に退避
するように構成されている。すなわち、保持具１９はＹ
方向に沿って出退するエアシリンダ２０のピストンロッ
ド２０ａに取り付けられている。

また、光照射手段１６および反射部材１７は、ウェハＷ
のサイズ変更に対応するために、その位置がＹ方向に沿
って変更できるように構成されている。

すなわち、保持具１９の下板１９ａは複数のネジ２１に
よって、ピストンロッド２０ａの先端の取付板２２に取
り付けられるが、下板１９ａのネジ穴１９ｂがＹ方向に
沿って複数組形成されており、ネジ穴１９ｂの選択によ
って保持具１９の位置を変更できるように構成しである
。

次に、この実施例のウェハの周縁部露光装置の動作を説
明する。

第６図に示すモータ４の駆動によりウェハＷを載せたベ
ルト２を回転させてウェハＷを露光箇所Ｐに向けて搬送
する。ウェハＷが露光箇所Ｐに到達したときにベルト２
の回転が停止される。

次いで、エアシリンダ９が伸長してスピンチャック７が
ベルト２よりも上方まで上昇しベルト２上のウェハＷを
スピンチャック７上に受は取る。

そして、図示しないアライメント機構によってウェハＷ
の中心０がスピンチャック７の中心Ｏ′に位置合わせさ
れる。中心位置合わせが完了すると、スピンチャック７
において真空吸引が行われ、ウェハＷがスピンチャック
７に吸着される。

次いで、第１図に示すエアシリンダ２０が伸長し保持具
１９とともに直線部露光用の光照射手段１６と反射部材
１７とがウェハＷを上下から挟む所定の位置まで移動し
て停止する。そして、モータ８を駆動してスピンチャッ
ク７と一体的にウェハＷの回転を開始した後に、光源を
点灯して光ファイバ１２゜１８を介して光照射部１２ａ
、１８ａから光１１＋、ｌｔを照射する。

円弧部露光用の光照射部１２ａからの照射光２゜は、下
方に照射され、ウェハＷの表面のうち光照射部１２ａの
下に位置するレジスト部分を露光する。

その露光はウェハＷの回転に伴って円弧部１０ａに沿っ
て連続的に行われる。

なお、円弧部露光用の光照射部１２ａからの照射光１１
は直線部ｔａｂと円弧部１０ａとの境界付近にある直線
部１０ｂの一部分の表面をも露光する。

直線部露光用の光照射部１８ａは、ウェハＷの裏面側か
ら斜め内側上方に向けて光ｌ！を照射する。

光照射部１８ａの位置を円弧部１０ａが通過していると
きには、照射光１８は円弧部１０ａの裏面によって遮断
され、ウェハＷよりも上方には抜は出さない、光照射部
１８ａの位置を直線部１０ｂが通過するときには、照射
光ｊ！８は直線部１０ｂの外側から表面側に通過し、反
射部材１７によって反射されて直線部１０ｂの表面のレ
ジスト部分を露光する。

以下、直線部１０ｂの露光の詳しい状況を第３図および
第４図に基づいて説明する。

第３図の（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側面図である。この
第３図は直線部１０ｂの中央が光照射部１８ａの下に来
た瞬間を示す、この時を回転の基準位置θ−０°とする
。

基準位置θ−０°において、ウェハＷの表面相当高さ位
置を照射光が通過する領域Ｔｏ’　　（左下がりのハツ
チングを施した円の領域）には光照射部１８ａからの全
光束が通過する。この領域Ｔ０を通過した光が反射部材
１７によって反射されてウェハＷの直線部１０ｂの表面
を露光する領域をＥ、（右下がりのハツチングを施した
円の領域）とする。

後述する計算式を導出するための前提条件として、直線
部１０ｂの外縁直線り、を共通接線とする状態に領域Ｔ
０と領域Ｅ、が形成されるとする（ただし、この条件は
本発明を限定するものではない）。また、円弧部１０ａ
の外縁円弧り、の半径をＲ、ウェハＷの中心０から外縁
直線り、におろした垂線の長さをＨ１光照射部１８ａか
ら照射される光束のウェハＷ表面相当高さ位置での半径
をｒとすると、 ２ｒ＝Ｒ−Ｈ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・■が成立す
る。

