JP7312692B2 - エッジ露光装置およびエッジ露光方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板の周縁部を露光するエッジ露光装置およびエッジ露光方法に関する。

フォトリソグラフィを利用した半導体製造において露光処理により基板上に回路パターン等を形成するために、基板上に感光性のレジスト液が塗布される（レジスト塗布処理）。それにより、基板の上面全体および基板の外周端部を覆うようにレジスト膜が形成される。レジスト塗布処理後の基板の搬送時に、基板の外周端部および基板の周縁部を覆うレジスト膜の一部が基板搬送装置等に接触すると、そのレジスト膜の一部は、基板の表面から剥離し、パーティクルとして基板の周辺を浮遊する可能性がある。このようなパーティクルの発生等を防止するために、基板の外周端部および基板の周縁部を覆うレジスト膜の部分を除去する処理が行われる。

具体的には、基板の周縁部を覆うレジスト膜の部分を除去する処理は、例えばレジスト塗布処理後の基板を回転させつつ基板の周縁部に形成されたレジスト膜を露光（エッジ露光）した後、現像することにより行われる。

例えば、特許文献１に記載された周縁露光装置（エッジ露光装置）においては、レジスト塗布処理後の基板が、保持部により水平姿勢で保持され、鉛直方向に平行な軸の周りで回転する。次に、投光部から回転する基板の周縁部に向けて、そのレジスト膜を露光可能な光が出射される。基板の周縁部全体に光が照射されることにより、基板の周縁部に位置するレジスト膜の部分が選択的に露光される。

特開２０１５－２３１０１９号公報

特許文献１に記載された周縁露光装置において、レジスト膜を露光するための光（以下、露光光と呼ぶ。）は、水銀キセノンランプにより発生され、ライトガイドを通して投光部から出射される。水銀キセノンランプを非点灯状態から点灯状態に切り替えた直後では、発生される露光光のエネルギーが不安定である。露光光のエネルギーを安定化させるためには、始動時間が必要になる。そこで、上記の周縁露光装置では、エッジ露光前に、安定した露光光を発生するように水銀キセノンランプの点灯状態が維持される。エッジ露光時には、水銀キセノンランプとライトガイドとの間に設けられたシャッタの開状態および閉状態が切り換えられることにより、所定のタイミングで露光光が投光部から基板の周縁部に出射される。

ところで、水銀キセノンランプは使用時間の経過とともに出力が低下するため、使用可能な時間が制限されている。そのため、水銀キセノンランプが点灯状態で維持されかつ投光部から露光光が出射されない状態が長時間維持されると、水銀キセノンランプから発生される露光光の利用効率が低下する。また、水銀キセノンランプは高価である。したがって、一の水銀キセノンランプで処理可能な基板の枚数が少ないと、基板の製造コストが増大する。

本発明の目的は、基板の製造コストを低減することが可能なエッジ露光装置およびエッジ露光方法を提供することである。

（１）第１の発明に係るエッジ露光装置は、感光性膜が形成された複数の基板の周縁部をそれぞれ露光するエッジ露光装置であって、複数の基板をそれぞれ保持しつつ回転させることが可能に構成された複数の回転保持部と、露光光を出射する光出射部と、光出射部から出射される露光光が複数の回転保持部によりそれぞれ保持された複数の基板の周縁部に順次照射可能となるように、光出射部を移動させることにより複数の回転保持部と光出射部との間の相対的な位置関係を調整する相対位置調整部とを備える。

そのエッジ露光装置においては、複数の回転保持部によりそれぞれ保持された複数の基板の周縁部に、光出射部から出射される露光光を順次照射することが可能である。この場合、複数の回転保持部のうち一の回転保持部により保持された一の基板の周縁部を露光している間に、複数の回転保持部のうち他の回転保持部に他の基板を載置すること、または他の回転保持部から他の基板を取り出すことができる。あるいは、複数の回転保持部のうち一の回転保持部により保持された一の基板の周縁部を露光している間に、他の回転保持部に保持された他の基板について周縁部を露光するための準備を行うことができる。それにより、光源から発生される露光光の利用効率が向上する。その結果、基板の製造コストを低減することが可能になる。

（２）相対位置調整部は、複数の回転保持部により保持される複数の基板に垂直な一の方向に延びる旋回軸の周りで旋回可能に光出射部を支持する支持部と、光出射部を旋回軸の周りで旋回させる旋回駆動部とを含んでもよい。

この場合、光出射部を旋回させることにより、光出射部から出射される露光光を複数の回転保持部により保持される複数の基板にそれぞれ照射することができる。

（３）エッジ露光装置は、光出射部の旋回角度を変化させることにより複数の基板のうち露光光が照射されるべき基板を変更するとともに、露光光が照射されるべき基板について露光光が照射される基板周縁部の露光領域の幅を調整するように旋回駆動部を制御する制御部をさらに備えてもよい。

この場合、複数の回転保持部により保持される基板に対して光出射部を互いに交差する複数の方向にそれぞれ移動させるための複数の構成が不要となる。具体的には、一の方向に垂直な面内で、互いに直交する２方向に光出射部を移動させるための２つの駆動部をそれぞれ設ける必要がない。したがって、エッジ露光装置の構成が単純化する。

（４）一の方向視において複数の回転保持部により保持される複数の基板のうち少なくとも２つが部分的に重なるように、複数の回転保持部が設けられ、支持部は、光出射部をさらに一の方向に移動可能に光出射部を支持してもよい。

この場合、一の方向視において複数の回転保持部により保持される複数の基板のうち少なくとも２つが部分的に重なるので、一の方向視における複数の回転保持部により保持される複数の基板の占有スペースを小さくすることができる。また、上記の構成によれば、光出射部が一の方向に移動可能となっているので、複数の回転保持部によりそれぞれ保持される複数の基板の一の方向における位置に応じて光出射部の一の方向における位置を調整することができる。これらの結果、エッジ露光装置のコンパクト化を実現しつつ基板の周縁部の露光の精度低下を抑制することができる。

（５）エッジ露光装置は、複数の回転保持部の各々により回転される基板の回転中心に対する基板の中心の偏心量および偏心方向を含む偏心情報を検出する偏心検出部をさらに備え、制御部は、複数の基板のうち一の基板に対応する偏心情報に基づく一の基板の周縁部の露光期間と、複数の基板のうち他の基板に対応する偏心情報の検出期間とが少なくとも部分的に重なるように、偏心検出部、光出射部、複数の回転保持部および相対位置調整部を制御してもよい。

この場合、一の基板の周縁部の露光期間と他の基板に対応する偏心情報の検出期間とが少なくとも部分的に重なる。それにより、一の基板の周縁部の露光期間と他の基板に対応する偏心情報の検出期間とが全く重ならない場合に比べて、露光光の利用効率が向上する。

