JPH01147078A - 透明電極パターン形成用エッチングインキ組成物及びその使用方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技免笈乱 本発明は透明電極パターンの形成に用いられるエツチン
グインキ組成物及びこの組成物を用いた透明電極パター
ンの形成方法に関する。

災末挟東 液晶デイスプレー、ＥＬデイスプレー、タッチパネル等
には透明導電性基板が使用されている。この透明導電性
基板は通常、プラスチックフィルムのような透明基板上
にＩＴＯ膜（酸化錫をドープした酸化インジウム膜）の
ような無機透明導電膜を蒸着、スパッタリング等の方法
で形成したものである。従来このような透明導電性基板
の導電膜面に電極パターンを形成する方法としては次の
ような工程からなる３つの方法が知られている。

（１）湿式法 感光性レジスト塗布→プリベーキング→露光→ポストベ
ーキング→現像→エツチング→レジスト剥離→洗浄 （２）乾式法 感光性フィルムラミネート→プリベーキング→露光→ポ
ストベーキング→現像→エツチング→レジスト剥離→洗
浄 （３）印刷法 レジストインキ印刷→ベーキング→エツチング→レジス
ト剥離→洗浄（第２図参照１図中１は透明電極膜、２は
透明基板、４はレジスト） なお（２）の方法は（１）の方法を乾式化したものであ
り、また（３）の方法は（１）又は（２）の方法におけ
る露光及び現像工程を省略したものである。

このように従来の透明電極パターンの形成方法は工程が
複雑な上、使用材料も多いため１歩留まりが低く、また
多くの設備投資を必要とし、このため製品のコスト高は
免れなかった。

目　　　　　的 本発明の目的はレジストを使用せず、従ってレジストに
関与する全ての工程及び材料を省略し、これにより歩留
まりを向上し、且つ設備投資を少なくして製品コストを
大巾に低減した。

実質的にワンショットの新規な透明電極パターンの形成
方法及びこの方法に使用されるエツチングインキ組成物
を提供することである。

碧−−」父 本発明の透明電極パターン形成用エツチングインキ組成
物はグリコール又はグリコールエーテル中に酸又は解離
して酸となる塩酸を溶解又は分散してなるものであり、
また本発明の透明電極パターン形成方法は無機系透明導
電膜付き透明基板の前記導電膜に所望の電極パターンを
有するスクリーン印刷マスクを介して前記エツチングイ
ンキ組成物を印刷して前記導電膜を電極パターン状にエ
ツチングすることを特徴とするものである。

まず本発明のエツチングインキ組成物について説明する
。このインキ組成物に使用される材料の具体例は次の通
りである。

酸： 塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等の無機酸又は蟻酸、多酸等の
有機酸。

解離して酸となる塩類： 塩化亜鉛、塩化錫、塩化鉄、硝酸亜鉛、硝酸錫、硫酸銅
等の無機強酸の金属塩類。

溶媒又は分散媒： エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチ
レングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル等のグリコールはグリ
コールエーテル類。

その他、必要に応じて下記のようなフィラー及び／バイ
ンダーを添加することができる。

フィラー： シリカ、酸化チタン、クレー、炭酸カルシウム、硫酸バ
リウム、炭酸マグネシウム等の無機顔料又はカーボン、
ポリスチレン等の微粉末有機顔料。

バインダー： ポリビニールアルコール、ポリアクリルアミド、ヒドロ
キシメチルセルロース、ゼラチン等の水溶性高分子物質
。

以上の材料の配合割合は溶媒又は分散媒１重量部に対し
て酸又は前記塩類０．０５〜２重量部、フィラー０．２
重量部以下、バインダー０．２重量部以下が好ましい。

これらの材料を混練機に入れ、０．５〜１時間混練すれ
ば本発明のインキ組成物が得られる。

次に以上のようなエツチングインキ組成物を用いて透明
電極パターンを形成するには第１図に示すように、透明
基板２上の透明導電性膜１に所望の電極パターンを有す
るスクリーン印刷マスク（図示せず）を介してインキ組
成物３を印刷すればよい。これにより透明導電膜の印刷
部はインキ組成物によってエツチングされるから、次に
水洗を行なってこのエツチング反応を停止させる。