第４図の（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側面図である。この
第４図はウェハＷが基準位置θ＝０°から角度θだけ回
転した瞬間を示す。

直線部１０ｂの外側の通過光束Ｎ域Ｔθは第３図の時の
通過光束領域Ｔ０に比べて外縁直線り、に対応する弦Ｇ
１で削られた形状となる。したがって、露光領域Ｅθも
第３図の時の露光領域Ｅ、に比べて弦Ｇ□で削られた形
状となる。

図に示した記号を用いて、弦Ｇ２と外縁直線Ｌ３との距
離Ｘθと、露光領域Ｅθと外縁直線り、との最短距離Ｄ
θとを求める。

Ｘａミ２ｒｃｏｓθ　・・・・旧・・・・・・１旧・・
・旧・・・旧・・■Ｄｏ　＝ｋｃｏｓ　ｅ−ｒ＝　（ｄ
＋ｒ）ｃｏｓ　ａ−ｒ＝　（２ｒ　−（Ｒ−３）　＋ｒ
）ｃｏｓ　ｅ−ｒ＝　（３ｒ−Ｒ＋Ｈ／ｃｏｓ　６　）
ｃｏｓ　ｅ−ｒこれに０式を代入して整理すると、 ＤＢ　−（Ｒ−３ｒ　）　　（１−ｃｏｓ　ｅ　）　　
−””■したがって、外縁直線り、から、Ｘθの位置に
ある点の軌跡ＰＸ％およびＤθの位置にある点の軌跡Ｐ
、は第５図に示すようになる。軌跡Ｐ、と軌跡Ｐ、とで
囲まれた領域Ａオが直線部露光用の光照射手段１６によ
る露光領域である。また、外縁円弧Ｌ１とこれと同心状
の円弧Ｌｔとで囲まれた領域ＡＩが円弧部露光用の光照
射手段１１による露光領域Ａ、である。

念のために、θ−＝＝＝０°の場合を調べると、Ｘ。

−２ｒであり、また、Ｄ０＝０となり、第３図と電数す
る。

θは一般的に±２５°程度である。θ＝２５°のとき、 ｃｏ３２５°＃０．９０６３であり、Ｘｔｓ’ｑ０．９
０６３Ｘ　２　ｒとなり、ｅ＝０°のときに比べて約９
％しか減らない、一方、Ｄθの軌跡Ｐ、は、θが大きく
なるにつれて次第に外縁直線り、から遠ざかり、Ｘθの
軌跡Ｐ、に近づく０例えば、Ｒ：　ｒ−１２８：　６と
すると、Ｘ＊ｓ′ｗｌＯ，８８、Ｄ＊ｓ’ｉ１０．３１
　となり、−Ｘ諺Ｓ−Ｄ□となる。

以上のように、直線部１０ｂにおいて、Ｄθの軌跡ｐｍ
と外縁直線り、との間に直線部露光用の光照射手段１６
によっては露光されない領域が存在するが、その領域は
円弧部露光用の光照射手段１１による露光領域Ａ、によ
ってカバーされる。

結局、直線部１０ｂにおいて、θ−０°の箇所の露光幅
はＸ、となり、θ−２５°の箇所の露光幅はＸいとなり
、雨露光幅Ｘ０とＸ□とはほぼ等しくなる０円弧部１０
ａの露光幅Ｕをθ−２５°における直線部１０ｂの露光
幅Ｘ□と等しくしておけば、円弧部１０ａの露光領域Ａ
、と直線部１０ｂの露光領域Ａｍとの境界部分に露光さ
れない部分は生じない。

