JPH01145A - 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 - Google Patents
熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板Info
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- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は熱硬化性樹脂組成物、それ?用いたプリプレグ
及び積層板に係り、特に難燃性、耐熱性及び電気特性に
優れた多層プリント回路板に好適な積層材料に関する。
及び積層板に係り、特に難燃性、耐熱性及び電気特性に
優れた多層プリント回路板に好適な積層材料に関する。
従来、多層プリント回路板用積層材料として、難燃性を
付与する為にブロム化変性樹脂や添加型難燃剤を用いた
フェノール樹脂、エポキシ樹脂及びポリイミド樹脂等の
積層板が主に使用されている。特に大型計算機には高密
度化が望まれ、耐熱性、寸法安定性の優れ九ポリイミド
系樹脂が用いられている。しかし、近年、大型計算機の
高速演算処理化に伴い、信号伝送速度の向上のため、電
気特性の優れたプリント回路板が要求されている。
付与する為にブロム化変性樹脂や添加型難燃剤を用いた
フェノール樹脂、エポキシ樹脂及びポリイミド樹脂等の
積層板が主に使用されている。特に大型計算機には高密
度化が望まれ、耐熱性、寸法安定性の優れ九ポリイミド
系樹脂が用いられている。しかし、近年、大型計算機の
高速演算処理化に伴い、信号伝送速度の向上のため、電
気特性の優れたプリント回路板が要求されている。
特に信号伝送遅延時間を短かくし、かつ回路厚?小さく
するために低誘電率のプリント回路板が必要とされてい
る。このような低誘電率積層材料として四7ツ化エチレ
ン樹脂C以下、FTFBという)、ポリブタジェン樹脂
積層板等が開発されている。この種の積層板に関するも
のとして、例えば、プロシーディング オプ NKPC
ON(Proc、 N E P OON )第160〜
169頁(1981)、工FiE1ii ?ランザク
ションス オンエvクトリカル インシュレーション(
工1■。
するために低誘電率のプリント回路板が必要とされてい
る。このような低誘電率積層材料として四7ツ化エチレ
ン樹脂C以下、FTFBという)、ポリブタジェン樹脂
積層板等が開発されている。この種の積層板に関するも
のとして、例えば、プロシーディング オプ NKPC
ON(Proc、 N E P OON )第160〜
169頁(1981)、工FiE1ii ?ランザク
ションス オンエvクトリカル インシュレーション(
工1■。
Transactions on ]!1leatri
cal工naulation ’) lニー18、l’
に2、第131〜137頁(1983)及び特開昭55
−127426号公報等が挙げられる。
cal工naulation ’) lニー18、l’
に2、第131〜137頁(1983)及び特開昭55
−127426号公報等が挙げられる。
しかしFTFI積層板は、樹脂が熱可塑性であり、ガラ
ス転移温度が低いため、高温における熱膨張率が大きく
寸法安定性が十分でないなどの問題があり、特に多層化
接着した際のスルーホール信頼性等に不安があって、多
層プリント回路板に適用する場合エポキシ樹脂と同程度
の配線密度をとっており、低誘電率材料としてのメリッ
トがあまりない。また、PTFI!iには適当な溶媒が
ないので、一般に加熱溶融圧着による接着法がとられて
いるが、溶融温度が非常に高いという欠点がある。また
、ポリブタジェン樹脂は分子構造上、易燃性であるとい
う欠点がらり、難燃性を付与する為にデカブロモジフェ
ニルエーテル、トリフェニルホスフェート等の添加型雌
燃剤やトリフ”l:1−T−フェニルメタクリレート、
トリブロモフェニルアクリレート等の反応型難燃剤を添
加する必要があるが、これらの添加によりポリブタジェ
ン樹脂本来の電気特性、耐熱性1寸法安定性を損うとい
う問題がある。
ス転移温度が低いため、高温における熱膨張率が大きく
寸法安定性が十分でないなどの問題があり、特に多層化
接着した際のスルーホール信頼性等に不安があって、多
層プリント回路板に適用する場合エポキシ樹脂と同程度
