JPH0612756B2 - ウエハの周辺部露光装置 - Google Patents
ウエハの周辺部露光装置Info
- Publication number
- JPH0612756B2 JPH0612756B2 JP1109291A JP10929189A JPH0612756B2 JP H0612756 B2 JPH0612756 B2 JP H0612756B2 JP 1109291 A JP1109291 A JP 1109291A JP 10929189 A JP10929189 A JP 10929189A JP H0612756 B2 JPH0612756 B2 JP H0612756B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- exposure
- rotation angle
- light irradiation
- linear portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、周辺部が円弧部と直線部（オリエンテーショ
ンフラット）とからなっている半導体ウエハ，セラミッ
クスウエハ等において、その表面に塗布されているレジ
ストのうち周辺部のレジストを露光によって除去するウ
エハの周辺部露光装置に関する。
ンフラット）とからなっている半導体ウエハ，セラミッ
クスウエハ等において、その表面に塗布されているレジ
ストのうち周辺部のレジストを露光によって除去するウ
エハの周辺部露光装置に関する。
〈従来の技術〉 近年、半導体ウエハ、セラミックスウエハ等において、
その表面に塗布するレジストとしてポジ用のものを使用
することが多い。この場合、所要のパターン露光を行う
前（または後）に、ウエハの周辺部を露光することによ
りウエハ周辺部のレジストを除去することが行われてい
る。
その表面に塗布するレジストとしてポジ用のものを使用
することが多い。この場合、所要のパターン露光を行う
前（または後）に、ウエハの周辺部を露光することによ
りウエハ周辺部のレジストを除去することが行われてい
る。
単一の光照射手段をウエハの中心から所要距離の位置に
固定的に設置し、ウエハを回転させながら露光するので
は、円弧部の周辺部（以下、円弧部と称する）は露光で
きても、ウエハ中心からの距離が円弧部よりも短い直線
部の周辺部（以下、直線部と称する）では照射光がウエ
ハの外側を通過するので、直線部を露光することができ
ない。
固定的に設置し、ウエハを回転させながら露光するので
は、円弧部の周辺部（以下、円弧部と称する）は露光で
きても、ウエハ中心からの距離が円弧部よりも短い直線
部の周辺部（以下、直線部と称する）では照射光がウエ
ハの外側を通過するので、直線部を露光することができ
ない。
そこで、従来では、ウエハと相似的でウエハと同期回転
する板カムを設け、光照射手段に取り付けたカムフォロ
ワを板カムに沿って倣い運動させることにより、直線部
を円弧部とほぼ同じ幅で露光させるように工夫したり
（板カム方式）、あるいは、ウエハ端部（円弧部と直線
部との境界部）を機械的または光学的に検出する手段を
設けるとともに、ウエハ端部を検出して露光箇所が円弧
部から直線部に移った段階から、光照射手段をその照射
位置が直線部に沿うように、ウエハ中心から光照射手段
までの距離を調整しながらウエハを回転させることによ
り、直線部を円弧部とほぼ同じ幅で露光させるように工
夫していた（端部検出方式）。
する板カムを設け、光照射手段に取り付けたカムフォロ
ワを板カムに沿って倣い運動させることにより、直線部
を円弧部とほぼ同じ幅で露光させるように工夫したり
（板カム方式）、あるいは、ウエハ端部（円弧部と直線
部との境界部）を機械的または光学的に検出する手段を
設けるとともに、ウエハ端部を検出して露光箇所が円弧
部から直線部に移った段階から、光照射手段をその照射
位置が直線部に沿うように、ウエハ中心から光照射手段
までの距離を調整しながらウエハを回転させることによ
り、直線部を円弧部とほぼ同じ幅で露光させるように工
夫していた（端部検出方式）。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、これらの従来方式の基本的な考え方は、一定速
度でのウエハの連続回転中に円弧部も直線部も露光し、
かつ、円弧部の露光幅と直線部の露光幅とを同じにしよ
うとするものであり、このために却って、次のような不
都合を招来していた。
度でのウエハの連続回転中に円弧部も直線部も露光し、
かつ、円弧部の露光幅と直線部の露光幅とを同じにしよ
うとするものであり、このために却って、次のような不
都合を招来していた。
第６図に示すように、ウエハ端部Ｗｅを光照射手段が
（相対的に）回り込むときに、ウエハ端部Ｗｅの角張っ
た形状のために、ウエハ端部Ｗｅの近傍における露光幅
Ｌ１が他の部分の露光幅Ｌ０よりも小さくなる。これ
は、ウエハ直線部Ｗｓにおいてより強く現れ、直線部Ｗ
ｓ自体における直線状の、すなわち同一幅の露光ができ
ない。
（相対的に）回り込むときに、ウエハ端部Ｗｅの角張っ
た形状のために、ウエハ端部Ｗｅの近傍における露光幅
Ｌ１が他の部分の露光幅Ｌ０よりも小さくなる。これ
は、ウエハ直線部Ｗｓにおいてより強く現れ、直線部Ｗ
ｓ自体における直線状の、すなわち同一幅の露光ができ
ない。
前記と同じ理由によるが、第７図に示すように、光
照射手段Ｍｖがウエハ端部Ｗｅを回り込むときに、同一
時間内において、内側での露光長さｌ１と外側での露光
長さｌ２とが大きく相違し（ｌ１＜ｌ２）、また、幅方
向での各点の露光長さが互いにまちまちであるので、同
一時間内での単位面積当たりの露光量にバラツキが生
じ、均一な露光ができない。
照射手段Ｍｖがウエハ端部Ｗｅを回り込むときに、同一
時間内において、内側での露光長さｌ１と外側での露光
長さｌ２とが大きく相違し（ｌ１＜ｌ２）、また、幅方
向での各点の露光長さが互いにまちまちであるので、同
一時間内での単位面積当たりの露光量にバラツキが生
じ、均一な露光ができない。
ウエハＷの表面に対するレジストの塗布がスピン法に
よって行われているため、第８図に示すように、直線部
Ｗｓの両端のうちウエハ回転方向の上手側の端部領域に
レジストが集積しやすく、この領域がレジストの厚膜領
域Ｗａ（ハッチング参照）となっているが、ウエハＷを
一定速度で回転しながら露光しているので、この厚膜領
域Ｗａのレジスト除去が充分に行われない。
よって行われているため、第８図に示すように、直線部
Ｗｓの両端のうちウエハ回転方向の上手側の端部領域に
レジストが集積しやすく、この領域がレジストの厚膜領
域Ｗａ（ハッチング参照）となっているが、ウエハＷを
一定速度で回転しながら露光しているので、この厚膜領
域Ｗａのレジスト除去が充分に行われない。
厚膜領域Ｗａのレジスト除去を確実に行うために、ウエ
ハの回転速度を充分に遅くして露光光量を確保すると、
全体的な処理速度の低下のためにスループットが悪化す
る。
ハの回転速度を充分に遅くして露光光量を確保すると、
全体的な処理速度の低下のためにスループットが悪化す
る。
上記で説明した厚膜領域Ｗａの幅は、均一な露光幅
Ｌ０よりも大きくなるのが普通であるが、露光幅を一定
としているために、厚膜領域Ｗａの全域を露光すること
が要望される場合に、厚膜領域Ｗａの一部がほとんど除
去されないで残ってしまい、その要望に応えることが困
難である。
Ｌ０よりも大きくなるのが普通であるが、露光幅を一定
としているために、厚膜領域Ｗａの全域を露光すること
が要望される場合に、厚膜領域Ｗａの一部がほとんど除
去されないで残ってしまい、その要望に応えることが困
難である。
大サイズのチップの場合には、第９図で示すように、
ステップ露光によるパターン領域Ｐが直線部Ｗｓからか
なり離れている。二点鎖線で示すようにレジストはでき
るだけ広く除去したいが、円弧部Ｗｃと同一幅だとレジ
ストが残存する面積が大きくなり過ぎる。
ステップ露光によるパターン領域Ｐが直線部Ｗｓからか
なり離れている。二点鎖線で示すようにレジストはでき
るだけ広く除去したいが、円弧部Ｗｃと同一幅だとレジ
ストが残存する面積が大きくなり過ぎる。
後工程においてウエハを取り扱う際に、第10図に示す
ようにウエハＷの要所をクランプ爪ｋでつかむが、その
クランプを安定したものとするため、クランプ領域Ｗｋ
を均一な露光幅Ｌ０よりも大きくする。このクランプ領
域Ｗｋのレジストが除去されないままであると、クラン
プ爪ｋでつかんだときにレジストが剥離し、ウエハＷの
パターン上に付着したり装置を汚染したりする。
ようにウエハＷの要所をクランプ爪ｋでつかむが、その
クランプを安定したものとするため、クランプ領域Ｗｋ
を均一な露光幅Ｌ０よりも大きくする。このクランプ領
域Ｗｋのレジストが除去されないままであると、クラン
プ爪ｋでつかんだときにレジストが剥離し、ウエハＷの
パターン上に付着したり装置を汚染したりする。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、一定速度でのウエハの連続回転中に円弧部も直線部
も露光し、かつ、円弧部の露光幅と直線部の露光幅とを
同じにすることを基本的考え方としていたことが原因で
招いていた上述のような不都合を解消することを目的と
する。
て、一定速度でのウエハの連続回転中に円弧部も直線部
も露光し、かつ、円弧部の露光幅と直線部の露光幅とを
同じにすることを基本的考え方としていたことが原因で
招いていた上述のような不都合を解消することを目的と
する。
〈課題を解決するための手段〉 本発明は、このような目的を達成するために、次のよう
な構成をとる。
な構成をとる。
［Ｉ−Ａ］本発明に係る第１のウエハの周辺部露光装置
は、 周辺部が円弧部と直線部とからなるウエハを回転する回
転手段と、 ウエハの周辺部を露光する光照射手段と、 ウエハ直線部を検出する直線部検出用ラインセンサと、 前記直線部検出用ラインセンサによるウエハ直線部の検
出に基づいて現在のウエハの回転角度情報を求める回転
角度演算手段と、 前記光照射手段を前記回転手段の回転中心に対して相対