また、前記の例では、θ＝２５°における露光幅ＸｔＳ
ひいては円弧部１０ａにおける露光幅Ｕに対してθ＝Ｏ
°における露光幅Ｘ、の増加率は、１＋０．９０６３ζ
１．１０３倍で、約１０％であり、この程度の増加率で
あれば円弧部と直線部とで露光幅が実用上はぼ同じであ
るとみなせる。

また、照射光２ｇを斜め下方から周縁部１０に照射する
ために、外縁円弧Ｌｌｓ外縁直線Ｌ３の箇所にレジスト
が垂れるように付着している場合でも、この垂れたレジ
ストをも露光によって除去することができる。

第７図および第８図は第１発明の別実施例を示し、第７
図はウェハの周縁部露光装置の一部破断の正面図、第８
図はその要部の側面図である。

これは、円弧部露光用の光照射手段１１と、直線部露光
用の光照射手段１６および反射部材１７とを共通の保持
具２３に保持させるとともに、これらを露光箇所Ｐと退
避箇所との間で往復させるのに、パルスモータ２４とポ
ールスクリュ２５とを使用したものである。

詳しくは、保持具２３にナツト部材２６を取り付け、こ
のナツト部材２６に保持されたボール（図示せず）に係
合するスクリュ軸２７と、このスクリュ軸２７を軸支す
る軸受２８と、パルスモータ２４の出力軸２４ａとスク
リュ軸２７とを結合するカップリング２９と、ナツト部
材２６の回転を規制した状態でナツト部材２６の出退移
動を案内するためにスクリュ軸２７と平行に設けられ、
ナツト部材２６を貫通するガイドロッド３０とから構成
されている。３１は光ファイバ１８を固定するためのバ
ンドである。この構成によれば、ウェハＷのサイズ変更
にも容易に対処できる。

第１図から第７７図に示す第１発明の実施例においては
、θ−０＠のとき、ウェハＷの直線部１０ｂの外縁直線
り、を共通接線とする状態に領域Ｔ。

と領域Ｅゆが形成され、直線部１０ｂへの露光用の光照
射手段１６から照射される光束のウェハ表面相当高さ位
置での半径ｒが、２ｒ＝Ｒ−Ｈの大きさであると条件設
定し、反射部材１７をウェハＷと平行に設置したが、例
えば、領域Ｅ、を形成する円弧が外縁直線り、より外側
へはみ出たり、領域Ｅ・の形状が真円ではなく楕円ある
いは矩形でも他の多角形でもよく、第１発明は、領域Ｔ
、や領域Ｅ。

の大きさや中心位置を上記条件に限定するものではなく
、光照射手段１１．１６の向きやその照射する光束の太
さやスポット形状、反射部材１７の向き等を適宜変更し
てもよい。

このように光照射手段１１．１６と反射部材１７とによ
って直線部検出手段と光照射位置変更手段を設ける必要
なしに所要の直線部露光を可能とする。

里ｌ光里生１隻■ 第９図はウェハの周縁部露光装置の概略構成図、第１０
図は要部の拡大側面図である。

この実施例は、円弧部１０ａに対する光照射手段と直線
部１０ｂに対する光照射手段とを共用化し、その共用の
光照射手段３２をウェハＷの裏面側に配置しであるとと
もに、これに対応してウェハＷの表面側に円弧部露光と
直線部露光とに共通の反射部材３３を配置している。

光照射手段３２は、図示しない光源から導出された光フ
ァイバ３４と、光ファイバ３４の端部を保持する保持具
３５とを備えている。保持具３５は反射部材３３も取り
付けている。

光ファイバ３４のウェハＷの高さ位置での径ｒ′は第１
発明の実施例における光ファイバ１８の径ｒの２倍とな
っている。

保持具３５は、光ファイバ３４の先端面である光照射部
３４ａからの照射光！、の一部である内側半分の光２゜
が円弧部１０ａの裏面によって遮断されるとともに、照
射光ｌ、の残りの一部である外側半分の光！、１が円弧
部１０ａの外側からウェハＷの表面側に通過するように
光照射部３４ａの位置と方向とを定めて光ファイバ３４
の端部を保持している。