（６）制御部は、複数の回転保持部のうち一の回転保持部に保持された複数の基板のうち一の基板の周縁部の露光期間と、複数の基板のうち他の基板が複数の回転保持部のうち他の回転保持部に載置される搬入期間または他の基板を保持する他の回転保持部から他の基板が取り出される搬出期間とが少なくとも部分的に重なるように、光出射部、複数の回転保持部および相対位置調整部を制御してもよい。

この場合、一の基板の周縁部の露光期間と他の基板に対応する搬入期間または搬出期間とが少なくとも部分的に重なる。それにより、一の基板の周縁部の露光期間と他の基板に対応する搬入期間および搬出期間とが全く重ならない場合に比べて、露光光の利用効率が向上する。

（７）第２の発明に係るエッジ露光方法は、感光性膜が形成された複数の基板の周縁部をそれぞれ露光するエッジ露光方法であって、複数の回転保持部により複数の基板をそれぞれ保持しつつ回転させるステップと、光出射部から露光光を出射するステップと、光出射部から出射される露光光が複数の回転保持部によりそれぞれ保持された複数の基板の周縁部に順次照射可能となるように、光出射部を移動させることにより複数の回転保持部と光出射部との間の相対的な位置関係を調整するステップとを含む。

そのエッジ露光方法においては、複数の回転保持部によりそれぞれ保持された複数の基板の周縁部に、光出射部から出射される露光光を順次照射することが可能である。この場合、複数の回転保持部のうち一の回転保持部により保持された一の基板の周縁部を露光している間に、複数の回転保持部のうち他の回転保持部に他の基板を載置すること、または他の回転保持部から他の基板を取り出すことができる。あるいは、複数の回転保持部のうち一の回転保持部により保持された一の基板の周縁部を露光している間に、他の回転保持部に保持された他の基板について周縁部を露光するための準備を行うことができる。それにより、光源から発生される露光光の利用効率が向上する。その結果、基板の製造コストを低減することが可能になる。

（８）光出射部は、複数の回転保持部により保持される複数の基板に垂直な一の方向に延びる旋回軸の周りで旋回可能に支持され、複数の回転保持部と光出射部との間の相対的な位置関係を調整するステップは、光出射部を旋回軸の周りで旋回させるステップを含んでもよい。

この場合、光出射部を旋回させることにより、光出射部から出射される露光光を複数の回転保持部により保持される複数の基板にそれぞれ照射することができる。

（９）エッジ露光方法は、光出射部の旋回角度を変化させることにより複数の基板のうち露光光が照射されるべき基板を変更するとともに、露光光が照射されるべき基板について露光光が照射される基板周縁部の露光領域の幅を調整するステップをさらに含んでもよい。

この場合、複数の回転保持部により保持される基板に対して光出射部を互いに交差する複数の方向にそれぞれ移動させるための複数の構成が不要となる。具体的には、一の方向に垂直な面内で、互いに直交する２方向に光出射部を移動させるための２つの駆動部をそれぞれ設ける必要がない。したがって、エッジ露光装置の構成が単純化する。

本発明によれば、露光処理を伴う基板の製造に要するコストを低減することが可能になる。

本発明の一実施の形態に係るエッジ露光装置の構成を示す模式的斜視図である。 図１のエッジ露光装置の主要部の構成を示す平面図である。 図１のエッジ露光装置の主要部の構成を示す正面図である。 図１のエッジ露光装置における一連の動作を説明するための図である。 図１のエッジ露光装置を備える基板処理装置の一例を示す模式的ブロック図である。 他の実施の形態に係るエッジ露光装置の構成を説明するための平面図である。 さらに他の実施の形態に係るエッジ露光装置の構成を説明するための平面図である。 エッジ露光装置に取り付けられる２つの遮光部材のうち一方の遮光部材の一例を示す図である。 エッジ露光装置に取り付けられる２つの遮光部材のうち他方の遮光部材の一例を示す図である。 図８および図９の遮光部材が取り付けられたエッジ露光装置を用いて第１の回転保持部により保持される第１の基板にエッジ露光が行われる状態を示す模式的平面図である。 図１０の模式的平面図に対応するエッジ露光装置の模式的正面図である。 図８および図９の遮光部材が取り付けられたエッジ露光装置を用いて第２の回転保持部により保持される第２の基板にエッジ露光が行われる状態を示す模式的平面図である。 図１２の模式的平面図に対応するエッジ露光装置の模式的正面図である。

以下、本発明の実施の形態に係るエッジ露光装置およびエッジ露光方法について図面を参照しつつ説明する。以下の説明において、基板とは、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等をいう。

本発明の実施の形態に係るエッジ露光装置による処理対象の基板は、主面および裏面を有するとともに、少なくとも一部が円形の外周端部を有する。例えば、位置決め用のノッチを除く外周端部が円形を有する。その基板の主面および外周端部には感光性膜が形成されている。本実施の形態に係るエッジ露光装置は、感光性膜が形成された基板の周縁部に向けて感光性膜を露光可能な光（以下、露光光と呼ぶ。）を出射することにより、基板の周縁部に形成された感光性膜を露光する（エッジ露光）。基板の周縁部とは、基板の外周端部とその外周端部から所定距離内側の円との間の主面上の環状領域をいう。

［１］エッジ露光装置の構成
図１は本発明の一実施の形態に係るエッジ露光装置の構成を示す模式的斜視図であり、図２は図１のエッジ露光装置１の主要部の構成を示す平面図であり、図３は図１のエッジ露光装置１の主要部の構成を示す正面図である。図２および図３では、図１のエッジ露光装置１の複数の構成要素のうち一部の構成要素（後述する光源装置１０、制御部９０および筐体ＣＡ）の図示が省略されている。また、図３の正面図では、エッジ露光装置１の複数の構成要素の区別を容易にするために、エッジ露光装置１のうち一部の構成要素に特定のハッチングまたはドットパターンが付されている。

図１に示すように、エッジ露光装置１は直方体形状を有する筐体ＣＡを含む。図１では、筐体ＣＡの外形が二点鎖線で示される。図１～図３および後述する所定の図には、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向を示す矢印を付している。Ｘ方向およびＹ方向は水平面内で互いに直交し、Ｚ方向は鉛直方向に相当する。また、以下の説明では、必要に応じて、Ｘ方向の矢印が向く方向を前方と呼び、その逆方向を後方と呼ぶ。さらに、必要に応じて、Ｙ方向の矢印が向く方向を左方と呼び、その逆方向を右方と呼ぶ。

筐体ＣＡは、前面ｓ１、後面ｓ２、左側面ｓ３、右側面ｓ４、天面ｓ５および底面ｓ６を有する。筐体ＣＡ内部には、光源装置１０、光出射部２０、相対位置調整部３０、第１の回転保持部４０、ラインセンサ５０、第２の回転保持部６０およびラインセンサ７０が収容されている。また、エッジ露光装置１は、筐体ＣＡの内部または外部に制御部９０を有する。制御部９０は、例えばＣＰＵ（中央演算処理装置）およびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、光源装置１０、相対位置調整部３０、第１の回転保持部４０および第２の回転保持部６０の動作を制御する。

