JPH01150209A - 磁気ヘッドのギャップ構造および磁気ヘッドのギャップの形成方法 - Google Patents
磁気ヘッドのギャップ構造および磁気ヘッドのギャップの形成方法Info
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- JPH01150209A JPH01150209A JP30926787A JP30926787A JPH01150209A JP H01150209 A JPH01150209 A JP H01150209A JP 30926787 A JP30926787 A JP 30926787A JP 30926787 A JP30926787 A JP 30926787A JP H01150209 A JPH01150209 A JP H01150209A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は磁気ヘッドのギャップの構造に関する。
［従来の技術］
従来の磁気ヘッドのギャップは、例えば第２図に示すよ
うに、磁性材料でできた磁気コアＩＡのギャップ形成面
２ＡにスペーサとしてＳｉＯｘ薄膜３をスパッタリング
し、その面を相手側の磁気コアＩＢのギャップ形成面２
Ｂと突き合わせた構造をなしている。この場合、スパッ
タリングするギャップ形成面２Ａの表面粗さは、Ｒｍａ
ｘ＝ ０．０６μ程度の平滑面に形成されている。また
、ＳｉＯ２薄膜の代わりに非磁性金属薄膜を形成したも
のらある。
うに、磁性材料でできた磁気コアＩＡのギャップ形成面
２ＡにスペーサとしてＳｉＯｘ薄膜３をスパッタリング
し、その面を相手側の磁気コアＩＢのギャップ形成面２
Ｂと突き合わせた構造をなしている。この場合、スパッ
タリングするギャップ形成面２Ａの表面粗さは、Ｒｍａ
ｘ＝ ０．０６μ程度の平滑面に形成されている。また
、ＳｉＯ２薄膜の代わりに非磁性金属薄膜を形成したも
のらある。
［発明が解決しようとする問題点］
ところで、上記のように割合平滑なギャップ形成面２Ａ
に非磁性薄膜をスパッタ形成したものについては、特に
薄膜を金属で構成し基板温度を上げられない場合付着力
が弱いという問題がある。
に非磁性薄膜をスパッタ形成したものについては、特に
薄膜を金属で構成し基板温度を上げられない場合付着力
が弱いという問題がある。
また、スパッタリングした薄膜の厚さそのものがギャッ
プ幅を決定するため、ギャップ幅を大きくとるには膜厚
を大きくとらなければならず、そのため薄膜形成に時間
がかかるという問題がある。
プ幅を決定するため、ギャップ幅を大きくとるには膜厚
を大きくとらなければならず、そのため薄膜形成に時間
がかかるという問題がある。
本発明は、薄膜を金属で構成した場合にも基板温度を上
げずに良好な付着性を得ることができ、しかも成膜時間
を短くすることができる磁気ヘッドのギャップ構造を提
供することを目的とずろ。
げずに良好な付着性を得ることができ、しかも成膜時間
を短くすることができる磁気ヘッドのギャップ構造を提
供することを目的とずろ。
［問題点を解決するための手段］
本発明は、上記問題点を解決するために提供されたもの
で、磁気コアのギャップ形成面に微小凹凸を形成し、こ
の面にスパッタリングによりスぺ−サとして非磁性薄膜
を形成してなることを特徴としている。
で、磁気コアのギャップ形成面に微小凹凸を形成し、こ
の面にスパッタリングによりスぺ−サとして非磁性薄膜
を形成してなることを特徴としている。
［作用］
本発明においては、スパッタした薄膜が凹凸状になり、
実際にスパッタした膜厚より見掛は上の最大幅が大きく
なる。したがって、特性上のギャップ幅が実際の膜厚上
り大きくなる。
実際にスパッタした膜厚より見掛は上の最大幅が大きく
なる。したがって、特性上のギャップ幅が実際の膜厚上
り大きくなる。
［実施例］
以下、本発明の一実施例を第１図を参照して説明する。
第１図は実施例の磁気ヘッドの主要部を示し、Ｇはギャ
ップである。このギャップＧは、パーマロイ材から成る
ラミネート型の磁気コアＩＩＡ、１１Ｂの先端間に次の
ように形成されたものである。
ップである。このギャップＧは、パーマロイ材から成る
ラミネート型の磁気コアＩＩＡ、１１Ｂの先端間に次の
ように形成されたものである。
すなわち、磁気コアＩＩＡ、ＩＩＢのギャップ形成面＋
２Ａ、１２Ｂに微小凹凸を形成し、一方のギャップ形成
面１２Ａにスパッタリングによりスペーサとして非磁性
金属薄膜１３を形成し、その面を相手側の磁気コア１Ｉ
Ｉ３のギャップ形成面１２Ｂと突き合わせた構造をなし
ているのである。
２Ａ、１２Ｂに微小凹凸を形成し、一方のギャップ形成
面１２Ａにスパッタリングによりスペーサとして非磁性
金属薄膜１３を形成し、その面を相手側の磁気コア１Ｉ
Ｉ３のギャップ形成面１２Ｂと突き合わせた構造をなし
ているのである。
この場合、ギャップ形成面１２Ａ、１２Ｂの表面粗さは
、Ｒｍａｘ＝ ０ 、 １〜０，２μの範囲に設定され
ている。これらギャップ形成面＋２Ａ、１２Ｂの加工に
ついては、磁気コアＩＩＡ、ＩＩＢの研磨時に粗い砥石
を用いて行なう。また、スパッタリングのターゲットと
しては、非磁性金属例えばＴｉが用いられており、Ａｒ
ガス中でスパッタリングすることにより、ギャップ形成
面１２ＡにはＴｉの薄膜１３が形成されている。
、Ｒｍａｘ＝ ０ 、 １〜０，２μの範囲に設定され
ている。これらギャップ形成面＋２Ａ、１２Ｂの加工に
ついては、磁気コアＩＩＡ、ＩＩＢの研磨時に粗い砥石
を用いて行なう。また、スパッタリングのターゲットと
しては、非磁性金属例えばＴｉが用いられており、Ａｒ
ガス中でスパッタリングすることにより、ギャップ形成
面１２ＡにはＴｉの薄膜１３が形成されている。
上記の構造の磁気ヘッドのギャップＧにおいては、スパ
ッタリングしたギャップ形成面１２Ａに微小凹凸がある
