JPS62132215A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS62132215A JPS62132215A JP27070785A JP27070785A JPS62132215A JP S62132215 A JPS62132215 A JP S62132215A JP 27070785 A JP27070785 A JP 27070785A JP 27070785 A JP27070785 A JP 27070785A JP S62132215 A JPS62132215 A JP S62132215A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- nonmagnetic
- recording medium
- oxide layer
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気記録装置に用いられる磁気ディスク等の磁
気記録媒体に係り、特に耐久性に優れた磁気記録媒体に
関する。
気記録媒体に係り、特に耐久性に優れた磁気記録媒体に
関する。
従来の磁気記録媒体は、特開昭６０−３５３３２号公報
に開示されている様に、基板と非磁性金属又は非磁性酸
化膜とから成る非磁性基板と、上記非磁性基板上に形成
される非磁性金属層（モリブデンやタングステンやクロ
ム等の金属層）と、上記非磁性金属層上に形成される磁
性酸化物層からなる媒体と、媒体上に形成された保護膜
とから構成されている。
に開示されている様に、基板と非磁性金属又は非磁性酸
化膜とから成る非磁性基板と、上記非磁性基板上に形成
される非磁性金属層（モリブデンやタングステンやクロ
ム等の金属層）と、上記非磁性金属層上に形成される磁
性酸化物層からなる媒体と、媒体上に形成された保護膜
とから構成されている。
しかし、上記媒体は酸化物であり、非磁性金属層上に直
接酸化物である媒体を形成する構成をとっているため、
強い密着力が得られなかった。そのため、従来の磁気記
録媒体では、非磁性金属層と媒体との間で膜剥離が生じ
、耐久性に乏しいという問題点があった。
接酸化物である媒体を形成する構成をとっているため、
強い密着力が得られなかった。そのため、従来の磁気記
録媒体では、非磁性金属層と媒体との間で膜剥離が生じ
、耐久性に乏しいという問題点があった。
本発明は上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもの
で、膜剥離が生じることのない耐久性に優れた磁気記録
媒体を提供することを目的としている。
で、膜剥離が生じることのない耐久性に優れた磁気記録
媒体を提供することを目的としている。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板と、非磁性基板上
に形成された非磁性金属層又は非磁性合金層と、非磁性
金属層又は非磁性合金層上に形成された磁性酸化物層と
、磁性酸化物層上に形成された保護膜とから構成される
ものであり、特に、上記非磁性金属層又は非磁性合金層
上に、該非磁性金属又は非磁性合金と表面酸化物層を形
成し、上記表面酸化物層上に磁性酸化物層を形成したこ
とを特徴としている。
に形成された非磁性金属層又は非磁性合金層と、非磁性
金属層又は非磁性合金層上に形成された磁性酸化物層と
、磁性酸化物層上に形成された保護膜とから構成される
ものであり、特に、上記非磁性金属層又は非磁性合金層
上に、該非磁性金属又は非磁性合金と表面酸化物層を形
成し、上記表面酸化物層上に磁性酸化物層を形成したこ
とを特徴としている。
以下、添付の図面に示す実施例により、更に詳細に本発
明について説明する。
明について説明する。
第１図は本発明の磁気記録媒体の一実施例を示す断面図
である。第１図において、基板１としてアルミ合金を用
い、基板１の表面を一定精度に加工した後、ニッケル−
燐メッキ層２を形成する。
である。第１図において、基板１としてアルミ合金を用
い、基板１の表面を一定精度に加工した後、ニッケル−
燐メッキ層２を形成する。
この基板１とニッケル−燐メッキ層２によって、非磁性
基板が形成される。
基板が形成される。
上記ニッケル−燐メッキ層２を鏡面仕上した後。
クロム又はチタン等から成る非磁性金属層３を直流マグ