光源装置１０は、図１の吹き出し内に示すように、主として光源１１、リフレクタ１２、シャッタ１３およびシャッタ駆動部１４から構成され、ライトガイドＬＧを介して光出射部２０に接続されている。光源１１は、例えば高圧水銀キセノンランプであり、露光光を発生する。リフレクタ１２は、半球形状の反射面を有し、その反射面が光源１１を取り囲むように設けられている。光源装置１０においては、ライトガイドＬＧの一端部が光源１１およびリフレクタ１２に対向するように固定されている。それにより、光源１１から発生する露光光は、直接またはリフレクタ１２の反射面で反射されつつライトガイドＬＧの一端部に向かって進行する。

シャッタ１３は、光源１１およびリフレクタ１２からライトガイドＬＧの一端部に向かう露光光の進行を遮断する閉状態と、その露光光の進行を許容する開状態とに移行可能に設けられている。シャッタ駆動部１４は、例えばモータを含み、制御部９０の制御に基づいてシャッタ１３を閉状態と開状態との間で移行させる。これにより、光源１１が点灯しかつシャッタ１３が開状態にあるときに、露光光は光源装置１０からライトガイドＬＧを通して光出射部２０に導かれる。一方、光源１１が消灯しているときおよび光源１１が点灯しかつシャッタ１３が閉状態にあるときに、露光光は光出射部２０に導かれない。

光出射部２０は、鏡筒および図示しない１または複数のレンズを含む。光出射部２０の鏡筒には、ライトガイドＬＧの他端部が挿入されるとともに、１または複数のレンズが収容されている。このような構成により、光源装置１０からライトガイドＬＧに露光光が導かれる場合には、光出射部２０の鏡筒の内部でライトガイドＬＧの他端部から１または複数のレンズを通過した露光光が、その鏡筒の先端部に設けられた光出射口２９から出射される。

第１の回転保持部４０は、図２に示すように、スピンチャック４１、プーリ４２，４３、ベルト４４、モータ４５および回転軸４６を含む。スピンチャック４１は、基板Ｗの裏面中央部を吸着保持可能に構成され、図３に示すように、Ｚ方向に延びる回転軸４６の上端部に取り付けられている。回転軸４６の中央部にはプーリ４２が取り付けられている。回転軸４６の下端部は、底面ｓ６上に固定された軸支持部４７により回転軸４６の中心軸の周りで回転可能に支持されている。プーリ４３は、プーリ４２から左斜め後方の位置でモータ４５の回転軸４９上に取り付けられている。モータ４５は、プーリ４３の高さがＺ方向におけるプーリ４２の高さに一致するように、底面ｓ６上に固定されたモータ支持部４８により支持されている。プーリ４２，４３は、ベルト４４により接続されている。モータ４５は、図１の制御部９０の制御に基づいて回転する。この場合、モータ４５の回転力がプーリ４３、ベルト４４およびプーリ４２および回転軸４６を通してスピンチャック４１に伝達される。それにより、スピンチャック４１により水平姿勢で保持された基板Ｗが回転軸４６の周りで回転する。

第２の回転保持部６０は、図２に示すように、第１の回転保持部４０と基本的に同じ構成を有し、第１の回転保持部４０に対してＹ方向において離間するように配置されている。具体的には、第２の回転保持部６０は、スピンチャック６１、プーリ６２，６３、ベルト６４、モータ６５および回転軸６６を含む。スピンチャック６１は、平面視でスピンチャック４１に対してＹ方向に並ぶようにかつ正面視（側面視）でスピンチャック４１とは異なる高さに位置するように、Ｚ方向に延びる回転軸６６の上端部に取り付けられている。図３に示すように、本例では、スピンチャック６１の高さはスピンチャック４１の高さよりも低い。回転軸６６の中央部にはプーリ６２が取り付けられている。回転軸６６の下端部は、底面ｓ６上に固定された軸支持部６７により回転軸６６の中心軸の周りで回転可能に支持されている。プーリ６３は、プーリ６２から右斜め後方の位置で底面ｓ６上に固定されたモータ６５の回転軸６９に取り付けられている。プーリ６２，６３は、ベルト６４により接続されている。モータ６５は、図１の制御部９０の制御に基づいて回転する。それにより、スピンチャック４１により水平姿勢で保持された基板Ｗが回転軸６６の周りで回転する。

上記の構成によれば、平面視において２つのスピンチャック４１，６１間の距離によらず２つのモータ４５，６５間の距離を大きくすることができるので、２つのモータ４５，６５間の干渉が抑制される。そこで、本例の第１および第２の回転保持部４０，６０は、平面視において、一方のスピンチャック４１により保持される基板Ｗと他方のスピンチャック６１により保持される基板Ｗとが部分的に重なるように設けられている。この場合、平面視でスピンチャック４１，６１により保持される基板Ｗの占有スペースが低減される。

図１に示すように、筐体ＣＡの前面ｓ１には、筐体ＣＡの内部と筐体ＣＡの外部との間で基板Ｗを搬送するための２つの搬入搬出口ｏｐ１，ｏｐ２が形成されている。２つの搬入搬出口ｏｐ１，ｏｐ２は、第１の回転保持部４０および第２の回転保持部６０にそれぞれ対応する。搬入搬出口ｏｐ１は前面ｓ１のうちスピンチャック４１の前方に位置する部分に形成され、搬入搬出口ｏｐ２は前面ｓ１のうちスピンチャック６１の前方に位置する部分に形成されている。

相対位置調整部３０は、図２に示すように、旋回昇降駆動部３１、旋回軸３２、旋回アーム３３および鏡筒支持部３４を含む。旋回昇降駆動部３１は、平面視で第１の回転保持部４０のモータ４５と第２の回転保持部６０のモータ６５との間に位置するように図１の底面ｓ６上に固定されている。

図３に示すように、旋回昇降駆動部３１から上方に延びるように旋回軸３２が設けられている。旋回軸３２は、その中心軸の周りで回転可能かつＺ方向に昇降可能に旋回昇降駆動部３１により支持されている。旋回軸３２の上端部には、旋回軸３２の上端部から水平方向に延びるように旋回アーム３３が取り付けられている。旋回アーム３３の先端部に鏡筒支持部３４が設けられている。鏡筒支持部３４は、光出射部２０の鏡筒がＺ方向に延びかつ光出射部２０の光出射口２９が下方を向く状態で光出射部２０の鏡筒を支持する。このような構成により、光出射部２０は、鏡筒支持部３４に支持された状態で、図２に二点鎖線で示すように、平面視で旋回軸３２を中心とする仮想円上を旋回（swing）可能となっている。