的に接近離間させる半径方向変位手段と、 前記光照射手段を前記半径方向変位手段の変位方向に対
して直角な方向に沿って回転手段に対して相対的に変位
させる接線方向変位手段と、 円弧部露光幅と直線部露光幅とを独立して設定する露光
幅設定手段と、 前記回転角度演算手段による回転角度情報がウエハ直線
部の露光開始を示しているときには、前記回転手段の停
止状態で、前記露光幅設定手段における直線部露光幅に
基づいて前記半径方向変位手段を駆動して光照射手段の
ウエハ直線部に対する位置決めを行った後、接線方向変
位手段を駆動して光照射手段をウエハ直線部に沿って相
対的に直線的に変位させ、また、前記回転角度情報がウ
エハ円弧部の露光開始を示しているときには、接線方向
変位手段の所定位置での停止状態で、前記露光幅設定手
段における円弧部露光幅に基づいて前記半径方向変位手
段を駆動して光照射手段のウエハ円弧部に対する位置決
めを行った後、回転手段を駆動して光照射手段に対しウ
エハを回転させるように、前記回転手段、半径方向変位
手段および接線方向変位手段を制御する制御手段 とを備えたことを特徴とするものである。
は、 周辺部が円弧部と直線部とからなるウエハを回転する回
転手段と、 ウエハの周辺部を露光する光照射手段と、 ウエハ直線部を検出する直線部検出用ラインセンサと、 前記直線部検出用ラインセンサによるウエハ直線部の検
出に基づいて現在のウエハの回転角度情報を求める回転
角度演算手段と、 前記光照射手段を前記回転手段の回転中心に対して相対
的に接近離間させる半径方向変位手段と、 前記光照射手段を前記半径方向変位手段の変位方向に対
して直角な方向に沿って回転手段に対して相対的に変位
させる接線方向変位手段と、 円弧部露光幅と直線部露光幅とを独立して設定する露光
幅設定手段と、 前記回転角度演算手段による回転角度情報がウエハ直線
部の露光開始を示しているときには、前記回転手段の停
止状態で、前記露光幅設定手段における直線部露光幅に
基づいて前記半径方向変位手段を駆動して光照射手段の
ウエハ直線部に対する位置決めを行った後、接線方向変
位手段を駆動して光照射手段をウエハ直線部に沿って相
対的に直線的に変位させ、また、前記回転角度情報がウ
エハ円弧部の露光開始を示しているときには、接線方向
変位手段の所定位置での停止状態で、前記露光幅設定手
段における円弧部露光幅に基づいて前記半径方向変位手
段を駆動して光照射手段のウエハ円弧部に対する位置決
めを行った後、回転手段を駆動して光照射手段に対しウ
エハを回転させるように、前記回転手段、半径方向変位
手段および接線方向変位手段を制御する制御手段 とを備えたことを特徴とするものである。
この構成における注記として、次の(a)〜(c)が挙げられ
る。
る。
(a)半径方向変位手段は、光照射手段の方を回転手段に
対して変位させるものでもよいし、回転手段の方を光照
射手段に対して変位させるものでもよい。
対して変位させるものでもよいし、回転手段の方を光照
射手段に対して変位させるものでもよい。
(b)接線方向変位手段は、光照射手段の方を回転手段に
対して変位させるものでもよいし、回転手段の方を光照
射手段に対して変位させるものでもよい。
対して変位させるものでもよいし、回転手段の方を光照
射手段に対して変位させるものでもよい。
(c)制御手段は、ウエハ直線部に対する露光制御を行っ
た後にウエハ円弧部に対する露光制御を行うものでもよ
いし、その逆の順で制御を行うものでもよい。
た後にウエハ円弧部に対する露光制御を行うものでもよ
いし、その逆の順で制御を行うものでもよい。
［II-A］本発明に係る第２のウエハの周辺部露光装置
は、 周辺部が円弧部と直線部とからなるウエハを回転する回
転手段と、 ウエハの周辺部を露光する光照射手段と、 ウエハ直線部を検出する直線部検出用ラインセンサと、 前記直線部検出用ラインセンサによるウエハ直線部の検
出に基づいて現在のウエハの回転角度情報を求める回転
角度演算手段と、 前記光照射手段を前記回転手段の回転中心に対して相対
的に接近離間させる半径方向変位手段と、 回転角度に応じた露光幅を設定する露光幅設定手段と、 前記回転角度演算手段による回転角度情報に基づいて前
記露光幅設定手段からそのときの回転角度に応じた露光
幅を読み出し、その読み出した設定露光幅に基づいて前
記半径方向変位手段を駆動して光照射手段のウエハ周辺
部に対する位置の調整を行う制御手段 とを備えたことを特徴とするものである。
は、 周辺部が円弧部と直線部とからなるウエハを回転する回
転手段と、 ウエハの周辺部を露光する光照射手段と、 ウエハ直線部を検出する直線部検出用ラインセンサと、 前記直線部検出用ラインセンサによるウエハ直線部の検
出に基づいて現在のウエハの回転角度情報を求める回転
角度演算手段と、 前記光照射手段を前記回転手段の回転中心に対して相対
的に接近離間させる半径方向変位手段と、 回転角度に応じた露光幅を設定する露光幅設定手段と、 前記回転角度演算手段による回転角度情報に基づいて前
記露光幅設定手段からそのときの回転角度に応じた露光
幅を読み出し、その読み出した設定露光幅に基づいて前
記半径方向変位手段を駆動して光照射手段のウエハ周辺
部に対する位置の調整を行う制御手段 とを備えたことを特徴とするものである。
この構成における注記として、次の(d)，(e)が挙げられ
る。
る。
(d)半径方向変位手段は、光照射手段の方を回転手段に
対して変位させるものでもよいし、回転手段の方を光照
射手段に対して変位させるものでもよい。
対して変位させるものでもよいし、回転手段の方を光照
射手段に対して変位させるものでもよい。
(e)制御手段は、回転角度に応じた設定露光幅に基づく
光照射手段の位置調整を、ウエハ円弧部に対して行うも
のでもよいし、ウエハ直線部に対して行うものでもよい
し、あるいはその両方に対して行うものであってもよ
い。
光照射手段の位置調整を、ウエハ円弧部に対して行うも
のでもよいし、ウエハ直線部に対して行うものでもよい
し、あるいはその両方に対して行うものであってもよ
い。
［III-A］本発明に係る第３のウエハの周辺部露光装置
は、 周辺部が円弧部と直線部とからなるウエハを回転する回
転手段と、 ウエハの周辺部を露光する光照射手段と、 ウエハ直線部を検出する直線部検出用ラインセンサと、 前記直線部検出用ラインセンサによるウエハ直線部の検
出に基づいて現在のウエハの回転角度情報を求める回転
角度演算手段と、 前記光照射手段を前記回転手段の回転中心に対して相対
的に接近離間させる半径方向変位手段と、 前記光照射手段を前記半径方向変位手段の変位方向に対
して直角な方向に沿って回転手段に対して相対的に変位
させる接線方向変位手段と、 前記接線方向変位手段の変位方向における前記光照射手
段に対する現在のウエハの位置情報を求める位置情報演
算手段と、 円弧部露光量を回転角度に応じて設定するとともに、直
線部露光量を前記接線方向変位手段の変位方向における
前記光照射手段に対するウエハの位置に応じて設定する
露光量設定手段と、 前記回転角度演算手段による回転角度情報がウエハ直線
部の露光開始を示しているときには、前記回転手段の停
止状態で、前記回転角度情報に基づいて前記半径方向変
位手段を駆動して光照射手段のウエハ直線部に対する位
置決めを行った後、前記接線方向変位手段を駆動して前
記光照射手段をウエハ直線部に沿って相対的に直線的に
変位させてウエハ直線部の露光を行なう際、前記位置情
報に基づいて前記露光量設定手段からそのときの位置に
応じた露光量を読み出し、その読み出した設定露光量に
基づいてウエハ直線部に対する前記光照射手段からの露
光量を調整しながらウエハ直線部の露光を行ない、ま
た、前記回転角度情報がウエハ円弧部の露光開始を示し
ているときには、前記接線方向変位手段の所定位置での
停止状態で、前記回転角度情報に基づいて前記半径方向
変位手段を駆動して光照射手段のウエハ円弧部に対する
位置決めを行った後、前記回転手段を駆動して前記光照
射手段に対しウエハを回転させてウエハ円弧部の露光を
行なう際、前記回転角度情報に基づいて前記露光量設定
手段からそのときの回転角度に応じた露光量を読み出
し、その読み出した設定露光量に基づいてウエハ円弧部
に対する前記光照射手段からの露光量を調整しながらウ
エハ円弧部の露光を行なうように制御する制御手段 とを備えたことを特徴とするものである。
は、 周辺部が円弧部と直線部とからなるウエハを回転する回
転手段と、 ウエハの周辺部を露光する光照射手段と、 ウエハ直線部を検出する直線部検出用ラインセンサと、 前記直線部検出用ラインセンサによるウエハ直線部の検
出に基づいて現在のウエハの回転角度情報を求める回転
角度演算手段と、 前記光照射手段を前記回転手段の回転中心に対して相対
的に接近離間させる半径方向変位手段と、 前記光照射手段を前記半径方向変位手段の変位方向に対
して直角な方向に沿って回転手段に対して相対的に変位
させる接線方向変位手段と、 前記接線方向変位手段の変位方向における前記光照射手
段に対する現在のウエハの位置情報を求める位置情報演
算手段と、 円弧部露光量を回転角度に応じて設定するとともに、直
線部露光量を前記接線方向変位手段の変位方向における
前記光照射手段に対するウエハの位置に応じて設定する
露光量設定手段と、 前記回転角度演算手段による回転角度情報がウエハ直線
部の露光開始を示しているときには、前記回転手段の停
止状態で、前記回転角度情報に基づいて前記半径方向変
位手段を駆動して光照射手段のウエハ直線部に対する位
置決めを行った後、前記接線方向変位手段を駆動して前
記光照射手段をウエハ直線部に沿って相対的に直線的に
変位させてウエハ直線部の露光を行なう際、前記位置情
報に基づいて前記露光量設定手段からそのときの位置に
応じた露光量を読み出し、その読み出した設定露光量に
基づいてウエハ直線部に対する前記光照射手段からの露
光量を調整しながらウエハ直線部の露光を行ない、ま
た、前記回転角度情報がウエハ円弧部の露光開始を示し
ているときには、前記接線方向変位手段の所定位置での
停止状態で、前記回転角度情報に基づいて前記半径方向
変位手段を駆動して光照射手段のウエハ円弧部に対する