ネトロン法によって形成する。
ネトロン法によって形成する。
次に、非磁性金属層３上に表面酸化物層４を形成する。
表面酸化物層３は、アルゴン−酸素の雰囲気中で加熱し
たり、アルゴン−酸素雰囲気中で非磁性金属３を形成す
る金属をスパッタリングすることにより、形成される。
たり、アルゴン−酸素雰囲気中で非磁性金属３を形成す
る金属をスパッタリングすることにより、形成される。
次に、表面酸化物層４の上に、δＦｅ２Ｏ３の磁性酸化
物層５を、高周波スパッタリングによって形成する。そ
して、磁性酸化物層５の上に保護膜６を形成する。
物層５を、高周波スパッタリングによって形成する。そ
して、磁性酸化物層５の上に保護膜６を形成する。
第２図は、非磁性金属層３としてチタンとクロムを用い
て形成した磁性記録媒体の保磁力Ｈｅと非磁性金属層３
の厚さとの関係を示す図であり、第３図は同じく膜剥離
発生荷重と非磁性金属層３との関係を示す図である。第
２図と第３図に示す様に、非磁性金属層３の厚さは、作
成された磁気記録媒体の磁気特性及び密着力に影響を及
ぼす。
て形成した磁性記録媒体の保磁力Ｈｅと非磁性金属層３
の厚さとの関係を示す図であり、第３図は同じく膜剥離
発生荷重と非磁性金属層３との関係を示す図である。第
２図と第３図に示す様に、非磁性金属層３の厚さは、作
成された磁気記録媒体の磁気特性及び密着力に影響を及
ぼす。
密着力の効果はクロムの方が大きく、磁気特性に関して
はチタンの方が優れている。そして、第２図と第３図か
ら、非磁性金属層３の実用的な厚さは、０．１〜０．５
μｍ程度と破断される。
はチタンの方が優れている。そして、第２図と第３図か
ら、非磁性金属層３の実用的な厚さは、０．１〜０．５
μｍ程度と破断される。
尚、以上の実施例において、言うまでもなく、非磁性金
属層３のかわりに、非磁性合金層を用いても良い。
属層３のかわりに、非磁性合金層を用いても良い。
次に、第１図に示す層構造を有する磁気記録媒体を、各
種の条件下で作成した具体例について説明する。
種の条件下で作成した具体例について説明する。
具体例１
基板１を一定面精度に仕上げた後、ニッケル−燐メッキ
層２を約３０μｍ程度作成し、厚さ２０μｍまで研磨し
、鏡面仕上げをした。次に、非磁性金属層３としてクロ
ムを用い、直流−マグネトロンスパッタによって、０．
２μｍの厚さのクロム層形成した。次に、上記クロム層
の非磁性金属層３を形成後、アルゴン−酸素（４％程度
）の雰囲気中（１０〜２０ｍ Ｔ ｏｒｒ）で加熱を行
い、表面酸化物層４を形成した。加熱条件は、１５０℃
〜２００℃程度であり、表面酸化物４を形成後、磁性酸
化物層５を形成した。
層２を約３０μｍ程度作成し、厚さ２０μｍまで研磨し
、鏡面仕上げをした。次に、非磁性金属層３としてクロ
ムを用い、直流−マグネトロンスパッタによって、０．
２μｍの厚さのクロム層形成した。次に、上記クロム層
の非磁性金属層３を形成後、アルゴン−酸素（４％程度
）の雰囲気中（１０〜２０ｍ Ｔ ｏｒｒ）で加熱を行
い、表面酸化物層４を形成した。加熱条件は、１５０℃
〜２００℃程度であり、表面酸化物４を形成後、磁性酸
化物層５を形成した。
上記した具体例１によれば、保磁力Ｈｅは６００〜６５
００ ｅであり、角型比は０．７５〜０．８５であった
。また、引掻試験法では、負荷荷重２００ ｇ以上でも
膜剥離は発生しなかった。従って、磁気記録媒体として
、優れた特性のものが実現できた。
００ ｅであり、角型比は０．７５〜０．８５であった
。また、引掻試験法では、負荷荷重２００ ｇ以上でも
膜剥離は発生しなかった。従って、磁気記録媒体として
、優れた特性のものが実現できた。
具体例２
具体例１と同様に、基板１上にニッケル−燐メッキ層２
を形成し、更にチタンを用いて非磁性金属層３を０．５
μｍ形成し、熱処理して表面酸化物層４を形成した。
を形成し、更にチタンを用いて非磁性金属層３を０．５
μｍ形成し、熱処理して表面酸化物層４を形成した。
上記具体例２によれば、保磁力Ｈｅは６５００ｅ、角型
比は０．８〜０．８５であった。また、引掻試験の結果
、負荷荷重４００ｇでも剥離は発生しなかった。
比は０．８〜０．８５であった。また、引掻試験の結果
、負荷荷重４００ｇでも剥離は発生しなかった。
従って、磁気記録媒体として、優れた特性のものが実現
できた。
できた。
具体例３
具体例１と同様に、基板１上にニッケル−燐メッキ層２