相対位置調整部３０は、上記の仮想円が平面視で第１および第２の回転保持部４０，６０により保持される２枚の基板Ｗにそれぞれ部分的に重なるように構成されている。

旋回昇降駆動部３１は、旋回軸３２を回転させるための第１のアクチュエータ（モータ等）を含む。旋回昇降駆動部３１は、例えば図１の制御部９０による第１のアクチュエータの制御に基づいて旋回軸３２を回転させる。この場合、旋回アーム３３、鏡筒支持部３４および光出射部２０が、図１に太い点線の矢印ＡＡで示すように、旋回軸３２の周りで旋回する。

旋回昇降駆動部３１は、旋回軸３２を昇降させるための第２のアクチュエータ（モータまたはエアシリンダ等）をさらに含む。旋回昇降駆動部３１は、例えば図１の制御部９０による第２のアクチュエータの制御に基づいて旋回軸３２を昇降させる。この場合、旋回アーム３３、鏡筒支持部３４および光出射部２０が、図１に太い一点鎖線の矢印ＡＢで示すように、昇降する。

上記の構成により、旋回昇降駆動部３１は、図２および図３に実線で示すように、例えば光出射部２０の光出射口２９が第１の回転保持部４０により保持される基板Ｗの周縁部の一部に対向するように、光出射部２０を旋回させる。また、旋回昇降駆動部３１は、光出射部２０の光出射口２９と第１の回転保持部４０により保持される基板Ｗとの間のＺ方向の距離が予め定められた距離で維持されるように、光出射部２０を昇降させる。なお、光出射部２０の光出射口２９と基板Ｗとの間の距離は、例えば光出射部２０内に設けられるレンズの焦点距離等により定められる。

さらに、旋回昇降駆動部３１は、図２および図３に一点鎖線で示すように、例えば光出射部２０の光出射口２９が第２の回転保持部６０により保持される基板Ｗの周縁部の一部に対向するように、光出射部２０を旋回させる。また、旋回昇降駆動部３１は、光出射部２０の光出射口２９と第２の回転保持部６０により保持される基板Ｗとの間のＺ方向の距離が予め定められた距離で維持されるように、光出射部２０を昇降させる。

第１および第２の回転保持部４０，６０の各々においては、スピンチャック４１，６１上に保持される基板Ｗの中心は、必ずしもスピンチャック４１，６１の回転中心に一致するとは限らない。そこで、スピンチャック４１，６１上に保持される基板Ｗの偏心量および偏心方向を検出するために、ラインセンサ５０，７０が用いられる。以下の説明では、偏心量および偏心方向を示す情報を偏心情報と呼ぶ。

ラインセンサ５０，７０は、第１の回転保持部４０により回転される基板Ｗの外周端部の位置および第２の回転保持部６０により回転される基板Ｗの外周端部の位置をそれぞれ検出可能に設けられている。また、第１の回転保持部４０のモータ４５には、スピンチャック４１の回転角度を検出する図示しないエンコーダが内蔵されている。さらに、第２の回転保持部６０のモータ６５には、スピンチャック６１の回転角度を検出する図示しないエンコーダが内蔵されている。

第１の回転保持部４０により保持される基板Ｗの偏心情報の検出時には、スピンチャック４１上に基板Ｗが保持された状態で、基板Ｗが回転される。このとき、基板Ｗが微小角度回転するごとに、モータ４５のエンコーダにより基板Ｗの回転角度が検出されるとともにラインセンサ５０により基板Ｗの外周端部の位置が検出される。それにより、制御部９０は、モータ４５のエンコーダおよびラインセンサ５０の検出結果に基づいて、基板Ｗの外周端部の複数の部分にそれぞれ対応する基板Ｗの複数の回転角度を複数の偏心方向として決定する。また、制御部９０は、スピンチャック４１の回転中心から基板Ｗの外周端部の複数の部分までのそれぞれの距離を、複数の偏心方向にそれぞれ対応する複数の偏心量として算出する。このようにして、偏心情報が検出される。第２の回転保持部６０により保持される基板Ｗについても、第１の回転保持部４０により保持される基板Ｗと同様にして偏心情報が検出される。

偏心情報によれば、基板Ｗが有するノッチの位置を把握することができる。それにより、エッジ露光の開始時には、制御部９０が、偏心情報に基づいて第１の回転保持部４０および第２の回転保持部６０を制御することにより、処理対象の基板Ｗのノッチが予め定められた方向に向けられる。その後、エッジ露光中には、露光光が照射される基板Ｗの周縁部の露光領域の幅（基板Ｗの半径方向の幅）が予め定められた幅に一致するように、制御部９０が偏心情報に基づいて旋回昇降駆動部３１を制御する。このとき、光出射部２０は、基板Ｗの偏心量および基板Ｗの偏心方向に応じて、平面視で旋回軸３２を中心とする仮想円上を旋回する。

［２］エッジ露光装置の動作
本実施の形態に係るエッジ露光装置１においては、第１および第２の回転保持部４０，６０に対して１つの光出射部２０が相対位置調整部３０により共通に用いられる。そのため、光出射部２０は、エッジ露光装置１による複数の基板Ｗのエッジ露光時に、第１の回転保持部４０により保持される基板Ｗおよび第２の回転保持部６０により保持される基板Ｗの周縁部に向けて順次露光光を照射する。

複数の基板Ｗに対して複数のエッジ露光が順次行われる場合のエッジ露光装置１における一連の動作について説明する。図４は、図１のエッジ露光装置１における一連の動作を説明するための図である。図４の上段には、第１の回転保持部４０に関連する複数種類の動作内容がタイムチャートで示される。図４の中段には、第２の回転保持部６０に関連する複数種類の動作内容がタイムチャートで示される。図４の下段には、上段および中段のタイムチャートの時点ｔ１，ｔ２，ｔ３，ｔ４におけるエッジ露光装置１の状態が模式的平面図で示される。

さらに、図４の上段および中段のタイムチャートでは、各種動作に要する期間が互いに異なる態様を有する複数の帯により示される。具体的には、筐体ＣＡ内に基板Ｗが搬入されてからその基板Ｗが第１または第２の回転保持部４０，６０により保持されるまでの期間が、搬入期間として薄いハッチングの帯で示される。また、第１または第２の回転保持部４０，６０により保持される基板Ｗがスピンチャック４１，６１から取り外されてから筐体ＣＡ外に搬出されるまでの期間が、搬出期間として濃いハッチングの帯で示される。また、第１または第２の回転保持部４０，６０により保持される基板Ｗについてのエッジ露光に要する期間が、エッジ露光期間として薄いドットパターンの帯で示される。さらに、第１または第２の回転保持部４０，６０により保持される基板Ｗについての偏心情報の検出に要する期間が、偏心情報の検出期間として濃いドットパターンの帯で示される。