の配線密度をとっており、低誘電率材料としてのメリッ
トがあまりない。また、PTFI!iには適当な溶媒が
ないので、一般に加熱溶融圧着による接着法がとられて
いるが、溶融温度が非常に高いという欠点がある。また
、ポリブタジェン樹脂は分子構造上、易燃性であるとい
う欠点がらり、難燃性を付与する為にデカブロモジフェ
ニルエーテル、トリフェニルホスフェート等の添加型雌
燃剤やトリフ”l:1−T−フェニルメタクリレート、
トリブロモフェニルアクリレート等の反応型難燃剤を添
加する必要があるが、これらの添加によりポリブタジェ
ン樹脂本来の電気特性、耐熱性1寸法安定性を損うとい
う問題がある。
本発明の目的は、従来、大型計算機に使用されているポ
リイミド系多層プリント配線板に変わる材料として、ポ
リイミド積層材料と同程度の高密度配線が可能で難燃性
を有する低誘電率積層材料に関するものであって、その
ための樹脂組成物、プリプレグ及び積層板を提供するこ
とに6る。
リイミド系多層プリント配線板に変わる材料として、ポ
リイミド積層材料と同程度の高密度配線が可能で難燃性
を有する低誘電率積層材料に関するものであって、その
ための樹脂組成物、プリプレグ及び積層板を提供するこ
とに6る。
本発明を概説すれば、本発明の第1の発明は熱硬化性樹
脂組成物に関する発明であって、(a)下記−紋穴■: (式中、ムはアルキル基又は)〜ロゲン、Rは炭素数2
〜4のアルケニル基又はアルケノイル基、mは0〜4の
数、nは1〜100の数を示す)で表されるポリ(p−
ヒドロキシスチレン)誘導体からなるプレポリマーと、 (b)下記−紋穴I[: (式中、R1及びR,は同−又は異なり、水素、メチル
基又はハロゲン、2はメチル基又はハロゲン、tは0〜
4の数を示す)で表される基、又は2〜8個の炭素原子
を有し、そのうち、2個のカルボニル基と結合する2つ
の炭素原子同志が2重結合で結ばれてiろ2価のエチレ
ン性不飽和基、Xはエチニル基、ビニル基、アリル基、
アクリロイル基又はメタクリロイル基を示す〕で表され
るN−置換不飽和イミド系化合物とを必須成分として含
有していることを特徴とする。
脂組成物に関する発明であって、(a)下記−紋穴■: (式中、ムはアルキル基又は)〜ロゲン、Rは炭素数2
〜4のアルケニル基又はアルケノイル基、mは0〜4の
数、nは1〜100の数を示す)で表されるポリ(p−
ヒドロキシスチレン)誘導体からなるプレポリマーと、 (b)下記−紋穴I[: (式中、R1及びR,は同−又は異なり、水素、メチル
基又はハロゲン、2はメチル基又はハロゲン、tは0〜
4の数を示す)で表される基、又は2〜8個の炭素原子
を有し、そのうち、2個のカルボニル基と結合する2つ
の炭素原子同志が2重結合で結ばれてiろ2価のエチレ
ン性不飽和基、Xはエチニル基、ビニル基、アリル基、
アクリロイル基又はメタクリロイル基を示す〕で表され
るN−置換不飽和イミド系化合物とを必須成分として含
有していることを特徴とする。
また、本発明の第2の発明はプリプレグに関する発明で
あって、樹脂組成物を基材に含浸、乾燥してなるプリプ
レグにおいて、該樹脂組成物が、上記本発明の第1の発
明の熱硬化性樹脂組成物を溶媒に溶かしワニス状とした
もめであることを特徴とする。
あって、樹脂組成物を基材に含浸、乾燥してなるプリプ
レグにおいて、該樹脂組成物が、上記本発明の第1の発
明の熱硬化性樹脂組成物を溶媒に溶かしワニス状とした
もめであることを特徴とする。
更に、本発明の第3の発明は積層板に関する発明であっ
て、樹脂組成物を基材に含浸、乾燥してなるプリプレグ
を積層接着した積層板において、核樹脂組成物が、前記
第1の発明の熱硬化性樹脂組成物であることを特数とす
る。
て、樹脂組成物を基材に含浸、乾燥してなるプリプレグ
を積層接着した積層板において、核樹脂組成物が、前記
第1の発明の熱硬化性樹脂組成物であることを特数とす
る。
本発明の熱硬化性樹脂組成物の必須成分であるプレポリ
マーは、前記のように一般式[1Fで表される。その具
体例をあげれば、前記−紋穴IK該当する化合物として
は、ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のビニルエーテル
、イソブテニルエーテル、アリルエーテルと、アクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、エポキシツタクリ