位置決めを行った後、前記回転手段を駆動して前記光照
射手段に対しウエハを回転させてウエハ円弧部の露光を
行なう際、前記回転角度情報に基づいて前記露光量設定
手段からそのときの回転角度に応じた露光量を読み出
し、その読み出した設定露光量に基づいてウエハ円弧部
に対する前記光照射手段からの露光量を調整しながらウ
エハ円弧部の露光を行なうように制御する制御手段 とを備えたことを特徴とするものである。
この構成における注記として、次の(f)〜(j)が挙げられ
る。
る。
(f)半径方向変位手段は、光照射手段の方を回転手段に
対して変位させるものでもよいし、回転手段の方を光照
射手段に対して変位させるものでもよい。
対して変位させるものでもよいし、回転手段の方を光照
射手段に対して変位させるものでもよい。
(g)接線方向変位手段は、光照射手段の方を回転手段に
対して変位させるものでもよいし、回転手段の方を光照
射手段に対して変位させるものでもよい。
対して変位させるものでもよいし、回転手段の方を光照
射手段に対して変位させるものでもよい。
(h)制御手段は、ウエハ直線部に対する露光制御を行っ
た後にウエハ円弧部に対する露光制御を行うものでもよ
いし、その逆の順で制御を行うものでもよい。
た後にウエハ円弧部に対する露光制御を行うものでもよ
いし、その逆の順で制御を行うものでもよい。
(i)制御手段は、回転角度に応じた設定露光量に基づく
光照射手段の露光調整を、ウエハ円弧部に対して行うも
のでもよいし、ウエハ直線部に対して行うものでもよい
し、あるいはその両方に対して行うものであってもよ
い。
光照射手段の露光調整を、ウエハ円弧部に対して行うも
のでもよいし、ウエハ直線部に対して行うものでもよい
し、あるいはその両方に対して行うものであってもよ
い。
(j)制御手段は、露光量の調整を、回転手段の回転速度
の制御をもって行うものでもよいし、回転速度は一定と
して設定露光量の多い角度位置に対する露光回数を多く
するのでもよい。
の制御をもって行うものでもよいし、回転速度は一定と
して設定露光量の多い角度位置に対する露光回数を多く
するのでもよい。
〈作用〉 ［Ｉ−Ｂ］第１のウエハの周辺部露光装置の作用 ウエハ直線部を露光するときには、回転手段（ウエハ）
の停止状態において、接線方向変位手段の駆動により光
照射手段をウエハ直線部に沿って直線的に変位させるか
ら、その露光幅は直線部の全長にわたって同一となる。
さらに、ウエハ直線部は、円弧部露光幅とは独立して設
定された直線部露光幅において露光されることになる。
の停止状態において、接線方向変位手段の駆動により光
照射手段をウエハ直線部に沿って直線的に変位させるか
ら、その露光幅は直線部の全長にわたって同一となる。
さらに、ウエハ直線部は、円弧部露光幅とは独立して設
定された直線部露光幅において露光されることになる。
［II-B］第２のウエハの周辺部露光装置の作用 回転角度情報に基づきそのときの回転角度に応じた設定
露光幅に従って半径方向変位手段を駆動して光照射手段
のウエハ周辺部に対する位置調整を行うから、回転角度
ごとに露光幅を可変とすることが可能となる。
露光幅に従って半径方向変位手段を駆動して光照射手段
のウエハ周辺部に対する位置調整を行うから、回転角度
ごとに露光幅を可変とすることが可能となる。
［III-B］第３のウエハの周辺部露光装置の作用 ウエハ直線部を露光するときには、回転手段（ウエハ）
の停止状態において、接線方向変位手段の駆動により光
照射手段をウエハ直線部に沿って直線的に変位させるか
ら、その露光幅は直線部の全長にわたって同一となる。
さらに、直線部の露光の際には、位置情報に基づきその
位置に応じた設定露光量に従って光照射手段からの直線
部に対する露光量の調整を行ない、また、円弧部の露光
の際には、回転角度情報に基づきそのときの回転角度に
応じた設定露光量に従って光照射手段からの円弧部に対
する露光量の調整を行なうから、ウエハ周辺部の露光量
を部分的に可変とすることが可能となる。
の停止状態において、接線方向変位手段の駆動により光
照射手段をウエハ直線部に沿って直線的に変位させるか
ら、その露光幅は直線部の全長にわたって同一となる。
さらに、直線部の露光の際には、位置情報に基づきその
位置に応じた設定露光量に従って光照射手段からの直線
部に対する露光量の調整を行ない、また、円弧部の露光
の際には、回転角度情報に基づきそのときの回転角度に
応じた設定露光量に従って光照射手段からの円弧部に対
する露光量の調整を行なうから、ウエハ周辺部の露光量
を部分的に可変とすることが可能となる。
〈実施例〉 まず、ウエハの周辺部露光装置の機械的・光学的な構造
について、第１図の斜視図を参照して説明する。
について、第１図の斜視図を参照して説明する。
ウエハＷを吸着保持して水平回転させるためのスピンチ
ャック１の回転軸が第１のモータＭ１に連結されてい
る。スピンチャック１と第１のモータＭ１とが発明の構
成にいう回転手段Ｍθに相当する。
ャック１の回転軸が第１のモータＭ１に連結されてい
る。スピンチャック１と第１のモータＭ１とが発明の構
成にいう回転手段Ｍθに相当する。
光源部は、水銀キセノンランプ２，楕円鏡３，紫外線透
過フィルタ４，シャッタ５等から構成され、フィルタ４
を通過した紫外線を光ファイバ６によってその照射端６
ａまで導くように構成してある。このランプ２から照射
端６ａに至る部分が発明の構成にいう光照射手段Ｍｖに
相当するが、より厳密には照射端６ａが光照射手段Ｍｖ
に対応する。
過フィルタ４，シャッタ５等から構成され、フィルタ４
を通過した紫外線を光ファイバ６によってその照射端６
ａまで導くように構成してある。このランプ２から照射
端６ａに至る部分が発明の構成にいう光照射手段Ｍｖに
相当するが、より厳密には照射端６ａが光照射手段Ｍｖ
に対応する。
光ファイバ６の照射端６ａからウエハＷの周辺部に対し
て照射する紫外線スポットの形状については、それを円
形とした場合には、スポット中心に対して、ウエハの半
径方向に対するスポットの両端位置（円形スポットにお
けるウエハの中心に近い位置と、遠い位置）では、積算
光量が少なくなるから、露光ひいてはレジスト除去が不
均一になる可能性があるので、スポット形状を方形にす
ることにより光量の均一化を図るようにすることが好ま
しい。
て照射する紫外線スポットの形状については、それを円
形とした場合には、スポット中心に対して、ウエハの半
径方向に対するスポットの両端位置（円形スポットにお
けるウエハの中心に近い位置と、遠い位置）では、積算
光量が少なくなるから、露光ひいてはレジスト除去が不
均一になる可能性があるので、スポット形状を方形にす
ることにより光量の均一化を図るようにすることが好ま
しい。
光ファイバ６の先端の照射端６ａを保持するファイバ支
持アーム７がＸ−Ｙテーブル８に取り付けられている。
Ｘ−Ｙテーブル８は、Ｘテーブル８ｘおよびこのＸテー
ブル８ｘをＸ方向に沿って往復移動させるための第２の
モータＭ２と、Ｘテーブル８ｘ上に載置されたＹテーブ
ル８ｙおよびこのＹテーブル８ｙをＹ方向に沿って往復
移動させるための第３のモータＭ３とを備えている。Ｙ
テーブル８ｙにファイバ支持アーム７が取り付けられて
いる。
持アーム７がＸ−Ｙテーブル８に取り付けられている。
Ｘ−Ｙテーブル８は、Ｘテーブル８ｘおよびこのＸテー
ブル８ｘをＸ方向に沿って往復移動させるための第２の
モータＭ２と、Ｘテーブル８ｘ上に載置されたＹテーブ
ル８ｙおよびこのＹテーブル８ｙをＹ方向に沿って往復
移動させるための第３のモータＭ３とを備えている。Ｙ
テーブル８ｙにファイバ支持アーム７が取り付けられて
いる。
Ｘ方向は、照射端６ａからスピンチャック１の回転中心
に向かう方向であり、Ｙ方向はＸ方向に対して直角な方
向である。
に向かう方向であり、Ｙ方向はＸ方向に対して直角な方
向である。
Ｘテーブル８ｘと第２のモータＭ２とが発明の構成にい
う半径方向変位手段Ｍｘを構成し、Ｙテーブル８ｙと第
３のモータＭ３とが発明の構成にいう接線方向変位手段
Ｍｙを構成している。
う半径方向変位手段Ｍｘを構成し、Ｙテーブル８ｙと第
３のモータＭ３とが発明の構成にいう接線方向変位手段
Ｍｙを構成している。
なお、第１ないし第３のモータＭ１〜Ｍ３はステッピン
グモータである。
グモータである。
スピンチャック１に吸着保持されて回転するウエハＷの
直線部Ｗｓを検出する直線部検出用ラインセンサＡとし
てのラインセンサ９が、ウエハＷの周辺部の回転軌跡に
対応して配置されている。
直線部Ｗｓを検出する直線部検出用ラインセンサＡとし
てのラインセンサ９が、ウエハＷの周辺部の回転軌跡に
対応して配置されている。
第２図は、ウエハの周辺部露光装置の機械的構造の別形
態を示すもので、２つの一軸テーブル10x，10yが設けら
れている。一軸テーブル10xは光ファイバ照射端６ａを
ファイバ支持アーム７を介して保持するとともに、第２
のモータＭ２によってＸ方向に往復移動される。また、
一軸テーブル10yは回転手段Ｍθとしての第１のモータ
Ｍ１およびスピンチャック１を取り付けて、第３のモー
タ３によってＹ方向に往復移動される。
態を示すもので、２つの一軸テーブル10x，10yが設けら
れている。一軸テーブル10xは光ファイバ照射端６ａを
ファイバ支持アーム７を介して保持するとともに、第２
のモータＭ２によってＸ方向に往復移動される。また、
一軸テーブル10yは回転手段Ｍθとしての第１のモータ
Ｍ１およびスピンチャック１を取り付けて、第３のモー
タ３によってＹ方向に往復移動される。
一軸テーブル10xおよび第２のモータＭ２が半径方向変
位手段Ｍｘに相当し、一軸テーブル10yおよび第３のモ
ータＭ３が接線方向変位手段Ｍｙに相当する。
位手段Ｍｘに相当し、一軸テーブル10yおよび第３のモ
ータＭ３が接線方向変位手段Ｍｙに相当する。
なお、第１図，第２図の構造に代えて、半径方向変位手
段Ｍｘが、回転手段Ｍθ（第１のモータＭ１およびスピ
ンチャック１）の方を変位させるものとして構成されて
いてもよいし、あるいは、光照射手段Ｍｖのファイバ支
持アーム７が固定で、回転手段ＭθをＸ−Ｙテーブル８
