JPH05210820A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH05210820A JPH05210820A JP4038612A JP3861292A JPH05210820A JP H05210820 A JPH05210820 A JP H05210820A JP 4038612 A JP4038612 A JP 4038612A JP 3861292 A JP3861292 A JP 3861292A JP H05210820 A JPH05210820 A JP H05210820A
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- Japan
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- magnetic
- metal
- gap
- films
- nitride
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、メタル・イン・ギャップ型の磁気ヘ
ッドに関し、ギャップ部の形成を連続した作業で行なえ
るギャップ材で形成することを目的とする。 【構成】突き合わせ面１５，１６に強磁性体合金である
金属磁性膜１３，１４を製膜するとともに、ギャップ材
を金属磁性膜１３，１４の酸化物若しくは窒化物のギャ
ップ材１８，１９とした構成。
ッドに関し、ギャップ部の形成を連続した作業で行なえ
るギャップ材で形成することを目的とする。 【構成】突き合わせ面１５，１６に強磁性体合金である
金属磁性膜１３，１４を製膜するとともに、ギャップ材
を金属磁性膜１３，１４の酸化物若しくは窒化物のギャ
ップ材１８，１９とした構成。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はメタル・イン・ギャップ
型の磁気ヘッドに関する。
型の磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】図３及び図４は、従来の一例の磁気ヘッ
ド１を示す。この磁気ヘッド１は、コア半体２，３の突
き合わせ面上に金属磁性膜として、例えばＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉの合金膜４，５がギャップ材６を介して接合され、
ギャップ７が形成された構成となっている。尚ここで、
コア半体２，３は、例えば磁性を有する単結晶フェライ
トで形成され、ギャップ材６としては、ＳｉＯ２ （酸
化シリコン）やＣｒ２Ｏ３ （酸化クロム）等の非金属
で非磁性材の膜により形成されている。また符号８は巻
線コイルを示す。
ド１を示す。この磁気ヘッド１は、コア半体２，３の突
き合わせ面上に金属磁性膜として、例えばＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉの合金膜４，５がギャップ材６を介して接合され、
ギャップ７が形成された構成となっている。尚ここで、
コア半体２，３は、例えば磁性を有する単結晶フェライ
トで形成され、ギャップ材６としては、ＳｉＯ２ （酸
化シリコン）やＣｒ２Ｏ３ （酸化クロム）等の非金属
で非磁性材の膜により形成されている。また符号８は巻
線コイルを示す。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来の磁気ヘッド
１にあっては、そのギャップ７を形成する場合、各コア
半体２，３の突き合わせ面上に金属磁性膜４，５をスパ
ッタリング、蒸着、ＣＶＤ法などによる方法で製膜を行
ない、次に、金属磁性膜４，５を形成したコア半体２，
３の金属磁性膜４，５面上にＳｉＯ２ やＣｒ２ Ｏ３
のギャップ材６を使用する場合、ギャップ材６が金属
磁性膜４，５と全く異質の材料であるため、製膜装置内
におけるターゲットを取り替える作業が必要であり、連
続的に製膜作業が行なえず、作業が繁雑となり工程にコ
ストを要するとともに、製膜装置の条件設定にも時間を
要し量産性が悪いという課題が生じていた。
１にあっては、そのギャップ７を形成する場合、各コア
半体２，３の突き合わせ面上に金属磁性膜４，５をスパ
ッタリング、蒸着、ＣＶＤ法などによる方法で製膜を行
ない、次に、金属磁性膜４，５を形成したコア半体２，
３の金属磁性膜４，５面上にＳｉＯ２ やＣｒ２ Ｏ３
のギャップ材６を使用する場合、ギャップ材６が金属
磁性膜４，５と全く異質の材料であるため、製膜装置内
におけるターゲットを取り替える作業が必要であり、連
続的に製膜作業が行なえず、作業が繁雑となり工程にコ
ストを要するとともに、製膜装置の条件設定にも時間を
要し量産性が悪いという課題が生じていた。
【０００４】本発明は、上記した課題に鑑みて発明され
たもので、ギャップの形成における作業工程の低減を量
産性の向上を目的とした磁気ヘッドを提供することを目
的とする。
たもので、ギャップの形成における作業工程の低減を量
産性の向上を目的とした磁気ヘッドを提供することを目
的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そこで、上述した課題を
解決するための手段として、本発明は、一対のコア半体
と、各コア半体の突き合わせ面に磁性金属膜を設けた磁
気ヘッドにおいて、この磁性金属膜の間に形成されるギ
ャップ部材は、磁性金属膜の酸化物、若しくは窒化物と
したものである。
解決するための手段として、本発明は、一対のコア半体
と、各コア半体の突き合わせ面に磁性金属膜を設けた磁
気ヘッドにおいて、この磁性金属膜の間に形成されるギ
ャップ部材は、磁性金属膜の酸化物、若しくは窒化物と
したものである。
【０００６】
【作用】コア半体の磁性金属膜形成面上に設ける非磁性
材のギャップ材を、磁性金属膜の酸化物若しくは窒化物
とすることより、ギャップ成形が、磁性金属膜形成工程
を利用して連続的に行なうことができることとなる。
材のギャップ材を、磁性金属膜の酸化物若しくは窒化物
とすることより、ギャップ成形が、磁性金属膜形成工程