まず、時点ｔ０の初期状態で、エッジ露光装置１の筐体ＣＡ内には基板Ｗが存在しないものとする。また、初期状態で、図１の光源装置１０において、光源１１は点灯状態で維持されかつシャッタ１３は閉状態に維持されているものとする。さらに、初期状態で、相対位置調整部３０の鏡筒支持部３４は、第１および第２の回転保持部４０，６０から離間した待機位置で光出射部２０を支持しているものとする。なお、本例では、光出射部２０の待機位置は、筐体ＣＡの左側面ｓ３（図１）の近傍に設定されている。

時点ｔ０から一定時間経過することにより、筐体ＣＡ内に１番目の基板Ｗ（以下、図４の説明では第１の基板Ｗ１と呼ぶ。）が筐体ＣＡの外部に設けられる搬送装置（例えば、後述する図５の搬送装置２２０）により搬入される。第１の基板Ｗ１は、時点ｔ１の平面図に白抜きの矢印で示すように、第１の回転保持部４０のスピンチャック４１上に載置される。そこで、制御部９０は、第１の回転保持部４０を制御することにより、スピンチャック４１に第１の基板Ｗ１を吸着保持させる。

第１の回転保持部４０により第１の基板Ｗ１が保持されると、制御部９０は、時点ｔ２の平面図に太い実線の矢印で示すように、第１の回転保持部４０を制御することにより第１の基板Ｗ１を回転させる。そこで、制御部９０は、モータ４５（図２）のエンコーダおよびラインセンサ５０の検出結果に基づいて、第１の基板Ｗ１についての偏心情報を検出する。

第１の基板Ｗ１についての偏心情報の検出期間中に、筐体ＣＡ内に２番目の基板Ｗ（以下、図４の説明では第２の基板Ｗ２と呼ぶ。）が筐体ＣＡの外部に設けられる搬送装置（例えば、後述する図５の搬送装置２２０）により搬入される。第２の基板Ｗ２は、時点ｔ２の平面図に白抜きの矢印で示すように、第２の回転保持部６０のスピンチャック６１上に載置される。そこで、制御部９０は、第２の回転保持部６０を制御することにより、スピンチャック６１に第２の基板Ｗ２を吸着保持させる。時点ｔ２では、第１の基板Ｗ１についての偏心情報の検出期間と第２の基板Ｗ２についての搬入期間とが重複している。

第１の基板Ｗ１について偏心情報が検出されると、制御部９０は、時点ｔ３の平面図に太い点線の矢印で示すように、相対位置調整部３０を制御することにより光出射部２０を旋回および昇降させる。それにより、光出射部２０が待機位置から第１の基板Ｗ１の周縁部の上方の位置まで移動するとともに、光出射部２０と第１の基板Ｗ１との間の距離が予め定められた距離に調整される。続いて、制御部９０は、第１の回転保持部４０および図１の光源装置１０のシャッタ駆動部１４を制御することにより、第１の基板Ｗ１を回転させるとともに、光出射部２０から露光光を出射させる。この状態で、制御部９０は、第１の基板Ｗ１について検出された偏心情報に基づいて相対位置調整部３０を制御することにより、第１の基板Ｗ１の周縁部の露光領域の幅が予め定められた幅に一致するように光出射部２０を旋回させる。このようにして、第１の基板Ｗ１についてのエッジ露光が行われる。

第２の回転保持部６０により第２の基板Ｗ２が保持されると、制御部９０は、時点ｔ３の平面図に太い一点鎖線の矢印で示すように、第２の回転保持部６０を制御することにより第２の基板Ｗ２を回転させる。そこで、制御部９０は、モータ６５（図２）のエンコーダおよびラインセンサ７０の検出結果に基づいて、第２の基板Ｗ２についての偏心情報を検出する。時点ｔ３では、第１の基板Ｗ１についての偏心情報の検出期間と第２の基板Ｗ２についての搬入期間とが重複している。

第１の基板Ｗ１についてエッジ露光が終了すると、制御部９０は、図１の光源装置１０のシャッタ駆動部１４を制御することにより光出射部２０による露光光の出射を停止させる。また、制御部９０は、時点ｔ４の平面図に太い点線の矢印で示すように、相対位置調整部３０を制御することにより光出射部２０を旋回および昇降させる。それにより、光出射部２０が待機位置から第２の基板Ｗ２の周縁部の上方の位置まで移動するとともに、光出射部２０と第２の基板Ｗ２との間の距離が予め定められた距離に調整される。この状態で、第１の基板Ｗ１は、時点ｔ４の平面図に白抜きの矢印で示すように、筐体ＣＡの外部に設けられる搬送装置（例えば、後述する図５の搬送装置２２０）により第１の回転保持部４０から取り出され、筐体ＣＡの外部に搬出される。

第２の基板Ｗ２について偏心情報が検出されると、制御部９０は、第２の回転保持部６０および図１の光源装置１０のシャッタ駆動部１４を制御することにより、第２の基板Ｗ２を回転させるとともに、光出射部２０から露光光を出射させる。この状態で、制御部９０は、第１の基板Ｗ１について検出された偏心情報に基づいて相対位置調整部３０を制御することにより、第１の基板Ｗ１の周縁部の露光領域の幅が予め定められた幅に一致するように光出射部２０を旋回させる。このようにして、第２の基板Ｗ２についてのエッジ露光が行われる。時点ｔ４では、第１の基板Ｗ１についての搬出期間と第２の基板Ｗ２についてのエッジ露光期間とが重複している。

その後、第２の基板Ｗ２について周縁部の露光が終了すると、制御部９０は、図１の光源装置１０のシャッタ駆動部１４を制御することにより光出射部２０による露光光の出射を停止させる。また、制御部９０は、相対位置調整部３０を制御することにより光出射部２０を旋回および昇降させる。それにより、光出射部２０を待機位置へ戻す。

［３］効果
（１）図４の例に示すように、エッジ露光装置１においては、第１の回転保持部４０に関して繰り返される一連の動作と、第２の回転保持部６０に関して繰り返される一連の動作とは、互いに異なるタイミングで並行して行われる。

それにより、第１および第２の回転保持部４０，６０のうち一方の基板保持部により保持される基板Ｗについてのエッジ露光期間と、他方の基板保持部により保持される基板Ｗについての偏心情報の検出期間とが少なくとも部分的に重なる。すなわち、一方の基板保持部により保持された一の基板Ｗの周縁部を露光している間に、他方の基板保持部に保持された他の基板Ｗについて周縁部を露光するための準備を行うことができる。

また、第１および第２の回転保持部４０，６０のうち一方の基板保持部により保持される基板Ｗについてのエッジ露光期間と、他方の基板保持部により保持される基板Ｗについての搬出期間とが少なくとも部分的に重なる。すなわち、一方の基板保持部により保持された一の基板Ｗの周縁部を露光している間に、他方の基板保持部により保持された他の基板Ｗを筐体ＣＡの外部に取り出すことができる。

それにより、一の基板Ｗについてのエッジ露光期間が他の基板Ｗについての偏心情報の検出期間および搬出期間に全く重ならない場合に比べて光源１１から発生される露光光の利用効率が向上する。その結果、光源１１として高価な高圧水銀キセノンランプ等が用いられる場合であっても、基板Ｗの製造コストを低減することが可能になる。