を形成し、更に直流−マグネトロンスパッタにより、ク
ロムで非磁性金属層３を形成した。
を形成し、更に直流−マグネトロンスパッタにより、ク
ロムで非磁性金属層３を形成した。
その後、アルゴン−酸素（４％程度）の雰囲気（１０〜
１５ｍＴｏｒｒ）中で、スパッタリングによって、クロ
ム酸化物から成る表面酸化物層４を形成した。
１５ｍＴｏｒｒ）中で、スパッタリングによって、クロ
ム酸化物から成る表面酸化物層４を形成した。
上記具体例３によれば、保磁力Ｈｅは６００〜６５００
ｅであり、角型比は０．７５〜０．８５であり、負荷荷
重２００ｇ程度でも膜剥離は発生しなかった。従って、
磁気記録媒体として、優れた特性のものが実現できた。
ｅであり、角型比は０．７５〜０．８５であり、負荷荷
重２００ｇ程度でも膜剥離は発生しなかった。従って、
磁気記録媒体として、優れた特性のものが実現できた。
本発明によれば、磁気特性に優れ、かつ密着力が強く膜
剥離の生じない耐久性に優れた磁気記録媒体を提供する
ことができる。
剥離の生じない耐久性に優れた磁気記録媒体を提供する
ことができる。
第１図は本発明の磁気記録媒体の一実施例を示す断面図
、第２図は非磁性金属としてクロムとチタンを用いた場
合の非磁性金属層の厚さと保磁力の関係を示す図、第３
図は非磁性金属としてクロムとチタンを用いた場合の非
磁性金属の厚さと膜剥離発生荷重の関係を示す図である
。 １・・基板、２・・ニッケル−燐メッキ層、３・・・非
磁性金属層、４・・・表面酸化物層、５・・・磁性酸化
物層、６・・・保護膜。 代理人弁理士 秋 本 正 実 第 １ 図 彩−′５２ ご
、第２図は非磁性金属としてクロムとチタンを用いた場
合の非磁性金属層の厚さと保磁力の関係を示す図、第３
図は非磁性金属としてクロムとチタンを用いた場合の非
磁性金属の厚さと膜剥離発生荷重の関係を示す図である
。 １・・基板、２・・ニッケル−燐メッキ層、３・・・非
磁性金属層、４・・・表面酸化物層、５・・・磁性酸化
物層、６・・・保護膜。 代理人弁理士 秋 本 正 実 第 １ 図 彩−′５２ ご
Claims (3)
- （１）非磁性基板と、非磁性基板上に形成された非磁性
金属層又は非磁性合金層と、非磁性金属層又は非磁性合
金層上に形成された磁性酸化物層と、磁性酸化物層上に
形成された保護膜とから構成される磁気記録媒体におい
て、上記非磁性金属層又は非磁性合金層上に、該非磁性
金属又は非磁性合金の表面酸化物層を形成し、上記表面
酸化物層上に磁性酸化物層を形成したことを特徴とする
磁気記録媒体。 - （２）前記非磁性基板は、基板上にニッケル−燐メッキ
を施して形成されていることを特徴とする特許請求の範
囲第（１）項記載の磁気記録媒体。 - （３）前記非磁性金属層は、クロム又はチタンで形成さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記
載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27070785A JPS62132215A (ja) | 1985-12-03 | 1985-12-03 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27070785A JPS62132215A (ja) | 1985-12-03 | 1985-12-03 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62132215A true JPS62132215A (ja) | 1987-06-15 |
Family
ID=17489838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27070785A Pending JPS62132215A (ja) | 1985-12-03 | 1985-12-03 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62132215A (ja) |
-
1985
- 1985-12-03 JP JP27070785A patent/JPS62132215A/ja active Pending
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