を利用して連続的に行なうことができることとなる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面とともに説明す
ると、図１及び図２は本発明の一実施例になるメタル・
イン・ギャップ型の磁気ヘッド１０を示す。
ると、図１及び図２は本発明の一実施例になるメタル・
イン・ギャップ型の磁気ヘッド１０を示す。
【０００８】１１，１２は、本発明の磁気ヘッド１０を
構成するコア半体で、例えば単結晶フェライトで形成さ
れている。１３，１４はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ組成の強磁性
合金の金属磁性膜であり、夫々コア半体１１，１２の突
き合わせ面１５，１６上に形成してある。
構成するコア半体で、例えば単結晶フェライトで形成さ
れている。１３，１４はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ組成の強磁性
合金の金属磁性膜であり、夫々コア半体１１，１２の突
き合わせ面１５，１６上に形成してある。
【０００９】ここで、この金属磁性膜１３，１４は単一
層であり、膜厚としては１μｍ〜１５μｍ程度となって
いる。
層であり、膜厚としては１μｍ〜１５μｍ程度となって
いる。
【００１０】コア半体１１，１２はその接合に際し、低
融点ガラス１７によって接合され、前記した突き合わせ
面１５，１６に設けた金属磁性膜１３，１４はギャップ
材１８を介して突き合わされ、ここに磁気ヘッド１０の
ギャップ１９が形成されている。
融点ガラス１７によって接合され、前記した突き合わせ
面１５，１６に設けた金属磁性膜１３，１４はギャップ
材１８を介して突き合わされ、ここに磁気ヘッド１０の
ギャップ１９が形成されている。
【００１１】尚図中、２０は磁気ヘッド１０のトラック
幅規制溝に充填してある低融点ガラスであり、２１は巻
線コイルである。
幅規制溝に充填してある低融点ガラスであり、２１は巻
線コイルである。
【００１２】次に、ギャップ材１８について説明する
と、このギャップ材１８は、金属磁性膜１３，１４を形
成する強磁性合金膜を酸化若しくは窒化によって非磁性
化した酸化物あるいは窒化物の形態のもので、金属磁性
膜１３，１４を各コア半体１１，１２に、スパッタリン
グ、蒸着、ＣＶＤ製法等により形成した後、この製膜時
における製膜装置内のガス中のＯ２ （酸素）濃度ある
いは、Ｎ２ （窒素）濃度を調整してターゲットを変更
することなく、先に製膜した金属磁性膜１３，１４の上
に金属磁性体の非磁性酸化物あるいは非磁性窒化物を作
成し、これら酸化物若しくは窒化物をギャップ材１８と
したものである。
と、このギャップ材１８は、金属磁性膜１３，１４を形
成する強磁性合金膜を酸化若しくは窒化によって非磁性
化した酸化物あるいは窒化物の形態のもので、金属磁性
膜１３，１４を各コア半体１１，１２に、スパッタリン
グ、蒸着、ＣＶＤ製法等により形成した後、この製膜時
における製膜装置内のガス中のＯ２ （酸素）濃度ある
いは、Ｎ２ （窒素）濃度を調整してターゲットを変更
することなく、先に製膜した金属磁性膜１３，１４の上
に金属磁性体の非磁性酸化物あるいは非磁性窒化物を作
成し、これら酸化物若しくは窒化物をギャップ材１８と
したものである。
【００１３】
【発明の効果】従って、上記した構成からなる本発明の
磁気ベッドによれば、そのギャップ部の金属磁性膜を製
膜する際に、ターゲット交換作業を不要とし、同一工程
内でギャップ材の製膜が行なえ、一連の作業で金属磁性
膜ギャップ材の製膜作業が行なえることとなり、工程の
簡略化及び設備の有効利用を図って量産効果を向上させ
ることができ、合わせてコスト低減を図ることができ
る。
磁気ベッドによれば、そのギャップ部の金属磁性膜を製
膜する際に、ターゲット交換作業を不要とし、同一工程
内でギャップ材の製膜が行なえ、一連の作業で金属磁性
膜ギャップ材の製膜作業が行なえることとなり、工程の
簡略化及び設備の有効利用を図って量産効果を向上させ
ることができ、合わせてコスト低減を図ることができ
る。
【図１】本発明の磁気ヘッドの一実施例の正面図であ
る。
る。
【図２】図１の磁気ヘッドの平面図である。
【図３】従来の磁気ヘッドの一例の斜視図である。
【図４】図３の磁気ヘッドの平面図である。
１０ 磁気ヘッド １１，１２ コア半体 １３，１４ 金属磁性膜 １５，１６ 突き合わせ面 １７ 低融点ガラス １８ ギャップ材 １９ ギャップ
Claims (1)
- 【請求項１】 一対のコア半体と、各コア半体の突き合
わせ面に磁性金属膜を設けた磁気ヘッドにおいて、この
磁性金属膜の間に形成されるギャップ部材は、磁性金属
膜の酸化物、若しくは窒化物としたことを特徴とする磁
気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4038612A JPH05210820A (ja) | 1992-01-29 | 1992-01-29 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4038612A JPH05210820A (ja) | 1992-01-29 | 1992-01-29 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05210820A true JPH05210820A (ja) | 1993-08-20 |
Family
ID=12530089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4038612A Pending JPH05210820A (ja) | 1992-01-29 | 1992-01-29 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05210820A (ja) |
-
1992
- 1992-01-29 JP JP4038612A patent/JPH05210820A/ja active Pending
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