なお、エッジ露光装置１においては、一方の基板保持部により保持される基板Ｗについてのエッジ露光期間と、他方の基板保持部により保持される基板Ｗについての搬入期間とが少なくとも部分的に重なるように各構成要素が制御されてもよい。この場合、一方の基板保持部により保持された一の基板Ｗの周縁部を露光している間に、他方の基板保持部のスピンチャック上に他の基板Ｗを載置することができる。それにより、上記の例と同様の効果を得ることができる。

（２）相対位置調整部３０は、旋回軸３２、旋回アーム３３および鏡筒支持部３４により光出射部２０を旋回軸３２の周りで旋回させる。それにより、旋回アーム３３および鏡筒支持部３４の旋回角度を変化させることにより、第１および第２の回転保持部４０，６０にそれぞれ保持される２枚の基板Ｗのうち露光光が照射されるべき基板Ｗが変更される。また、露光光が照射されるべき基板Ｗ（エッジ露光の対象となる基板Ｗ）について露光光が照射される基板Ｗの周縁部の露光領域の幅が調整される。

この場合、第１および第２の回転保持部４０，６０により保持される２枚の基板Ｗに対して、水平面内で光出射部２０を互いに交差する複数の方向にそれぞれ移動させるための複数の駆動装置が不要となる。具体的には、互いに直交する２方向（例えば、Ｘ方向およびＹ方向）に光出射部２０を移動させるための２つの駆動部をそれぞれエッジ露光装置１に設ける必要がない。したがって、エッジ露光装置１の構成が単純化する。

（３）上記のエッジ露光装置１においては、平面視において第１および第２の回転保持部４０，６０により保持される２枚の基板Ｗが部分的に重なるように、第１および第２の回転保持部４０，６０が設けられている。この場合、平面視における２枚の基板Ｗの占有スペースを小さくすることができるので、エッジ露光装置１のコンパクト化が実現される。

また、上記の構成においては、相対位置調整部３０は、光出射部２０を昇降可能に支持する。それにより、第１および第２の回転保持部４０，６０により保持される２枚の基板Ｗの高さに応じて、光出射部２０の高さが調整される。したがって、基板Ｗのエッジ露光の精度低下を抑制することができる。

［４］図１のエッジ露光装置１を備える基板処理装置
図５は、図１のエッジ露光装置１を備える基板処理装置の一例を示す模式的ブロック図である。図５に示すように、基板処理装置２００は、露光装置３００に隣接して設けられ、制御装置２１０、搬送装置２２０、塗布処理部２３０、現像処理部２４０および熱処理部２５０を備える。

制御装置２１０は、例えばＣＰＵおよびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、搬送装置２２０、塗布処理部２３０、現像処理部２４０および熱処理部２５０の動作を制御する。搬送装置２２０は、基板Ｗを、塗布処理部２３０、現像処理部２４０、熱処理部２５０および露光装置３００の間で搬送する。

塗布処理部２３０は、未処理の基板Ｗの主面上に感光性膜を形成する（塗布処理）。感光性膜が形成された塗布処理後の基板Ｗには、露光装置３００において回路パターン等を形成するための露光処理が行われる。現像処理部２４０は、露光処理後の基板Ｗに現像液を供給し、基板Ｗの現像処理を行う。熱処理部２５０は、基本的に塗布処理部２３０による塗布処理、現像処理部２４０による現像処理、および露光装置３００による露光処理の前後に基板Ｗの熱処理を行う。

また、熱処理部２５０は、図１のエッジ露光装置１を１または複数（本例では２つ）含む。熱処理部２５０の各エッジ露光装置１は、塗布処理部２３０において感光性膜が形成されかつ露光装置３００において露光処理が行われる前の基板Ｗにエッジ露光を行う。なお、各エッジ露光装置１の複数の構成要素の動作は、図１の制御部９０に代えて制御装置２１０により制御されてもよい。

図５の基板処理装置２００においては、図１のエッジ露光装置１により基板Ｗのエッジ露光が行われる。それにより、各エッジ露光装置１において光源１１から発生される露光光の利用効率が向上する。その結果、基板Ｗの製造コストを低減することが可能になる。

［５］他の実施の形態
（１）上記実施の形態に係るエッジ露光装置１においては、第１の回転保持部４０により保持される基板Ｗと第２の回転保持部６０により保持される基板Ｗとが平面視で部分的に重なるが、本発明はこれに限定されない。

図６は、他の実施の形態に係るエッジ露光装置１の構成を説明するための平面図である。図６の第１および第２の回転保持部４０，６０は、一方の回転保持部により保持される基板Ｗと他方の回転保持部により保持される基板Ｗとが平面視で互いに離間するように配置される。

この場合、第１および第２の回転保持部４０，６０の２つのスピンチャック４１，６１間の距離を大きくすることができる。それにより、２つのスピンチャック４１，６１の直下にスピンチャック４１，６１をそれぞれ回転させる２つのモータ４５，６５が配置される場合でも、２つのモータ４５，６５間の干渉が抑制される。したがって、スピンチャック４１，６１をモータ４５，６５の回転軸４９，６９（図２）にそれぞれ直接取り付けることができるので、第１および第２の回転保持部４０，６０の構成が単純化する。

また、図６の構成によれば、第１および第２の回転保持部４０，６０によりそれぞれ保持される２枚の基板Ｗの高さを同一の高さに設定することができる。それにより、相対位置調整部３０により保持される光出射部２０の高さを一定の高さに維持することができる。この場合、相対位置調整部３０に旋回軸３２を昇降させるための第２のアクチュエータを設ける必要がないので、相対位置調整部３０の構成が単純化する。

（２）上記実施の形態に係るエッジ露光装置１は、第１および第２の回転保持部４０，６０により２枚の基板Ｗを同時に保持することが可能に構成されるが、本発明はこれに限定されない。エッジ露光装置１は、３枚または４枚以上の基板Ｗを同時に保持可能に構成されてもよい。

図７は、さらに他の実施の形態に係るエッジ露光装置１の構成を説明するための平面図である。図７のエッジ露光装置１は、図６の第１および第２の回転保持部４０，６０の構成に加えて、第３の回転保持部１１０とラインセンサ１２０とを備える。ラインセンサ１２０は、第３の回転保持部１１０に保持される基板Ｗについて偏心情報を検出するために用いられる。図７の第１～第３の回転保持部４０，６０，１１０は、３つの第１～第３の回転保持部４０，６０，１１０により保持される３枚の基板Ｗが平面視で互いに離間するように配置される。

図７の構成によれば、３つの回転保持部により保持される３枚の基板Ｗのエッジ露光が、順次連続的に行われることにより、露光光の光源１１から発生される露光光の利用効率がさらに向上する。