ル酸エステル及びそれらの臭化物がある。これらは所望
に応じ1種又は2種以上使用される。
マーは、前記のように一般式[1Fで表される。その具
体例をあげれば、前記−紋穴IK該当する化合物として
は、ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のビニルエーテル
、イソブテニルエーテル、アリルエーテルと、アクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、エポキシツタクリ
ル酸エステル及びそれらの臭化物がある。これらは所望
に応じ1種又は2種以上使用される。
前記一般弐■で表されるN−置換不飽和イミド系化合物
は、一般弐■: 入 (式中、又は前記式■と同義である)で表されるアミン
化合物と、−紋穴■: (式中、pは前記式■と同義である)で表される不飽和
ジカルボン酸無水物と全付加反応させ、その後脱水縮合
反応させることにより得ることができる。前記−紋穴V
で表される不飽和ジカルボン酸無水物としては例えばエ
ンドメチレンテトラヒドロ無水7タル酸、ジクロロエン
ドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、ジブロモエンド
メチレンテトラヒドロ無水フタル酸、エンドジクロロメ
チレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレ
ンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルジクロロエンドメ
チレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルジブロモエン
ドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸無水マレイン酸、
メチル無水マレイン酸、工+#m水マレイン酸、フェニ
ル無水マレイン酸、モノクロロ無水マレイン酸、モノブ
ロモ無水マVイン酸、ジクロル無水マVイン酸、ジブロ
モ無水マレイン酸、無水イタコン酸などがあり、これら
の少なくとも1種が用いられる。
は、一般弐■: 入 (式中、又は前記式■と同義である)で表されるアミン
化合物と、−紋穴■: (式中、pは前記式■と同義である)で表される不飽和
ジカルボン酸無水物と全付加反応させ、その後脱水縮合
反応させることにより得ることができる。前記−紋穴V
で表される不飽和ジカルボン酸無水物としては例えばエ
ンドメチレンテトラヒドロ無水7タル酸、ジクロロエン
ドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、ジブロモエンド
メチレンテトラヒドロ無水フタル酸、エンドジクロロメ
チレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレ
ンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルジクロロエンドメ
チレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルジブロモエン
ドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸無水マレイン酸、
メチル無水マレイン酸、工+#m水マレイン酸、フェニ
ル無水マレイン酸、モノクロロ無水マレイン酸、モノブ
ロモ無水マVイン酸、ジクロル無水マVイン酸、ジブロ
モ無水マレイン酸、無水イタコン酸などがあり、これら
の少なくとも1種が用いられる。
本発明のN−置換不飽和イミド系化合物の合成は公知の
方法によって行うことができる。例えば一般弐■のアミ
ン化合物及び−紋穴Vの不飽和ジカルボン酸無水物を有
機溶剤中で接触させる方法がある。
方法によって行うことができる。例えば一般弐■のアミ
ン化合物及び−紋穴Vの不飽和ジカルボン酸無水物を有
機溶剤中で接触させる方法がある。
まず、この反応によってアミド酸が生成され、次に、環
化脱水させてイミドW1を生成させる。この方法として
は、米国特許第1Q18,290号、同!4127.4
14号各明細書などに記載の公知の方法を用いればよい
。
化脱水させてイミドW1を生成させる。この方法として