反射部材３３は、スピンチャック７に吸着保持されたウ
ェハＷの表面に対して平行な姿勢で、円弧部１０ａの外
側から表面側に通過した外側半分の光ｌｓＩを円弧部１
０ａの表面のレジスト部分に向けて反射するとともに、
直線部ｔａｂの外側から表面側に通過した内側半分の光
！。を直線部ｔａｂの表面のレジスト部分に向けて反射
する位置に取り付けられている。

光照射手段３２および反射部材３３を横方向に出退させ
る機構については、第１発明の実施例（第１図）または
その別実施例（第７図）と同様である。

その他の構成についても同様であるので、対応または相
当する部分に同一符号を付すにとどめ、説明を省略する
。

次に、この実施例の動作を第１１図に基づいて説明する
。

第１１図（Ａ）は直線部ｔａｂの中央が光照射部３４ａ
の斜め直上に来た瞬間を示す、この時を回転の基準位置
θ＝０°とする。

基準位置θ−０°において、ウェハＷの表面相当高さ位
置を照射光１３が通過する領域Ｔ、′（左下がりのハツ
チングを施した円の領域）には光照射部３４ａからの全
光束が通過する。この領域Ｔ０′を通過した光が反射部
材３３によって反射されてウェハＷの直線部１０ｂの表
面を露光する領域をＥ、′　（右下がりのハツチングを
施した円の領域）とする。

条件として、外縁直線り、に対して領域Ｔ６’を形成す
る円弧が外接し、外縁円弧り、に対して領域Ｅｏ’を形
成する円弧が内接するとする。

θ＝０°の時の露光領域Ｅ、′は半円となり、その半円
の直線部分は外縁直線り、と一致する。

第１発明の実施例の場合と同様に、角度θが増加するに
つれて、直線部１０ｂの外側の通過光束領域Ｔθ′が外
縁直線り、または外縁直線Ｌ３と外縁円弧Ｌ１とで削ら
れる面積が増加する（第１１図の（Ｂ）〜（Ｅ）参照）
。

したがって、露光領域Ｅθ′が外縁直線り、に対応する
弦Ｇ２または弦Ｇ２と外縁円弧Ｌ１に対応する円弧Ｇ０
で削られる面積も増加する。すなわち、弦Ｇ２と外縁直
線り、との距離Ｘθ′は、光照射部３４ａからの光束の
ウェハＷの表面相当高さ位置での半径をｒ′として、 Ｘ＃””ｒ’ｃｏ！θｍ２ｒｃｏｓｅ＝・・畳”Φ・・
・■となる。

ただし、任意の角度θでの露光領域已θ′の外側の直線
部分は常に外縁直線り、と一致する。

円弧部１０ａが光照射部３４ａの斜め直上に位置してい
るときは、第１１図（Ｆ）に示すように、照射光１１の
うちの内側半分の光１２ｆｆｉは外縁円弧り。

で遮断され、外側半分の光ｌ□が通過する領域Ｔ′は欠
は月形となり、露光領域Ｅ′も通過領域Ｔ′と合同の欠
は月形となる。露光領域Ｅ′の外端は外縁円弧Ｌ１と一
致する。このような状態の露光が円弧部１０ａの全長範
囲にわたって同様に行われる。

結局、この実施例においても、第１発明の実施例の場合
と同様の軌跡の露光がウェハＷの周縁部ｌＯに対して行
われる。もちろん、円弧部１０ａの露光領域Ａ、と直線
部１０ｂの露光領域Ａ、との境界部分には露光されない
部分は生じない（第５図参照）。

第２発明は円弧部および直線部を反射部材からの反射光
にて露光するように構成したためウェハの中心とウェハ
の回転中心が一致しなくとも円弧部１０ａに対して外縁
円弧り、からウェハ中心方向へ均一な幅で露光が行われ
る。

