JPH01142712A - カラー液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
カラー液晶表示装置およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH01142712A JPH01142712A JP62291677A JP29167787A JPH01142712A JP H01142712 A JPH01142712 A JP H01142712A JP 62291677 A JP62291677 A JP 62291677A JP 29167787 A JP29167787 A JP 29167787A JP H01142712 A JPH01142712 A JP H01142712A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- shielding layer
- color
- liquid crystal
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims abstract description 23
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 15
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 46
- 239000010408 film Substances 0.000 description 45
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、カラーフィルタを有しカラー表示が行えるカ
ラー液晶表示装置およびその製造方法に関する。
ラー液晶表示装置およびその製造方法に関する。
［従来の技術］
一般に、液晶表示装置は、対向配置されたガラス基板の
対向面に多数の画素を構成するように透明電極を形成し
、これら電極の内側に液晶組成物を挟持させた構造含有
する。
対向面に多数の画素を構成するように透明電極を形成し
、これら電極の内側に液晶組成物を挟持させた構造含有
する。
ところで、このような液晶表示装置においては、高コン
トラストを得るために、画素間に遮光部材を設け、隣接
する画素からの光漏れを防止することが行われている。
トラストを得るために、画素間に遮光部材を設け、隣接
する画素からの光漏れを防止することが行われている。
たとえば特開昭５９−１８８６９０号公報には、基板上
に真空蒸着またはスパッタリング法により遮光性金属層
を全面に施し、この金属層をフォトエツチング法により
所要形状とし、次いでその上に保護層を全面に形成し、
この保護層の上に透明電極を設ける技術が開示されてい
る。
に真空蒸着またはスパッタリング法により遮光性金属層
を全面に施し、この金属層をフォトエツチング法により
所要形状とし、次いでその上に保護層を全面に形成し、
この保護層の上に透明電極を設ける技術が開示されてい
る。
特開昭６０−４３６３１号公報には、カラー・フィルタ
間に金属薄膜からなる非透光性部材を形成した表示パネ
ルが開示されている。
間に金属薄膜からなる非透光性部材を形成した表示パネ
ルが開示されている。
一方、カラー液晶表示装置の各画素に対応する位置にＲ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタを形成す
る方法として、従来がらフォトリングラフィの応用技術
である染色法、オフセット印刷やスクリーン印刷の応用
技術である印刷法等がある。
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタを形成す
る方法として、従来がらフォトリングラフィの応用技術
である染色法、オフセット印刷やスクリーン印刷の応用
技術である印刷法等がある。
しかしながら染色法では、スルーブツトやイールドの低
下により製造コストに影響を与える虞れがある。また、
印刷法では、精度上で問題がある。
下により製造コストに影響を与える虞れがある。また、
印刷法では、精度上で問題がある。
このため近年、電着法によってカラーフィルタを形成す
る技術が開発され、製造コスト上の問題や精度上の問題
が解決されつつある。すなわち、電着法では、大画面を
実現でき、プロセス時間が祖く、耐熱、耐光および耐化
学性に優れ、膜厚も自由且つ正確に制御できる。
る技術が開発され、製造コスト上の問題や精度上の問題
が解決されつつある。すなわち、電着法では、大画面を
実現でき、プロセス時間が祖く、耐熱、耐光および耐化
学性に優れ、膜厚も自由且つ正確に制御できる。
１発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、この電着法によってカラーフィルタ分形
成する場合において、上述したように高コントラストを
得るなめに、画素間に遮光層を設けようとしたとき、す
でに開示されている特開昭５９−１８８６９０号公報、
特開昭６０−４３６３１号公報等の技術の応用では、種
々の問題を生じる。
成する場合において、上述したように高コントラストを
得るなめに、画素間に遮光層を設けようとしたとき、す
でに開示されている特開昭５９−１８８６９０号公報、
特開昭６０−４３６３１号公報等の技術の応用では、種
々の問題を生じる。
すなわち、特開昭５９−１８８６９０号公報の技術では
、フィルタが積層される電極と金属からなる不透光層と
が保護層により電気的に絶縁されているため、不透光層
を電着用電極として利用できず、電着法でフィルタを形
成しようとすれば、不透光層、保護層および透明電極を
形成した後に、透明電極に電着用電極を接続し、電着法
によりフィルタを形成し、その後電着用電極を除去しな
ければならず、プロセス数が多大なものとなってしまう
。
、フィルタが積層される電極と金属からなる不透光層と
が保護層により電気的に絶縁されているため、不透光層
を電着用電極として利用できず、電着法でフィルタを形
成しようとすれば、不透光層、保護層および透明電極を
形成した後に、透明電極に電着用電極を接続し、電着法
によりフィルタを形成し、その後電着用電極を除去しな
ければならず、プロセス数が多大なものとなってしまう
。
また、特開昭６０−１３６３１号公報の技術では、フィ
ルタが積層される対向電極が画素領域だけでなく基板全
体に設けられているので、電着法により画素領域のみに
フィルタ材を積層することはできない。
ルタが積層される対向電極が画素領域だけでなく基板全
体に設けられているので、電着法により画素領域のみに
フィルタ材を積層することはできない。
本発明は、画素間の遮光機能を有するカラー液晶表示装
置を電着法により且つ少いステップ数でｇ！遺可能にす
ることを目的とする。
置を電着法により且つ少いステップ数でｇ！遺可能にす
ることを目的とする。
［問題点を解決するための手段コ
本発明のカラー液晶表示装置は、複数の画素を有し、各