は、米国特許第1Q18,290号、同!4127.4
14号各明細書などに記載の公知の方法を用いればよい
。
前記のポリ(p−ヒドロキシスチレン)誘導体とN−置
換不飽和イミド系化合物の配合比(重t)Fi90:1
0〜10:90の範囲で選ばれ、前者の含有率がこれよ
り多いと流動性が悪くなり、熱硬化性樹脂の熱膨張率が
大きくなる。また、それが少なすぎると、難燃性、耐熱
性が低下する。特に好ましい両成分の比率は70:30
〜30ニア0である。
換不飽和イミド系化合物の配合比(重t)Fi90:1
0〜10:90の範囲で選ばれ、前者の含有率がこれよ
り多いと流動性が悪くなり、熱硬化性樹脂の熱膨張率が
大きくなる。また、それが少なすぎると、難燃性、耐熱
性が低下する。特に好ましい両成分の比率は70:30
〜30ニア0である。
また、必要に応じ、本発明の目的を損わない範囲で3官
能以上の多塩基酸及び/又は多価アルコールを併用して
もよい。架橋剤としては例えばス。
能以上の多塩基酸及び/又は多価アルコールを併用して
もよい。架橋剤としては例えばス。
チレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、ジビニ
ルベンゼン、ジアリルフタ7−ト、ジアリルフタレート
クレボリマー、クロロスチレン、シクロaスチレン、フ
ロモス−F−1/ン、シフロモスチレン、ジアリルベン
ゼンホスホネート、シアリル717−ルホスフイン酸エ
ステル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
トリアリルシアヌV−ト、トリアリルシアヌレ−ドグ7
ボリマー、トリブロモフェノールアリルエーテルなトカ
用いられる。
ルベンゼン、ジアリルフタ7−ト、ジアリルフタレート
クレボリマー、クロロスチレン、シクロaスチレン、フ
ロモス−F−1/ン、シフロモスチレン、ジアリルベン
ゼンホスホネート、シアリル717−ルホスフイン酸エ
ステル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
トリアリルシアヌV−ト、トリアリルシアヌレ−ドグ7
ボリマー、トリブロモフェノールアリルエーテルなトカ
用いられる。
更に、ブタジェン系化合物と組合せて使用することによ
り、耐熱性、可とう性に浸れた硬化物を得ることができ
る。ブタジェン系化合物としては、特に分子量的300
〜1[1,000の1.2−ポリブタジェン、1.3−
ポリブタジェン、1.4−ポリブタジェン並びにブタジ
ェン−スチレン共重合体及びブタジェン−アクリロニト
リル共重合体、そして更に上記各重合体の末端に反応性
基として、カルホー?シル基、水酸基、アミン基、アル
デヒド基、ニトロ基、イソシアネート基、エポキシ基及
びビニル基を有するものなどの少なくとも1種が用いら
れる。
り、耐熱性、可とう性に浸れた硬化物を得ることができ
る。ブタジェン系化合物としては、特に分子量的300
〜1[1,000の1.2−ポリブタジェン、1.3−
ポリブタジェン、1.4−ポリブタジェン並びにブタジ
ェン−スチレン共重合体及びブタジェン−アクリロニト
リル共重合体、そして更に上記各重合体の末端に反応性
基として、カルホー?シル基、水酸基、アミン基、アル
デヒド基、ニトロ基、イソシアネート基、エポキシ基及
びビニル基を有するものなどの少なくとも1種が用いら
れる。
次に本発明eこおける積層板の一般的な製造方法につい
て説明する。
て説明する。
まず、ポリ(p−ヒドロキシスチレン)誘導体及びN−
置換不飽和イミド系化合物を有機溶媒に溶解させてプレ
スをyA製す−る。有機溶剤としては?11 エIr!
、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケト
ン、N、N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、トリクロロエチレン、ト
リクロロエタン、塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチ
ル等であり、前記樹脂組成物を均一に溶解する溶媒であ
れば限定することなく使用できる。調整したこのプレス
にラジカル重合開始剤を添加して含浸用ワニスとする。
置換不飽和イミド系化合物を有機溶媒に溶解させてプレ
スをyA製す−る。有機溶剤としては?11 エIr!
、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケト
ン、N、N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、トリクロロエチレン、ト
リクロロエタン、塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチ
ル等であり、前記樹脂組成物を均一に溶解する溶媒であ
れば限定することなく使用できる。調整したこのプレス
にラジカル重合開始剤を添加して含浸用ワニスとする。
ラジカル重合剤としての典型的例としては、ベンゾイル
パーオキシド、ジクミルノく−オキシド、メチルエチル
ケトンパーオキ7ド、−t−ブチル/(−オキシラウエ
ート、ジ−t−ブチルパーオキタフタレート、ジベンジ
ルパーオキシド、2.5−ジメチル−2,5−ジ(t−
ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオ
キシド、t−ブチルハイドロパーオキシド、ジ−t−ブ
チルパーオキシド、2.5−ジメチル−2,5−ジ(t
−ブチルパーオキシ)ヘキシン(3)、ジイソプロピル
ベンゼンハイドロパーオキシド、p−メンタンハイドロ
パーオキシド、ピナンノ飄イドロバーオキシド、2.5
−ジメチルヘキサン−2,5−シノーイドロバ−オキシ
ド、クメンハイドロパーオキシドなどがある。これらは
樹脂組成物100重量部に対して好ましくは[L1〜1
0重量部添加する。
パーオキシド、ジクミルノく−オキシド、メチルエチル
ケトンパーオキ7ド、−t−ブチル/(−オキシラウエ
ート、ジ−t−ブチルパーオキタフタレート、ジベンジ
ルパーオキシド、2.5−ジメチル−2,5−ジ(t−
ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオ
キシド、t−ブチルハイドロパーオキシド、ジ−t−ブ
チルパーオキシド、2.5−ジメチル−2,5−ジ(t
−ブチルパーオキシ)ヘキシン(3)、ジイソプロピル
ベンゼンハイドロパーオキシド、p−メンタンハイドロ
パーオキシド、ピナンノ飄イドロバーオキシド、2.5
−ジメチルヘキサン−2,5−シノーイドロバ−オキシ
ド、クメンハイドロパーオキシドなどがある。これらは
樹脂組成物100重量部に対して好ましくは[L1〜1
0重量部添加する。
次に得られた含浸用ワニスをシート状基材に含浸塗工し
、室温〜170℃で乾燥し、粘着性のないプリプレグを
得る。この時の乾燥温度の設定は用いた溶媒及び開始剤
等によって決まる。最後に得られたプリプレグを必要枚
数重ね、100〜250℃で1〜100 kgf/cm
”の圧力下で加熱硬化反応を行い積層板を得る。
、室温〜170℃で乾燥し、粘着性のないプリプレグを
得る。この時の乾燥温度の設定は用いた溶媒及び開始剤
等によって決まる。最後に得られたプリプレグを必要枚
数重ね、100〜250℃で1〜100 kgf/cm
”の圧力下で加熱硬化反応を行い積層板を得る。
シート状基材としては、一般に積層材料に使用されてい
るものはほとんどすべて使用できる。無機繊維としては
、sio、、ム7401等を成分とするEガラス、Cガ
ラス、ムガラス、Sガラス、Dガラス、YM−51−A
ガラス及び石英を使用したQガラス等の各種ガラス繊維
がろる。また、有機繊維としては、芳香族ポリアミドイ
ミド骨格を有する高分子化合物を成分とするアラミド繊
維等がある。
るものはほとんどすべて使用できる。無機繊維としては
、sio、、ム7401等を成分とするEガラス、Cガ
ラス、ムガラス、Sガラス、Dガラス、YM−51−A
ガラス及び石英を使用したQガラス等の各種ガラス繊維
がろる。また、有機繊維としては、芳香族ポリアミドイ
ミド骨格を有する高分子化合物を成分とするアラミド繊
維等がある。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1
臭素化ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のメタクリル酸
エステルと5−N−マレイミドエチニルベンゼンをメチ
ルエチルケトンに溶解させ、重合体配合比1:1(重量
比)、固形分量40〜50重量係のプレスを得た。更に
ラジカル重合開始剤としてジクミルパーオキシドを該ワ
ニス100重量部に対し2重」部添加した後、このワニ
スをガラスクロス布(日東紡社製罵ガラス、厚さα1■
)に含浸塗工し、100〜120℃、10分間恒温空気
中で乾燥してタックフリーのプリプレグを得た0次に、
該プリプレグを10枚重ね圧力30に9f/am”、温
度130℃、30分加熱し、更に220℃に昇温させて
1時間接着硬化反応をプレス中で行い、積層板を作製し
た。
エステルと5−N−マレイミドエチニルベンゼンをメチ
ルエチルケトンに溶解させ、重合体配合比1:1(重量
比)、固形分量40〜50重量係のプレスを得た。更に
ラジカル重合開始剤としてジクミルパーオキシドを該ワ
ニス100重量部に対し2重」部添加した後、このワニ
スをガラスクロス布(日東紡社製罵ガラス、厚さα1■
)に含浸塗工し、100〜120℃、10分間恒温空気
中で乾燥してタックフリーのプリプレグを得た0次に、
該プリプレグを10枚重ね圧力30に9f/am”、温
度130℃、30分加熱し、更に220℃に昇温させて
1時間接着硬化反応をプレス中で行い、積層板を作製し
た。
実施例2
臭素化ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のアクリル酸エ
ステルを用いた以外は実/1lIifl11と同様にし
て積層板を得た。
ステルを用いた以外は実/1lIifl11と同様にし
て積層板を得た。
実施例3
臭素化ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のアリルエーテ
ルを用いた以外は実施例1と同様にして積層板を得た。
ルを用いた以外は実施例1と同様にして積層板を得た。
実施例4
ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のメタクリル酸エステ
ルを用いた以外は実施例1と同様にして積層板を得た。
ルを用いた以外は実施例1と同様にして積層板を得た。
実施例5
ト置換不飽和イミド系化合物として、エンドメチレンテ
トラヒドロフタル酸イミド−エチニルベンゼンを用いた
以外は実施例1と同様にして積層板をイυた。
トラヒドロフタル酸イミド−エチニルベンゼンを用いた
以外は実施例1と同様にして積層板をイυた。
比較例1
臭素化ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のメタクリル酸
エステルのみを用いた以外は実施例1と同様にして積層
板を得た。
エステルのみを用いた以外は実施例1と同様にして積層
板を得た。
比較例2
臭素化ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のアクリル酸エ
ステルと1.2−ポリブタジェン(分子量1.5X10
i、側鎖ビニル基金!i90%以上)fI:ヤシシン中
で80℃、30分加熱溶解させ、重合体配合比1:1(
重量比)、固形分[30〜40重量憾のワニスを用いた
以外は実施例1と同様にして積層板を得た。
ステルと1.2−ポリブタジェン(分子量1.5X10
i、側鎖ビニル基金!i90%以上)fI:ヤシシン中
で80℃、30分加熱溶解させ、重合体配合比1:1(
重量比)、固形分[30〜40重量憾のワニスを用いた
以外は実施例1と同様にして積層板を得た。
比較例3及び4
エポキシ積層板MOL−1−67(日立化成社製)ポリ
イミド積層板MOL−ニー67(日立化成社製)を比較
例3及び4とする。
イミド積層板MOL−ニー67(日立化成社製)を比較
例3及び4とする。
前記、実施例及び比較例による積層板の主な特性を表1
に示す。なお、ガラス転移温度は直径10■、厚さ約2
−の樹脂硬化物の熱膨張率を昇温速度2℃/ minで
測定し、熱膨張率が変化する温度をガラス転移温度とし
た。
に示す。なお、ガラス転移温度は直径10■、厚さ約2
−の樹脂硬化物の熱膨張率を昇温速度2℃/ minで
測定し、熱膨張率が変化する温度をガラス転移温度とし
た。
熱分解温度は〜1脂硬化物を粉砕した試料10岬につい
て、空気雰囲気中、昇温速度5℃/winで測定し、5
%減扉したときの温度を熱分解温度とした。比誘電率の
測定はJ工S C641111に準じて行い周波数I
MI(zの靜電容Qを測定して比誘電率を求めた。線膨
張係数は槓帰板(10■角)の厚さ方向の熱膨張率を昇
温速度2℃/minで測定し、50℃から200℃まで
の変化量から求めた。
て、空気雰囲気中、昇温速度5℃/winで測定し、5
%減扉したときの温度を熱分解温度とした。比誘電率の
測定はJ工S C641111に準じて行い周波数I
MI(zの靜電容Qを測定して比誘電率を求めた。線膨
張係数は槓帰板(10■角)の厚さ方向の熱膨張率を昇
温速度2℃/minで測定し、50℃から200℃まで
の変化量から求めた。
半田耐熱性はJXB O6481に準じて行い、300
℃、300秒で外観の異常の有無を調べた。a燃性はu
L−94垂)a法に準じて611j定を行った。樹脂流
れは150−角のプリブVグを5枚重ね、30に9f/
ex”の加圧下で130℃、30分加熱成形し、樹脂の
はみ出し股から値を求めた。
℃、300秒で外観の異常の有無を調べた。a燃性はu
L−94垂)a法に準じて611j定を行った。樹脂流
れは150−角のプリブVグを5枚重ね、30に9f/
ex”の加圧下で130℃、30分加熱成形し、樹脂の
はみ出し股から値を求めた。
本発明の熱硬化性樹脂組成物を用いることにより、慣用
の装置と工程をそのままにして、タックフリーのプリプ
レグを容易に作製し、更に積層板の成形性が良好でアリ
、耐熱性、難燃性を兼ね備えた低誘電率積層材料を製造
することが可能である。
の装置と工程をそのままにして、タックフリーのプリプ
レグを容易に作製し、更に積層板の成形性が良好でアリ
、耐熱性、難燃性を兼ね備えた低誘電率積層材料を製造
することが可能である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)下記一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[ I ] (式中、Aはアルキル基又はハロゲン、Rは炭素数2〜
4のアルケニル基又はアルケノイル基mは0〜4の数、
nは1〜100の数を示す)で表されるポリ(p−ヒド
ロキシスチレン)誘導体からなるプレポリマーと、 (b)下記一般式II: ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[II] 〔式中、Dは式▲数式、化学式、表等があります▼若し
くは▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2は同一又は異なり、水素、メ
チル基又はハロゲン、Zはメチル基又はハロゲン、lは
0〜4の数を示す)で表される基、又は2〜8個の炭素
原子を有し、そのうち、2個のカルボニル基と結合する
2つの炭素原子同志が2重結合で結ばれている2価のエ
チレン性不飽和基、Xはエチニル基、ビニル基、アリル
基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を示す]で表
されるN−置換不飽和イミド系化合物とを必須成分とし
て含有していることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。 2、該式IIの化合物が、下記一般式III: ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[III] (式中、Xは式IIと同義である)で表される化合物であ
る特許請求の範囲第1項記載の熱硬化性樹脂組成物。 3、樹脂組成物を基材に含浸、乾燥してなるプリプレグ