その他の動作については、第１発明の実施例と同様であ
るので説明を省略する。

上記第２発明の実施例において、θ＝Ｏ°のとき、外縁
直線り、に対して領域Ｔ０′を形成する円弧が外接し、
外縁円弧り、に対して領域Ｅ、ｔを形成する円弧が内接
し、光照射手段３２から照射される光束のウェハ表面相
当高さ位置での半径ｒ′が、ｒ’−Ｒ−Ｈの大きさであ
ると条件設定し、反射部材３３をウェハＷと平行に設置
したが、例えば、θ−０°のとき領域Ｂ、ｔを形成する
円弧が外縁円弧り、より外へはみ出たり、その中心位置
が外縁直線り、外に位置してもよく、また、領域Ｅ・′
の形状が真円ではなく楕円あるいは矩形でも他の多角形
でもよく、第２発明は、領域Ｔ（１’や領域Ｅ０′の大
きさや中心位置を上記条件に限定するものではなく、光
照射手段３２の向きやその照射する光束の太さやスポッ
ト形状、反射部材３３の向き等を適宜変更してもよい。

１１允皿坐皇隻■ 第１２図はウェハの周縁部露光装置の概略構成図、第１
３図は要明の拡大側面図である。

この実施例も、円弧部１０ａに対する光照射手段と直線
部１０ｂに対する光照射手段とを共通化したものである
。

ウェハＷの表面側において円弧部１０ａの上部位置に、
円弧部１０ａの表面のレジスト部分に対して直接的に光
１１ａを照射する光照射手段３６が配置され、この光照
射手段３６の下においてウェハＷの裏面側に第１の反射
部材３７が配置され、ウェハＷの表面側において光照射
手段３６の内側箇所に第２の反射部材３８が配置されて
いる。光照射手段３６は、図示しない光源から導出され
た光ファイバ３９と、光ファイバ３９の端部を保持する
保持具４０とを備えている。

保持具４０は第１の反射部材３７および第２の反射部材
３８も取り付けている。光ファイバ３９の先端面である
光照射部３９ａはスピンチャック７に吸着されたウェハ
Ｗの表面に対して平行となっている。

光ファイバ３９の径ｒ″は第１発明の実施例における光
ファイバ１８の径ｒの２倍となっている。光照射部３９
ａの中心は外縁円弧り、の上部に位置している。

円弧部１０ａが光照射部３９ａの下にあるとき、照射光
ｉ４の内側半分の光２４８は円弧部１０ａの表面のレジ
スト部分に対して直接的に入射する。外側半分の光ｌ□
は円弧部１０ａの外側を裏側に抜け、第１の反射部材３
７に入射する。第１の反射部材３７は、反射した外側半
分の光１１４にのすべてが円弧部１０ａの裏面によって
遮断される角度で取り付けられている。

直線部１０ｂが光照射部３９ａの箇所に来たときは、外
側半分の光１４．も内側半分の光ｊ２４．も直線部１０
ｂの外側を裏側に抜け、第１の反射部材３７によって反
射される０反射された内側半分の光１４□のすべては直
線部１０ｂの裏面によって遮断される。

反射された外側半分の光ｊ！４１は直線部１０ｂの外側
を表面側に抜け、第２の反射部材３８によって反射され
る。第２の反射部材３８は、その外側半分の光！、ｌを
直線部１０ｂの表面のレジスト部分に向けて垂直に入射
するように反射させる角度で取り付けられている。その
角度は第１の反射部材３７の角度と同一であり、第１の
反射部材３７と第２の反射部材３８とは平行となってい
る。

光照射手段３６、第１の反射部材３７および第２の反射
部材３８を横方向に出退させる機構については、第１発
明の実施例（第１図）またはその別実施例（第７図）と
同様である。その他の構成についても同様であるので、
対応または相当する部分に同一符号を付すにとどめ、説
明を省略する。