画素に対応する領域に導電性膜を配設し、該導電性膜に
接続され且つ前記画素の間の領域に延長される導電性遮
光層を形成するとともに、導電性膜上にカラー・フィル
タを積層したものである。
画素に対応する領域に導電性膜を配設し、該導電性膜に
接続され且つ前記画素の間の領域に延長される導電性遮
光層を形成するとともに、導電性膜上にカラー・フィル
タを積層したものである。
また、その製造方法は、基板上に導電性の遮光層を形成
し、この遮光層が形成された基板からフィルタが形成さ
れるべき画素に対応する位置の遮光層を除去するととも
に少なくとも異なる色の画素に対応する遮光層が電気的
に絶縁されるように遮光層を除去する。そして、フィル
タが形成されるべき画素に対応する位置に導電性の膜を
形成し、この導電性の膜の表面に各画素の色に対応する
色を有する膜を形成するものである。
し、この遮光層が形成された基板からフィルタが形成さ
れるべき画素に対応する位置の遮光層を除去するととも
に少なくとも異なる色の画素に対応する遮光層が電気的
に絶縁されるように遮光層を除去する。そして、フィル
タが形成されるべき画素に対応する位置に導電性の膜を
形成し、この導電性の膜の表面に各画素の色に対応する
色を有する膜を形成するものである。
［作 用］
本発明では、カラー・フィルタが積層される導電性膜に
導電性の遮光層が電気的に接続されているので、遮光層
を電着用短絡電極として利用することにより、従来の電
着法に対してプロセス数を増加させずに、カラー・フィ
ルタと遮光層の形成を可能にする。
導電性の遮光層が電気的に接続されているので、遮光層
を電着用短絡電極として利用することにより、従来の電
着法に対してプロセス数を増加させずに、カラー・フィ
ルタと遮光層の形成を可能にする。
［実施例コ
以下、本発明の実施例の詳細を図面に基づいて説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例に係るカラー液晶表示装置の
縦断正面図である。
縦断正面図である。
第１図に示すカラー液晶表示装置は、カラー・フィルタ
が形成されるガラス基板１と、このガラス基板１と対向
するように配置され半導体駆動回路が配設されるガラス
基板２との間にＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ−ｎｅｌｌａｔ
ｉｃ ）液晶５を挟持させた基本構造を有する。
が形成されるガラス基板１と、このガラス基板１と対向
するように配置され半導体駆動回路が配設されるガラス
基板２との間にＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ−ｎｅｌｌａｔ
ｉｃ ）液晶５を挟持させた基本構造を有する。
ガラス基板２上には、縦横に多数の画素を有する画面を
構成するために透明電極である画素Ｔ、極（すなわち表
示電極）４Ｒ１４Ｇ等と非晶質シリコン薄膜トランジス
タ（ａ−３ｉＴｆＴ 、図示せず）とを有する各画素に
対する回路が画面全体に縦横に配置され、薄膜トランジ
スタ（ＴＰＴ）のゲートおよびソースには各々横と縦に
走るたとえばＴａ、ＡＪ２からなり幅が５０μｍ程度の
ゲート電極配線６および幅が２０μｍ程度のソース電極
配線（図示せず）が行単位、列単位で接続され、そして
これらを覆うように配向膜７が形成されている。
構成するために透明電極である画素Ｔ、極（すなわち表
示電極）４Ｒ１４Ｇ等と非晶質シリコン薄膜トランジス
タ（ａ−３ｉＴｆＴ 、図示せず）とを有する各画素に
対する回路が画面全体に縦横に配置され、薄膜トランジ
スタ（ＴＰＴ）のゲートおよびソースには各々横と縦に
走るたとえばＴａ、ＡＪ２からなり幅が５０μｍ程度の
ゲート電極配線６および幅が２０μｍ程度のソース電極
配線（図示せず）が行単位、列単位で接続され、そして
これらを覆うように配向膜７が形成されている。
第２図は、第１図のガラス基板１に配設される透明導電
性膜と導電性膜遮光層の配列パターンを示す。
性膜と導電性膜遮光層の配列パターンを示す。
第１図および第２図に示されたカラー液晶表示装置では
、１つの表示要素が４色の画素すなわち正方形の赤画素
、正方形の緑画素、正方形の青画素および正方形の白（
透明）画素を１つの正方形の左上四半部、右上四半部、
右下四半部および左下四半部に配置することによって構
成される。なお、第１図は第２図のＡ−Ａ’線に沿って
切断した断面の一部に相当する。第３図はガラス基板１
側の青画素領域を示す部分断面図である。
、１つの表示要素が４色の画素すなわち正方形の赤画素
、正方形の緑画素、正方形の青画素および正方形の白（
透明）画素を１つの正方形の左上四半部、右上四半部、
右下四半部および左下四半部に配置することによって構
成される。なお、第１図は第２図のＡ−Ａ’線に沿って
切断した断面の一部に相当する。第３図はガラス基板１
側の青画素領域を示す部分断面図である。
第１図ないし第３図に示された液晶表示装置は、赤、緑
および青画素（すなわち、赤画素電極４Ｒ５録画素電極
４Ｇおよび青画素電極（図示せず））に対応するガラス
基板１の領域にそれぞれ透明導電性膜１９Ｒ１１９Ｇお
よび１９Ｂを配設し、これら透明導電性膜１９Ｒ１１９
Ｇおよび１９Ｂにそれぞれ電気的に接続され且つ赤、緑
、青および白画素の間の領域に延長される導電性Ｖ遮光
層１８Ｒ１１８Ｇおよび１８Ｂを形成し、透明導電性［
１９Ｒ１１９Ｇおよび１９Ｂの上にそれぞれ赤色フィル
タ８Ｒ１緑色フィルタ８Ｇおよび青色フィルタ８Ｂを積
層した構成を有する。透明導電性膜１９Ｒ１１９Ｇおよ
び１９Ｂと、赤画素電極４Ｒ１録画素電極４Ｇおよび青
画素電極（図示せず）とは、それぞれ互いに対をなして
液晶を駆動する電極として作用する。
および青画素（すなわち、赤画素電極４Ｒ５録画素電極
４Ｇおよび青画素電極（図示せず））に対応するガラス
基板１の領域にそれぞれ透明導電性膜１９Ｒ１１９Ｇお
よび１９Ｂを配設し、これら透明導電性膜１９Ｒ１１９
Ｇおよび１９Ｂにそれぞれ電気的に接続され且つ赤、緑
、青および白画素の間の領域に延長される導電性Ｖ遮光
層１８Ｒ１１８Ｇおよび１８Ｂを形成し、透明導電性［
１９Ｒ１１９Ｇおよび１９Ｂの上にそれぞれ赤色フィル
タ８Ｒ１緑色フィルタ８Ｇおよび青色フィルタ８Ｂを積
層した構成を有する。透明導電性膜１９Ｒ１１９Ｇおよ
び１９Ｂと、赤画素電極４Ｒ１録画素電極４Ｇおよび青
画素電極（図示せず）とは、それぞれ互いに対をなして
液晶を駆動する電極として作用する。
遮光層１８Ｒは、複数の赤画素用透明導電性膜１９Ｒを
電気的に接続し、遮光層１９Ｇは、複数の緑画素用透明
導電性膜１９Ｇを電気的に接続し、遮光層１８Ｂは、複
数の青画素用透明導電性膜１９Ｂを電気的に相互接続す
る。遮光層１８Ｒ１１８Ｇおよび１８Ｂの間に生じるギ
ャップ２０すなわちこれら遮光層を電気的に絶縁する領
域は、ガラス基板２に配設されるゲート電極配線６また
はソース電極配線（図示せず）と整列している。これら
の電極配線は、不透光性であり、したがって遮光効果を