において、該樹脂組成物が、(a)下記一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[ I ] (式中、Aはアルキル基又はハロゲン、Rは炭素数2〜
4のアルケニル基又はアルケノイル基、mは0〜4の数
、nは1〜100の数を示す)で表されるポリ(p−ヒ
ドロキシスチレン)誘導体からなるプレポリマーと、 (b)下記一般式II: ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[II] 〔式中、Dは式▲数式、化学式、表等があります▼若し
くは▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2は同一又は異なり、水素、メ
チル基又はハロゲン、Zはメチル基又はハロゲン、lは
0〜4の数を示す)で表される基、又は2〜8個の炭素
原子を有し、そのうち、2個のカルボニル基と結合する
2つの炭素原子同志が2重結合で結ばれている2価のエ
チレン性不飽和基、Xはエチニル基、ビニル基、アリル
基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を示す]で表
されるN−置換不飽和イミド系化合物とを必須成分とし
て含有している熱硬化性樹脂組成物を溶媒に溶かしワニ
ス状としたものであることを特徴とするプリプレグ。 4、樹脂組成物を基材に含浸、乾燥してなるプリプレグ
を積層接着した積層板において、該樹脂組成物が、(a
)下記一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[ I ] (式中、Aはアルキル基又はハロゲン、Rは炭素数2〜
4のアルケニル基又はアルケノイル基、mは0〜4の数
、nは1〜100の数を示す)で表されるポリ(p−ヒ
ドロキシスチレン)誘導体からなるプレポリマーと、 (b)下記一般式II: ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[II] 〔式中、Dは式▲数式、化学式、表等があります▼若し
くは▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2は同一又は異なり、水素、メ
チル基又はハロゲン、Zはメチル基又はハロゲン、lは
0〜4の数を示す)で表される基、又は2〜8個の炭素
原子を有し、そのうち、2個のカルボニル基と結合する
2つの炭素原子同志が2重結合で結ばれている2価のエ
チレン性不飽和基、Xはエチニル基、ビニル基、アリル
基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を示す]で表
されるN−置換不飽和イミド系化合物とを必須成分とし
て含有している熱硬化性樹脂組成物であることを特徴と
する積層板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15354887A JPS64145A (en) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | Thermosetting resin composition, prepreg and laminate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15354887A JPS64145A (en) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | Thermosetting resin composition, prepreg and laminate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01145A true JPH01145A (ja) | 1989-01-05 |
JPS64145A JPS64145A (en) | 1989-01-05 |
Family
ID=15564916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15354887A Pending JPS64145A (en) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | Thermosetting resin composition, prepreg and laminate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS64145A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6227063A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Parker Aresutaa Kk | 浮遊塗料ミスト封じ込め塗装用チヤンバ |
US5045381A (en) * | 1988-09-30 | 1991-09-03 | Hitachi, Ltd. | Thermosetting resin composition, printed circuit board using the resin composition and process for producing printed circuit board |
US6969478B1 (en) * | 2000-10-12 | 2005-11-29 | Lion Apparel, Inc. | Fiberglass composite firefighting helmet and method for making a fiberglass composite firefighting helmet |
-
1987
- 1987-06-22 JP JP15354887A patent/JPS64145A/ja active Pending
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