次に、この実施例の動作を第１４図に基づいて説明する
。

第１４図（Ａ）は直線部１０ｂの中央が光照射部３９ａ
の斜め直上に来た瞬間を示す、この時を回転の基準位置
θ＝Ｏ°とする。

基準位置θ＝０°において、ウェハＷの表面相当高さ位
置を第１の反射部材３７から反射された外側半分の光２
４１が下から上に通過する領域は、左下がりのハツチン
グを施した半楕円（半円に非常に近い形状）の領域Ｔ、
″となる。半楕円となるのは、第１の反射部材３７が傾
斜しているためである。この領域Ｔ０″を通過した外側
半分の光１４Ｉが第２の反射部材３８によって反射され
てウェハＷの直線部１０ｂの表面のレジスト部分を露光
する領域は右下がりのハツチングを施した半円の領域Ｅ
０″となる。

条件として、外縁円弧り、に対して領域Ｔ０″を形成す
る半楕円が内接し、外縁直線り、に対して領域Ｅ０″を
形成する半円が内接するとする。

θ＝０°の時の露光領域Ｅ、″は半円となり、その半円
の弦Ｇ２は外縁直１ｓ　Ｌ　３とほぼ平行となる。第１
発明の実施例の場合と同様に、角度θが増加するにつれ
て、直線部１０ｂの外側の通過光束領域Ｔθ″が外縁直
線り、に対応する弦Ｇ、で削られる面積が増加する（第
１４図の（Ｂ）参照）。

したがって、露光領域Ｅθ″が弦Ｇ、で削られる面積も
増加する。すなわち、弦Ｇ８と外縁直線り、との距離Ｘ
θ″は、光照射部３９ａからの光束の半径をｒ″として
、 Ｘ　ｅ”＝ｒ″ｃｏｓ　θ−２ｒ　Ｃｏｇ　６　−−−
−、、　、、、１１＋ＩＩＩ■となり、直線部１０ｂの
露光領域Ａ８は第１４図（Ｃ）に示すようになる。

半円の露光領域Ｅθ″の外端と外縁直線Ｌ３との間に露
光されない領域が存在するのも第１発明の実施例の場合
と同様である。

円弧部１０ａが光照射部３９ａの斜め直上に位置してい
るときは、第１４図（Ｃ）に示すように、照射光１４の
うちの内側半分の光１４Ｎが円弧部１０ａの表面のレジ
スト部分に対して直接的に入射する。

外側半分の光１４Ｉは裏面側に抜けて第１の反射部材３
７によって反射されるが、その反射光は円弧部１０ａの
裏面によって遮断される。

以上のように、直線部１０ｂにおいて、第１の反射部材
３７および第２の反射部材３８からの反射光によっては
露光されない領域が存在するが、その領域は内側半分の
光ｔａｘによる露光領域Ａ、によってカバーされる。

結局、この実施例においても、第１発明の実施例の場合
と同様の軌跡の露光がウェハＷの周縁部１０に対して行
われる。もちろん、円弧部１０ａの露光領域Ａ＋　と直
線部１０ｂの露光領域Ａオとの境界部分には露光されな
い部分は生じない。

その他の動作については、第１発明の実施例と同様であ
るので説明を省略する。

第１２図から第１４図に示す第３発明の実施例は、θ＝
０°のとき、外縁円弧Ｌ１に対して領域Ｔ０″を形成す
る半楕円が内接し、外縁直線り。

に対して領域Ｅ０″を形成する半円が内接すると条件設
定し、第１の反射部材３７と第２の反射部材３８とを平
行に設置したが、第３発明は、領域Ｔ、″や領域Ｅ０″
の大きさや中心位置を上記条件に限定するものではなく
、光照射手段３６の向きやその照射する光束の太さ、ス
ポット形状、反射部材３７．３８の向き等を適宜変更し
てもよい。