（３）上記実施の形態に係るエッジ露光装置１においては、光出射部２０の光出射口２９と基板Ｗとの間の距離を調整するために、光出射部２０が相対位置調整部３０により昇降されるが本発明はこれに限定されない。例えば、光出射部２０は、鏡筒内にズームレンズを有してもよい。この場合、処理対象となる基板Ｗの高さに応じて光出射部２０内に設けられるズームレンズの焦点距離を調整することにより、基板Ｗのエッジ露光の精度低下を抑制することができる。

（４）上記実施の形態に係るエッジ露光装置１においては、相対位置調整部３０が光出射部２０を旋回軸３２の周りで旋回させることにより基板Ｗの周縁部に対する光出射部２０の位置が調整されるが、本発明はこれに限定されない。

例えば、相対位置調整部３０は、光出射部２０を旋回させる上記実施の形態に係る構成に代えて、Ｘ方向に光出射部２０を移動させるためのアクチュエータと、Ｙ方向に光出射部２０を移動させるためのアクチュエータとを有してもよい。この場合、基板Ｗのエッジ露光が行われる際には、光出射部２０がＸ方向およびＹ方向に移動する。

（５）上記実施の形態に係るエッジ露光装置１においては、第１および第２の回転保持部４０，６０に対して光出射部２０が旋回するが、本発明はこれに限定されない。エッジ露光装置１においては、光出射部２０が固定された状態で第１および第２の回転保持部４０，６０が移動されることにより、第１および第２の回転保持部４０，６０により保持される２枚の基板Ｗに共通に光出射部２０が用いられてもよい。この場合、平面視で第１および第２の回転保持部４０，６０により保持された２枚の基板Ｗが予め定められた露光位置を通るように、第１および第２の回転保持部４０，６０が移動する。

（６）上記実施の形態に係るエッジ露光装置１においては、第１および第２の回転保持部４０，６０により２枚の基板Ｗが保持された状態で、２枚の基板Ｗのうち一方の基板Ｗのエッジ露光を行うことができる。このエッジ露光時に、光出射部２０から出射される露光光の一部が他方の基板Ｗに入射すると、他方の基板Ｗの誤った領域が露光される。このような、基板Ｗ上の意図しない領域の露光が行われることを防止するために、図１のエッジ露光装置１には、以下に示す遮光部材が設けられてもよい。

図８および図９は、エッジ露光装置１に取り付けられる２つの遮光部材の一例を示す図である。図８に２つの遮光部材のうち一方の遮光部材１３０が示され、図９に２つの遮光部材のうち他方の遮光部材１４０が示される。遮光部材１３０は、図８に示すように、扇形状を有する遮光性の板部材であり、相対位置調整部３０の旋回軸３２に取り付けられる。遮光部材１３０には、光出射部２０の光出射口２９に対応する貫通孔１３１が形成されている。遮光部材１４０は、図９に示すように、矩形状を有しかつ基板Ｗよりも大きい遮光性の板部材である。遮光部材１４０には、略矩形の開口１４１が形成されている。

以下、図１０～図１４の説明では、図４の説明と同様に、第１の回転保持部４０により保持される基板Ｗを第１の基板Ｗ１と呼び、第２の回転保持部６０により保持される基板Ｗを第２の基板Ｗ２と呼ぶ。

図１０は図８および図９の遮光部材１３０，１４０が取り付けられたエッジ露光装置１を用いて第１の回転保持部４０により保持される第１の基板Ｗ１にエッジ露光が行われる状態を示す模式的平面図である。図１１は図１０の模式的平面図に対応するエッジ露光装置１の模式的正面図である。図１０および図１１では、エッジ露光装置１のうち遮光部材１３０，１４０の機能を説明するために必要な一部の構成要素のみが示される。

遮光部材１３０は、図１１に示すように、第２の回転保持部６０のスピンチャック６１よりも上方かつ第１の回転保持部４０のスピンチャック４１よりも下方の位置で、セレーション構造により旋回軸３２に取り付けられている。すなわち、遮光部材１３０は、Ｚ方向におけるスピンチャック４１，６１の間で旋回軸３２に対して軸方向に移動自在に支持されるとともに、旋回軸３２の周りの回転方向において旋回軸３２に固定されている。また、遮光部材１３０は、光出射部２０の鏡筒の中心軸上に貫通孔１３１が位置するように、旋回軸３２に取り付けられている。

一方、遮光部材１４０は、Ｚ方向におけるスピンチャック４１の上方かつ遮光部材１３０の下方の位置でスピンチャック６１により保持される第２の基板Ｗ２を上方から覆うように筐体ＣＡ内に固定されている。さらに、遮光部材１４０の開口１４１は、図１０に示すように、平面視で光出射部２０が旋回可能な仮想円（図１０の二点鎖線）に重なるとともに、第２の回転保持部６０により保持される第２の基板Ｗ２の周縁部に重なるように位置決めされている。

上記の構成によれば、第１の基板Ｗ１のエッジ露光時には、第２の回転保持部６０により保持される第２の基板Ｗ２の上面全体が遮光部材１３０および遮光部材１４０により覆われる。それにより、光出射部２０から出射される露光光が、仮に第１の回転保持部４０により保持される基板Ｗから外れる場合でも、第２の回転保持部６０により保持される第２の基板Ｗ２が露光されることが防止される。

図１２は図８および図９の遮光部材１３０，１４０が取り付けられたエッジ露光装置１を用いて第２の回転保持部６０により保持される第２の基板Ｗ２にエッジ露光が行われる状態を示す模式的平面図である。図１３は図１２の模式的平面図に対応するエッジ露光装置１の模式的正面図である。図１２および図１３では、図１０および図１１の例と同様に、エッジ露光装置１のうち遮光部材１３０，１４０の機能を説明するために必要な一部の構成要素のみが示される。

図１２に示すように、第１の基板Ｗ１のエッジ露光後でかつ第２の基板Ｗ２のエッジ露光が開始される前には、第２の基板Ｗ２の周縁部の上方の位置に向かって光出射部２０が旋回することに伴って遮光部材１３０も旋回する。それにより、平面視で光出射部２０の中心軸と、遮光部材１３０の貫通孔１３１と遮光部材１４０の開口１４１とが重なる。したがって、光出射部２０から出射される露光光は、遮光部材１３０の貫通孔１３１および遮光部材１４０の開口１４１を通して第２の基板Ｗ２の周縁部に照射される。このとき、光出射部２０の光出射口２９は、図１３に示すように、第１の基板Ｗ１よりも下方に位置する。それにより、第１の基板Ｗ１が露光されることが防止される。

なお、エッジ露光装置１には、上記の遮光部材１３０，１４０のうちいずれか一方の遮光部材のみが設けられてもよい。この場合においても、第１および第２の基板Ｗ１，Ｗ２のうち一方の基板のエッジ露光時に、他方の基板の誤った領域が露光されることが低減される。

［６］請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明する。上記実施の形態では、エッジ露光装置１がエッジ露光装置の例であり、第１の回転保持部４０、第２の回転保持部６０および第３の回転保持部１１０が複数の回転保持部の例であり、光出射部２０が光出射部の例であり、相対位置調整部３０が相対位置調整部の例であり、旋回軸３２が旋回軸の例であり、旋回アーム３３および鏡筒支持部３４が支持部の例であり、旋回昇降駆動部３１が旋回駆動部の例であり、制御部９０が制御部の例である。また、モータ４５，６５および第３の回転保持部１１０が備える図示しないモータ、ラインセンサ５０，７０，１２０ならびに制御部９０が偏心情報検出部の例である。さらに、上記実施の形態に係るエッジ露光装置１におけるＺ方向は一の方向の例であり、平面視は一の方向視の例である。

請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
［７］参考形態
第１の参考形態に係るエッジ露光装置は、感光性膜が形成された複数の基板の周縁部をそれぞれ露光するエッジ露光装置であって、複数の基板をそれぞれ保持しつつ回転させることが可能に構成された複数の回転保持部と、露光光を出射する光出射部と、光出射部から出射される露光光が複数の回転保持部によりそれぞれ保持された複数の基板の周縁部に順次照射可能となるように、複数の回転保持部と光出射部との間の相対的な位置関係を調整する相対位置調整部とを備える。
第２の参考形態に係るエッジ露光方法は、感光性膜が形成された複数の基板の周縁部をそれぞれ露光するエッジ露光方法であって、複数の回転保持部により複数の基板をそれぞれ保持しつつ回転させるステップと、光出射部から露光光を出射するステップと、光出射部から出射される露光光が複数の回転保持部によりそれぞれ保持された複数の基板の周縁部に順次照射可能となるように、複数の回転保持部と光出射部との間の相対的な位置関係を調整するステップとを含む。

１…エッジ露光装置，１０…光源装置，１１…光源，１２…リフレクタ，１３…シャッタ，１４…シャッタ駆動部，２０…光出射部，２９…光出射口，３０…相対位置調整部，３１…旋回昇降駆動部，３２…旋回軸，３３…旋回アーム，３４…鏡筒支持部，４０…第１の回転保持部，４１，６１…スピンチャック，４２，４３，６２，６３…プーリ，４４，６４…ベルト，４５，６５…モータ，４６，４９，６６，６９…回転軸，４７…軸支持部，４８…モータ支持部，５０，７０，１２０…ラインセンサ，６０…第２の回転保持部，９０…制御部，１１０…第３の回転保持部，１３０，１４０…遮光部材，１３１…貫通孔，１４１…開口，２００…基板処理装置，２１０…制御装置，２２０…搬送装置，２３０…塗布処理部，２４０…現像処理部，２５０…熱処理部，３００…露光装置，ＣＡ…筐体，ＬＧ…ライトガイド，ｏｐ１…搬入搬出口，ｏｐ２…搬入搬出口，ｓ１…前面，ｓ２…後面，ｓ３…左側面，ｓ４…右側面，ｓ５…天面，ｓ６…底面

Claims (9)

1. 感光性膜が形成された複数の基板の周縁部をそれぞれ露光するエッジ露光装置であって、
   前記複数の基板をそれぞれ保持しつつ回転させることが可能に構成された複数の回転保持部と、
   露光光を出射する光出射部と、
   前記光出射部から出射される露光光が前記複数の回転保持部によりそれぞれ保持された複数の基板の周縁部に順次照射可能となるように、前記光出射部を移動させることにより前記複数の回転保持部と前記光出射部との間の相対的な位置関係を調整する相対位置調整部とを備える、エッジ露光装置。
2. 前記相対位置調整部は、
   前記複数の回転保持部により保持される前記複数の基板に垂直な一の方向に延びる旋回軸の周りで旋回可能に前記光出射部を支持する支持部と、
   前記光出射部を前記旋回軸の周りで旋回させる旋回駆動部とを含む、請求項１記載のエッジ露光装置。
3. 前記光出射部の旋回角度を変化させることにより前記複数の基板のうち露光光が照射されるべき基板を変更するとともに、前記露光光が照射されるべき基板について露光光が照射される基板周縁部の露光領域の幅を調整するように前記旋回駆動部を制御する制御部をさらに備える、請求項２記載のエッジ露光装置。
4. 前記一の方向視において前記複数の回転保持部により保持される前記複数の基板のうち少なくとも２つが部分的に重なるように、前記複数の回転保持部が設けられ、
   前記支持部は、前記光出射部をさらに一の方向に移動可能に前記光出射部を支持する、請求項３記載のエッジ露光装置。
5. 前記複数の回転保持部の各々により回転される基板の回転中心に対する基板の中心の偏心量および偏心方向を含む偏心情報を検出する偏心検出部をさらに備え、
   前記制御部は、前記複数の基板のうち一の基板に対応する偏心情報に基づく前記一の基板の周縁部の露光期間と、前記複数の基板のうち他の基板に対応する偏心情報の検出期間とが少なくとも部分的に重なるように、前記偏心検出部、前記光出射部、前記複数の回転保持部および前記相対位置調整部を制御する、請求項３または４記載のエッジ露光装置。
6. 前記制御部は、前記複数の回転保持部のうち一の回転保持部に保持された前記複数の基板のうち一の基板の周縁部の露光期間と、前記複数の基板のうち他の基板が前記複数の回転保持部のうち他の回転保持部に載置される搬入期間または前記他の基板を保持する前記他の回転保持部から前記他の基板が取り出される搬出期間とが少なくとも部分的に重なるように、前記光出射部、前記複数の回転保持部および前記相対位置調整部を制御する、請求項３または４記載のエッジ露光装置。
7. 感光性膜が形成された複数の基板の周縁部をそれぞれ露光するエッジ露光方法であって、
   複数の回転保持部により前記複数の基板をそれぞれ保持しつつ回転させるステップと、
   光出射部から露光光を出射するステップと、
   前記光出射部から出射される露光光が前記複数の回転保持部によりそれぞれ保持された複数の基板の周縁部に順次照射可能となるように、前記光出射部を移動させることにより前記複数の回転保持部と前記光出射部との間の相対的な位置関係を調整するステップとを含む、エッジ露光方法。
8. 前記光出射部は、前記複数の回転保持部により保持される前記複数の基板に垂直な一の方向に延びる旋回軸の周りで旋回可能に支持され、
   前記複数の回転保持部と前記光出射部との間の相対的な位置関係を調整するステップは、
   前記光出射部を前記旋回軸の周りで旋回させるステップを含む、請求項７記載のエッジ露光方法。
9. 前記光出射部の旋回角度を変化させることにより前記複数の基板のうち露光光が照射されるべき基板を変更するとともに、前記露光光が照射されるべき基板について露光光が照射される基板周縁部の露光領域の幅を調整するステップをさらに含む、請求項８記載のエッジ露光方法。
   

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