有する。
電気的に接続し、遮光層１９Ｇは、複数の緑画素用透明
導電性膜１９Ｇを電気的に接続し、遮光層１８Ｂは、複
数の青画素用透明導電性膜１９Ｂを電気的に相互接続す
る。遮光層１８Ｒ１１８Ｇおよび１８Ｂの間に生じるギ
ャップ２０すなわちこれら遮光層を電気的に絶縁する領
域は、ガラス基板２に配設されるゲート電極配線６また
はソース電極配線（図示せず）と整列している。これら
の電極配線は、不透光性であり、したがって遮光効果を
有する。
第１図に示された液晶装置では、赤色、緑色および青色
フィルタ８Ｒ１８Ｇおよび８Ｂを、それぞれ透明導電性
膜１９Ｒ１１９Ｇおよび１９Ｂを覆うだけでなく遮光！
１８Ｒ１１８Ｇおよび１８Ｂをも覆うように形成されて
いるが、これら遮光層は画素領域以外の領域にあるので
表示上問題は生じない。
フィルタ８Ｒ１８Ｇおよび８Ｂを、それぞれ透明導電性
膜１９Ｒ１１９Ｇおよび１９Ｂを覆うだけでなく遮光！
１８Ｒ１１８Ｇおよび１８Ｂをも覆うように形成されて
いるが、これら遮光層は画素領域以外の領域にあるので
表示上問題は生じない。
なお、ガラス基板１の白色画素に対応する領域には、透
明導電性膜１．９Ｗが形成されるだけであり、該膜１９
Ｗの上にはカラー・フィルタは積層されず、したがって
該膜１９Ｗは遮光層も接続されない。
明導電性膜１．９Ｗが形成されるだけであり、該膜１９
Ｗの上にはカラー・フィルタは積層されず、したがって
該膜１９Ｗは遮光層も接続されない。
遮光層１８Ｒ１１８Ｇおよび１８Ｂは、たとえば６０重
量％Ｍ ｏ ４０重厘％Ｔａからなり１５００人程度
０厚さを有し、光学的濃度（０，０，）が２．０である
。また、異なる色のカラーフィルタが形成される画素間
の隣接する遮光層間（たとえば１．８ Ｒと１．８Ｇの
間）のギャップ２０の幅は１０ないし２０μｔである。
量％Ｍ ｏ ４０重厘％Ｔａからなり１５００人程度
０厚さを有し、光学的濃度（０，０，）が２．０である
。また、異なる色のカラーフィルタが形成される画素間
の隣接する遮光層間（たとえば１．８ Ｒと１．８Ｇの
間）のギャップ２０の幅は１０ないし２０μｔである。
なお、遮光層１８Ｒ１１８Ｇおよび１８Ｂの光学的濃度
（０，０，）が１．５より小さいときは遮光層としての
機能を果さないことが多い。また、ギャップ２０の幅は
上述の如＜１０ないし２０μｔ程度が好適である。これ
は、この幅がこの値より小さいときは赤、緑および青色
フィルタ８Ｒ１８Ｇ、８Ｂを後述する電着法によって形
成する際短絡不良が発生し易く、また大きいときはゲー
ト電極配線６およびソース電極配線（図示せず）による
遮光効果が不十分になってしまうからである。
（０，０，）が１．５より小さいときは遮光層としての
機能を果さないことが多い。また、ギャップ２０の幅は
上述の如＜１０ないし２０μｔ程度が好適である。これ
は、この幅がこの値より小さいときは赤、緑および青色
フィルタ８Ｒ１８Ｇ、８Ｂを後述する電着法によって形
成する際短絡不良が発生し易く、また大きいときはゲー
ト電極配線６およびソース電極配線（図示せず）による
遮光効果が不十分になってしまうからである。
透明導電性膜１９Ｒ２１９Ｇおよび１９Ｂは、たとえば
Ｉ Ｔｏ （１ｎｄｉｕｎ−ｔｉｎ−ｏｘｉｄｅ）から
なり１５００人程度０厚さを有する。
Ｉ Ｔｏ （１ｎｄｉｕｎ−ｔｉｎ−ｏｘｉｄｅ）から
なり１５００人程度０厚さを有する。
なお、ガラス基板２上に形成された画素′：４極４Ｒ１
４Ｇ等に対応する位置の内周において、遮光層１８Ｒ１
１８Ｇおよび１８Ｂと透明導電性膜１９Ｒ１１９Ｇおよ
び１９Ｂとがそれぞれ４ないし２０μｔ程度重なり合う
部分を有し、これにより遮光層と対応する透明導電性膜
とが電気的に確実に接続されるようになっている（第３
図参照）。
４Ｇ等に対応する位置の内周において、遮光層１８Ｒ１
１８Ｇおよび１８Ｂと透明導電性膜１９Ｒ１１９Ｇおよ
び１９Ｂとがそれぞれ４ないし２０μｔ程度重なり合う
部分を有し、これにより遮光層と対応する透明導電性膜
とが電気的に確実に接続されるようになっている（第３
図参照）。
赤、緑および青色フィルタ８Ｒ１８Ｇ、８Ｂは、それぞ
れ遮光層１８Ｒ１１８Ｇおよび１８Ｂを電着用電極とし
て使用して電着法によって形成されたものであり、１〜
１．５μｌ程度の厚さを有する。
れ遮光層１８Ｒ１１８Ｇおよび１８Ｂを電着用電極とし
て使用して電着法によって形成されたものであり、１〜
１．５μｌ程度の厚さを有する。
なお、これら赤、緑および青色フィルタ８Ｒ５８Ｇ、８
Ｂの厚さが上述の値より薄いときは色付きの点て問題を
生じ易く、また上述の値より厚いときはセルギャップ制
御および配向処理の点で問題を生じ易い９ このような構成を有する本実施例のカラー液晶表示装置
では、同色の複数の画素領域に配設された透明導電性膜
を電気的に接続する遮光層が、その色のフィルタ材を積
層するための電着用短絡電極として使用できるので、遮
光層およびフィルタの形成を少ないステップ数で行うこ
とができる。
Ｂの厚さが上述の値より薄いときは色付きの点て問題を
生じ易く、また上述の値より厚いときはセルギャップ制
御および配向処理の点で問題を生じ易い９ このような構成を有する本実施例のカラー液晶表示装置
では、同色の複数の画素領域に配設された透明導電性膜
を電気的に接続する遮光層が、その色のフィルタ材を積
層するための電着用短絡電極として使用できるので、遮
光層およびフィルタの形成を少ないステップ数で行うこ
とができる。
なお、本実施例装置においては、赤、緑および青色フィ
ルタ８Ｒ１８Ｇ、８Ｂの電着法による形成のため、異な
る色のカラーフィルタが形成される画素間の隣接する遮
光層間は幅１０ないし２０μを程度のギャップ２０を有
し、このギャップ２０により光漏れが生じ、コントラス
トが低下することが考えられるが、ガラス基板２上にお
いてギャップ２０と対向する位置に形成されたゲート電
極配線６およびソース電極配線（図示せず）による遮光
効果によって光漏れが防止され高コントラストが維持さ
れる。
ルタ８Ｒ１８Ｇ、８Ｂの電着法による形成のため、異な
る色のカラーフィルタが形成される画素間の隣接する遮
光層間は幅１０ないし２０μを程度のギャップ２０を有
し、このギャップ２０により光漏れが生じ、コントラス
トが低下することが考えられるが、ガラス基板２上にお
いてギャップ２０と対向する位置に形成されたゲート電
極配線６およびソース電極配線（図示せず）による遮光
効果によって光漏れが防止され高コントラストが維持さ
れる。
次に、このカラー液晶表示装置の製造方法を第４図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
まず、ガラス基板１上全面に、厚さが１５００人の６０
重量％Ｍｏ−４０重蟇％Ｔａ（光学的濃度Ｏ，ａ、−２
，０）をスパッタ法によって堆積する（第４図（ａ））
。
重量％Ｍｏ−４０重蟇％Ｔａ（光学的濃度Ｏ，ａ、−２
，０）をスパッタ法によって堆積する（第４図（ａ））
。
次に、ガラス基板２上に形成される画素電極４Ｒ３４Ｇ