また、第１〜第３発明において、光照射手段や反射部材
は必ずしも横方向に出退させること要しない。

〈発明の効果〉 ウェハの円弧部や直線部の位置を検出しなくとも、ウェ
ハを単に回転させることに伴って、円弧部には円弧状に
、直線部にはほぼ直線状に露光することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図から第６図は本第１発明の実施例に係り、第１図
はウェハの周縁部露光装置を示す一部破断の正面図、第
２図はその要部の平面図、第３図。 第４図は動作説明図であり、第３図の（Ａ）、第４図の
（Ａ）は平面図、第３図の（Ｂ）、第４図の（Ｂ）は側
面図、第５図は周縁部の露光領域を示す平面図、第６図
はウェハの周縁部露光装置の概略的な側面図で、その（
Ａ）はウェハ搬送中を示す図、（Ｂ）はウェハ吸着状態
を示す図である。 第７図および第８図は本第１発明の別実施例に係り、第
７図はウェハの周縁部露光装置の一部破断の正面図、第
８図は要部の側面図である。 第９図から第１１図は本第２発明の実施例に係り、第９
図はウェハの周縁部露光装置の正面図、第１０図はその
要部の拡大正面図、第１１図の（Ａ）〜（Ｆ）は動作説
明に供する平面図である。 第１２図から第１４図は本第３発明の実施例に係り、第
１２図はウェハの周縁部露光装置の正面図、第１３図は
その要部の拡大正面図、第１４図の（Ａ）〜（Ｃ）は動
作説明に供する平面図である。 Ｗ・・・ウェハ ６・・・ウェハ回転機構 １０・・・周縁部 １０ａ・・・円弧部 １０ｂ・・・直線部 １１・・・円弧部露光用の光照射手段 １６・・・直線部露光用の光照射手段 １７・・・反射部材 ３２・・・光照射手段 ３３・・・反射部材 、３６・・・光照射手段 ３７・・・第１の反射部材 ３８・・・第２の反射部材 １２、１８．３４．３９・・・光ファイバ１２ａ、１８
ａ・・・光照射部 ３４ａ、３９ａ・・・光照射部 ｌＩ””Ｉｌａ・・・照射光 出願人　大日本スクリーン製造株式会社代理人　弁理士
　　杉　　谷　　　勉 １５　　図 第６Ｂ！！ 第９図 第１０図 第１４図 （Ａ）　　　　　　　　ＣＢ） （Ｃ）

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）周縁部が円弧部と直線部とからなり表面にレジス
   トが塗布されたウェハを載置して回転するウェハ回転機
   構と、 前記円弧部の表面に対して光を照射する円弧部露光用の
   光照射手段と、 ウェハの裏面側に配置され、その照射光が前記円弧部に
   よって遮断され、前記直線部に対してはその外側から表
   面側に通過する方向に光を照射する直線部露光用の光照
   射手段と、 ウェハの表面側に配置され、前記直線部の外側から表面
   側に通過した光を前記直線部の表面に向けて反射する反
   射部材 とを備えたウェハの周縁部露光装置。
2. （２）周縁部が円弧部と直線部とからなり表面にレジス
   トが塗布されたウェハを載置して回転するウェハ回転機
   構と、 ウェハ回転機構に載置されたウェハの裏面側に配置され
   、その照射光の一部が前記円弧部によって遮断されると
   ともに残りの一部が円弧部の外側から表面側に通過する
   方向に光を照射する光照射手段と、 ウェハの表面側に配置され、前記円弧部の外側から表面
   側に通過した光を前記円弧部の表面に向けて反射すると
   ともに、前記直線部の外側から表面側に通過した光を直
   線部の表面に向けて反射する反射部材 とを備えたウェハの周縁部露光装置。
3. （３）周縁部が円弧部と直線部とからなり表面にレジス
   トが塗布されたウェハを載置して回転するウェハ回転機
   構と、 ウェハ回転機構に載置されたウェハの表面側において前
   記円弧部の上部位置に配置され、前記円弧部の表面に対
   して光を照射する光照射手段と、ウェハの裏面側におい
   て光照射手段における光照射部の下部に配置され、前記
   直線部が前記光照射部に対応したときにこの直線部の外
   側を通過した光照射手段からの光を直線部の外側から表
   面側に通過するように反射する第１の反射部材と、ウェ
   ハの表面側に配置され、第１の反射部材からの反射光を
   前記直線部の表面に向けて反射する第２の反射部材 とを備えたウェハの周縁部露光装置。