に取り付けてもよい。
段Ｍｘが、回転手段Ｍθ（第１のモータＭ１およびスピ
ンチャック１）の方を変位させるものとして構成されて
いてもよいし、あるいは、光照射手段Ｍｖのファイバ支
持アーム７が固定で、回転手段ＭθをＸ−Ｙテーブル８
に取り付けてもよい。
次に、スピンチャック１に吸着保持されたウエハＷの直
線部Ｗｓの検出、および、この直線部検出に基づいて現
在のウエハＷの回転角度情報を得る手法を説明する。
線部Ｗｓの検出、および、この直線部検出に基づいて現
在のウエハＷの回転角度情報を得る手法を説明する。
図示しないアライメント機構によってウエハＷの中心が
スピンチャック１の回転中心に位置合わせされる。中心
位置合わせが完了すると、スピンチャック１において真
空吸引が行われ、ウエハＷがスピンチャック１に吸着さ
れる。
スピンチャック１の回転中心に位置合わせされる。中心
位置合わせが完了すると、スピンチャック１において真
空吸引が行われ、ウエハＷがスピンチャック１に吸着さ
れる。
第１のモータＭ１の駆動によってウエハＷを回転する
と、ラインセンサ９上を円弧部Ｗｃが通過している状態
ではラインセンサ９のセルのうちＯＮとなるセル数は一
定である。その状態から、直線部Ｗｓと円弧部Ｗｃとの
境界である一方のウエハ端部Ｗｅが通過した瞬間に、ラ
インセンサ９のＯＮとなるセル数が増加する。このＯＮ
セル数増加によって一方のウエハ端部Ｗｅを検出でき
る。
と、ラインセンサ９上を円弧部Ｗｃが通過している状態
ではラインセンサ９のセルのうちＯＮとなるセル数は一
定である。その状態から、直線部Ｗｓと円弧部Ｗｃとの
境界である一方のウエハ端部Ｗｅが通過した瞬間に、ラ
インセンサ９のＯＮとなるセル数が増加する。このＯＮ
セル数増加によって一方のウエハ端部Ｗｅを検出でき
る。
さらにウエハＷが回転すると、ラインセンサ９に対して
直線部Ｗｓのセンタが到達するまでは、ＯＮセル数は増
加し続け、そのセンタを過ぎるとＯＮセル数は最大値か
ら減少する。そして、もう一方のウエハ端部Ｗｅがライ
ンセンサ９を通過すると、ＯＮセル数は減少状態から一
定状態に変化する。この変化によって他方のウエハ端部
Ｗｅを検出できる。
直線部Ｗｓのセンタが到達するまでは、ＯＮセル数は増
加し続け、そのセンタを過ぎるとＯＮセル数は最大値か
ら減少する。そして、もう一方のウエハ端部Ｗｅがライ
ンセンサ９を通過すると、ＯＮセル数は減少状態から一
定状態に変化する。この変化によって他方のウエハ端部
Ｗｅを検出できる。
モータＭ１はステッピングモータであってパルスエンコ
ーダ（図示せず）を内蔵している。パルスエンコーダの
原点位置から一方のウエハ端部Ｗｅを検出するまでのパ
ルス数に対応した回転角度をθ１、他方のウエハ端部Ｗ
ｅを検出するまでのパルス数に対応した回転角度をθ２
とすると、原点位置から角度α＝｛（θ２−θ１）／
２｝＋θ１に対応したパルス数のところが、原点位置か
ら直線部Ｗｓのセンタまでの回転角度となる。これが、
このウエハＷの基準角度である。
ーダ（図示せず）を内蔵している。パルスエンコーダの
原点位置から一方のウエハ端部Ｗｅを検出するまでのパ
ルス数に対応した回転角度をθ１、他方のウエハ端部Ｗ
ｅを検出するまでのパルス数に対応した回転角度をθ２
とすると、原点位置から角度α＝｛（θ２−θ１）／
２｝＋θ１に対応したパルス数のところが、原点位置か
ら直線部Ｗｓのセンタまでの回転角度となる。これが、
このウエハＷの基準角度である。
このようにして直線部Ｗｓのセンタにおける基準角度α
を算出した後、ウエハＷをもう１回転させて基準角度α
に対応したパルス数を検出した時点でモータＭ１を停止
すると、ウエハＷは、その直線部Ｗｓが接線方向変位手
段Ｍｙの変位方向すなわちＹ方向に平行な状態で停止す
ることになる。そして、この状態で接線方向変位手段Ｍ
ｙを駆動してウエハ直線部Ｗｓに対する直線的な露光を
行うことになる。
を算出した後、ウエハＷをもう１回転させて基準角度α
に対応したパルス数を検出した時点でモータＭ１を停止
すると、ウエハＷは、その直線部Ｗｓが接線方向変位手
段Ｍｙの変位方向すなわちＹ方向に平行な状態で停止す
ることになる。そして、この状態で接線方向変位手段Ｍ
ｙを駆動してウエハ直線部Ｗｓに対する直線的な露光を
行うことになる。
ウエハＷを回転している状態でのウエハＷの回転角度の
情報は、原点位置からの現在までのパルス数と基準角度
αまでのパルス数との差に対応した角度を基準角度αに
加算したものとして得ることができる。
情報は、原点位置からの現在までのパルス数と基準角度
αまでのパルス数との差に対応した角度を基準角度αに
加算したものとして得ることができる。
次に、第１ないし第３のウエハの周辺部露光装置それぞ
れの制御系統の構成ならびに動作を説明する。
れの制御系統の構成ならびに動作を説明する。
［Ｉ−Ｃ］第１のウエハの周辺部露光装置 第３図のブロック図において、Ａは、上述のラインセン
サ９に相当する直線部検出用ラインセンサ、Ｂは、直線
部検出用ラインセンサＡによるウエハ直線部Ｗｓの検
出、ならびに回転手段Ｍθにおいてパルスエンコーダの
出力に基づいてウエハＷの基準角度αおよび時々刻々変
化する現在の回転角度情報θｔを求める回転角度演算手
段、Ｃは、円弧部露光幅Ｌｃおよび直線部露光幅Ｌｓを
互いに独立して設定する露光幅設定手段である。
サ９に相当する直線部検出用ラインセンサ、Ｂは、直線
部検出用ラインセンサＡによるウエハ直線部Ｗｓの検
出、ならびに回転手段Ｍθにおいてパルスエンコーダの
出力に基づいてウエハＷの基準角度αおよび時々刻々変
化する現在の回転角度情報θｔを求める回転角度演算手
段、Ｃは、円弧部露光幅Ｌｃおよび直線部露光幅Ｌｓを
互いに独立して設定する露光幅設定手段である。
Ｍθは、前記の第１のモータＭ１とスピンチャック１と
に相当するウエハＷの回転手段、Ｍｖは、前記のランプ
２，シャッタ５，光ファイバ６等に相当する光照射手
段、Ｍｘは前述の半径方向変位手段、Ｍｙは接線方向変
位手段、Ｅは、回転角度情報θｔと設定露光幅（Ｌｃま
たはＬｓ）に基づいて、前記回転手段Ｍθ，光照射手段
Ｍｖ，半径方向変位手段Ｍｘ，接線方向変位手段Ｍｙを
制御する制御手段である。
に相当するウエハＷの回転手段、Ｍｖは、前記のランプ
２，シャッタ５，光ファイバ６等に相当する光照射手
段、Ｍｘは前述の半径方向変位手段、Ｍｙは接線方向変
位手段、Ｅは、回転角度情報θｔと設定露光幅（Ｌｃま
たはＬｓ）に基づいて、前記回転手段Ｍθ，光照射手段
Ｍｖ，半径方向変位手段Ｍｘ，接線方向変位手段Ｍｙを
制御する制御手段である。
スピンチャック１に移載されたウエハＷは、図示しない
アライメント機構によって中心合わせが行われた後、ス
ピンチャック１に吸着保持される。制御手段Ｅは、回転
手段Ｍθ（第１のモータＭ１）を駆動してスピンチャッ
ク１を一方向に回転させる。一方、回転角度演算手段Ｂ
は、直線部検出用ラインセンサＡから入力した原点位置
からの角度θ１と角度θ２とに基づいて基準角度αを算
出する〔α＝｛（θ２−θ１）／２｝＋θ１〕（第４図
（ａ）参照）。
アライメント機構によって中心合わせが行われた後、ス
ピンチャック１に吸着保持される。制御手段Ｅは、回転
手段Ｍθ（第１のモータＭ１）を駆動してスピンチャッ
ク１を一方向に回転させる。一方、回転角度演算手段Ｂ
は、直線部検出用ラインセンサＡから入力した原点位置
からの角度θ１と角度θ２とに基づいて基準角度αを算
出する〔α＝｛（θ２−θ１）／２｝＋θ１〕（第４図
（ａ）参照）。
制御手段Ｅは、この基準角度αを入力するとともに、回
転手段Ｍθの駆動を続ける。回転角度演算手段Ｂは、２
回転目においても直線部検出用ラインセンサＡから入力
した原点位置からの時々刻々変化する回転角度情報θｔ
と基準角度αとを比較し、θｔ＝αとなったときに、制
御手段Ｅに停止指令信号を出力する。制御手段Ｅはその
信号を受けて回転手段Ｍθを停止する。このとき、ウエ
ハＷは、その直線部Ｗｓが接線方向変位手段Ｍｙの変位
方向すなわちＹ方向に平行な状態で停止する（第４図
（ｂ）参照）。
転手段Ｍθの駆動を続ける。回転角度演算手段Ｂは、２
回転目においても直線部検出用ラインセンサＡから入力
した原点位置からの時々刻々変化する回転角度情報θｔ
と基準角度αとを比較し、θｔ＝αとなったときに、制
御手段Ｅに停止指令信号を出力する。制御手段Ｅはその
信号を受けて回転手段Ｍθを停止する。このとき、ウエ
ハＷは、その直線部Ｗｓが接線方向変位手段Ｍｙの変位
方向すなわちＹ方向に平行な状態で停止する（第４図
（ｂ）参照）。
次いで、直線部露光のための準備動作に移る。すなわ
ち、制御手段Ｅは、露光幅設定手段Ｃから直線部露光幅
Ｌｓを読み取り、これに基づいて半径方向変位手段Ｍｘ
を駆動して光照射手段Ｍｖのウエハ直線部Ｗｓに対する
位置決めを行う。なお、同時にあるいは相前後して接線
方向変位手段Ｍｙを駆動して光照射手段Ｍｖをウエハ直
線部Ｗｓの端部よりも外側に位置させる（第４図（ｃ）
参照）。
ち、制御手段Ｅは、露光幅設定手段Ｃから直線部露光幅
Ｌｓを読み取り、これに基づいて半径方向変位手段Ｍｘ
を駆動して光照射手段Ｍｖのウエハ直線部Ｗｓに対する
位置決めを行う。なお、同時にあるいは相前後して接線
方向変位手段Ｍｙを駆動して光照射手段Ｍｖをウエハ直
線部Ｗｓの端部よりも外側に位置させる（第４図（ｃ）
参照）。
制御手段Ｅは、光照射手段Ｍｖのシャッタ５を開いて光
ファイバ照射端６ａから紫外線の照射を開始するととも
に、接線方向変位手段Ｍｙを駆動することにより光照射
手段ＭｖをＹ方向に沿って直線的に変位させ、ウエハ直
線部Ｗｓを光ファイバ照射端６ａからの紫外線によって
直線的にかつ設定された直線部露光幅Ｌｓにおいて均一
に露光していく（第４図（ｄ）参照）。光ファイバ照射
端６ａがウエハ直線部Ｗｓの他端を通過するとシャッタ
５を閉じる。
ファイバ照射端６ａから紫外線の照射を開始するととも
に、接線方向変位手段Ｍｙを駆動することにより光照射
手段ＭｖをＹ方向に沿って直線的に変位させ、ウエハ直
線部Ｗｓを光ファイバ照射端６ａからの紫外線によって
直線的にかつ設定された直線部露光幅Ｌｓにおいて均一