等に対応する位がより若干（２〜５μｍ）内側の位置よ
り外側および同行で同色のカラーフィルタが形成される
画素間の電気的な接続を行う接続部を残存させ、異なる
色のカラーフィルタが形成される画素間の隣接する遮光
層間（１８Ｒと１８Ｇ、１８Ｇと１８Ｂ、および１８Ｂ
と１８Ｒのそれぞれの間）が幅１０ないし２０μｔ程度
のギャップ２０を有するように６０重量％Ｍｏ−４０重
量％Ｔａをフォトリングラフィによって除去する（第４
図（ｂ））。
等に対応する位がより若干（２〜５μｍ）内側の位置よ
り外側および同行で同色のカラーフィルタが形成される
画素間の電気的な接続を行う接続部を残存させ、異なる
色のカラーフィルタが形成される画素間の隣接する遮光
層間（１８Ｒと１８Ｇ、１８Ｇと１８Ｂ、および１８Ｂ
と１８Ｒのそれぞれの間）が幅１０ないし２０μｔ程度
のギャップ２０を有するように６０重量％Ｍｏ−４０重
量％Ｔａをフォトリングラフィによって除去する（第４
図（ｂ））。
この後、ガラス基板１上全面に、厚さが１５００人のＩ
ＴＯをスパッタ法によって堆積する（第４図（ｃ））。
ＴＯをスパッタ法によって堆積する（第４図（ｃ））。
次に、ガラス基板２上に形成される画素電１１ｉ４Ｒ５
４Ｇ等に対応する位置のＩＴＯのみを残存させ他の部分
をフォトリソグラフィによって除去する（第４図（ｄ）
）。これにより透明導電性膜１９Ｒ１１９Ｂおよび１９
Ｇが形成される。
４Ｇ等に対応する位置のＩＴＯのみを残存させ他の部分
をフォトリソグラフィによって除去する（第４図（ｄ）
）。これにより透明導電性膜１９Ｒ１１９Ｂおよび１９
Ｇが形成される。
この後、緑画素領域に配設された透明導電性膜１８Ｇを
電気的に接続する導電性膜遮光！１９Ｇを電着短絡電極
として利用して、透明導電性膜１８Ｇ上に緑色フィルタ
８Ｇを積層する。この際、遮光層１９Ｇにも緑色フィル
タ材が積層されるが（第４図（ｄ）には示されていない
。）遮光層１９Ｇは画素領域以外に位置しているので問
題はない。続いて、同様に、赤画素領域に配設された透
明導電性膜１９Ｒに赤色フィルタ８Ｒを積層し、青画素
領域に配設された透明導電性膜１９Ｂに青色フィルタ８
Ｂを積層する。を着は引き出し線の外側から行うので、
第２図の構成では、緑、赤、青の順で電着が行われる。
電気的に接続する導電性膜遮光！１９Ｇを電着短絡電極
として利用して、透明導電性膜１８Ｇ上に緑色フィルタ
８Ｇを積層する。この際、遮光層１９Ｇにも緑色フィル
タ材が積層されるが（第４図（ｄ）には示されていない
。）遮光層１９Ｇは画素領域以外に位置しているので問
題はない。続いて、同様に、赤画素領域に配設された透
明導電性膜１９Ｒに赤色フィルタ８Ｒを積層し、青画素
領域に配設された透明導電性膜１９Ｂに青色フィルタ８
Ｂを積層する。を着は引き出し線の外側から行うので、
第２図の構成では、緑、赤、青の順で電着が行われる。
Ｗ！層フィルタは、１〜１．５μｍ程度の厚さを有する
（第４図（ｅ））。
（第４図（ｅ））。
しかる後、配向膜９を従来の方法によって形成する。
このように上述した製造方法では、従来の電着法におい
て行われる画素領域の透明電極の短絡プロセスを遮光層
形成プロセスにより行うことができるので、従来の電着
法よりプロセス数を増加させずに電着カラー・フィルタ
と遮光層との形成を行うことができる。
て行われる画素領域の透明電極の短絡プロセスを遮光層
形成プロセスにより行うことができるので、従来の電着
法よりプロセス数を増加させずに電着カラー・フィルタ
と遮光層との形成を行うことができる。
なお、以上説明した実施例では、１つの表示要素が４色
の画素からなるものであったが、これがたとえば赤、緑
および青色の３色の画素からなるものであってもよい。
の画素からなるものであったが、これがたとえば赤、緑
および青色の３色の画素からなるものであってもよい。
この場合、たとえば第５図ないし第７図に示すように、
赤、緑および青色画素からなるモザイクパターンの組合
せとしたもの、赤、緑および青色画素からなるトライア
ングラパターンの組合せとしたもの、あるいは赤、青お
よび２つの緑色画素からなるスクエアパターンの組合せ
としたもの等が考えられる。
赤、緑および青色画素からなるモザイクパターンの組合
せとしたもの、赤、緑および青色画素からなるトライア
ングラパターンの組合せとしたもの、あるいは赤、青お
よび２つの緑色画素からなるスクエアパターンの組合せ
としたもの等が考えられる。
また、以上説明した実施例では、カラーフィルタに直接
、配向膜９で塗布したが、ＴＮ液晶５の厚さが薄くなる
につれて、カラーフィルタとそれ以外の部分の凹凸差（
段差）が実質的なＴＮ液晶５の厚さを変えてしまう、こ
れを防ぐために、透明導電性膜１９Ｗを含む凹凸をアク
リル系樹脂或いはウレタン系樹脂で覆って平坦化し、し
がる後に配向膜９を塗布してもよい。
、配向膜９で塗布したが、ＴＮ液晶５の厚さが薄くなる
につれて、カラーフィルタとそれ以外の部分の凹凸差（
段差）が実質的なＴＮ液晶５の厚さを変えてしまう、こ
れを防ぐために、透明導電性膜１９Ｗを含む凹凸をアク
リル系樹脂或いはウレタン系樹脂で覆って平坦化し、し
がる後に配向膜９を塗布してもよい。
そして、透明導電性膜１９Ｗにも、他のカラーフィルタ
と同様にｔ＠用電極を設け、電着による白色フィルタを
積層してもよく、更に、この方法を用いた場合、透過率
を制御する目的で、透明ではなく半透明（灰色）のフィ
ルタを積層してもよい。透明或いは半透明のフィルタを
積層した場合に発生する表面の凹凸についても、上述の
方法を用いて平坦化することができる。
と同様にｔ＠用電極を設け、電着による白色フィルタを
積層してもよく、更に、この方法を用いた場合、透過率
を制御する目的で、透明ではなく半透明（灰色）のフィ
ルタを積層してもよい。透明或いは半透明のフィルタを
積層した場合に発生する表面の凹凸についても、上述の
方法を用いて平坦化することができる。
また、遮光層として６０重量％Ｍｏ−４０重量％Ｔａを
用いるものであったが、これがＭｏ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｉ
、Ｃｒ等の他の金属であってもよい。
用いるものであったが、これがＭｏ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｉ
、Ｃｒ等の他の金属であってもよい。
［発明の効果］
以上説明したように本発明のカラー液晶表示装置および
その製造方法によれば、カラー・フィルタが積層される
導電性膜を電気的に接続する遮光層を電着用短絡電極と
して使用できるので、少いプロセス数で遮光層および電
着フィルタの形成を行うことができる。従って、低コス
トで高コントラストのカラー液晶表示装置を提供できる
。
その製造方法によれば、カラー・フィルタが積層される
導電性膜を電気的に接続する遮光層を電着用短絡電極と
して使用できるので、少いプロセス数で遮光層および電
着フィルタの形成を行うことができる。従って、低コス