この方法で使用される透明導電膜付き透明基板としては
ポリエステル、ポリエーテルサルフオン、トリアセテー
ト、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート等の透明なプラ
スチックフィルムやガラス板等の上に蒸着又はスパッタ
リングによりＩＴＯ１酸化錫（ＮＥＳＡ）、金、酸化亜
鉛等の無機材料膜を設けたものが使用される。

スクリーン印刷マスクとしてはインキ組成物の粘度によ
り１００〜４００メツシユのものが選択使用される。マ
スクの材質はプラスチックのように酸に侵されないもの
であればいかなるものでもよい。

印刷機としては市販のスクリーン印刷機がそのまま使用
できる。

以下に本発明を実施例によって説明する。なお部は全て
重量部である。

実施例　Ｉ ＩＴＯ膜付き透明導電性ポリエステルフィルム（セレッ
クＴ、ダイセル社製）のＩＴＯ膜上に市販のスクリーン
印刷機（ＬＴ−４５Ａ、ニューロング社製）により所望
の電極パターンを有するスクリーン印刷マスク（２００
メツシユのシルクスクリーン）を介して下記処方のエツ
チングインキ組成物（混練物）を印刷した。

エチレングリコール　　　　　　　　１部製　ａ　酸　
　　　　　　　　　　０．０１部シリカ（平均粒径１μ
ｍ）　　　　　　０．０１部炭酸カルシウム（平均粒径
３μｍ）　　０．００５部印刷後、１０分間放置し、水
洗浴中で５分間流水洗浄後、自然乾燥させた。

エツジのシャープなエツチング残りやピンホールのない
所望の電極パターンが得られた。

実施例　２ ＩＴＯ膜付き透明導電性ポリエーテルサルフオンフイル
ム（ＦＳＴ−１３３０、住人ベークライト社製）のＩＴ
Ｏ膜上に実施例１と同様の操作で下記処方のエツチング
インキ組成物を印刷した。

ポリエチレングリコール（平均分子量２００）　　　１
部濃塩酸　　　　　　　０．０１３部 コロイド状シリカ（平均粒径０．１μｍ）　　　　０．
０２部ポリビニルアルコール　　　　　　　　　　０．
０１部印刷後、約５分間放置し、水洗浴中で３分間シャ
ワー洗浄し、水切り後、更にトリエタンで５分間超音波
洗浄し、ついで自然乾燥させた。

エツジのシャープなエツチング残りやピンホールのない
所望の電極パターンが得られた。

実施例　３ ＩＴＯ膜付き透明導電性ポリエステルフィルム（ＧＥ、
グンゼ社製）の上に実施例１と同様の操作で下記処方の
エツチングインキ組成物を印刷した。

ジエチレングリコールモノメチルエーテル　０．３部プ
ロピレングリコール　　　　　　　　　　０．７部塩化
第−錫　　　　　　　　０．０１５部酸化チタン　　　
　　　　　　０．０１部印刷後、そのまま水洗浴中で１
０分間流水洗浄し、水切り後、自然乾燥した。

エツジのシャープな、エツチング残りやピンホールのな
い所望の電極パターンが得られた。

効　　　果 本発明の電極パターン形成方法はレジストを用いないの
で、従来の最も簡単な印刷方式に比べてもレジストに関
与する全ての工程、即ちレジストインキ印刷、ベーキン
グ及びレジスト剥離の工程が省略でき、しかも剥離液も
不要となり、このため歩留まりが向上し、設備投資も低
減される結果、製品コストが大巾に低減されるという利
点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の透明電極パターン形成方法の工程図、
第２図は従来の印刷方式による透明電極パターン形成方
法の工程図である。 １・−・無機系透明導電膜２・・・透明基板３・・・エ
ツチングインキ組成物 ４・・・レジスト 帛１図 ↓ 跣矛 帛２図 ↓ ：＆斧

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、グリコール又はグリコールエーテル中に酸又は解離
   して酸となる塩類を溶解又は分散してなる透明電極パタ
   ーン形成用エッチングインキ組成物。 ２、無機系透明導電膜付き透明基板の前記導電膜に所望
   の電極パターンを有するスクリーン印刷マスクを介して
   、グリコール又はグリコールエーテル中に酸又は解離し
   て酸となる塩類を溶解又は分散してなるエッチングイン
   キ組成物を印刷して前記導電膜を電極パターン状にエッ
   チングすることを特徴とする透明電極パターンの形成方
   法。