ため、Ｔｉのような非磁性金属薄膜の場合にも基板温度
を上げることなく、より良好な付着性を保持することが
できる。また、スパッタした薄膜１３が凹凸状になり、
実際にスパッタした膜厚より見掛は上の最大幅Ｈが大き
くなる。
ッタリングしたギャップ形成面１２Ａに微小凹凸がある
ため、Ｔｉのような非磁性金属薄膜の場合にも基板温度
を上げることなく、より良好な付着性を保持することが
できる。また、スパッタした薄膜１３が凹凸状になり、
実際にスパッタした膜厚より見掛は上の最大幅Ｈが大き
くなる。
このため、特性上のギャップ幅が実際の膜厚より大きく
なり、実際の膜厚を小さくすることができる。そして、
金属薄膜の利用と膜厚減少により成膜時間が短縮する。
なり、実際の膜厚を小さくすることができる。そして、
金属薄膜の利用と膜厚減少により成膜時間が短縮する。
なお、上記実施例においては、薄膜１３の材料としてＴ
１を用いたが、それ以外の非磁性金属を用いてし勿論よ
い。
１を用いたが、それ以外の非磁性金属を用いてし勿論よ
い。
［発明の効果］
、以上説明したように、本発明は、磁気コアのギャップ
形成面に微小凹凸を形成し、この面にスパッタリングに
よりスペーサとして非磁性薄膜を形成したので、金属薄
膜の場合にも良好な付着性を保持することができる。ま
た、スパッタした薄膜が凹凸状になって実際の膜厚より
見掛は上の最大幅が大きくなるため、特性上のギャップ
幅が実際の膜厚より大きくなり、それによって同じギャ
ップ幅を確保する場合、実際の膜厚を小さくすることが
できる。したがって、膜厚減少分だけ成膜時間の短縮が
図れる。また、薄膜材料として金属を用いた場合には、
成膜速度が速いため一層の成膜時間短縮を果たすことが
できる。
形成面に微小凹凸を形成し、この面にスパッタリングに
よりスペーサとして非磁性薄膜を形成したので、金属薄
膜の場合にも良好な付着性を保持することができる。ま
た、スパッタした薄膜が凹凸状になって実際の膜厚より
見掛は上の最大幅が大きくなるため、特性上のギャップ
幅が実際の膜厚より大きくなり、それによって同じギャ
ップ幅を確保する場合、実際の膜厚を小さくすることが
できる。したがって、膜厚減少分だけ成膜時間の短縮が
図れる。また、薄膜材料として金属を用いた場合には、
成膜速度が速いため一層の成膜時間短縮を果たすことが
できる。
第１図は本発明の一実施例の図、第２図は従来例の図で
ある。 １１Ａ、Ｉ ＩＢ・・・・・・磁気コア、ｌ ２Ａ、Ｉ
２ｒ３・・・・・・ギャップ形成面、１３・・・・・
・非磁性薄膜、Ｇ・・・ギャップ。
ある。 １１Ａ、Ｉ ＩＢ・・・・・・磁気コア、ｌ ２Ａ、Ｉ
２ｒ３・・・・・・ギャップ形成面、１３・・・・・
・非磁性薄膜、Ｇ・・・ギャップ。
Claims (1)
- 磁気コアのギャップ形成面に微小凹凸を形成し、この面
にスパッタリングによりスペーサとして非磁性薄膜を形
成してなることを特徴とする磁気ヘッドのギャップ構造
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62309267A JPH0827906B2 (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | 磁気ヘッドのギャップ構造および磁気ヘッドのギャップの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62309267A JPH0827906B2 (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | 磁気ヘッドのギャップ構造および磁気ヘッドのギャップの形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01150209A true JPH01150209A (ja) | 1989-06-13 |
| JPH0827906B2 JPH0827906B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=17990937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62309267A Expired - Lifetime JPH0827906B2 (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | 磁気ヘッドのギャップ構造および磁気ヘッドのギャップの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0827906B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5339723A (en) * | 1976-09-24 | 1978-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Preparation of magnetic head |
-
1987
- 1987-12-07 JP JP62309267A patent/JPH0827906B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5339723A (en) * | 1976-09-24 | 1978-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Preparation of magnetic head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0827906B2 (ja) | 1996-03-21 |
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