トで高コントラストのカラー液晶表示装置を提供できる
。
第１図は本発明の一実施例に係るカラー液晶表示装置の
縮断正面図、第２図は第１図に示された基板に配設され
た透明導電性膜と遮光層の配列パターンを示す一部平面
図、第３図は第２図の一部断面図、第４図は本発明の一
実施例に係る製造方法を説明するためのカラー液晶表示
装置の一部平面図、第５図、第６図および第７図はそれ
ぞれ本発明の他の実施例に係るカラー液晶表示装置の一
部平面図である。 １．２・・・ガラス基板、４Ｒ１４Ｇ・・・画素電極、
５・・・液晶、６・・・ゲート電極配線、７．９・・・
配向膜、８Ｒ・・・赤色フィルタ、８Ｇ・・・緑色フィ
ルタ、８Ｂ・・・青色フィルタ、１８Ｒ１１８Ｇ、１８
Ｂ・・・遮光層、１９Ｒ１１９Ｇ、１９Ｂ・・・透明導
電性膜、２０・・・ギャップ。 第３図 第７図 （ｂ） 、 ＩＴＯ ｃｌ 第４
縮断正面図、第２図は第１図に示された基板に配設され
た透明導電性膜と遮光層の配列パターンを示す一部平面
図、第３図は第２図の一部断面図、第４図は本発明の一
実施例に係る製造方法を説明するためのカラー液晶表示
装置の一部平面図、第５図、第６図および第７図はそれ
ぞれ本発明の他の実施例に係るカラー液晶表示装置の一
部平面図である。 １．２・・・ガラス基板、４Ｒ１４Ｇ・・・画素電極、
５・・・液晶、６・・・ゲート電極配線、７．９・・・
配向膜、８Ｒ・・・赤色フィルタ、８Ｇ・・・緑色フィ
ルタ、８Ｂ・・・青色フィルタ、１８Ｒ１１８Ｇ、１８
Ｂ・・・遮光層、１９Ｒ１１９Ｇ、１９Ｂ・・・透明導
電性膜、２０・・・ギャップ。 第３図 第７図 （ｂ） 、 ＩＴＯ ｃｌ 第４
Claims (8)
- （１）複数の画素を有するカラー液晶表示装置において
、前記各画素に対応する領域に配設された導電性膜と、
該導電性膜に接続され且つ前記画素の間の領域に延長さ
れる導電性遮光層と、前記導電性膜に積層されたカラー
・フィルタとを具備するカラー液晶表示装置。 - （２）前記遮光層が、前記複数の画素のうち同色の画素
に対応する領域に配設された前記導電性膜を電気的に接
続するように延長されている特許請求の範囲第１項記載
のカラー液晶表示装置。 - （３）前記遮光層が、前記複数の画素のうち第１色の画
素に対応する領域に配設された前記導電性膜を電気的に
接続する第１遮光層と、前記複数の画素のうち第２色の
画素に対応する領域に配設された前記導電性膜を電気的
に接続する第２遮光層とを含み、前記第１の遮光層と前
記第２遮光層とが電気的に絶縁されている特許請求の範
囲第１項記載のカラー液晶表示装置。 - （４）前記第１および第２遮光層が第１基板上に形成さ
れ、前記第１基板と液晶を介して対向する第２基板上に
、前記液晶を駆動するための半導体回路の電極配線が形
成され、前記第１遮光層と前記第２遮光層とを絶縁する
ための絶縁領域が前記電極配線と整列している特許請求
の範囲第３項記載のカラー液晶表示装置。 - （５）前記遮光層の光学的濃度（Ｏ．Ｄ．）が、１．５
以上である特許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれ
か１項記載のカラー液晶表示装置。 - （６）基板上に導電性の遮光層を形成する工程と、この
遮光層が形成された基板からフィルタが形成されるべき
画素に対応する位置の遮光層を除去するとともに少なく
とも異なる色の画素に対応する遮光層が電気的に絶縁さ
れるように遮光層を除去する工程と、前記フィルタが形
成されるべき画素に対応する位置に導電性の膜を形成す
る工程と、この導電性の膜の表面に各画素の色に対応す
る色を有する膜を形成する工程とを具備するカラー液晶
表示装置の製造方法。 - （７）前記導電性の膜が、この膜の外周に形成されてい
る遮光層と電気的に接続されている特許請求の範囲第６
項記載のカラー液晶表示装置の製造方法。 - （８）前記導電性の膜の表面に各画素の色に対応する色
を有する膜を形成する工程が、電着法に基づき行われる
特許請求の範囲第６項または第７項記載のカラー液晶表
示装置の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29167787A JPH0610702B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | カラー液晶表示装置およびその製造方法 |
| US07/246,835 US5083853A (en) | 1987-11-18 | 1988-09-20 | Color liquid crystal display device having light-shielding conductive layers |
| EP88309057A EP0317063B1 (en) | 1987-11-18 | 1988-09-29 | Color liquid crystal display device and method of manufacturing thereof |
| DE3852617T DE3852617T2 (de) | 1987-11-18 | 1988-09-29 | Farb-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung und ihr Herstellungsverfahren. |
| CA000579595A CA1319186C (en) | 1987-11-18 | 1988-10-07 | Color liquid crystal display device and method of manufacturing thereof |
| US07/693,621 US5142392A (en) | 1987-11-18 | 1991-04-30 | Color liquid crystal display having light shielding layers and method of manufacturing thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29167787A JPH0610702B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | カラー液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01142712A true JPH01142712A (ja) | 1989-06-05 |
| JPH0610702B2 JPH0610702B2 (ja) | 1994-02-09 |
Family
ID=17771994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29167787A Expired - Lifetime JPH0610702B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | カラー液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5083853A (ja) |
| EP (1) | EP0317063B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0610702B2 (ja) |
| CA (1) | CA1319186C (ja) |
| DE (1) | DE3852617T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997031290A1 (fr) * | 1996-02-26 | 1997-08-28 | Kuramoto Seisakusho Co., Ltd. | Substrat support de film avec facteur de reflexion bas |
| US7056587B2 (en) | 1996-02-26 | 2006-06-06 | Kuramoto Seisakusho Co., Ltd. | Low-reflective thin-film substrate |
| JP2007532949A (ja) * | 2004-04-09 | 2007-11-15 | クレアボワイヤント，インコーポレーテッド | 高輝度ディスプレイの副画素の新規配置及び配列 |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0434220B1 (en) * | 1989-11-20 | 1996-04-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Colour liquid crystal display device |
| GB2245741A (en) * | 1990-06-27 | 1992-01-08 | Philips Electronic Associated | Active matrix liquid crystal devices |
| JPH04120511A (ja) * | 1990-09-11 | 1992-04-21 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
| EP0569601B1 (en) * | 1991-11-29 | 1999-10-13 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal display and method of manufacturing same |
| US5459595A (en) * | 1992-02-07 | 1995-10-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix liquid crystal display |
| KR100294194B1 (ko) * | 1993-02-05 | 2001-09-17 | 김순택 | 액정표시소자 |
| JPH07114018A (ja) * | 1993-10-15 | 1995-05-02 | Rohm Co Ltd | カラー液晶表示装置 |
| JPH07294725A (ja) * | 1994-03-01 | 1995-11-10 | Seiko Instr Inc | カラーフィルター及び多色液晶表示装置の製造方法 |
| US5642176A (en) * | 1994-11-28 | 1997-06-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Color filter substrate and liquid crystal display device |
| US5606437A (en) * | 1995-03-31 | 1997-02-25 | Rockwell International | Direct drive split pixel structure for active matrix liquid crystal displays |
| US5936694A (en) * | 1995-04-26 | 1999-08-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device and process for producing same |
| US6144435A (en) * | 1995-04-28 | 2000-11-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device, process for producing same and liquid crystal apparatus |
| US5739802A (en) * | 1995-05-24 | 1998-04-14 | Rockwell International | Staged active matrix liquid crystal display with separated backplane conductors and method of using the same |
| JPH0980416A (ja) * | 1995-09-13 | 1997-03-28 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
| TW384409B (en) * | 1996-06-04 | 2000-03-11 | Sharp Kk | Liquid crystal display device |
| JP2735099B2 (ja) * | 1996-06-11 | 1998-04-02 | 日本電気株式会社 | 液晶表示装置 |
| US5982464A (en) * | 1998-12-16 | 1999-11-09 | Technoloogy Resource International Corporation | Multi-twist color liquid crystal display |
| KR100679521B1 (ko) * | 2000-02-18 | 2007-02-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 제조방법 |
| JP3617458B2 (ja) * | 2000-02-18 | 2005-02-02 | セイコーエプソン株式会社 | 表示装置用基板、液晶装置及び電子機器 |
| US7417648B2 (en) | 2002-01-07 | 2008-08-26 | Samsung Electronics Co. Ltd., | Color flat panel display sub-pixel arrangements and layouts for sub-pixel rendering with split blue sub-pixels |
| US7755652B2 (en) * | 2002-01-07 | 2010-07-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Color flat panel display sub-pixel rendering and driver configuration for sub-pixel arrangements with split sub-pixels |
| US6888604B2 (en) * | 2002-08-14 | 2005-05-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display |
| KR100915238B1 (ko) * | 2003-03-24 | 2009-09-02 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 |
| US7397455B2 (en) * | 2003-06-06 | 2008-07-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display backplane layouts and addressing for non-standard subpixel arrangements |
| KR100978254B1 (ko) * | 2003-06-30 | 2010-08-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 4화소구조 횡전계모드 액정표시소자 |
| JP5650918B2 (ja) | 2010-03-26 | 2015-01-07 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 画像表示装置 |
| US20130189131A1 (en) * | 2012-01-19 | 2013-07-25 | Han-Lung Huang | Water cooled motor with stainless steel cooling jacket |
| US10832616B2 (en) | 2012-03-06 | 2020-11-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Pixel arrangement structure for organic light emitting diode display |
| KR101615332B1 (ko) | 2012-03-06 | 2016-04-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치의 화소 배열 구조 |
| JP2015146304A (ja) * | 2014-02-04 | 2015-08-13 | ソニー株式会社 | 表示装置、および電子機器 |
| KR102560941B1 (ko) * | 2016-09-29 | 2023-07-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치와 액정표시패널 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6222629U (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-10 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5961818A (ja) * | 1982-10-01 | 1984-04-09 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
| JPS6043631A (ja) * | 1983-08-20 | 1985-03-08 | Canon Inc | 表示パネル |
| JPS60120321A (ja) * | 1983-12-02 | 1985-06-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カラ−液晶表示装置 |
| JPS60172131U (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-14 | ホシデン株式会社 | カラ−液晶表示器 |
| JPS6222629A (ja) * | 1985-07-23 | 1987-01-30 | 株式会社 日立メデイコ | ステレオｘ線透視撮影装置 |
| JPS62148926A (ja) * | 1985-09-10 | 1987-07-02 | Casio Comput Co Ltd | カラ−液晶表示素子 |
| US4712874A (en) * | 1985-12-25 | 1987-12-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Ferroelectric liquid crystal device having color filters on row or column electrodes |
| JPH0677120B2 (ja) * | 1985-12-25 | 1994-09-28 | キヤノン株式会社 | 液晶素子 |
| JP2511869B2 (ja) * | 1986-03-18 | 1996-07-03 | シチズン時計株式会社 | 液晶表示装置 |
| US4802743A (en) * | 1986-03-20 | 1989-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device having color filters wherein the color filters formed from a polyamino resin containing coloring materials |
| JP2640097B2 (ja) * | 1986-03-20 | 1997-08-13 | セイコー電子工業株式会社 | 多色表示装置 |
| JPS62250416A (ja) * | 1986-04-23 | 1987-10-31 | Stanley Electric Co Ltd | Ｔｆｔ組込型カラ−液晶表示素子 |
| JPS62291677A (ja) * | 1986-06-10 | 1987-12-18 | Toshiba Corp | 画像形成装置 |
| FR2625827B1 (fr) * | 1988-01-11 | 1993-07-16 | Commissariat Energie Atomique | Ecran d'affichage en couleur a matrice active sans croisement des conducteurs lignes d'adressage et des conducteurs colonnes de commande |
| JPH0643631A (ja) * | 1992-04-01 | 1994-02-18 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 非イオン性ポリグリコールを含有するフォトレジスト |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP29167787A patent/JPH0610702B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-09-20 US US07/246,835 patent/US5083853A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-29 EP EP88309057A patent/EP0317063B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-29 DE DE3852617T patent/DE3852617T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-07 CA CA000579595A patent/CA1319186C/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-04-30 US US07/693,621 patent/US5142392A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6222629U (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-10 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997031290A1 (fr) * | 1996-02-26 | 1997-08-28 | Kuramoto Seisakusho Co., Ltd. | Substrat support de film avec facteur de reflexion bas |
| US7056587B2 (en) | 1996-02-26 | 2006-06-06 | Kuramoto Seisakusho Co., Ltd. | Low-reflective thin-film substrate |
| JP2007532949A (ja) * | 2004-04-09 | 2007-11-15 | クレアボワイヤント，インコーポレーテッド | 高輝度ディスプレイの副画素の新規配置及び配列 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3852617D1 (de) | 1995-02-09 |
| DE3852617T2 (de) | 1995-07-06 |
| US5083853A (en) | 1992-01-28 |
| JPH0610702B2 (ja) | 1994-02-09 |
| US5142392A (en) | 1992-08-25 |
| EP0317063A3 (en) | 1990-02-07 |
| EP0317063B1 (en) | 1994-12-28 |
| EP0317063A2 (en) | 1989-05-24 |
| CA1319186C (en) | 1993-06-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH01142712A (ja) | カラー液晶表示装置およびその製造方法 | |
| JP2620240B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP3240858B2 (ja) | カラー表示装置 | |
| JP4799481B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH08262494A (ja) | アクティブマトリクス型表示装置 | |
| JPH08122768A (ja) | 表示装置 | |
| JP2008107849A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
| JP2006184903A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
| JP2600929B2 (ja) | 液晶画像表示装置およびその製造方法 | |
| US11586088B2 (en) | Display substrate, display panel and display apparatus | |
| JP2005148756A (ja) | 薄膜ダイオード表示板及びこれを含む液晶表示装置 | |
| US9785004B2 (en) | Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display device | |
| JP3575135B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP3239632B2 (ja) | カラーマトリクス表示パネル及びその製造方法 | |
| JPH04317027A (ja) | 多色表示装置 | |
| JPH09101541A (ja) | 表示装置用アレイ基板及びその製造方法 | |
| JPH0239030A (ja) | Ｔｆｔパネル | |
| JP2870016B2 (ja) | 液晶装置 | |
| US11876102B2 (en) | Display substrate, display panel and display apparatus | |
| JPH03114028A (ja) | 薄膜トランジスタマトリクスとその製造方法 | |
| JP2001331124A (ja) | マトリクスアレイ基板 | |
| JPH09311351A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JPH11326949A (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示素子 | |
| JPS63314521A (ja) | 液晶カラ−表示装置 | |
| JPS61219930A (ja) | 液晶表示パネル |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |