JPH01132578A - 二環式パーオキサイド - Google Patents

二環式パーオキサイド

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JPH01132578A
JPH01132578A JP63253940A JP25394088A JPH01132578A JP H01132578 A JPH01132578 A JP H01132578A JP 63253940 A JP63253940 A JP 63253940A JP 25394088 A JP25394088 A JP 25394088A JP H01132578 A JPH01132578 A JP H01132578A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、−数式 [式中、Rは炭素数15までの飽和又は部分的に不飽和
の炭化水素基或いは炭素数7までのアルキル又はアルケ
ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
す] の二環式パーオキサイドに関する。 上記式Iの新規な化合物は有用な薬理学的性質を有する
。特にそれはマラリヤの病原有機体に対して明白な活性
を示し、マラリヤの防止及び抑制に使用することができ
る。 本発明の目的は、上記式Iの化合物それ自体及び治療学
的に活性な物質として用いるための該化合物;その製造
法、そのための中間体、その新規な基質に基づく薬剤;
並びに式Iの新規化合の、病気の防止及び治療に対する
且つマラリヤの防止及び治療に適当である薬剤の製造に
対する使用法に関する。 以下使用する「低級」とは、炭素数が最大7、好ましく
は最大4の残基及び化合物を示す。「アルキル基」及び
「アルコキシ」のような単独で又は組合せて用いる「ア
ルキル」とは直鎖又は分岐鎖の飽和炭化水素残基例えば
メチル、エチノ呟n−プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、S−ブチル、i−ブチル、i−ペンチノ呟 n−
ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル
、n−ノニル、n−デシル、n−ウンデシル、n−ドデ
シル、n−トリデシル、n−テトラデシル及びn−ペン
タデシルを示す。「アルケニル」ハ少くとも1つのすレ
フイン性二重結合を含む直鎖又は分岐鎖炭化水素残基例
えばビニル、アリル、■−プロペニル、l−ブテニル、
■−ペンテニル、■−へキセニル、■−へブテニル、1
−オクテニル、■−ノネニル、■−デセニル、l−ウン
デセニル、■−ドデセニル、■−テトラデセニル及び4
.8−ジメチル−1,3,7−ノナドリエニルを示す。 「飽和又は部分的に不飽和の炭化水素基」とは開鎖及び
環式基並びにその組合せを示す。飽和及び部分的に不飽
和の例は、上述したようなアルキル及ヒアルケニル基、
及び所望によりアルキル又はアルケニル基を通して結合
しうつ単、二及び三環式アルキル基例えば3−(l−ア
ダマンチル)グロペニル、シクロプロピルメチル及び2
−シクロヘキシルエチルである。 「アリール」とは炭素環式芳香族基、好ましくは単又は
二環式、即ちフェニル及びナフチル基、特にフェニル基
を示す。好ましくはこれらの基は未置換であるか、或い
は低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリフル
オルメチルル及びシアノから選択される置換基で5つま
で置換されている。この場合置換基は同一でも異なって
もよい。それは好ましくはハロゲン特に弗素又は塩素、
及び/又はトリフルオルメチルでモノ、ジ又はペンタ置
換される。そのような基の例として、フェニル、4−フ
ルオルフェニル、ペンタフルオルフェニル、4−シアノ
フェニル、2−クロ″− ルー4−シアノフェニル、3
.5−ジシアノフェニル、2−クロル−4− (トリフ
ルオルメチル)フェニル、4−メトキシフェニル、4−
メチルフェニル、4−(t−ブチル)フェニル、4−ク
ロルフェニル、2.4−ジクロルフェニル、3.4−ジ
クロルフェニル、3−(トリフルオルメチル)フェニル
、4−(トリフルオルメチル)フェニル、3、5−及び
2.4−ビス(トリフルオルメチル)フェニル、4−ビ
フェニル、■−す7チル及ヒ4−ブロム−ナフチルを挙
げることができる。 「ヘテロアリール」とは、複素環族芳香族基好ましくは
単又は二環式基を示す。二環式基の場合、芳香族環の1
つは好ましくは炭素環である。ヘテロ原子としては好ま
しくは1.2又は3つの窒素原子が考慮される。好適な
基はピリジル、ピリミジル、及び特にキノリニル基であ
る。好ましくは、これらの基は未置換であり、或いは低
級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリフルオル
メチル、フェニル及びシアノから選択される5つまでの
置換基で置換されていてよい。この場合置換基は同一で
も異なっていてもよい。それは好ましくはハロゲン特に
塩素又は弗素、及び/又はトリフルオルメチルで置換さ
れ、特にモノ、ジまたはトリ置換されている。そのよう
な基の例として2.7ービス(トリフルオルメチル)−
4−キノリニル、2、8−ビス(トリフルオルメチル)
−4−キノリニル、及び6.8−ジクロル−2−トリフ
ルオルメチル−4−キノリニルを挙げることができる。 「ハロゲン」とは4種、即ち弗素、塩素、臭素及びヨウ
素を示す。 Rがメチルと異なる意味を有する場合には、式■の化合
物は4つの不斉置換された炭素原子を有する。Rがメチ
ルならば、式■の対応する化合物は3つの不斉置換され
た炭素原子を有する。本発明はすべての可能な立体異性
体特に(IR,4R。 55、8R)−、(IR,4S,5S.8R) −、(
IS.4R,5R,8R)−及び(Is.48。 5R,8S)−異性体及びこれらの混合物を含む。 特別な具体例において、本発明はRが炭素数8〜12の
飽和の、好ましくは開鎖及び直鎖の炭化水素基を示す式
■の化合物に関する。 この観点において、以下に挙げる化合物が特に好適であ
る: 4、8−ジメチル−4−オクチル−2.3−ジオキサビ
シクロ[3.3.11 −ノナン−7ーオン、 4、8−ジメチル−4−ノニル−2.3−ジオキサビシ
クロ[3.3.11 −ノナン−7ーオン、4−デシル
−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3.
3.11 −ノナン−7ーオン、4、8−ジメチル−4
−ウンデシル−2.3−ジオキサビシクロ[3.3.1
1 −ノナン−7ーオン、及び 4−ドデシル−4.8−ジメチル−2.3−ジオキサビ
シクロ[3.3.11 −ノナン−7ーオン。 更に特別な具体例において、本発明はRが炭素数7まで
のアルケニル基を介して結合するアリール又はヘテロア
リール基を示す式■の化合物に関する。この場合のアリ
ール基は好ましくはハロゲン特に弗素又は塩素、及び/
又はトリフルオルメチルで随時モノ、ジ又はペンタ置換
されたフェニル基であり、そしてヘテロアリール基は好
ましくはハロゲン特に塩素又は弗素、及び/又はトリフ
ルオルメチルで随時モノ、ジ又はトリ置換されたキノリ
ニル基である。 この観点において、以下に挙げる化合物は特に好適であ
る: 4− [(Z)−2−[2,7−ビス(トリフルオルメ
チル−4−キノリニル] ビニル]−4,8−ジメチル
−2,3−ジオキサビシクロ[3,3゜1]−ノナン−
7−オン、 4− [(Z)−2,4−ジクロルスチリル]−4,8
−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3,1]
−ノナン−7−オン、 4− [(Z)−2,4−ビス(トリフルオルメチル)
スチリル−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシク
ロ[3,3.1]−ノナン−7−オン、及び 4.8−ジメチル−4−[(E)−2,3,4゜5.6
−ペンタフルオルスチリル]−2,3−ジオキサビシク
ロ[3,3,1] −ノナン−7−オン。 式■の新規な化合物は、 a) 一般式 [式中、Rは上述の意味を有する] の化合物を、塩基の又は酸の存在下に環化させ、或いは b)式 の化合物を、一般式 1、P−CH−R”        IV[式中、−は
フェニルを示し、そしてR′は水素、炭素数13までの
飽和又は部分的に不飽和の炭化水素基、或いは炭素数5
までのアルキル又はアルケニル基を介して結合するアリ
ール、ヘテロアリール、アリールカルボニル又はヘテロ
アリールカルボニル基を示す] のホスホランと反応させ、或いは C) 一般式 [式中 R/は上述の意味を有する] の化合物の二重結合を還元する、 ことによる本発明によって製造することができる。 方法の変化a)によれば、式Iの化合物は一数式■のハ
イドロパーオキサイドを塩基又は酸の存在下に環化する
ことによって製造できる。この環化は好ましくは有機溶
媒中で行なわれ、例えば低級アルコール例えばメタノー
ル及びエタノール、開鎖及び環式エーテル例えばジエチ
ルエーテル、t−ブチルメチルエーテル及びテトラヒド
ロ7ラン、ハロゲン化炭化水素例えば塩化メチレン及び
クロロホルム、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド、アセトン、及びアセトニトリルがこの目的のた
めに考慮される。溶媒としては好ましくは低級アルコー
ル、特にメタノール、又はアセトニトリルが用いられる
。適当な塩基は三級アミン例えばトリエチルアミン及び
低級アルカリ金属アルコレート例えばナトリウムメチレ
ートであり、後者が好適である。適当な酸は鉱酸例えば
塩酸、硫酸及び燐酸、有機スルホン酸例えば低級アルキ
ルスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、及び芳香族ス
ルホン酸例えばベンゼンスルホン酸、メシチレンスルホ
ン酸及びp−トルエンスルホン酸、及びルイス酸例えば
三弗化ホウ素である。好ましくはp−トルエンスルホン
酸が酸として使用される。環化は好ましくは約0〜約4
0°Cの温度範囲で行なわれる。 好適な具体例において、アセトニトリル中p−トルエン
スルホン酸が使用され、環化が室温で行なわれる。 環化で得られる立体異性体、特に4−位に関してエピマ
ーの混合物はクロマトグラフィー法により又は結晶化に
より分離することができる。 Rが−CH−CH−R’を示し且つR′が前述の意味を
有する式Iの化合物は、方法の変化b)に従い弐■のア
ルデヒドを式■のホスホランと反応させることによって
製造される。適当なホスホランは弐■のアルデヒドと直
接反応させることができ、この時いずれかの不活性な有
機溶媒が溶媒として考慮される。好ましくは開鎖及び環
式エーテル、例えばジエチルエーテル、t−ブチルメチ
ルエーテル及びテトラヒドロフラン或いはハロゲン化低
級炭化水素例えば塩化メチレン及びクロロホルムが使用
される。残りのホスホランは予じめその場で、対応する
ホスホニウム塩及び強塩基から製造しなければならない
。塩基としては例えば低級アルキルリチウム、例えばn
−ブチルリチウム、水素化ナトリウム又はナトリウムビ
ス−トリメチルシリルアミドを使用することができる。 溶媒としては、この場合開鎖又は環式エーテル例えばジ
エチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル及ヒテトラ
ヒドロフランが特に考慮される。上記反応は好ましくは
約0〜約50°Cの温度で行なわれる。 得られる異性体の混合物はクロマトグラフィー法又は結
晶化によって分離することができる。 Rが−CH,−CH,−R’を示し且つR′が前述の意
味を有する式■の化合物は、例えば方法の変化C)に従
う式1aの化合物の、接触水素化による或いはジイミド
での還元による還元によって製造することができる。接
触水素化はそれ自体公知であり且つ同業者には熟知され
ている方法に従って行なわれる。触媒としては好ましく
は貴金属触媒、特に白金触媒例えば5%パラジウム担持
活性炭が用いられる。溶媒としては好ましくは低級脂肪
酸エステル例えば酢酸エチル、低級アルコール例えばメ
タノール及びエタノール、そして開鎖又は環式エーテル
例えばジエチルエーテル、L−ブチルメチルエーテル及
びテトラヒドロ7ランが使用できる。水素化は好ましく
は常圧又は僅かに加圧で行なわれる。反応温度は好まし
くは約0〜約50°Cの範囲、特に凡そ室温である。 ジイミドでの還元は、それ自体公知の方法に従い、アゾ
ジカルボン酸のニカリウム塩及び酸、例えば酢酸のよう
な低級脂肪酸からその場でジイミドを生成せしめること
によって行なわれる。この場合には極性溶媒好ましくは
低級アルコール例えばメタノール及びエタノールが用い
られる。反応温度は好ましくは約−1O〜約30°Cで
ある。 出発物質として使用しうる式■の化合物は次の反応式■
及び■に従って製造することができる。 ここにRaは炭素数14までの飽和又は部分的に不飽和
の炭化水素基、或いは炭素数6までのアルキル又はアル
ケニル基を介して結合するアリール、ヘテロアリール、
アリールカルボニル アリールカルボニルを示し、そしてR′は上述の意味を
有する: 反応式■ Va       Via      I[a式Vaの
化合物の、式Vlaの化合物への転化は有機溶媒中ルイ
ス酸例えば臭化亜鉛の触媒量の存在下に臭化水素で処理
することによって行なうことができる。特に適当な溶媒
はハロゲン化低級炭化水素例えば塩化メチレンである。 この臭化水素化は好ましくは約°0℃〜約室温の温度範
囲で行なわれる。 式VIaの化合物の、式I[aの化合物への転化は不活
性な有機溶媒中銀塩例えばトリフルオル酢酸銀の存在下
に100%過酸化水素で処理することによって行なうこ
とができる。特に適当な溶媒は開鎖及び環式エーテル例
えばジエチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル及び
テトラヒドロ7ランである。反応は好ましくは約0°C
〜約室温の範囲で行なわれる。 反応式■ bIlb 式vbの化合物の、式]Iaの化合物への転化は一重項
酸素酸化による公知の方法で行なうことができる。この
反応は好ましくは適当な有機溶媒中において、着色物質
例えばメチレンブルー、ローズベンガル又はテトラフェ
ニルポルフィリンの存在下に酸素又は空気を導入し且つ
ランプで照射しながら行なわれる。適当な溶媒は例えば
ハロゲン化低級炭化水素例えば塩化メチレン、低級アル
コール例えばメタノール及びエタノール、低級脂肪酸エ
ステル例えば酢酸エチル及びアセトニトリルである。反
応は好ましくは約−50’O〜約室温の温度範囲で行な
われる。 式■の化合物の製造に対する上記方法において、それを
単離することは必ずしも必要でない。それは環化触媒好
ましくは酸、特にp−トルエンスルホン酸を、得られた
反応混合物に添加することにより式Iの化合物に直接転
化することができる。 出発物質として用いられる弐■の化合物は以下の反応式
■に従い、式Iaの化合物から製造することができる。 ここにR′は前述の意味を有する。 反応式■ Ia            m 式Iaの化合物の、式■の化合物への転化は、例えばオ
ゾン酸化によって行なうことができる。 これはそれ自体公知であり且つ同業者の熟知する反応で
ある。溶媒としては好ましくは低級アルコール例えばメ
タノール或いは低級ハロゲン化炭化水素例えば塩化メチ
レンが用いられる。反応は好ましくは低温で、例えば−
70°0で行なわれる。 R′が水素を示す式1aの化合物は出発物質として好適
に使用される。 式■及び■の化合物は新規であり、本発明の目的でもあ
る。 出発物質として用いられる残りの化合物は公知であり、
或いはその種の物質の公知の代表的化合物と同様にして
製造することができる。特に問題の化合物は公知の方法
により(5S)−C+’)−カルボン又は(5R)−(
−)−カルボンを出発物質として製造することができる
。後に示す実施例は問題の出発物質の製造に関する詳細
な情報を含む。 前述したように式lの化合物は有用な薬理活性を有する
。それはマラリヤの病原体に対して著しい活性を示す。 それは明白な殺虫液シゾント活性を有する。本発明によ
る基質の活性は例えば以下に記述する動物実験で決定す
ることができる。 体重18〜20gの雄の白マウスを実験動物として用い
た。これをカゴ当り動物5匹に分けて22〜23°Cの
空調室中に保持した。これは低PABA含量の飼料と飲
水を任意に取ることができた。 実験の初日(DO)において、実験動物に、それぞれ感
染したドナーマウスのヘパリン処理した血液0.2rn
Qを静脈内注射することによりマラスモジウム・バーブ
ヘイ(P Iasmodium berghey)を感
染させた。ドナーの血液は希釈してそれが0゜2rtr
(l当り10’の寄生した赤血球を含むようにした。未
処置の対照動物の場合、感染から4日目(D+4)にバ
ラジテミア(parasitemia)が普通70〜8
0%に達し、+5〜+8日の間に実験動物は死亡した。 試験すべき基質を蒸留水に或いはツウィーン80、アル
コール(96%)及び水の混合物に溶解し又は懸濁させ
た。一般に各の場合、この溶液又は懸濁液の0.5mQ
を5匹の実験動物群に皮下投与した。この処置を、感染
から3時間後に第1回、並びに続いて3日間行なった。 活性の滴定に対しては試験化合物の適当な希釈物を用い
た。実験当り10匹の動物を溶液又は懸濁液媒体を用い
て同一の方法で処置した。 最後の処置から24時間後(D+4)、すべての動物か
ら、尾の静脈からの血液塗抹標本を準備し、ジームサ(
giemsa)で染色した。次いで対照群の並びに試験
すべき化合物で処置した群の平均の赤血球感染割合(バ
ラジテミア、%)を、顕微鏡で数えることにより決定し
た。対照群(100%)及び処置群間の感染割合の平均
値における差を計算し、減少%として表示した。またE
D、。を得られた結果から数学的に決定した。このED
s。 (mg/kg)は、4回の投与後に対照群と比較して平
均の赤血球感染割合を50%まで減する投薬量である。 上述の式Iによって定義される基質種の代表的な化合物
を用いて得た結果を下表にまとめる。更にこの表はこれ
らの化合物のいくつかの毒性に関するデータも含んでい
る。表に示す量の、マウスへの1回の経口投与では、毒
性の徴候が観察できなかった。 E D s o    投与量 −(CHz)y−CHs      IR,4S、5S
、8R5,2II         IR,4R,5S
、8R6,4−(CHt)s−CHs      lR
,4s、5s、8R6,0//         IR
,4R,5S、8R3,6−(CHz)s−CHs  
    IR,4S、5S、8R3,4n      
   IR,4R,5S、8R5,2−(CHt)+o
−CH31R,4S、5S、8R3,43000Jl 
        lR,4R,5S、8R5,2300
0u         ls、4R,5R,8s   
 4−6ff         Is、45,5R,8
S    5.9−CH<H−(CHz)y−CH31
R,4R,5S、8R6,2//         I
R,4S、5S、8R4,5式Iの化合物は、例えば場
内又は非経口投与に対する製薬学的調製剤の形で薬剤と
して使用しうる。それは例えば錠剤、被覆錠剤、糖衣錠
、硬質及び軟質ゼラチンカプセル、溶液、乳液又は懸濁
液の形で経口的に、例えば坐薬の形で直腸的に或いは例
えば注射溶液の形で非経口的に投与しうる。 製薬学的調製剤の製造は、同業者の熟知する方法に従い
、式■の記述する化合物を、他の治療学的に有用な基質
と組合せて、適当な無毒性で不活性な治療学的に適合し
うる固体又は液体担体物質及び所望により普通の製薬学
的助剤と共にガレン投与形にすることによって行なう・
ことができる。 担体物質としては、無機担体物質ばかりでなく、有機担
体物質が適当である。斯くして錠剤、被覆錠剤、糖衣錠
及び硬質ゼラチンカプセルに対しては、担体物質例えば
ラクトース、トウモロコシ殿粉又はその誘導体、タルク
、ステアリン酸又はその塩が使用できる。軟質ゼラチン
カプセルに適当な担体物質は例えば植物油、ワックス、
脂肪及び半固体及び液体ポリオールである(しかしなが
ら活性基質の性質に依存して、軟質ゼラチンカプセルの
場合担体は必要でない)、溶液及びシロップの製造に適
当な担体物質は例えば水、ポリオール、サッカローズ、
転化糖及びグルコースである。注射溶液に適当な担体物
質は例えば水、アルコール、ポリオール、グリセリン及
び植物油である。坐薬に対して適当な担体物質は例えば
天然油又は硬化油、ワックス、脂肪及び半液体又は液体
ポリオールである。 製薬学的助剤としては、普通の安定剤、保存剤、湿潤剤
及び乳化剤、風味改良剤、浸透圧を変えるための塩、緩
衝剤、可溶課剤、着色剤及び被覆剤及び抗酸化剤が考慮
しうる。 式Iの化合物の投薬量は、駆除すべき寄生体、患者の年
令と個々の状態、及び投与方式に依存して広い範囲内で
変えることができる。勿論それは各の特別な場合の個々
の必要条件に適合しなければならない。マラリヤの防止
及び処置に対して、成人の患者の1日の投薬量は、約0
.O1〜1〜約4特に約0.05〜約2gである。投薬
量に依存して、1日の投薬量を、いくつかの単位投薬量
で投与することが簡便である。 製薬学的調製剤は便宜上式Iの化合物を約lO〜loo
omg、好ましくは50〜500mg含有する。 次の実施例は本発明を更に詳細に例示するのに役立つ。 それは本発明の範囲をいずれの具合いにも制限するもの
ではない。すべての温度はセラ氏によるものとする。 実施例1 a) 塩化メチレン9Q中3−クロル過安息香酸(55
%)941gの溶液を水浴中で冷却した。 これに、温度が20℃以上に上昇しないようにして、(
5S) −(+)−カルボン360mffを滴下した。 この反応混合物を室温で3.5時間撹拌した。この結果
3−クロル安息香酸の沈殿が生成した。この懸濁液を3
0分間撹拌し、沈殿を完結させるために氷冷した。沈殿
を濾別し、ヘキサン/塩化メチレン(9: l)で洗浄
した。この濾液を注意深く蒸発させた。このようにして
得た油(エポキシド)を氷水3Q中に懸濁させ、そして
温度が20°以上に上昇しないように水浴で冷却しなが
ら3N硫酸180mQで処理した。この混合物を室温で
15時間撹拌した。3N水酸化ナトリウム溶液180m
gを添加してpl(を6.5に調節した。少量の3−ク
ロル安息香酸を濾別した。水性相を06まで冷却し、続
いて温度が20”以上に上昇しないように、(メタ)過
ヨウ素ナトリウム490gを30分間にわたって一部ず
つ添加した。 室温で2時間撹拌した後、亜硫酸ナトリウム30g及び
炭酸水素ナトリウム200gを連続して添加した。懸濁
液を濾過し、濾液をそれぞれ3Qの塩化メチレンで3回
洗浄した。−緒にした有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し
、蒸発させた。粗生成物をヘキサン/酢酸エチルから0
0で結晶化させた。この結果(5S)−5−アセチル−
2−メチル−2−シクロヘキセン−1−オンを得た。融
点35°;  [−] W−81’(c−1,エタノー
ル)。 b)  n−ブチルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド44gをアルゴン下に乾燥テトラヒドロフラン500
n+ffに懸濁させ、−500に冷却した。ヘキサン中
1.33Nn−ブチルリチウム69m(lをこれに添加
した。橙色の懸濁液を室温まで暖め、次いで再び一50
°まで冷却した。次いで乾燥テトラヒドロフラン2Om
Q中(53)−5−アセチル−2−メチル−2−シクロ
ヘキセン−1−オン14gを20分間にわたって滴下し
た。 次いで冷却浴を除き、懸濁液を放置して室温まで暖めた
。2時間撹拌した後、反応混合物を珪藻土を通して濾過
した。濾液を蒸発させ、暗色の残渣を酢酸エチル500
mffに溶解し、それぞれ水200m(lで2回洗浄し
た。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させた。こ
のようにして得た油をヘキサン/酢酸エチル(95:5
)を流出剤として用いるシリカゲルでのカラムクロマト
グラフィーにより精製した。依然対応する(E)−異性
体を含有する(5S)−2−メチル−5−[(Z)−1
−メチル−1−ペンテニル] −2−シクロヘキセン−
1−オンを得た。 ’H−NMR(CDCI 、):中でも3.1(m。 IH)、5.2 (t、IH)及び6.75(ブロード
、H)ppmにシグナル。 c)   (5S)−2−メチル−5−[(Z)−1−
メチル−1−ペンテニル]−2−シクロヘキt’7−1
−t72 gを塩化メチレンloO++ffi:溶解し
、o″まで冷却した。触媒量(100mg)の塩化亜鉛
を添加した後、溶液を臭化水素ガスで飽和した。30分
後に溶液をシリカゲルIgを通して濾過し、注意深く蒸
発させた。得られた油状残渣2.8gを乾燥エーテルに
溶解し、100%過酸化水素1mQで処理した。次いで
乾燥エーテル25mQに溶解したトリフルオル酢酸銀3
.45gを30分間にわたって滴下した。IN塩酸1m
mを添加することによって過剰量の銀イオンを沈殿させ
、得られた懸濁液をシリカゲルを通して濾過した。過剰
な過酸化水素を除去するために、濾液をそれぞれ水lo
mQで5回洗浄した。次いでエーテル相を注意深く蒸発
させ、残渣をメタノール100m12中に鋳れた。この
溶液に触媒量のナトリウムメタル−)(100mg)を
添加し、そして混合物を室温で15時間放置した。次い
でメタノールを留去し、残渣を精製し、ヘキサン/酢酸
エチル(7: 3)で留去させるシリカゲルでのクロマ
トグラフィーによって2つのジアステレオマーに分離し
た。この結果(IR,4R,5S。 8R)−4−ブチル−4,8−ジメチル−2,3−ジオ
キサビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[質量
スペクトル:中でもm/e227 (M“+1)、15
3及び85にピーク; [α]竹−−137.56 (
c=1.メタノール)〕及び(lR,4S、5S、8R
)−4−ブチル−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサ
ビシクロ[3,3゜l]ノナン−7−オン[質量スペク
トル:中でもm/e227 (M”+ 1 )、153
及び85にピーク]を得た。 同様の方法に従い次のものを製造した:d)   (5
R)−(−)−カルボンを(5S)−(+)−カルボン
の代りに出発物質として用いることにより、(Is、4
R,5R,8S)−4−ブチル−4,8−ジメチル−2
,3−ジオキサビシクロ[3,3.1]ノナン−7−オ
ン[質量スペクトル:中でもm/e227 (M”+ 
1 )、153及び85にピーク]及び(is、4S、
5R。 8S)−4−ブチル−4,8−ジメチル−2,3−ジオ
キサビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[質量
スペクトル:中でもm/e227 (M”+1)、15
3及び85にピーク〕 ;e) 工程b)においてイソ
ペンチルトリフェニルホスホニウムブロマイドをn−ブ
チルトリフェニルホスホニウムブロマイドの代りに用い
ることにより、(IR,4S、5S、8R)−4−イソ
ペンチル−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシク
ロ[3,3,1] ノナン−7−オン[IH−NMRス
ペクトル(CDC1x):中でも0.9(d、6H)、
1.05 (d、3H)及び1.1(s、3H)ppm
にピーク]及び(IR,4R。 5S、8R)−4−イソペンチルー4,8−ジメチル−
2,3−ジオキサビシクロ[3,3,1]ノナン−7−
オン[’H−NMRスペクトル(CDCl2):中でも
0.8 (d、6H)、1゜3 (d、3H)及び1.
4 (s、 3H) ppmにシグナル〕 ; f)  工程b)において3−フェニルプロピルトリフ
ェニルホスホニウムブロマイドをn−ブチルトリフェニ
ルホスホニウムブロマイドの代りに用いることにより、
(IR,4S、53,8R)−4−(3−フェニルプロ
ピル)−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ
[3,3.1]ノナン−7−オン[質量スペクトル化学
的イオン化:中でもm/e256 (M”−32)及び
104にピーク]及び(IR,4R,5S、8R)−4
−(3−フェニルプロピル)−4,8−ジメチル−3−
ジオキサビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[
質量スペクトル化学的イオン化:中でもm/e306 
(M”+NH4) 、273 (M”  15)及び1
80にピーク] : g)   (5R)−(−)−カルボンを(5S)−(
+)−カルボンの代りに出発物質として用い且つ工程b
)において3−フェニルプロピルトリフェニルホスホニ
ウムブロマイドをn−ブチルトリフェニルホスホニウム
ブロマイドの代りに用い′ることにより、(Is、4R
,5R,8S)’−4−(3−フェニルプロピル)−4
,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3,
1] ノナン−7−オン[’H−NMRスペクトル(C
D C13):中でも0.9 (s、3H)及び7.2
 (s、5H)ppmにシグナル]及び(Is、4S、
5R,8S)−4−イソペンチル−4,8−ジメチル−
2,3−ジオキサビシクロ[3,3,1] ノナン−7
−オン[’H−NMRスペクトル(CD C13):中
でも1.3 (s、3H)及び7.2 (s、 5H)
 ppmにシグナル1 ; h) 工程C)に従って(5S)−(+)−力ルボンを
直接反応させることにより、(IR,5S、8R)−4
,4,8−トリメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3
,3,1] ノナン−7−オン[質量スペクトル:中で
もm/ e l 84 (M”)、126及び85にビ
ーク] ; 1) 工程C)に従って(5R)−(−)−カルボンを
直接反応させることにより、(15,5R,8S)−4
,4,8−トリメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3
,3,1] ノナン−7−オン[質量スペクトル:中で
もm/el 84 (M”)、及び85にビーク]。 実施例2 a)  エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド4
.5g及びN、N、N’、N’−テトラメチル−エチレ
ンジアミン1.8+++Qを、テトラヒドロフラン30
0+1112中においてアルゴン下に0°まで冷却した
。次いでn−ブチルリチウム(ヘキサン中1−6 M)
 7.5 mQを撹拌しながら滴下し、混合物を更に1
時間水冷なしに撹拌した。次いで赤色の溶液を一70°
まで冷却し、そしてテトラヒドロ7ランIon(2に溶
解した(S)−5−アセチル−2−メチル−2−シクロ
ヘキセン−1−オン1.52 gを15分にわたって滴
下した。冷却浴を除去し、混合物を更に45分間撹拌し
た。 水20mQの添加後、混合物を蒸発させた。残渣をエー
テル中に入れ、0.3N硫酸で2回、そして飽和塩化ナ
トリウム溶液で2回抽出した。エーテル相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、蒸発させた。 この結果の粗生成物を、ヘキサン塩化メチレン(1: 
l)で流出させるシリカゲルでの7ラツシユクロマトグ
ラフイーにより精製した。この結果(5S)−2−メチ
ル−5−[(Z)−1−メチルプロペニル]−2−シク
ロヘキセン−1−オンを無色の油として得た[質量スペ
クトル:中でもm/el 64 (M”)、l 49 
(M”−15,CH3)、135 (M”−29,C:
OH) 、82及び54にビーク1゜ アセトニトリル400mQに溶解した(5S)−2−メ
チル−5−[(Z) −1−メチルプロペニル]72−
シクロヘキセン−1−オン48 g及びメチレンブルー
150mgを、600Wの白色光ランプ、回転撹拌機及
び低温保持凝縮器(−30°)を備えた光酸化装置中に
おいて、僅かな02流下、0°Cで22時間照射した。 反応混合物を装置から除去し、トルエン−4−スルホン
酸1gで処理し、そして室温で2時間撹拌した。ジメチ
ルスルフィド20m(lを添加した後、反応混合物を注
意深く蒸発させ、残渣を塩化メチレンを流出剤とするシ
リカゲルでのカラムクロマトグラフィーにより精製した
。この結果、(IR,4R3,5S、8R)−4,8−
ジメチル−4−ビニル−2゜3−ジオキサビシクロ[3
,3,1] −ノナン−7−オンを無色の油として得た
[質量スペクトル(化学的イオン化):中でもm/e2
14 (M”+ N H、)及び197(M”+1)に
ビーク]。 照射後に得られた反応混合物は(5S)−5−[(R3
)−2−ヒドロペルオキシ−3−ブテン−2−イル1−
2−メチル−2−シクロヘキセン−1−オンを含み、こ
れを蒸発させ且つ残渣をへキサン/酢酸エチル(3: 
l)を流出剤とするシリカゲルでのフラッシュ・クロマ
トグラフィーにかけ、単離且つ精製した[質量スペクト
ル(化学的イオン化):中でもm/e214 (M”十
NH,)、198.179及び163にビーク]。 実施例1の工程a)及びb)に従い、但しそれぞれの場
合に指示した変更を行なって得た対応する出発物質を用
いることによって次の化合物を製造した: b)   (IR,4R3,5S、8R)−[(E)−
1−ブテニル1−4.8−ジメチル−2,3−ジオキサ
ビシクロ[3,3,1] ノナン〜7−オン[’H−N
MRスペクトル(CD C1,):中でも5゜55 (
m、2H) 、4.25 (ブロード、IH)ppmに
シグナル;質量スペクトル(化学的イオン化):中でも
m/e242 (M”+ N H、)、144及び11
6にビーク] : C) 実施例1の工程b)においてn−ブチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイドの代りにオクチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイドを用いることにより、(I
R,4R,5S、8R) −4,8−ジメチル−4−[
(E)−1−オクテニル]−2,3−ジオキサビシクロ
[3,3.1]ノナン−7−オン[質量スペクトル:中
でもm/e155及び71にピーク]及び(IR,43
,5S、8R)−4,8−ジメチル−4−[(E) −
1−オクテニル]−2,3−ジオキサビシクロ[3,3
,1] ノナン−7−オン[質量スペクトル:中でもm
/e249.139.55及び43にピーク] ; d) 実施例1の工程b)においてn−ブチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイドの代りにノニルトリフェニ
ルホスホニウムブロマイドを用いることにより、(IR
,4R,5S、8R) −4゜8−ジメチル−4−[(
E)−1=ノネニル]−2,3−ジオキサビシクロ[3
,3.1]ノナン−7−オン[’H−NMRスペクトル
(CD C13):中でも1.10 (s、3H) 、
4.35 (m、IH)及び5.2〜6.0 (m、2
H)I)Qにシグナル〕及び(IR,4S、5S、8R
)−4,8−ジメチル−4−[(E)−1−ノネニル]
−2,3−ジオキサビシクロ[3,3.1]ノナン−7
−オン[質量スペクトル:中でもm/e169及び71
にピーク] ; e) 実施例1の工程b)においてn−ブチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイドの代りにデシルトリフェニ
ルホスホニウムブロマイドを用いることにより、(IR
,4R,5S、8R)−4゜8−ジメチル−4−[(E
)−1−デセニル]−2,3−ジオキサビシクロ[3,
3.1]ノナン−7−オン
【質量スペクトル:中でもm
/e309(M”+ l )及び71にピーク]及び(
lR,4S、5S、8R)−4,8−ジメチル−4−[
(E)−1−デセニル]−2,3−ジオキサビシクロ(
3,3.1]ノナン−7−オン[質量スペクトル:中で
もm/e183及び71にピーク] ;f) 実施例1
の工程b)においてn−ブチルトリフェニルホスホニウ
ムブロマイドの代りにウンデシルトリフェニルホスホニ
ウムブロマイドを用いることにより、(IR,4R,5
S、8R)−4,8−ジメチル−4−[(E)−1−ウ
ンデセニル]−2,3−ジオキサビシクロ[3,3゜1
]ノナン−7−オン[質量スペクトル:中でもm/e2
36.197.181及び71にピーク]及び(JR,
4S、5S、8R) −4,8−ジメチル−4−[(E
) −1−ウンデセニル]−2゜3−ジオキサビシクロ
[3,3.1]ノナン−7−オン[質量スペクトル:中
でもm/e304 (M”−18,H,o)、197,
139.55及び43にピーク] : g) 実施例1の工程a)において(5S)−(+)−
カルボンの代りに(5R)−(−)−カルボンを出発物
質として用い且つ実施例1の工程b)においてn−ブチ
ルトリフェニルホスホニウムブロマイドの代りにウンデ
シルトリフェニルホスホニウムブロマイドを用いること
により、(IS、4S、5R,8S)−4,8−ジメチ
ル−4−[(E)−1−ウンデセニル]−2,3−ジオ
キサビシクロ[3,3.1]ノナン−7−オン[質量ス
ペクトル:中でもm/e236.197゜181及び7
1にピーク]及び(Is、4R,5R,8S) −4,
8−ジメチル−4−[(E)−1−ウンデセニル] −
2,3−ジオキサビシクロ[3,3,1] ノナン−7
−オン[質量スペクトル:中でもm/e304(M” 
 l 8 、 HzO) 、197.55及び43にピ
ーク] ; h) 実施例1の工程b)においてn−ブチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイドの代りにドデシルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイドを用いることにより、(I
R,4R,5S、8R)−4,8−ジメチル−4−[(
E)−1−ドデセニル]−2,3−ジオキサビシクロ[
3,3,1]ノナン−7−オン[質量スペクトル:中で
もm/e211及び71にピーク]及び(IR,43,
5S、8R) −4,8−ジメチル−4−[(E)−1
−ドデセニル]−2,3−ジオキサビシクロ[3,3,
1] ノナン−7−オン[質量スペクトル:中でもm/
e318(M” −18、) 211及び71にピーク
] ; i) 実施例1の工程b)においてn−プチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイドの代りにテトラデシルトリ
フェニルホスホニウムブロマイドを用いることにより、
(IR,4R,5S、8R)−4,8−ジメチル−4−
[(E)−1−テトラデシル]−2,3−ジオキサビシ
クロ[3,3゜1] ノナン−7−オン[質量スペクト
ル:中でもm/e288.239及び71にビーク1及
び(lR,4S、5S、8R) −4,8−ジメチル−
4−[(E)−1−テトラデセニル]−2,3−ジオキ
サビシクロ[3,3.1]ノナン−7−オン[質量スペ
クトル:中でもm/e346 (M” −18。 HzO) 、 332(M、”−32、○り、239及
び71にビーク]。 実施例3 a) 酢酸エチル180m12に溶解した(IR。 4S、5S、8R)−4−[(E)−1−デセニル]−
4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3
,1] ノナン−7−オン[実施例2e)に従って製造
]3.59gを、5%パラジウム/活性炭360mgの
存在下に1.013X 10 ’Paの水素で約1.2
5時間水素化した。反応の終点はガスクロマトグラフィ
ー分析によって決定した。次いで触媒を珪藻土を通して
濾過することにより除去し、濾液を蒸発させた。残渣を
ヘキサン/酢酸エチル(3: 1)を流出剤とするシリ
カゲルでのカラムクロマトグラフィーにより精製した。 この結果(IR,4S、5S、8R)−4−デシル−4
,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3.
1]ノナン−7−オンを無色の油として得、これをヘキ
サンから結晶化させた[融点57°]。 同様の方法に従い、 b) 実施例2c)の第1の生成物から、(lR,4S
、5S、8R)−4,8−ジメチル−4−オクチル−2
,3−ジオキサビシクロ[3,3゜1]ノナン−7−オ
ン[融点41°]を得た;C) 実施例2c)の第2の
生成物から、(IR,4R,55,8R)−4,8−ジ
メチル−4−オクチル−2,3−ジオキサビシクロ[3
,3゜1]ノナン−7−オン[融点27°]を得た;d
) 実施例2d)の第1の生成物から、(IR,4S、
5S、8R)−4,8−ジメチル−4−ノニル−2,3
−ジオキサビシクロ[3,3゜1]ノナン−7−オン[
融点396]を得た;e) 実施例2d)の第2の生成
物から、(IR,4R,5S、 8R)−4,8−ジメ
チル−4−ノニル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3
゜1]ノナン−7−オン[融点40’]を得た;f) 
実施例2e)の第1の生成物から、(IR,4S、5S
、8R)−4,8−ジメチル−4−デシル−2,3−ジ
オキサビシクロ[3,3゜1]ノナン−7−オン[融点
40°]を得た;g) 実施例2f)の第1の生成物か
ら、(lR,4S、5S、8R)−4,8−ジメチル−
4−ウンデシル−2,3−ジオキサビシクロ[3゜3.
11ノナン−7−オン〔融点56°; [α]菅−−1
58.8 (c−1,エタノール)];h〕 実施例2
f)の第2の生成物から、(lR,4R,5S、8R)
−4,8−ジメチル−4−ウンデシル−2,3−ジオキ
サビシクロ[3゜3.1]ノナン−7−オン[融点42
°; [α]竹=−157.7 (c−1’、エタノー
ル)];i) 実施例2g)の第1の生成物から、(I
S、4R,5R,8S)−4,8−ジメチル−4−ウン
デシル−2,3−ジオキサビシクロ[3゜3.1]ノナ
ン−7−オン[融点56°]を得た;j) 実施例2g
)の第2の生成物から、(lS、4S、5R,8S)−
4,8−ジメチル−4−オクチル−2,3−ジオキサビ
シクロ[3,3゜1]ノナン−7−オン[融点42°1
を得た;k) 実施例2h)の第1の生成物から、(I
R,4S、53,8R)−4,8−ジメチル−4−ドデ
シル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3゜11ノナン
−7−オン[融点67°Jを得た;l) 実施例2h)
の第2の生成物から、(lR,4R,5S、8R)−4
,8−ジメチル−4−ドデシル−2,3−ジオキサビシ
クロ[3,3゜1]ノナン−7−オン[融点35°]を
得た:m) 実施例2i)の第1の生成物から、(lR
,4S、5S、8R)−4,8−ジメチル−4−テトラ
デシル−2,3−ジオキサビシクロ[3゜3.11ノナ
ン−7−オン[融点74°]を得た;n) 実施例2i
)の第2の生成物から、(IR,4R,5S、8R)−
4,8−ジメチル−4−テトラデシル−2,3−ジオキ
サビシクロ[3゜3.1]ノナン−7−オン[融点46
°]を得た;実施例4 a)   (IR,4S、5S、8R)−4,8−ジメ
チル−4−ビニル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3
.1]ノナン−7−オン[実施例2a)に従って製造]
33gをメタノール100mffに溶解し、アルゴン下
に一70°まで冷却した。酸素40Q/時からのオゾン
流を導入し、飽和状態(淡青色)を保った。3〜4時間
後、オゾン流を止め、過剰なオゾンを酸素で置き換えた
。これにジメチルスルフィド40mQを添加し、懸濁液
を室温まで暖めた。メタノールを留去し、残渣を、ヘキ
サン/酢酸エチル(2: 1−1 : 2)を流出剤と
するシリカゲルでのカラムクロマトグラフィーによって
精製し且つ分離した。0°のヘキサン/酢酸エチルから
の結晶後、(IR,4R,5S。 8R)−4,8−ジメチル−7−オキソ−2,3−ジオ
キサビシクロ[3,3.1]ノナン−4−力ルポキサル
デヒド[融点92°]及び(IR。 4S、5S、8R)−4,8−ジメチル−7−オキソ−
2,3−ジオキサビシクロ[3,3.1]ノナン−4−
カルボキサルデヒド[融点97°]を得た。 b)   (IR,4S、5S、8R)−4,8−ジメ
チル−7−オキソ−2,3−ジオキサビシクロ[3,3
,1] ノナン−4−カルボキサルデヒド760mgを
塩化メチレン80mQに溶解した。 これに2,7−ビス(トリフルオルメチル)キノリン−
4−イル−メチリデントリフェニルホスホラン2,5g
を添加し、この溶液を室温で24時間放置した。塩化メ
チレンを留去し、残渣を塩化メチレンを流出剤とするシ
リカゲルでのカラムクロマトグラフィーによって(E)
−及び(Z)−異性体に分離した。メタノールからの結
晶化後、(IR,4S、5S、8R)−4−[(Z)−
2−[2,7−ビス(トリフルオルメチル−4−キノリ
ニル] ビニル]−4,8−ジメチル−2,3−ジオキ
サビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オンを白色の
結晶[融点160’;  [σ]竹−53゜7° (c
=1.エタノール)]として及び(IR。 4S、5S、8R)−4−[(Z)−2−[2゜7−ビ
ス(トリフルオルメチル−4−キノリニル〕ビニル]−
4,8−ジメチル−−2,3−ジオキサビシクロ[3,
3,1] ノナン−7−オン[融点188’] を得た
。 同様の方法により、 c)   (5R)−(−)−カルボンから製造した対
応する出発物質を用いることにより、(IR。 4R,5R,8S)−4−[(z)−2−[2゜7−ビ
ス(トリフルオルメチル−4−キノリニル]ビニル]−
4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3
.1]ノナン−7−オン[融点160°1を得た; す。 d)p−トリフルオ゛ルメチルベンジルトリフェニルホ
スホニウムブロマイド及びナトリウムビス(トリメチル
シリル)アミドからその場で生成したp−+−リフルオ
ルメチルベンジリデントリフェニルホスホランを用いる
ことにより、(IR。 4R,5S、8R)−4,8−ジメチル−4−[(E)
−4−(トリフルオルメチル)スチリル]−2,3−ジ
オキサビシクロ[3,3.1]ノナン−7−オン[質量
スペクトル:中でもm/e321(M”−19,F)及
び85にピーク]を得た。 e)  p−クロルフェナシルベンジルトリフェニルホ
スホニウムブロマイド及びナトリウムエチレートからそ
の場で生成したp−クロルフェナシルベンジリデントリ
フェニルホスホランを用いることにより、(IR,4S
、5S、8R)−4゜8−ジメチル−4−[(E)−2
−(4−クロルベンゾイル)ビニル]−2,3−ジオキ
サビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[融点1
27°]を得た; f)  2−(1−アダマンチル)−二チルトリフェニ
ルホスホニウムブロマイド及びn−ブチルリチウムから
その場で生成した2−(1−アダマメチル)エチリデン
トリフェニルホスホランを用いることにより、(IR,
4R,5R,8R)−4−[(z) −3−(1−アダ
マンチル)プロペニル]−4,8−ジメチル−2,3−
ジオキサビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[
融点146° (分解)1を得た; g)  ゲラニルトリフェニルホスホニウムブロマイド
及びn−ブチルリチウムからその場で生成したゲラニリ
デントリフェニルホスホランを用いることにより、(I
R,4R,5S、8R)−4−[(全Z)−1,3,7
−ノナドリエニル1−4.8−ジメチル−2,3−ジオ
キサビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[質量
スペクトル:中でもm/e318 (Mつ及び69にビ
ーク]を得た; h)   (IR,4S、5S、8R)−4−[(IZ
、3E)−4,8−ジメチル−1,3,7−ノナドリエ
ニル]−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ
[3,3.1]ノナン−7−オン[質量スペクトル:中
でもm/e249及び69にピーク]を得た。 i)   (5R)   ()−カルボン及び2,8−
ビス(トリフルオルメチル)−4−キノリニル−メチリ
デントリフェニルホスホランから生成した対応する出発
物質を用いることにより、(is。 4R,5R,8S)−4−[(Z)−2−[2゜8−ビ
ス(トリフルオルメチル)−4−キノリニル] ビニル
]−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3
,3,1] ノナン−7−オン[融点137°]を得た
: k)   (5R)−(−)−カルボン及び6,8−ジ
クロル−2−トリフルオルメチル−4−キノリニル−メ
チリデントリフェニルホスホランから生成した対応する
出発物質を用いることにより、(Is、4R,SR,,
8S)−4−[(E)−2−[6,8−ジクロル−2−
(トリフルオルメチル)−4−キノリニル] ビニル]
−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,
3.1]7ナンー7−オン[融点196°]を得た;1
)   (Is、4R,5R,8S)−4−[(Z)−
2−[6,8−ジクロル−2−(トリフルオルメチル−
4−キノリニル] ビニル]−4,8−ジメチル−2,
3−ジオキサビシクロ[3,3,1]ノナン−7−オン
[融点191’l を得た;m)2.4−ジクロルベン
ジルトリフェニルホスホニウムブロマイド及びn−ブチ
ルリチウムからその場で生成した2、4−ジクロルベン
ジリデントリフェニルホスホランを用いることにより、
(IR,4R,5S、8R)−4−[(z)−2゜4−
ジクロルスチリル]−4,8−ジメチル−2゜3−ジオ
キサビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[質量
スペクトル(化学的イオン化):中でもm/e358 
(M”+NH4)及び179]を得lこ ; n)3.4−ジクロルベンジルトリフェニルホスホニウ
ムクロライド及びナトリウムビス(トリメチルシリル)
アミドからその場で生成した3゜4−ジクロルベンジリ
デントリフェニルホスホランを用いることにより、(I
R,4S、5S、8R)−4,8−ジメチル−4−[(
Z)−3,4−ジクロル)スチリル]−2,3−ジオキ
サビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[融点1
35°1を得た; o)   (5R)−(−)−カルボン及び2.4=ジ
クロルベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイドと
ナトリウム(トリメチルシリル)アミドとから生成した
2、4−ジクロルベンジリデントリフェニルホスホラン
から製造した対応する出発物質を用いることにより、(
Is、4R,5R。 8S)−4−[(Z)−2,4−ジクロルスチリル]−
4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3
,1] ノナン−7−オン[融点137°]を得た; p)   (5R)−(−)−カルボン及び1−ナフチ
ルメチレントリフェニルホスホニウムブロマイドとナト
リウム(トリメチルシリル)アミドとから生成した1−
す7チルメチリデントリフエニルホスホランから製造し
た対応する出発物質を用いることにより、(is、4R
,5R,8S)−4−[(Z)−(1−ナフチル)ビニ
ル]−4゜8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[
3゜3.11 ノナン−7−オン[質量スペクトル:中
でもm/e322 (M”)及び152にビーク]を得
た; q)   (5R)−(−)−カルボン及び4−ブロム
−1−ナフチルメチレントリフェニルホスホニウムブロ
マイドとナトリウム(トリメチルシリル)アミドとから
生成した4−ブロム−1−ナフチルメチリデントリフェ
ニルホスホランから製造した対応する出発物質を用いる
ことにより、(lS、4R,5R,8S)−4−[(Z
)−2−(4−ブロム−1−ナフチル)ビニル] −4
,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3゜
1]ノナン−7−オン[融点167’lを得た;r) 
  (5R)−(−)−カルボン及びベンジルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイドとナトリウム(トリメチル
シリル)アミドとから生成したベンジリデントリフェニ
ルホスホクンから製造した対応する出発物質を用いるこ
とにより、(Is。 4R,5R,8S)−4−[(Z)−2,4−ジクロル
スチリル]−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシ
クロ[3,3,1] ノナン−7−オン[融点60’]
を得た; s)   (5R)−(−)−カルボン及び4−フルオ
ルベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイドとナト
リウム(トリメチルシリル)アミドとから生成した4−
フルオルベンジリデントリフェニルホスホランから製造
した対応する出発物質を用いることにより、(Is、4
R,5R,8S)−4−[(Z)−4−フルオルスチリ
ル]−4゜8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[
3゜3.1]ノナン−7−オン〔融点84°]を得た;
t)   (5R)−(−)−カルボン及び4−クロル
ベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイドとナトリ
ウム(トリメチルシリル)アミドとから生成した4−ク
ロルベンジリデントリフェニルホスホランから製造した
対応する出発物質を用いることにより、(Is、4R,
5R,8S) −4−[(Z)−4−クロルスチリル]
 −4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3
,3.1]ノナン−7−オン[融点90°]を得た;u
)   (5R)−(−)−カルボン及び4−メチルベ
ンジルトリフェニルホスホニウムブロマイドとナトリウ
ム(トリメチルシリル)アミドとから生成した4−メチ
ルベンジリデントリフェニルホスホランから製造した対
応する出発物質を用いることにより、(is、4R,5
R,8S)−4−[(Z)−4−メチルスチリル]−4
,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3.
1]ノナン−7−オン[融点137°]を得た:v) 
  (5R)−(−)−カルボン及び4−(トリフルオ
ルメチル)ベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ドとナトリウム(トリメチルシリル)アミドとから生成
した4−(トリフルオルメチル)ベンジリデントリフェ
ニルホスホランから製造した対応する出発物質を用いる
ことにより、(Is、4R,5R,8S)−4−[(Z
)−4−(トリフルオルメチル)スチリル]−4,8−
ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3゜11ノ
ナン−7−オン[質量スペクトル(化学的イオン化):
中でもm/ e358 (M”+ N Ha)及び34
0にピーク】を得た; W)   (5R)−(−)−カルボン及び3−(トリ
フルオルメチル)ベンジルトリフェニルホスホニウムブ
ロマイドとナトリウム(トリメチルシリル)アミドとか
ら生成した3−(トリフルオルメチル)ベンジリデント
リフェニルホスホランから製造した対応する出発物質を
用いることにより、(Is、4R,5R,8S)−4−
[(Z)−3−(トリフルオルメチル)スチリル]−4
,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3゜
1]ノナン−7−オン[融点101’lを得た;x) 
  (5R)−(−)−カルボン及び4−シアノベンジ
ルトリフェニルホスホニウムブロマイドとナトリウム(
トリメチルシリル)アミドとから生成した4−シアノベ
ンジリデントリフェニルホスホランから製造した対応す
る出発物質を用いることにより、4−[(z)−2−(
Is、4R。 5R,8S) −4,8−ジメチル−7−オキソ−2,
3−ジオキサビシクロ[3,3,N ノナン=4−イル
] ビニル]ベンゾニトリル[融点125″]を得た; y)   (5R)−(−)−カルボン及び4−(t−
ブチル)ベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイド
とナトリウム(トリメチルシリル)アミドとから生成し
た4−(t−ブチル)ベンジリデントリフェニルホスホ
ランから製造した対応する出発物質を用いることにより
、(Is、4R。 5R,85)−4−[(Z) −4−(t−ブチル)ス
チリル]−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシク
ロ[3,3.1]ノナン−7−オン[融点101’] 
を得た; z)   (5R) −(−)−カルボン及び4−フェ
ニルベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドとナ
トリウム(トリメチルシリル)アミドとから生成した4
−フェニルベンジリデントリフェニルホスホランから製
造した対応する出発物質を用いることにより、(is、
4R,5R,8S)−4−[(Z)−4−ビフェニルビ
ニル]−4゜8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ
[3゜3.1]ノナン−7−オン[融点148°]を得
た; aa)   (5R)−(−)−カルボン及び4−メト
キシベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドとナ
トリウム(トリメチルシリル)アミドとから生成した4
−メトキシベンジリデントリフェニルホスホランから製
造した対応する出発物質を用いることにより、(Is、
4R,5R,8S)−4−[(E/Z)−4−メトキシ
スチリル]−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシ
クロ[3,3,13ノナン−7−オン(E/Z比−1:
3)[質量スペクトル:中でもm/e302(Mつ及び
161にピーク]を得た。 bb)   (5R) −(−)−カルボン及び2゜4
−ジクロルベンジルトリフェニルホスホニウムクロライ
ドとナトリウム(トリメチルシリル)アミドとから生成
した2、4−ジクロルベンジリデントリフェニルホスホ
ランから製造した対応する出発物質を用いることにより
、(Is、4R,5R,8S)−4−[(Z)−2,4
−ジクロルスチリル]−4,8−ジメチル−2,3−ジ
オキサビシクロ[3,3.1]ノナン−7−オン[質量
スペクトル(化学的イオン化):中でもm/e358 
(M”+NH,)及び179にピーク]を得た。 cc)   (5R)−()−カルボン及び2゜4−ビ
ス(トリフルオルメチル)ベンジルトリフェニルホスホ
ニウムブロマイドとナトリウム(トリメチルシリル)ア
ミドとから生成した2、4−ビス(トリフルオルメチル
)ベンジリデントリフェニルホスホランから製造した対
応する出発物質を用いることにより、(is、4R,5
R,8S)−4−[(Z)−2,4−ビス(トリフルオ
ルメチル)スチリル]−4,8−ジメチル−2,3−ジ
オキサビシクロ[3,3.1]ノナン−7−オン[融点
124°]を得た; aa)   (5R)−(−)−カルボン及び2−クロ
ル−4−(トリフルオルメチル リフェニルホスホニウムクロライドとナトリウム(トリ
メチルシリル)アミドとから生成した2−クロル−4−
(トリフルオルメチル)ベンジリデントリフェニルホス
ホランから製造した対応する出発物質を用いることによ
り、(Is.4R.5、R,、8S)−4− [(Z)
 −2−りo4−4−(トリフルオルメチル)スチリル
1−4.8−ジメチル−2.3−ジオキサビシクロ[3
.3.1] ノナン−7ーオン[融点160°]を得た
:ee)   (5R)−(−)−カルボン及び3。 5−ビス(トリフルオルメチル)ベンジルトリフェニル
ホスホニウムブロマイドとナトリウム(トリメチルシリ
ル)アミドとから生成した3,5−ビス(トリフルオル
メチル)ベンジリデントリフェニルホスホランから製造
した対応する出発物質を用いることにより、(IS,4
R,5R.8S)−4− [(E/Z)−3.5−ビス
(トリフルオルメチル)スチリル]−4.8−ジメチル
−2。 3−ジオキサビシクロ[3.3.1] ノナン−7ーオ
ン[質量スペクトル:中でもm/e3 8 9 (M″
″−F)及び267にピーク〕を得た; r r)   (5R)− (−)−カルボン及び2−
クロル−4−シアノベンジルトリフエニJレホスホニウ
ムブロマイドとナトリウム(トリメチルシリル)アミド
とから生成した2−クロル−4−シアノベンジリデント
リフェニルホスホランから製造した対応する出発物質を
用いることにより、3−クロル−4−[(Z) −2−
(Is、4R,5R。 8S)−4,8−ジメチル−7−オキソ−2,3−ジオ
キサビシクロ[3,3.1]ノナン−4−イル] ビニ
ル1ベンゾニトリル[融点155°]を得た; gg)   (5R)−(−)−カルボン及びペンタフ
ルオルベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイドと
ナトリウム(トリメチルシリル)アミドとから生成した
ペンタフルオルベンジリデントリフェニルホスホランか
ら製造した対応する出発物質を用いることにより、(l
s、iR,5R。 8S)−4−[(E)−2,3,4,5,6−ペンタフ
ルオルスチリル]−4,8−’;メチルー2゜3−ジオ
キサビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[融点
128°]を得た; hh)2.4−ジクロルベンジルトリフェニルホスホニ
ウムクロライドとナトリウム(トリメチルシリル)アミ
ドとからその場で生成した2゜4−ジクロルベンジリデ
ントリフェニルホスホランを用いることにより、(is
、4R,5R,8S)−4−[(Z)−2,4−ジクロ
ルスチリル]−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビ
シクロ[3,3.1]ノナン−7−オン[融点137’
1を得た; ii)  2.4−ビス(トリフルオルメチル)ベンジ
ルトリフェニルホスホニウムブロマイドとナトリウム(
トリメチルシリル)アミドとからその場で生成した2、
4−ビス(トリフルオルメチル)ベンジリデントリフェ
ニルホスホランを用いることにより、(Is、4R,5
R,8S) −4−[(Z)−2,4−ビス(トリフル
オルメチル)スチリル]−4,8−ジメチル−2,3−
ジオキサビシクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[
融点124°]を得た; jj)  2−クロル−4−(トリフルオルメチル)ベ
ンジルトリフェニルホスホニウムクロライドとナトリウ
ム(トリメチルシリル)アミドとからその場で生成した
2−クロル−4−(トリフルオルメチル)ベンジリデン
トリフェニルホスホランを用いることにより、(Is、
4R,5R,8S)−4−[(Z) −2−クロル−4
−(トリフルオルメチル)スチリル]−4,8−ジメチ
ル−2,3−ジオキサビシクロ[3,3、l]ノナン−
7−オン[融点160°]を得た; kk)3.5−ジシアノベンジルトリフェニルホスホニ
ウムブロマイドとナトリウム(トリメチルシリル)アミ
ドとからその場で生成した3゜5−ジシアノベンジリデ
ントリフェニルホスホランを用いることにより、(is
、4R,5R,8S)−4−[(Z)−3,5−ジシア
ノスチリル]−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビ
シクロ[3,3,1] ノナン−7−オン[融点185
°]を得た; 11)  ペンタフルオルベンジルトリフェニルホスホ
ニウムブロマイド ルシリル)アミドとからその場で生成したペンタ7ルオ
ルベンジリデントリフエニルホスホラン用いることによ
り、(is.4R.5R,8S)−4− [(Z) −
2.3.4.5.6−ペンタフルオルスチリル]−4.
8−ジメチル−2.3−ジオキサビシクロ[3.、3.
1] ノナン−7ーオン[融点128°1を得た: 実施例A 公知の方法に従い、4,8−ジメチル−4−ウンデシル
−2,3−ジオキサビシクロ[3.3。 1]″ノナン−7ーオンは活性基質として次の組成の製
薬学的調製剤中に配合することができた:1、500m
gの錠剤 活性基質           500mgラクトース
粉末        149mgポリビニルピロリドン
       15m.gジオクチルスルホコハク酸ナ
トリウム1mgNaカルボキシメチル殿粉    3 
0mgステアリン酸マグネシウム     5mg7 
0 0 m g 活性基質            50mgラクトース
粉末         50mg微結晶セルロース  
      82mgNaカルボキシメチル殿粉   
 15mgステアリン酸マグネシウム     3mg
00mg 3、loOmgのカプセル 活性基質             100.0mgラ
クトース粉末          104.7mgトウ
モロコシ殿粉          70.0mgヒドロ
キシプロピルメチルセルロース 10.0mgジオクチ
ルスルホコハク酸ナトリウム 0.3mgタルク   
             12.0mgステアリン酸
マグネシウム      3.0mg300.0mg 4.500mgの生薬 活性基質           500mg坐薬物質坐
薬  2000 m gにする十分量5−100mgの
軟質ゼラチンカプセル活性基質           
100mgトリグリセリド中級鎖     300mg
400mg

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I [式中、Rは炭素数15までの飽和又は部分的に不飽和
    の炭化水素基或いは炭素数7までのアルキル又はアルケ
    ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
    リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
    す] の化合物。 2、(1R,4R,5S,8R)−、(1R,4S,5
    S,8R)−、(1S,4R,5R,8S)−又は(1
    S,4S,5R,8S)−異性体の形或いはこれらの混
    合物の形の特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3、Rが炭素数8〜12の飽和炭化水素基を示す特許請
    求の範囲第1又は2項記載の化合物。 4、炭化水素基が開鎖及び直鎖である特許請求の範囲第
    3項記載の化合物。 5、4,8−ジメチル−4−オクチル−2,3−ジオキ
    サビシクロ[3.3.1]−ノナン−7−オン。 6、4,8−ジメチル−4−ノニル−2,3−ジオキサ
    ビシクロ[3.3.1]−ノナン−7−オン。 7、4−デシル−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサ
    ビシクロ[3.3.1]−ノナン−7−オン。 8、4,8−ジメチル−4−ウンデシル−2,3−ジオ
    キサビシクロ[3.3.1]−ノナン−7−オン。 9、4−ドデシル−4,8−ジメチル−2,3−ジオキ
    サビシクロ[3.3.1]−ノナン−7−オン。 10、Rが炭素数7までのアルケニル基を介して結合し
    たアリール又はヘテロアリール基を示す特許請求の範囲
    第1又は2項記載の化合物。 11、アリール基がハロゲン及び/又はトリフルオルメ
    チルでモノ、ジ又はペンタ置換されたフェニル基であり
    、そしてヘテロアリール基がハロゲン及び/又はトリフ
    ルオルメチルでモノ、ジ又はトリ置換されたキノリニル
    基である特許請求の範囲第10項記載の化合物。 12、4−[(Z)−2−[2,7−ビス(トリフルオ
    ルメチル−4−キノリニル]ビニル]−4,8−ジメチ
    ル−2,3−ジオキサビシクロ[3.3.1]−ノナン
    −7−オン。 13、4−[(Z)−2,4−ジクロルスチリル]−4
    ,8−ジメチル−2,3−ジオキサビシクロ[3.3.
    1]−ノナン−7−オン。 14、4−[(Z)−2,4−ビス(トリフルオルメチ
    ル)スチリル−4,8−ジメチル−2,3−ジオキサビ
    シクロ[3.3.1]−ノナン−7−オン。 15、4,8−ジメチル−4−[(E)−2,3,4,
    5,6−ペンタフルオルスチリル]−2,3−ジオキサ
    ビシクロ[3.3.1]−ノナン−7−オン。 16、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼II及び▲数式、化学
    式、表等があります▼III [式中、Rは炭素数15までの飽和又は部分的に不飽和
    の炭化水素基或いは炭素数7までのアルキル又はアルケ
    ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
    リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
    す] の化合物。 17、治療学的に活性な物質として用いるための特許請
    求の範囲第1〜15項記載のいずれか1つの化合物。 18、マラリヤの防止又は処置に対する活性物質として
    使用するための特許請求の範囲第1〜15項記載のいず
    れか1つの化合物。 19、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I [式中、Rは炭素数15までの飽和又は部分的に不飽和
    の炭化水素基或いは炭素数7までのアルキル又はアルケ
    ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
    リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
    す] の化合物を製造する際に、 a)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼II [式中、Rは上述の意味を有する] の化合物を、塩基の又は酸の存在下に環化させ、或いは b)式 ▲数式、化学式、表等があります▼III の化合物を、一般式 φ_3P=CH−R′IV [式中、φはフェニルを示し、そしてR′は水素、炭素
    数13までの飽和又は部分的に不飽和の炭化水素基、或
    いは炭素数5までのアルキル又はアルケニル基を介して
    結合するアリール、ヘテロアリール、アリールカルボニ
    ル又はヘテロアリールカルボニル基を示す] のホスホランと反応させ、或いは c)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I a [式中、R′は上述の意味を有する] の化合物の二重結合を還元する、 ことを含んでなる該一般式 I の化合物の製造方法。 20、特許請求の範囲第1〜15項記載のいずれか1つ
    の化合物及び治療学的に不活性な担体物質を含有する薬
    剤。 21、特許請求の範囲第1〜15項記載のいずれか1つ
    の化合物及び治療学的に不活性な担体物質を含有するマ
    ラリヤの防止又は処置のための薬剤。 22、病気の防止又は処置のために特許請求の範囲第1
    〜15項記載のいずれか1つの化合物を使用すること。 23、マラリヤの防止又は処置のために特許請求の範囲
    第1〜15項記載のいずれか1つの化合物を使用するこ
    と。 24、マラリヤの防止又は処置のための薬剤の製造に特
    許請求の範囲第1〜15項記載のいずれか1つの化合物
    を使用すること。 25、特許請求の範囲第19項記載の方法或いはこれと
    明らかに化学的に同等な方法に従って製造した時の特許
    請求の範囲第1〜15項のいずれか1つの化合物。
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