JPH01132775A - 導電性ポリマー成形物及びその製造法 - Google Patents
導電性ポリマー成形物及びその製造法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
有用な導電性ポリマー成形物及びその製造法に関する。
、発熱体、電磁波シールド材、装飾品等として使用する
ことは広く行われ、最近では電子機器の発達とともに需
要は増大している。金属メッキの手段としては金属の真
空蒸着による方法、電解又は無電解メッキによる方法、
成形物中に金属、炭素等の導電性粉末を練り込む方法等
があるが、導電性能が不足したり、金属、炭素等を練り
込んだ場合には、充分な導電性が付与される程の量を練
り込めば強度や機械的性質を低下させる欠点がある。
無電解メッキでは、前処理工程におけるセンシタイジン
グに塩化第1錫等、アクチベーションにはパラジウム塩
等の高価な薬品を使用する必要があり、全体として掻め
て高価なものになる。
金属メッキができず、そのために導電性が乏しい製品し
か得られないことが多い。例えば長繊維ポリエステル織
物に無電解銅メッキを施して0.2μmの膜厚の銅層を
設けた上に、更に無電解ニッケルメ・7キを施して0.
3μmの膜厚のニッケル層を設け、デュアルボックス(
Dual Box)法でシールド効果を測定したところ
、50〜100100Oの周波数の電界波について23
〜43dBのシールド効果しか得られない。これは米国
連邦通信委員会(FCC)のAクラスのシールド効果を
充たしていない。
も欠点である。
改良し、強靭で導電性の良好な成形物を得ることを目的
とする。
有するポリマーから成り、中間層が還元銅もしくは硫化
銅の層から成り、外層が無電解メッキされた周期律表t
b族及び/又は■族の金属の連続層から成る導電性ポリ
マー成形物を提供するものである。また、この成形物を
得るためには、シアノ基を有するポリマー成形物に銅イ
オンを含浸させたのち、これを還元剤で還元して金属銅
を成形物上に析出させるか、硫化水素もしくは水溶性硫
化物の水溶液で処理して硫化銅を析出させ、次いで周期
律表Ib族及び/又は■族の金属を無電解メッキするも
のである。
銅イオンとは錯体を形成しやすく、従って、これを還元
、もしくは硫化しても、還元銅もしくは硫化銅は多量に
、かつ緊密にポリマーと接合して中間層を形成しており
、堅牢である。従来の手段では、通常パラジウムを使用
するが、この金属は導電性が不充分であって、しかもポ
リマーとの密着性においても劣っている。一方、上記中
間層はポーラスであり、無電解メッキの際に、メッキ金
属が該ポーラス部分に侵入して両者は緊密に結合するの
で、中間層と外層との接合も強固となり、従って全体と
して強固な積層体を形成する。
ては、アクリロニトリルのホモポリマーもしくはアクリ
ロニトリルを主体とし、これと他のビニル系モノマー、
例えば塩化ビニル、アクリル酸、アクリル酸エステル、
アクリルアミド、酢酸ビニル、ビニルピリジンとの共重
合体が挙げられる。また蛋白・アクリロニトリル系グラ
フト共重合体も有効で、蛋白にアクリロニトリルをグラ
フト共重合したもの、もしくは該グラフト共重合体と蛋
白及び/又はアクリロニトル系ポリマーとの混合物等が
これに該当する。上記蛋白としては大豆蛋白、牛乳カゼ
イン等が用いられ、アクリロニトルとしてはアクリロニ
トルもしくは前述したアクリロニトリルを主体とし、こ
れと他のビニル系モノマーとを共重合もしくは共グラフ
トしたものが用いられる。
フト共重合体は、蛋白成分が親水性で、水中において膨
潤しやすく、かつ保有するアミン基によって金属を捕捉
しやすいので、処理浴のpH温度等の条件を好適に設定
することにより銅イオンが多量に、かつ緊密に結合しや
すく、良好な導電体となるので好ましいポリマーである
。
ランド、織物、編物、不織布、紙、又はフィルム、シー
ト等に成形されている。
ポリマー成形物に銅イオンを含浸させ、どれを還元剤で
還元して銅を成形物上に析出させるか、硫化水素もしく
は水溶性硫化物の水溶液で処理して硫化銅を析出させる
ことによって行われる。
ば塩化銅、硫酸銅と酸、例えば塩酸、硝酸、硫酸とから
構成される水溶液で上記成形物を処理すればよい。銅イ
オンの成形物への含浸量は多量になるほど導電性は良好
になるが、ポリマーの種類によって飽和量が異なるので
、そのポリマーに合わせて適宜含浸量を決定するのが望
ましい。
100℃までの温度で成形物を処理する。
単位、ヒドロキシルアミン等で処理する。
ーダ等の水溶性硫化物の水溶液で処理する。
pH調節剤等を含む浴に被処理物を浸漬し、90℃以下
の温度で処理する。メッキの厚みは0.5〜25μ程度
が好適である。
り、使用する水溶性銅塩には硫酸銅、塩化銅等のほかに
銅シアン錯塩のようなti4錯塩があり、緻密な銅層を
得るには銅錯塩を用いるのが好ましい。メッキ浴の温度
は15〜30℃の常温でpHを12〜13とするのが好
ましく、pH低下を防止するために種々のアルカリ性の
緩衝剤を添加する。処理時間は、目的とする銅層の厚み
によって異なるが10〜25分間を要する。
が要望される時等には好ましいが、銅メッキ皮膜はUL
規格等の耐湿性試験や塩水噴霧試験により効果が低下す
る欠点がある。従って銅メッキ後、更に表層に無電解も
しくは電解ニッケルメッキやペイント、フェス塗布を施
してもよい。
電性においてやや劣るものの、その他の点では優れた諸
性能を示す。
燐酸塩系で行う。被処理物の導電性及びメッキの強度は
硼素酸塩を用いる方が優れているが、費用が極めて高価
につく欠点がある。次亜燐酸塩系のメッキは通常メッキ
強度が弱いが、本発明の前処理を施したものは優れたメ
ッキ強度を示す。
法とがあり、高温法では浴p H5,5〜6.0、浴温
60〜80℃で5〜10分間の処理が適当であり、低温
法では浴p H9,0〜9.5、浴温30〜40℃で5
〜IO分間の処理が適当である。
(東洋紡績社製「ジノン」)(約75d)系をチューブ
状編物としたのち、次の処理を施した。
×20分間処理した。
中に試料を浸漬し、銅イオンを繊維中に含浸させ、3g
/lのチオ硫酸ソーダ及び3g/lの亜硫酸ソーダを添
加して、20分間かけて徐々に75℃に昇温したのち、
60分間この温度で処理した。
溶液中で、50〜60℃で10分間湯洗し、更に水洗い
したのち遠心脱水した。
解メッキ浴中に浸漬してニッケルメッキを施した。浴の
組成は塩化ニッケル30g/l、次亜リン酸ソーダ10
g/l、オキシ酢酸ソーダ50g/lであり、浴温50
℃で約60分間処理することにより、「ジノン」繊維表
層にニッケルーリンの金属膜が生成した。この際、繊維
重量は5.4%(膜厚0.5μm)増加した。
バー法により測定したところ第1表のような結果を示し
、優れた電磁シールド効果を得た。
のニット布帛を実施例1と同様の方法に上り銅イオン処
理、硫化処理し、得られた金属化された[ピユーロンJ
布帛をニッケルの無電解メッキ浴中に浸漬して無電解メ
ッキ処理をした。
5 g / 1、クエン酸ソーダ30g/l、塩化アン
モン10g/i28%アンモニア水25cc / lで
あり、p H9,0〜9.5で80〜90℃の条件に保
って約120分間処理した。
.5μmとなった。
法で測定したところ第2表のような結果を示した。
銅イオン処理、硫化処理し、次いで実施例1と同じ無電
解メッキ処理浴で40℃、40分間処理を行い、繊維上
にニッケルーリンの金属膜を生成させた。
性布帛の発熱体としての性能を調べた結果は次のとおり
である。
あるが切断しやすく、耐洗濯性が悪い。
性に優れ、かつ製造が容易で安価な利点がある。特に銅
イオン処理、硫化処理は付与する銅の重量コントロール
とその後に続く無電解メッキにおける重量コントロール
が容易な利点がある。
電材等として利用範囲が広(、安価に使用することがで
きる。具体的な利用分野としては、シールドスクリーン
、VDTオペレーター用エプロン布、電磁波シールド用
壁材等がある。
Claims (5)
- (1)内層がシアノ基を有するポリマーから成り、中間
層が還元銅もしくは硫化銅の層から成り、外層が無電解
メッキされた周期律表 I b族及び/又はVIII族の金属
の連続層から成る導電性ポリマー成形物。 - (2)シアノ基を有するポリマーがアクリロニトリル系
ポリマーもしくは蛋白・アクリロニトリルグラフト共重
合体である特許請求の範囲第(1)項記載の導電性ポリ
マー成形物。 - (3)無電解メッキされる金属が銅、銀、クロムもしく
はニッケルである特許請求の範囲第(1)項もしくは第
(2)項記載の導電性ポリマー成形物。 - (4)導電性ポリマー成形物が繊維、フィルムもしくは
シートである特許請求の範囲第(1)項、第(2)項も
しくは第(3)項記載の導電性ポリマー成形物。 - (5)シアノ基を有するポリマー成形物に銅イオンを含
浸させたのち、これを還元剤で還元して金属銅を成形物
上に析出させるか、硫化水素もしくは水溶性硫化物の水
溶液で処理して硫化銅を析出させ、次いで周期律表 I
b族及び/又はVIII族の金属を無電解メッキすることを
特徴とする導電性ポリマー成形物の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62291494A JPH01132775A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 導電性ポリマー成形物及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62291494A JPH01132775A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 導電性ポリマー成形物及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01132775A true JPH01132775A (ja) | 1989-05-25 |
JPH0581672B2 JPH0581672B2 (ja) | 1993-11-15 |
Family
ID=17769598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62291494A Granted JPH01132775A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 導電性ポリマー成形物及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01132775A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014050539A1 (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜形成用組成物および導電膜の製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61194183A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 無電解めつき法 |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP62291494A patent/JPH01132775A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61194183A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 無電解めつき法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014050539A1 (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜形成用組成物および導電膜の製造方法 |
JP2014071963A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-21 | Fujifilm Corp | 導電膜形成用組成物および導電膜の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0581672B2 (ja) | 1993-11-15 |
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