に露光していく（第４図（ｄ）参照）。光ファイバ照射
端６ａがウエハ直線部Ｗｓの他端を通過するとシャッタ
５を閉じる。
次いで、円弧部露光のための準備動作に移る。すなわ
ち、制御手段Ｅは、回転手段Ｍθを駆動してウエハＷを
基準角度αだけ回転させるとともに、接線方向変位手段
Ｍｙを逆方向に駆動して光照射手段Ｍｖをその原点位置
に戻す。次いで、制御手段Ｅは、露光幅設定手段Ｃから
円弧部露光幅Ｌｃを読み取り、これに基づいて半径方向
変位手段Ｍｘを駆動して光照射手段Ｍｖのウエハ円弧部
Ｗｃに対する位置決めを行う（第４図（ｅ）参照）。
ち、制御手段Ｅは、回転手段Ｍθを駆動してウエハＷを
基準角度αだけ回転させるとともに、接線方向変位手段
Ｍｙを逆方向に駆動して光照射手段Ｍｖをその原点位置
に戻す。次いで、制御手段Ｅは、露光幅設定手段Ｃから
円弧部露光幅Ｌｃを読み取り、これに基づいて半径方向
変位手段Ｍｘを駆動して光照射手段Ｍｖのウエハ円弧部
Ｗｃに対する位置決めを行う（第４図（ｅ）参照）。
制御手段Ｅは、光照射手段Ｍｖのシャッタ５を開いて光
ファイバ照射端６ａから紫外線の照射を再開するととも
に、回転手段Ｍθを駆動することによってウエハＷを光
照射手段Ｍｖに対して回転させ、光ファイバ照射端６ａ
からの紫外線によってウエハ円弧部Ｗｃを円弧部露光幅
Ｌｃにおいて均一に露光していく（第４図（ｆ）参
照）。光ファイバ照射端６ａがウエハ円弧部Ｗｃの終端
を通過するとシャッタ５を閉じる。そして、半径方向変
位手段Ｍｘを駆動して光照射手段Ｍｖを原点位置に戻
す。
ファイバ照射端６ａから紫外線の照射を再開するととも
に、回転手段Ｍθを駆動することによってウエハＷを光
照射手段Ｍｖに対して回転させ、光ファイバ照射端６ａ
からの紫外線によってウエハ円弧部Ｗｃを円弧部露光幅
Ｌｃにおいて均一に露光していく（第４図（ｆ）参
照）。光ファイバ照射端６ａがウエハ円弧部Ｗｃの終端
を通過するとシャッタ５を閉じる。そして、半径方向変
位手段Ｍｘを駆動して光照射手段Ｍｖを原点位置に戻
す。
以上によって、ウエハ直線部Ｗｓは、直線部Ｗｓの全長
にわたって均一な露光幅で露光される。なお、ウエハ円
弧部Ｗｃの露光幅Ｌｃから独立した露光幅Ｌｓで露光さ
れる。
にわたって均一な露光幅で露光される。なお、ウエハ円
弧部Ｗｃの露光幅Ｌｃから独立した露光幅Ｌｓで露光さ
れる。
なお、この動作例では、制御手段Ｅは、直線部Ｗｓの露
光を先に、円弧部Ｗｃの露光を後に行ったが、これとは
逆に、円弧部Ｗｃの露光を先に、直線部Ｗｓの露光を後
に行うようにしてもよい。
光を先に、円弧部Ｗｃの露光を後に行ったが、これとは
逆に、円弧部Ｗｃの露光を先に、直線部Ｗｓの露光を後
に行うようにしてもよい。
また、円弧部露光幅Ｌｃ，直線部露光幅Ｌｓの設定値を
どのように選択するかは任意であり、条件や目的に応じ
て適正なそして種々の組み合わせのもとに両露光幅Ｌ
ｃ，Ｌｓを自由に変更することができる。
どのように選択するかは任意であり、条件や目的に応じ
て適正なそして種々の組み合わせのもとに両露光幅Ｌ
ｃ，Ｌｓを自由に変更することができる。
［II-C］第２のウエハの周辺部露光装置 この場合、基本的には第３図に示いたブロック図と同様
の構成をもつ。
の構成をもつ。
ただし、露光幅設定手段Ｃは、円弧部Ｗｃ，直線部Ｗｓ
といった大きな分け方での露光幅の設定ではなく、もっ
と細かく設定できるものであり、特に、円弧部Ｗｃにお
いては、回転角度θｔに応じた露光幅Ｌ（θｔ）を設定
するものとして構成されている。また、制御手段Ｅは、
回転角度θｔに基づいて露光幅設定手段Ｃからそのとき
の回転角度θｔに応じた露光幅Ｌ（θｔ）を読み出し、
その露光幅Ｌ（θｔ）に基づいて半径方向変位手段Ｍｘ
を駆動して光照射手段ＭｖのウエハＷに対して位置の調
整を行うものとして構成されている。
といった大きな分け方での露光幅の設定ではなく、もっ
と細かく設定できるものであり、特に、円弧部Ｗｃにお
いては、回転角度θｔに応じた露光幅Ｌ（θｔ）を設定
するものとして構成されている。また、制御手段Ｅは、
回転角度θｔに基づいて露光幅設定手段Ｃからそのとき
の回転角度θｔに応じた露光幅Ｌ（θｔ）を読み出し、
その露光幅Ｌ（θｔ）に基づいて半径方向変位手段Ｍｘ
を駆動して光照射手段ＭｖのウエハＷに対して位置の調
整を行うものとして構成されている。
制御手段Ｅは、回転手段Ｍθを駆動してウエハＷを回転
させる一方、回転角度演算手段Ｂは、直線部検出用ライ
ンセンサＡの検出信号に基づいて基準角度αを算出する
（第５図（ａ）参照）。
させる一方、回転角度演算手段Ｂは、直線部検出用ライ
ンセンサＡの検出信号に基づいて基準角度αを算出する
（第５図（ａ）参照）。
制御手段Ｅは、基準角度αを算出した後、一旦、回転手
段Ｍθの駆動を停止して、露光のための準備動作に移
る。すなわち、制御手段Ｅは、露光幅設定手段Ｃから停
止角度θｔ０に応じた露光幅Ｌ（θt0）を読み取り、こ
れに基づいて半径方向変位手段Ｍｘを駆動して光照射手
段Ｍｖのウエハ円弧部Ｗｃに対する位置決めを行う（第
５図（ｂ）参照）。
段Ｍθの駆動を停止して、露光のための準備動作に移
る。すなわち、制御手段Ｅは、露光幅設定手段Ｃから停
止角度θｔ０に応じた露光幅Ｌ（θt0）を読み取り、こ
れに基づいて半径方向変位手段Ｍｘを駆動して光照射手
段Ｍｖのウエハ円弧部Ｗｃに対する位置決めを行う（第
５図（ｂ）参照）。
制御手段Ｅは、光照射手段Ｍｖのシャッタ５を開いて、
光ファイバ照射端６ａから紫外線の照射を開始するとと
もに、回転手段Ｍθを駆動してウエハＷを回転しながら
ウエハ円弧部Ｗｃを露光していく（第５図（ｃ）参
照）。この間、回転手段Ｍθのパルスエンコーダからの
信号によって回転角度演算手段Ｂで演算された現在の回
転角度θｔが常に監視されている。
光ファイバ照射端６ａから紫外線の照射を開始するとと
もに、回転手段Ｍθを駆動してウエハＷを回転しながら
ウエハ円弧部Ｗｃを露光していく（第５図（ｃ）参
照）。この間、回転手段Ｍθのパルスエンコーダからの
信号によって回転角度演算手段Ｂで演算された現在の回
転角度θｔが常に監視されている。
回転角度θｔが露光幅の変化点θｔ１に達したとき、制
御手段Ｅは回転手段Ｍθを停止する。そして、露光幅設
定手段Ｃから読み出した露光幅Ｌ（θt1）に基づいて半
径方向変位手段Ｍｘを駆動し、光照射手段Ｍｖのウエハ
円弧部Ｗｃに対して位置調整を改めて行う（第５図
（ｄ）参照）。
御手段Ｅは回転手段Ｍθを停止する。そして、露光幅設
定手段Ｃから読み出した露光幅Ｌ（θt1）に基づいて半
径方向変位手段Ｍｘを駆動し、光照射手段Ｍｖのウエハ
円弧部Ｗｃに対して位置調整を改めて行う（第５図
（ｄ）参照）。
再び、回転手段Ｍθを駆動してウエハＷを回転しなが
ら、新たな露光幅Ｌ（θt1）において円弧部Ｗｃを露光
していく。そして、再度、回転角度θｔが露光幅の変化
点θｔ２に達したとき、制御手段Ｅは回転手段Ｍθを停
止し、露光幅設定手段Ｃから読み出した露光幅Ｌ
（θt2）に基づいて半径方向変位手段Ｍｘを駆動し、光
照射手段Ｍｖのウエハ円弧部Ｗｃに対して位置調整を改
めて行う（第５図（ｅ）参照）。
ら、新たな露光幅Ｌ（θt1）において円弧部Ｗｃを露光
していく。そして、再度、回転角度θｔが露光幅の変化
点θｔ２に達したとき、制御手段Ｅは回転手段Ｍθを停
止し、露光幅設定手段Ｃから読み出した露光幅Ｌ
（θt2）に基づいて半径方向変位手段Ｍｘを駆動し、光
照射手段Ｍｖのウエハ円弧部Ｗｃに対して位置調整を改
めて行う（第５図（ｅ）参照）。
なお、Ｌ（θt2）＝Ｌ（θt0）＜ｌ（θt1）とするのが
普通である。クランプ爪ｋによるクランプ領域Ｗｋのレ
ジスト除去のためである。
普通である。クランプ爪ｋによるクランプ領域Ｗｋのレ
ジスト除去のためである。
このようにして、ウエハ円弧部Ｗｃにおいて、広幅のク
ランプ領域Ｗｋが複数箇所露光される（第５図（ｆ）参
照）。
ランプ領域Ｗｋが複数箇所露光される（第５図（ｆ）参
照）。
なお、ウエハ直線部Ｗｓに対する露光の際は、回転角度
θｔｉごとの露光幅Ｌ（θti）によって細かく段階的に
露光幅を調整するものとする。すなわち、直線部Ｗｓに
対しても、回転角度に応じた設定露光幅に基づく露光を
行うのである。この場合、接線方向変位手段Ｍｙは不要
となる。
θｔｉごとの露光幅Ｌ（θti）によって細かく段階的に
露光幅を調整するものとする。すなわち、直線部Ｗｓに
対しても、回転角度に応じた設定露光幅に基づく露光を
行うのである。この場合、接線方向変位手段Ｍｙは不要
となる。
あるいは、ウエハ端部Ｗｅの検出をもって、第４図
（ｂ）のようにウエハ直線部ＷｓをＹ方向と平行とし、
接線方向変位手段Ｍｙの駆動による光照射手段Ｍｖの直
線移動でもって直線部Ｗｓを露光してもよい。
（ｂ）のようにウエハ直線部ＷｓをＹ方向と平行とし、
接線方向変位手段Ｍｙの駆動による光照射手段Ｍｖの直
線移動でもって直線部Ｗｓを露光してもよい。
別の方式として、ウエハＷを２回転させるとし、１回転
目では細い露光幅Ｌ（θt0）を一定の露光幅として固定
化し、その一定露光幅にて１周して連続露光し、２回転
目では広い露光幅Ｌ（θt1）を一定の露光幅として固定
化するとともに、その広い幅のところの回転角度と一致
したときのみシャッタ５を開いて露光し、他の角度範囲
ではシャッタ５を閉じておくというふうに構成してもよ
い。
目では細い露光幅Ｌ（θt0）を一定の露光幅として固定
化し、その一定露光幅にて１周して連続露光し、２回転
目では広い露光幅Ｌ（θt1）を一定の露光幅として固定
化するとともに、その広い幅のところの回転角度と一致
したときのみシャッタ５を開いて露光し、他の角度範囲
ではシャッタ５を閉じておくというふうに構成してもよ
い。
［III-C］第３のウエハ周辺部露光装置 この場合も、基本的には第３図に示したブロック図と同
様の構成をもつ。ただし、二点鎖線で示すように、円弧
部Ｗｃの露光量Ｑ（θｔ）を回転角度θｔに応じて設定
するとともに、直線部Ｗｓの露光量Ｑ（Ｐｔ）を接線方
向変位手段Ｍｙの変位方向（Ｙ方向）における光照射手
段Ｍｖに対するウエハＷの位置Ｐｔに応じて設定してお
くための露光量設定手段Ｄを有している。また、制御手
段Ｅは、直線部Ｗｓの露光を、上述した第１のウエハの
周辺部露光装置と同様に接線方向変位手段Ｍｙを駆動し
て、光照射手段Ｍｖをウエハ直線部Ｗｓに沿って相対的
に直線的に変位させてウエハ直線部Ｗｓの露光を行な
い、その際、位置情報Ｐｔに基づいて露光量設定手段Ｄ
からそのときの位置Ｐｔに応じた露光量Ｑ（Ｐｔ）を読
み出し、その読み出した設定露光量Ｑ（Ｐｔ）に基づい
て直線部Ｗｓに対する光照射手段Ｍｖからの露光量を調
整しながら直線部Ｗｓの露光を行ない、また、円弧部Ｗ
ｃの露光を上述した第１のウエハの周辺部露光装置と同
様に回転手段Ｍθを駆動して、光照射手段Ｍｖに対しウ
エハＷを回転させて円弧部Ｗｃの露光を行ない、その
際、回転角度情報θｔに基づいて露光量設定手段Ｄから
そのときの回転角度θｔに応じた露光量Ｑ（θｔ）を読
み出し、その読み出した設定露光量Ｑ（θｔ）に基づい
て円弧部Ｗｃに対する光照射手段Ｍｖからの露光量を調
整しながら円弧部Ｗｃの露光を行なうように制御するよ
うに構成されている。
様の構成をもつ。ただし、二点鎖線で示すように、円弧
部Ｗｃの露光量Ｑ（θｔ）を回転角度θｔに応じて設定
するとともに、直線部Ｗｓの露光量Ｑ（Ｐｔ）を接線方
向変位手段Ｍｙの変位方向（Ｙ方向）における光照射手
段Ｍｖに対するウエハＷの位置Ｐｔに応じて設定してお
くための露光量設定手段Ｄを有している。また、制御手
段Ｅは、直線部Ｗｓの露光を、上述した第１のウエハの
周辺部露光装置と同様に接線方向変位手段Ｍｙを駆動し
て、光照射手段Ｍｖをウエハ直線部Ｗｓに沿って相対的
に直線的に変位させてウエハ直線部Ｗｓの露光を行な
い、その際、位置情報Ｐｔに基づいて露光量設定手段Ｄ
からそのときの位置Ｐｔに応じた露光量Ｑ（Ｐｔ）を読
み出し、その読み出した設定露光量Ｑ（Ｐｔ）に基づい
て直線部Ｗｓに対する光照射手段Ｍｖからの露光量を調
整しながら直線部Ｗｓの露光を行ない、また、円弧部Ｗ
ｃの露光を上述した第１のウエハの周辺部露光装置と同
様に回転手段Ｍθを駆動して、光照射手段Ｍｖに対しウ
エハＷを回転させて円弧部Ｗｃの露光を行ない、その
際、回転角度情報θｔに基づいて露光量設定手段Ｄから
そのときの回転角度θｔに応じた露光量Ｑ（θｔ）を読
み出し、その読み出した設定露光量Ｑ（θｔ）に基づい
て円弧部Ｗｃに対する光照射手段Ｍｖからの露光量を調
整しながら円弧部Ｗｃの露光を行なうように制御するよ
うに構成されている。
ランプ２から照射され紫外線透過フィルタ４を通った紫
外線の強度をＩ０（一定）、ウエハＷの半径をｒ、回転
角速度をω、周速度をｖとすると、ｖ＝ｒωであり、周
速度ｖが速いほど露光量Ｑは少なくなるから、Ｑ∝Ｉ０
／ｖとなる。逆に、露光量Ｑを多く必要とする角度範囲
ほど周速度ｖを遅くする必要がある。すなわち、ｖ∝Ｉ
０／Ｑだからである。また、直線部Ｗｓにおいても同様
に、接線方向変位手段Ｗｙの駆動速度を遅くすることに
より直線部Ｗｓの露光量を多くすることができる。この
ように露光量を多くする領域として、例えば厚膜領域Ｗ
ａがある。
外線の強度をＩ０（一定）、ウエハＷの半径をｒ、回転
角速度をω、周速度をｖとすると、ｖ＝ｒωであり、周
速度ｖが速いほど露光量Ｑは少なくなるから、Ｑ∝Ｉ０
／ｖとなる。逆に、露光量Ｑを多く必要とする角度範囲
ほど周速度ｖを遅くする必要がある。すなわち、ｖ∝Ｉ
０／Ｑだからである。また、直線部Ｗｓにおいても同様
に、接線方向変位手段Ｗｙの駆動速度を遅くすることに
より直線部Ｗｓの露光量を多くすることができる。この
ように露光量を多くする領域として、例えば厚膜領域Ｗ
ａがある。
直線部Ｗｓの露光手順は、基本的に上述した第１のウエ
ハの周辺部露光装置と同様（図４（ａ）〜図４（ｄ））
であるが、露光幅の設定は、ウエハ端部Ｗｅに対応した
回転角度に応じた露光幅Ｌを露光量設定手段Ｃから読み
出して、半径方向変位手段Ｍｘを駆動してウエハ直線部
Ｗｓに対する位置決めを行なう。さらに、直線部Ｗｓの
露光動作中は、図示しない位置情報演算手段でウエハ直
線部Ｗｓに対する光照射手段Ｍｖの現在位置を常に監視
し、位置Ｐｔが露光量の変化点に達したとき、制御手段
Ｅは、その位置に対する露光量を露光量設定手段Ｄから
読み出し、読み出した露光量に基づいた速度で接線方向
変位手段Ｍｙを駆動する。このようにして、ウエハ直線
部Ｗｓ内の厚膜領域Ｗａに対して露光量を多くして露光
することができる。なお、位置情報演算手段では、Ｙテ
ーブル８ｙを往復移動させる第３のモータＭ３に内蔵さ
れているパルスエンコーダのパルス数に応じて周知の方
法で位置を求める。例えば、光照射手段が原点位置にあ
るときのパルス数を基準パルスとし、直線部Ｗｓの露光
中における第３のモータＭ３のパルスエンコーダのパル
ス数と基準パルスとの差分を求め、その差分量と１パル
スの移動量とに基づいて位置情報を求める。
ハの周辺部露光装置と同様（図４（ａ）〜図４（ｄ））
であるが、露光幅の設定は、ウエハ端部Ｗｅに対応した
回転角度に応じた露光幅Ｌを露光量設定手段Ｃから読み
出して、半径方向変位手段Ｍｘを駆動してウエハ直線部
Ｗｓに対する位置決めを行なう。さらに、直線部Ｗｓの
露光動作中は、図示しない位置情報演算手段でウエハ直
線部Ｗｓに対する光照射手段Ｍｖの現在位置を常に監視
し、位置Ｐｔが露光量の変化点に達したとき、制御手段
Ｅは、その位置に対する露光量を露光量設定手段Ｄから
読み出し、読み出した露光量に基づいた速度で接線方向
変位手段Ｍｙを駆動する。このようにして、ウエハ直線
部Ｗｓ内の厚膜領域Ｗａに対して露光量を多くして露光
することができる。なお、位置情報演算手段では、Ｙテ
ーブル８ｙを往復移動させる第３のモータＭ３に内蔵さ
れているパルスエンコーダのパルス数に応じて周知の方
法で位置を求める。例えば、光照射手段が原点位置にあ
るときのパルス数を基準パルスとし、直線部Ｗｓの露光
中における第３のモータＭ３のパルスエンコーダのパル
ス数と基準パルスとの差分を求め、その差分量と１パル
スの移動量とに基づいて位置情報を求める。
一方、円弧部Ｗｃの露光手順は、基本的に上述した第１
のウエハの周辺部露光装置と同様（図４（ｅ）、図４
（ｆ））であるが、露光幅の設定は、ウエハ端部Ｗｅに
対応した回転角度に応じた露光幅Ｌを露光量設定手段Ｃ
から読み出してウエハ円弧部Ｗｃに対する位置決めを行
なう。さらに、円弧部Ｗｃの露光動作中は、回転角度演
算手段Ｂで回転角度を常に監視し、回転角度が露光量の
変化点に達したとき、制御手段Ｅは、その回転角度に対
する露光量を露光量設定手段Ｄから読み出し、読み出し
た露光量に基づいた回転角速度ωで回転手段Ｍθを駆動
する。このようにして、ウエハ円弧部Ｗｃ内の厚膜領域
Ｗａに対して露光量を多くして露光することができる。
のウエハの周辺部露光装置と同様（図４（ｅ）、図４
（ｆ））であるが、露光幅の設定は、ウエハ端部Ｗｅに
対応した回転角度に応じた露光幅Ｌを露光量設定手段Ｃ
から読み出してウエハ円弧部Ｗｃに対する位置決めを行
なう。さらに、円弧部Ｗｃの露光動作中は、回転角度演
算手段Ｂで回転角度を常に監視し、回転角度が露光量の
変化点に達したとき、制御手段Ｅは、その回転角度に対
する露光量を露光量設定手段Ｄから読み出し、読み出し
た露光量に基づいた回転角速度ωで回転手段Ｍθを駆動
する。このようにして、ウエハ円弧部Ｗｃ内の厚膜領域
Ｗａに対して露光量を多くして露光することができる。
なお、別の方式として、ウエハＷの周辺部の露光を２回
に分けて行なうものとし、１回目の露光では、全周にわ
たって一定の速度で露光し、２回目の露光では多くの光
量を必要とする箇所においてシャッタ５を開いて露光
し、他の箇所ではシャッタ５を閉じておくというふうに
構成してもよい。
に分けて行なうものとし、１回目の露光では、全周にわ
たって一定の速度で露光し、２回目の露光では多くの光
量を必要とする箇所においてシャッタ５を開いて露光
し、他の箇所ではシャッタ５を閉じておくというふうに
構成してもよい。
〈発明の効果〉 ［Ｉ−Ｄ］第１のウエハの周辺部露光装置の効果 ウエハ直線部を露光するときには、ウエハの回転を停め
た状態で光照射手段をウエハ直線部に沿って直線的に変
位させるから、直線部の全長にわたって同一露光幅で露
光することができる。また、ウエハ円弧部とウエハ直線
部とで互いに独立して設定される露光幅で露光すること
が可能であり、パターン領域の直近までの幅の広い露光
を行うことができる。
た状態で光照射手段をウエハ直線部に沿って直線的に変
位させるから、直線部の全長にわたって同一露光幅で露
光することができる。また、ウエハ円弧部とウエハ直線
部とで互いに独立して設定される露光幅で露光すること
が可能であり、パターン領域の直近までの幅の広い露光
を行うことができる。
［II-D］第２のウエハの周辺部露光装置の効果 現在の回転角度に応じた設定露光幅に従って光照射手段
のウエハ周辺部に対する位置調整を行うから、後工程に
おいてクランプ爪でつかむ角度位置では他の角度位置よ
りも露光幅を大きめに設定しておくことにより、クラン
プ領域を他の領域よりも大きな幅で露光することが可能
となる。したがって、クランプ爪でクランプ領域をつか
んだときにレジストが剥離してウエハのパターン上に付
着したり装置を汚染するといった不都合を防止すること
ができる。
のウエハ周辺部に対する位置調整を行うから、後工程に
おいてクランプ爪でつかむ角度位置では他の角度位置よ
りも露光幅を大きめに設定しておくことにより、クラン
プ領域を他の領域よりも大きな幅で露光することが可能
となる。したがって、クランプ爪でクランプ領域をつか
んだときにレジストが剥離してウエハのパターン上に付
着したり装置を汚染するといった不都合を防止すること
ができる。
また、厚膜領域が広い場合に、そこだけを広い幅で露光
することが可能であるので、厚膜領域の全域に対して露
光することができる。
することが可能であるので、厚膜領域の全域に対して露
光することができる。
［III-D］第３のウエハの周辺部露光装置の効果 ウエハ直線部を露光するときには、回転手段（ウエハ）
の停止状態において、接線方向変位手段の駆動により光
照射手段をウエハ直線部に沿って直線的に変位させるか
ら、直線部の全長にわたって同一露光幅で露光すること
ができる。さらに、直線部の露光の際には、位置情報に
基づきその位置に応じた設定露光量に従って光照射手段
からの直線部に対する露光量の調整を行ない、また、円
弧部の露光の際には、回転角度情報に基づきそのときの
回転角度に応じた設定露光量に従って光照射手段からの
円弧部に対する露光量の調整を行なうから、厚膜領域に
対応した箇所では他の箇所よりも露光量を多めに設定し
ておくことにより、厚膜領域を充分な光量で露光するこ
とが可能となる。したがって、厚膜領域のレジスト除去
を良好に行うことができる。
の停止状態において、接線方向変位手段の駆動により光
照射手段をウエハ直線部に沿って直線的に変位させるか
ら、直線部の全長にわたって同一露光幅で露光すること
ができる。さらに、直線部の露光の際には、位置情報に
基づきその位置に応じた設定露光量に従って光照射手段
からの直線部に対する露光量の調整を行ない、また、円
弧部の露光の際には、回転角度情報に基づきそのときの
回転角度に応じた設定露光量に従って光照射手段からの
円弧部に対する露光量の調整を行なうから、厚膜領域に
対応した箇所では他の箇所よりも露光量を多めに設定し
ておくことにより、厚膜領域を充分な光量で露光するこ
とが可能となる。したがって、厚膜領域のレジスト除去
を良好に行うことができる。
なお、露光量の調整を回転手段の回転速度や接線方向変
位手段の速度によって行う場合、つまり、設定露光量が
多い箇所ほど回転速度、速度を遅くする場合には、厚膜
領域のレジスト除去のために常時的に回転速度を遅くす
る場合に比べて、全体的な処理速度の低下がそれほどで
なくスループットの低下もあまり生じない。
位手段の速度によって行う場合、つまり、設定露光量が
多い箇所ほど回転速度、速度を遅くする場合には、厚膜
領域のレジスト除去のために常時的に回転速度を遅くす
る場合に比べて、全体的な処理速度の低下がそれほどで
なくスループットの低下もあまり生じない。
第１図ないし第５図は本発明の実施例に係り、第１図は
ウエハの周辺部露光装置の機械的・光学的構造を示す斜
視図、第２図は別形態の構造を示す斜視図、第３図はウ
エハの周辺部露光装置のブロック構成図、第４図は第１
のウエハの周辺部露光装置の動作説明図、第５図は第２
のウエハの周辺部露光装置の動作説明図である。第６図
ないし第10図は従来の問題点を指摘するための図であ
る。 １……スピンチャック ２……水銀キセノンランプ ５……シャッタ ６……光ファイバ ６ａ……照射端 ７……ファイバ支持アーム ８……Ｘ−Ｙテーブル ９……ラインセンサ 10x,10y……一軸テーブル Ｗ……ウエハ Ｗｃ……ウエハ円弧部 Ｗｓ……ウエハ直線部 Ｍθ……回転手段 Ｍｖ……光照射手段 Ｍｘ……半径方向変位手段 Ｍｙ……接線方向変位手段 Ａ……直線部検出用ラインセンサ Ｂ……回転角度演算手段 Ｃ……露光幅設定手段 Ｄ……露光量設定手段 Ｅ……制御手段 θｔ……回転角度 Ｌｃ……円弧部露光幅 Ｌｓ……直線部露光幅 Ｌ（θｔ）……回転角度に応じた露光幅 Ｑ（θｔ）……回転角度に応じた露光量
ウエハの周辺部露光装置の機械的・光学的構造を示す斜
視図、第２図は別形態の構造を示す斜視図、第３図はウ
エハの周辺部露光装置のブロック構成図、第４図は第１
のウエハの周辺部露光装置の動作説明図、第５図は第２
のウエハの周辺部露光装置の動作説明図である。第６図
ないし第10図は従来の問題点を指摘するための図であ
る。 １……スピンチャック ２……水銀キセノンランプ ５……シャッタ ６……光ファイバ ６ａ……照射端 ７……ファイバ支持アーム ８……Ｘ−Ｙテーブル ９……ラインセンサ 10x,10y……一軸テーブル Ｗ……ウエハ Ｗｃ……ウエハ円弧部 Ｗｓ……ウエハ直線部 Ｍθ……回転手段 Ｍｖ……光照射手段 Ｍｘ……半径方向変位手段 Ｍｙ……接線方向変位手段 Ａ……直線部検出用ラインセンサ Ｂ……回転角度演算手段 Ｃ……露光幅設定手段 Ｄ……露光量設定手段 Ｅ……制御手段 θｔ……回転角度 Ｌｃ……円弧部露光幅 Ｌｓ……直線部露光幅 Ｌ（θｔ）……回転角度に応じた露光幅 Ｑ（θｔ）……回転角度に応じた露光量
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高田 剛 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日本スクリーン製造株式会社洛西工場 内 (72)発明者 亀井 謙治 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日本スクリーン製造株式会社洛西工場 内 (56)参考文献 特開 平２−284415（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−263426（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−148830（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−253627（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−234530（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】周辺部が円弧部と直線部とからなるウエハ
を回転する回転手段と、 ウエハの周辺部を露光する光照射手段と、 ウエハ直線部を検出する直線部検出用ラインセンサと、 前記直線部検出用ラインセンサによるウエハ直線部の検
出に基づいて現在のウエハの回転角度情報を求める回転
角度演算手段と、 前記光照射手段を前記回転手段の回転中心に対して相対
的に接近離間させる半径方向変位手段と、 前記光照射手段を前記半径方向変位手段の変位方向に対
して直角な方向に沿って回転手段に対して相対的に変位
させる接線方向変位手段と、 円弧部露光幅と直線部露光幅とを独立して設定する露光
幅設定手段と、 前記回転角度演算手段による回転角度情報がウエハ直線
部の露光開始を示しているときには、前記回転手段の停
止状態で、前記露光幅設定手段における直線部露光幅に
基づいて前記半径方向変位手段を駆動して光照射手段の
ウエハ直線部に対する位置決めを行った後、接線方向変
位手段を駆動して光照射手段をウエハ直線部に沿って相
対的に直線的に変位させ、また、前記回転角度情報がウ
エハ円弧部の露光開始を示しているときには、接線方向
変位手段の所定位置での停止状態で、前記露光幅設定手
段における円弧部露光幅に基づいて前記半径方向変位手
段を駆動して光照射手段のウエハ円弧部に対する位置決
めを行った後、回転手段を駆動して光照射手段に対しウ
エハを回転させるように、前記回転手段、半径方向変位
手段および接線方向変位手段を制御する制御手段 とを備えたことを特徴とするウエハの周辺部露光装置。 - 【請求項２】周辺部が円弧部と直線部とからなるウエハ
を回転する回転手段と、 ウエハの周辺部を露光する光照射手段と、 ウエハ直線部を検出する直線部検出用ラインセンサと、 前記直線部検出用ラインセンサによるウエハ直線部の検
出に基づいて現在のウエハの回転角度情報を求める回転
角度演算手段と、 前記光照射手段を前記回転手段の回転中心に対して相対
的に接近離間させる半径方向変位手段と、 回転角度に応じた露光幅を設定する露光幅設定手段と、 前記回転角度演算手段による回転角度情報に基づいて前
記露光幅設定手段からそのときの回転角度に応じた露光
幅を読み出し、その読み出した設定露光幅に基づいて前
記半径方向変位手段を駆動して光照射手段のウエハ周辺
部に対する位置の調整を行う制御手段 とを備えたことを特徴とするウエハの周辺部露光装置。 - 【請求項３】周辺部が円弧部と直線部とからなるウエハ
を回転する回転手段と、 ウエハの周辺部を露光する光照射手段と、 ウエハ直線部を検出する直線部検出用ラインセンサと、 前記直線部検出用ラインセンサによるウエハ直線部の検
出に基づいて現在のウエハの回転角度情報を求める回転
角度演算手段と、 前記光照射手段を前記回転手段の回転中心に対して相対
的に接近離間させる半径方向変位手段と、 前記光照射手段を前記半径方向変位手段の変位方向に対
して直角な方向に沿って回転手段に対して相対的に変位
させる接線方向変位手段と、 前記接線方向変位手段の変位方向における前記光照射手
段に対する現在のウエハの位置情報を求める位置情報演
算手段と、 円弧部露光量を回転角度に応じて設定するとともに、直
線部露光量を前記接線方向変位手段の変位方向における
前記光照射手段に対するウエハの位置に応じて設定する
露光量設定手段と、 前記回転角度演算手段による回転角度情報がウエハ直線
部の露光開始を示しているときには、前記回転手段の停
止状態で、前記回転角度情報に基づいて前記半径方向変
位手段を駆動して光照射手段のウエハ直線部に対する位
置決めを行った後、前記接線方向変位手段を駆動して前
記光照射手段をウエハ直線部に沿って相対的に直線的に
変位させてウエハ直線部の露光を行なう際、前記位置情
報に基づいて前記露光量設定手段からそのときの位置に
応じた露光量を読み出し、その読み出した設定露光量に
基づいてウエハ直線部に対する前記光照射手段からの露
光量を調整しながらウエハ直線部の露光を行ない、ま
た、前記回転角度情報がウエハ円弧部の露光開始を示し
ているときには、前記接線方向変位手段の所定位置での
停止状態で、前記回転角度情報に基づいて前記半径方向
変位手段を駆動して光照射手段のウエハ円弧部に対する
位置決めを行った後、前記回転手段を駆動して前記光照
射手段に対しウエハを回転させてウエハ円弧部の露光を
行なう際、前記回転角度情報に基づいて前記露光量設定
手段からそのときの回転角度に応じた露光量を読み出
し、その読み出した設定露光量に基づいてウエハ円弧部
に対する前記光照射手段からの露光量を調整しながらウ
エハ円弧部の露光を行なうように制御する制御手段 とを備えたことを特徴とするウエハの周辺部露光装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1109291A JPH0612756B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | ウエハの周辺部露光装置 |
| KR1019900006042A KR930007097B1 (ko) | 1989-04-28 | 1990-04-28 | 대상물의 주변부 노광장치 |
| US08/004,788 US5289263A (en) | 1989-04-28 | 1993-01-14 | Apparatus for exposing periphery of an object |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1109291A JPH0612756B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | ウエハの周辺部露光装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7296255A Division JP2665487B2 (ja) | 1995-10-18 | 1995-10-18 | ウエハの周辺部露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02288326A JPH02288326A (ja) | 1990-11-28 |
| JPH0612756B2 true JPH0612756B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=14506453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1109291A Expired - Fee Related JPH0612756B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | ウエハの周辺部露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0612756B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100860089B1 (ko) * | 2000-11-10 | 2008-09-25 | 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. | 기판 주변부를 노광시키는 시스템들 및 방법들 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05217886A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-08-27 | Canon Inc | 周辺露光装置 |
| KR100257279B1 (ko) * | 1996-06-06 | 2000-06-01 | 이시다 아키라 | 주변노광장치 및 방법 |
| JP3383166B2 (ja) * | 1996-09-10 | 2003-03-04 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 周辺露光装置 |
| JP3768443B2 (ja) | 2002-01-09 | 2006-04-19 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 幅寸法測定装置および薄膜位置測定装置 |
| JP7312692B2 (ja) * | 2019-12-25 | 2023-07-21 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | エッジ露光装置およびエッジ露光方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59149024A (ja) * | 1983-02-16 | 1984-08-25 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
| JPS6173330A (ja) * | 1984-09-18 | 1986-04-15 | Nec Corp | 半導体デバイス製造装置 |
| JPS63234530A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-29 | Nec Corp | レジスト周辺除去装置 |
| JPS63253627A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置 |
| JPH0797549B2 (ja) * | 1987-08-28 | 1995-10-18 | 東京エレクトロン九州株式会社 | 露光方法及びその装置 |
| JPH01112041U (ja) * | 1988-01-22 | 1989-07-27 | ||
| JPH02101734A (ja) * | 1988-10-11 | 1990-04-13 | Fujitsu Ltd | ウェハー周辺の露光方法 |
| JPH0795517B2 (ja) * | 1988-10-25 | 1995-10-11 | ウシオ電機株式会社 | ウエハ周辺露光方法 |
| JPH0795518B2 (ja) * | 1988-10-25 | 1995-10-11 | ウシオ電機株式会社 | ウエハ周辺露光ユニット |
| JPH0750679B2 (ja) * | 1988-11-30 | 1995-05-31 | ウシオ電機株式会社 | ウエハ周辺露光装置 |
| JP2889300B2 (ja) * | 1989-02-16 | 1999-05-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 露光装置および露光方法 |
| JPH02263426A (ja) * | 1989-04-04 | 1990-10-26 | Canon Inc | 露光装置 |
| JPH02284415A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-21 | Nec Kansai Ltd | 半導体ウェハー周縁部レジスト除去装置 |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP1109291A patent/JPH0612756B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100860089B1 (ko) * | 2000-11-10 | 2008-09-25 | 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. | 기판 주변부를 노광시키는 시스템들 및 방법들 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02288326A (ja) | 1990-11-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4910549A (en) | Exposure method and apparatus therefor | |
| KR0148371B1 (ko) | 노광장치 | |
| EP0920053B1 (en) | Device for exposing the peripheral area of a semiconductor wafer | |
| JPH0612756B2 (ja) | ウエハの周辺部露光装置 | |
| US6864954B2 (en) | Exposure process and exposure device | |
| JP2003197570A (ja) | 基板周縁処理装置および基板周縁処理方法 | |
| JP2665487B2 (ja) | ウエハの周辺部露光装置 | |
| JPH05259069A (ja) | ウエハ周辺露光方法 | |
| JP2002217084A (ja) | ウェハ周辺露光装置およびウェハ周辺露光方法 | |
| JPH01132124A (ja) | 露光方法及びその装置 | |
| JP4346320B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JPH053153A (ja) | ウエハ上の不要レジスト露光装置 | |
| KR20030024576A (ko) | 주변 노광 장치 | |
| JP2593831B2 (ja) | ウエハ上の不要レジスト露光装置および露光方法 | |
| JPH04291914A (ja) | ウエハ上の不要レジスト露光方法 | |
| JP3275430B2 (ja) | 周縁露光装置、素子製造方法および素子 | |
| KR100350923B1 (ko) | 웨이퍼 주변노광방법 및 장치 | |
| JP3127795B2 (ja) | ウエハ周辺露光方法および装置 | |
| JP2004134513A (ja) | ノッチ付ウエハの周辺露光装置 | |
| JP2810680B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
| JP2889300B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
| JPH0795518B2 (ja) | ウエハ周辺露光ユニット | |
| JP3383166B2 (ja) | 周辺露光装置 | |
| JP2003173955A (ja) | ウエハ周辺露光方法および装置 | |
| JP2769483B2 (ja) | レジスト処理装置およびレジスト処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |