JPH0631217B2 - 二環式パーオキサイド - Google Patents
二環式パーオキサイドInfo
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- JPH0631217B2 JPH0631217B2 JP63253940A JP25394088A JPH0631217B2 JP H0631217 B2 JPH0631217 B2 JP H0631217B2 JP 63253940 A JP63253940 A JP 63253940A JP 25394088 A JP25394088 A JP 25394088A JP H0631217 B2 JPH0631217 B2 JP H0631217B2
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- dimethyl
- dioxabicyclo
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- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/06—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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- A61P33/00—Antiparasitic agents
- A61P33/02—Antiprotozoals, e.g. for leishmaniasis, trichomoniasis, toxoplasmosis
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C403/00—Derivatives of cyclohexane or of a cyclohexene or of cyclohexadiene, having a side-chain containing an acyclic unsaturated part of at least four carbon atoms, this part being directly attached to the cyclohexane or cyclohexene or cyclohexadiene rings, e.g. vitamin A, beta-carotene, beta-ionone
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- C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
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- C07D319/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
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- C07D319/14—1,4-Dioxanes; Hydrogenated 1,4-dioxanes condensed with carbocyclic rings or ring systems
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 ［式中、Ｒは炭素数１５までの飽和又は部分的に不飽和
の炭化水素基或いは炭素数７までのアルキル又はアルケ
ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
す］ の二環式パーオキサイドに関する。
の炭化水素基或いは炭素数７までのアルキル又はアルケ
ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
す］ の二環式パーオキサイドに関する。
上記式Ｉの新規な化合物は有用な薬理学的性質を有す
る。特にそれはマラリヤの病原有機体に対して明白な活
性を示し、マラリヤの防止及び抑制に使用することがで
きる。
る。特にそれはマラリヤの病原有機体に対して明白な活
性を示し、マラリヤの防止及び抑制に使用することがで
きる。
本発明の目的は、上記式Ｉの化合物それ自体及び治療学
的に活性な物質として用いるための該化合物；その製造
法、そのための中間体、その新規な基質に基づく薬剤；
並びに式Ｉの新規化合の、病気の防止及び治療に対する
且つマラリヤの防止及び治療に適当である薬剤の製造に
対する使用法に関する。
的に活性な物質として用いるための該化合物；その製造
法、そのための中間体、その新規な基質に基づく薬剤；
並びに式Ｉの新規化合の、病気の防止及び治療に対する
且つマラリヤの防止及び治療に適当である薬剤の製造に
対する使用法に関する。
以下使用する「低級」とは、炭素数が最大７、好ましく
は最大４の残基及び化合物を示す。「アルキル基」及び
「アルコキシ」のような単独で又は組合せて用いる「ア
ルキル」とは直鎖又は分岐鎖の飽和炭化水素残基例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブ
チル、ｓ−ブチル、ｉ−ブチル、ｉ−ペンチル、ｎ−ペ
ンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、
ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシ
ル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル及びｎ−ペンタ
デシルを示す。「アルケニル」は少くとも１つのオレフ
イン性二重結合を含む直鎖又は分岐鎖炭化水素残基例え
ばビニル、アリル、１−プロペニル、１−ブテニル、１
−ペンテニル、１−ヘキセニル、１−ヘプテニル、１−
オクテニル、１−ノネニル、１−デセニル、１−ウンデ
セニル、１−ドデセニル、１−テトラデセニル及び４，
８−ジメチル−１，３，７−ノナトリエニルを示す。
は最大４の残基及び化合物を示す。「アルキル基」及び
「アルコキシ」のような単独で又は組合せて用いる「ア
ルキル」とは直鎖又は分岐鎖の飽和炭化水素残基例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブ
チル、ｓ−ブチル、ｉ−ブチル、ｉ−ペンチル、ｎ−ペ
ンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、
ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシ
ル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル及びｎ−ペンタ
デシルを示す。「アルケニル」は少くとも１つのオレフ
イン性二重結合を含む直鎖又は分岐鎖炭化水素残基例え
ばビニル、アリル、１−プロペニル、１−ブテニル、１
−ペンテニル、１−ヘキセニル、１−ヘプテニル、１−
オクテニル、１−ノネニル、１−デセニル、１−ウンデ
セニル、１−ドデセニル、１−テトラデセニル及び４，
８−ジメチル−１，３，７−ノナトリエニルを示す。
「飽和又は部分的に不飽和の炭化水素基」とは開鎖及び
環式基並びにその組合せを示す。飽和及び部分的に不飽
和の例は、上述したようなアルキル及びアルケニル基、
及び所望によりアルキル又はアルケニル基を通して結合
しうる単、二及び三環式アルキル基例えば３−（１−ア
ダマンチル）プロペニル、シクロプロピルメチル及び２
−シクロヘキシルエチルである。
環式基並びにその組合せを示す。飽和及び部分的に不飽
和の例は、上述したようなアルキル及びアルケニル基、
及び所望によりアルキル又はアルケニル基を通して結合
しうる単、二及び三環式アルキル基例えば３−（１−ア
ダマンチル）プロペニル、シクロプロピルメチル及び２
−シクロヘキシルエチルである。
「アリール」とは炭素環式芳香族基、好ましくは単又は
二環式、即ちフエニル及びナフチル基、特にフエニル基
を示す。好ましくはこれらの基は未置換であるか、或い
は低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリフル
オルメチル、フエニル及びシアノから選択される置換基
で５つまで置換されている。この場合置換基は同一でも
異なってもよい。それは好ましくはハロゲン特に弗素又
は塩素、及び／又はトリフルオルメチルでモノ、ジ又は
ペンタ置換される。そのような基の例として、フエニ
ル、４−フルオルフエニル、ペンタフルオルフエニル、
４−シアノフエニル、２−クロル−４−シアノフエニ
ル、３，５−ジシアノフエニル、２−クロル−４−（ト
リフルオルメチル）フエニル、４−メトキシフエニル、
４−メチルフエニル、４−（ｔ−ブチル）フエニル、４
−クロルフエニル、２，４−ジクロルフエニル、３，４
−ジクロルフエニル、３−（トリフルオルメチル）フエ
ニル、４−（トリフルオルメチル）フエニル、３，５−
及び２，４−ビス（トリフルオルメチル）フエニル、４
−ビフエニル、１−ナフチル及び４−ブロム−ナフチル
を挙げることができる。
二環式、即ちフエニル及びナフチル基、特にフエニル基
を示す。好ましくはこれらの基は未置換であるか、或い
は低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリフル
オルメチル、フエニル及びシアノから選択される置換基
で５つまで置換されている。この場合置換基は同一でも
異なってもよい。それは好ましくはハロゲン特に弗素又
は塩素、及び／又はトリフルオルメチルでモノ、ジ又は
ペンタ置換される。そのような基の例として、フエニ
ル、４−フルオルフエニル、ペンタフルオルフエニル、
４−シアノフエニル、２−クロル−４−シアノフエニ
ル、３，５−ジシアノフエニル、２−クロル−４−（ト
リフルオルメチル）フエニル、４−メトキシフエニル、
４−メチルフエニル、４−（ｔ−ブチル）フエニル、４
−クロルフエニル、２，４−ジクロルフエニル、３，４
−ジクロルフエニル、３−（トリフルオルメチル）フエ
ニル、４−（トリフルオルメチル）フエニル、３，５−
及び２，４−ビス（トリフルオルメチル）フエニル、４
−ビフエニル、１−ナフチル及び４−ブロム−ナフチル
を挙げることができる。
「ヘテロアリール」とは、複素環族芳香族基好ましくは
単又は二環式基を示す。二環式基の場合、芳香族環の１
つは好ましくは炭素環である。ヘテロ原子としては好ま
しくは１，２又は３つの窒素原子が考慮される。好適な
基はピリジル、ピリミジル、及び特にキノリニル基であ
る。好ましくは、これらの基は未置換であり、或いは低
級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリフルオル
メチル、フエニル及びシアノから選択される５つまでの
置換基で置換されていてよい。この場合置換基は同一で
も異なっていてもよい。それは好ましくはハロゲン特に
塩素又は弗素、及び／又はトリフルオルメチルで置換さ
れ、特にモノ、ジまたはトリ置換されている。そのよう
な基の例として２，７−ビス（トリフルオルメチル）−
４−キノリニル、２，８−ビス（トリフルオルメチル）
−４−キノリニル、及び６，８−ジクロル−２−トリフ
ルオルメチル−４−キノリニルを挙げることができる。
単又は二環式基を示す。二環式基の場合、芳香族環の１
つは好ましくは炭素環である。ヘテロ原子としては好ま
しくは１，２又は３つの窒素原子が考慮される。好適な
基はピリジル、ピリミジル、及び特にキノリニル基であ
る。好ましくは、これらの基は未置換であり、或いは低
級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリフルオル
メチル、フエニル及びシアノから選択される５つまでの
置換基で置換されていてよい。この場合置換基は同一で
も異なっていてもよい。それは好ましくはハロゲン特に
塩素又は弗素、及び／又はトリフルオルメチルで置換さ
れ、特にモノ、ジまたはトリ置換されている。そのよう
な基の例として２，７−ビス（トリフルオルメチル）−
４−キノリニル、２，８−ビス（トリフルオルメチル）
−４−キノリニル、及び６，８−ジクロル−２−トリフ
ルオルメチル−４−キノリニルを挙げることができる。
「ハロゲン」とは４種、即ち弗素、塩素、臭素及びヨウ
素を示す。
素を示す。
Ｒがメチルと異なる意味を有する場合には、式Ｉの化合
物は４つの不斉置換された炭素原子を有する。Ｒがメチ
ルならば、式Ｉの対応する化合物は３つの不斉置換され
た炭素原子を有する。本発明はすべての可能な立体異性
体特に（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｒ）−及び
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｒ，８Ｓ）−異性体及びこれらの混合
物を含む。
物は４つの不斉置換された炭素原子を有する。Ｒがメチ
ルならば、式Ｉの対応する化合物は３つの不斉置換され
た炭素原子を有する。本発明はすべての可能な立体異性
体特に（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｒ）−及び
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｒ，８Ｓ）−異性体及びこれらの混合
物を含む。
特別な具体例において、本発明はＲが炭素数８〜１２の
飽和の、好ましくは開鎖及び直鎖の炭化水素基を示す式
Ｉの化合物に関する。
飽和の、好ましくは開鎖及び直鎖の炭化水素基を示す式
Ｉの化合物に関する。
この観点において、以下に挙げる化合物が特に好適であ
る： ４，８−ジメチル−４−オクチル−２，３−ジオキサビ
シクロ［３．３．１］−ノナン−７−オン、 ４，８−ジメチル−４−ノニル−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］−ノナン−７−オン、 ４−デシル−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］−ノナン−７−オン、 ４，８−ジメチル−４−ウンデシル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］−ノナン−７−オン、及び ４−ドデシル−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビ
シクロ［３．３．１］−ノナン−７−オン。
る： ４，８−ジメチル−４−オクチル−２，３−ジオキサビ
シクロ［３．３．１］−ノナン−７−オン、 ４，８−ジメチル−４−ノニル−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］−ノナン−７−オン、 ４−デシル−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］−ノナン−７−オン、 ４，８−ジメチル−４−ウンデシル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］−ノナン−７−オン、及び ４−ドデシル−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビ
シクロ［３．３．１］−ノナン−７−オン。
更に特別な具体例において、本発明はＲが炭素数７まで
のアルケニル基を介して結合するアリール又はヘテロア
リール基を示す式Ｉの化合物に関する。この場合のアリ
ール基は好ましくはハロゲン特に弗素又は塩素、及び／
又はトリフルオルメチルで随時モノ、ジ又はペンタ置換
されたフエニル基であり、そしてヘテロアリール基は好
ましくはハロゲン特に塩素又は弗素、及び／又はトリフ
ルオルメチルで随時モノ、ジ又はトリ置換されたキノリ
ニル基である。
のアルケニル基を介して結合するアリール又はヘテロア
リール基を示す式Ｉの化合物に関する。この場合のアリ
ール基は好ましくはハロゲン特に弗素又は塩素、及び／
又はトリフルオルメチルで随時モノ、ジ又はペンタ置換
されたフエニル基であり、そしてヘテロアリール基は好
ましくはハロゲン特に塩素又は弗素、及び／又はトリフ
ルオルメチルで随時モノ、ジ又はトリ置換されたキノリ
ニル基である。
この観点において、以下に挙げる化合物は特に好適であ
る： ４−［（Ｚ）−２−［２，７−ビス（トリフルオルメチ
ル−４−キノリニル］ビニル］−４，８−ジメチル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］−ノナン−７
−オン、 ４−［（Ｚ）−２，４−ジクロルスチリル］−４，８−
ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］−
ノナン−７−オン、 ４−［（Ｚ）−２，４−ビス（トリフルオルメチル）ス
チリル−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］−ノナン−７−オン、及び ４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）−２，３，４，５，６
−ペンタフルオルスチリル］−２，３−ジオキサビシク
ロ［３．３．１］−ノナン−７−オン。
る： ４−［（Ｚ）−２−［２，７−ビス（トリフルオルメチ
ル−４−キノリニル］ビニル］−４，８−ジメチル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］−ノナン−７
−オン、 ４−［（Ｚ）−２，４−ジクロルスチリル］−４，８−
ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］−
ノナン−７−オン、 ４−［（Ｚ）−２，４−ビス（トリフルオルメチル）ス
チリル−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］−ノナン−７−オン、及び ４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）−２，３，４，５，６
−ペンタフルオルスチリル］−２，３−ジオキサビシク
ロ［３．３．１］−ノナン−７−オン。
式Ｉの新規な化合物は、 ａ）一般式 ［式中、Ｒは上述の意味を有する］ の化合物を、塩基の又は酸の存在下に環化させ、或いは ｂ）式 の化合物を、一般式 φ3Ｐ＝ＣＨ−Ｒ′ IV ［式中、φはフエニルを示し、そしてＲ′は水素、炭素
数１３までの飽和又は部分的に不飽和の炭化水素基、或
いは炭素数５までのアルキル又はアルケニル基を介して
結合するアリール、ヘテロアリール、アリールカルボニ
ル又はヘテロアリールカルボニル基を示す］ のホスホランと反応させ、或いは ｃ）一般式 ［式中、Ｒ′は上述の意味を有する］ の化合物の二重結合を還元する、 ことによる本発明によって製造することができる。
数１３までの飽和又は部分的に不飽和の炭化水素基、或
いは炭素数５までのアルキル又はアルケニル基を介して
結合するアリール、ヘテロアリール、アリールカルボニ
ル又はヘテロアリールカルボニル基を示す］ のホスホランと反応させ、或いは ｃ）一般式 ［式中、Ｒ′は上述の意味を有する］ の化合物の二重結合を還元する、 ことによる本発明によって製造することができる。
方法の変化ａ）によれば、式Ｉの化合物は一般式IIのハ
イドロパーオキサイドを塩基又は酸の存在下に環化する
ことによって製造できる。この環化は好ましくは有機溶
媒中で行なわれ、例えば低級アルコール例えばメタノー
ル及びエタノール、開鎖及び環式エーテル例えばジエチ
ルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル及びテトラヒド
ロフラン、ハロゲン化炭化水素例えば塩化メチレン及び
クロロホルム、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド、アセトン、及びアセトニトリルがこの目的のた
めに考慮される。溶媒としては好ましくは低級アルコー
ル、特にメタノール、又はアセトニトリルが用いられ
る。適当な塩基は三級アミン例えばトリエチルアミン及
び低級アルカリ金属アルコレート例えばナトリウムメチ
レートであり、後者が好適である。適当な酸は鉱酸例え
ば塩酸、硫酸及び燐酸、有機スルホン酸例えば低級アル
キルスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、及び芳香族
スルホン酸例えばベンゼンスルホン酸、メシチレンスル
ホン酸及びｐ−トルエンスルホン酸、及びルイス酸例え
ば三弗化ホウ素である。好ましくはｐ−トルエンスルホ
ン酸が酸として使用される。環化は好ましくは約０〜約
４０℃の温度範囲で行なわれる。
イドロパーオキサイドを塩基又は酸の存在下に環化する
ことによって製造できる。この環化は好ましくは有機溶
媒中で行なわれ、例えば低級アルコール例えばメタノー
ル及びエタノール、開鎖及び環式エーテル例えばジエチ
ルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル及びテトラヒド
ロフラン、ハロゲン化炭化水素例えば塩化メチレン及び
クロロホルム、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド、アセトン、及びアセトニトリルがこの目的のた
めに考慮される。溶媒としては好ましくは低級アルコー
ル、特にメタノール、又はアセトニトリルが用いられ
る。適当な塩基は三級アミン例えばトリエチルアミン及
び低級アルカリ金属アルコレート例えばナトリウムメチ
レートであり、後者が好適である。適当な酸は鉱酸例え
ば塩酸、硫酸及び燐酸、有機スルホン酸例えば低級アル
キルスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、及び芳香族
スルホン酸例えばベンゼンスルホン酸、メシチレンスル
ホン酸及びｐ−トルエンスルホン酸、及びルイス酸例え
ば三弗化ホウ素である。好ましくはｐ−トルエンスルホ
ン酸が酸として使用される。環化は好ましくは約０〜約
４０℃の温度範囲で行なわれる。
好適な具体例において、アセトニトリル中ｐ−トルエン
スルホン酸が使用され、環化が室温で行なわれる。
スルホン酸が使用され、環化が室温で行なわれる。
環化で得られる立体異性体、特に４−位に関してエピマ
ーの混合物はクロマトグラフイー法により又は結晶化に
より分離することができる。
ーの混合物はクロマトグラフイー法により又は結晶化に
より分離することができる。
Ｒが−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ′を示し且つＲ′が前述の意味を
有する式Ｉの化合物は、方法の変化ｂ）に従い式IIIの
アルデヒドを式IVのホスホランと反応させることによっ
て製造される。適当なホスホランは式IIIのアルデヒド
と直接反応させることができ、この時いずれかの不活性
な有機溶媒が溶媒として考慮される。好ましくは開鎖及
び環式エーテル、例えばジエチルエーテル、ｔ−ブチル
メチルエーテル及びテトラヒドロフラン或いはハロゲン
化低級炭化水素例えば塩化メチレン及びクロロホルムが
使用される。残りのホスホランは予じめその場で、対応
するホスホニウム塩及び強塩基から製造しなければなら
ない。塩基としては例えば低級アルキルリチウム、例え
ばｎ−ブチルリチウム、水素化ナトリウム又はナトリウ
ムビス−トリメチルシリルアミドを使用することができ
る。溶媒としては、この場合開鎖又は環式エーテル例え
ばジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル及びテ
トラヒドロフランが特に考慮される。上記反応は好まし
くは約０〜約５０℃の温度で行なわれる。
有する式Ｉの化合物は、方法の変化ｂ）に従い式IIIの
アルデヒドを式IVのホスホランと反応させることによっ
て製造される。適当なホスホランは式IIIのアルデヒド
と直接反応させることができ、この時いずれかの不活性
な有機溶媒が溶媒として考慮される。好ましくは開鎖及
び環式エーテル、例えばジエチルエーテル、ｔ−ブチル
メチルエーテル及びテトラヒドロフラン或いはハロゲン
化低級炭化水素例えば塩化メチレン及びクロロホルムが
使用される。残りのホスホランは予じめその場で、対応
するホスホニウム塩及び強塩基から製造しなければなら
ない。塩基としては例えば低級アルキルリチウム、例え
ばｎ−ブチルリチウム、水素化ナトリウム又はナトリウ
ムビス−トリメチルシリルアミドを使用することができ
る。溶媒としては、この場合開鎖又は環式エーテル例え
ばジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル及びテ
トラヒドロフランが特に考慮される。上記反応は好まし
くは約０〜約５０℃の温度で行なわれる。
得られる異性体の混合物はクロマトグラフイー法又は結
晶化によって分離することができる。
晶化によって分離することができる。
Ｒは−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｒ′を示し且つＲ′が前述の意味
を有する式Ｉの化合物は、例えば方法の変化ｃ）に従う
式１ａの化合物の、接触水素化による或いはジイミドで
の還元による還元によって製造することができる。接触
水素化はそれ自体公知であり且つ同業者には熟知されて
いる方法に従って行なわれる。触媒としては好ましくは
貴金属触媒、特に白金触媒例えば５％パラジウム担持活
性炭が用いられる。溶媒としては好ましくは低級脂肪酸
エステル例えば酢酸エチル、低級アルコール例えばメタ
ノール及びエタノール、そして開鎖又は環式エーテル例
えばジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル及び
テトラヒドロフランが使用できる。水素化は好ましくは
常圧又は僅かに加圧で行なわれる。反応温度は好ましく
は約０〜約５０℃の範囲、特に凡そ室温である。
を有する式Ｉの化合物は、例えば方法の変化ｃ）に従う
式１ａの化合物の、接触水素化による或いはジイミドで
の還元による還元によって製造することができる。接触
水素化はそれ自体公知であり且つ同業者には熟知されて
いる方法に従って行なわれる。触媒としては好ましくは
貴金属触媒、特に白金触媒例えば５％パラジウム担持活
性炭が用いられる。溶媒としては好ましくは低級脂肪酸
エステル例えば酢酸エチル、低級アルコール例えばメタ
ノール及びエタノール、そして開鎖又は環式エーテル例
えばジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル及び
テトラヒドロフランが使用できる。水素化は好ましくは
常圧又は僅かに加圧で行なわれる。反応温度は好ましく
は約０〜約５０℃の範囲、特に凡そ室温である。
ジイミドでの還元は、それ自体公知の方法に従い、アゾ
ジカルボン酸の二カリウム塩及び酸、例えば酢酸のよう
な低級脂肪酸からその場でジイミドを生成せしめること
によって行なわれる。この場合には極性溶媒好ましくは
低級アルコール例えばメタノール及びエタノールが用い
られる。反応温度は好ましくは約−１０〜約３０℃であ
る。
ジカルボン酸の二カリウム塩及び酸、例えば酢酸のよう
な低級脂肪酸からその場でジイミドを生成せしめること
によって行なわれる。この場合には極性溶媒好ましくは
低級アルコール例えばメタノール及びエタノールが用い
られる。反応温度は好ましくは約−１０〜約３０℃であ
る。
出発物質として使用しうる式IIIの化合物は次の反応式
Ｉ及びIIに従って製造することができる。ここにＲａは
炭素数１４までの飽和又は部分的に不飽和の炭化水素
基、或いは炭素数６までのアルキル又はアルケニル基を
介して結合するアリール、ヘテロアリール、アリールカ
ルボニル又はヘテロアリールカルボニルを示し、そして
Ｒ′は上述の意味を有する： 式Ｖａの化合物の、式VIａの化合物への転化は有機溶媒
中ルイス酸例えば臭化亜鉛の触媒量の存在下に臭化水素
で処理することによって行なうことができる。特に適当
な溶媒はハロゲン化低級炭化水素例えば塩化メチレンで
ある。この臭化水素化は好ましくは約０℃〜約室温の温
度範囲で行なわれる。
Ｉ及びIIに従って製造することができる。ここにＲａは
炭素数１４までの飽和又は部分的に不飽和の炭化水素
基、或いは炭素数６までのアルキル又はアルケニル基を
介して結合するアリール、ヘテロアリール、アリールカ
ルボニル又はヘテロアリールカルボニルを示し、そして
Ｒ′は上述の意味を有する： 式Ｖａの化合物の、式VIａの化合物への転化は有機溶媒
中ルイス酸例えば臭化亜鉛の触媒量の存在下に臭化水素
で処理することによって行なうことができる。特に適当
な溶媒はハロゲン化低級炭化水素例えば塩化メチレンで
ある。この臭化水素化は好ましくは約０℃〜約室温の温
度範囲で行なわれる。
式VIａの化合物の、式IIａの化合物への転化は不活性な
有機溶媒中銀塩例えばトリフルオル酢酸銀の存在下に１
００％過酸化水素で処理することによって行なうことが
できる。特に適当な溶媒は開鎖及び環式エーテル例えば
ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル及びテト
ラヒドロフランである。反応は好ましくは約０℃〜約室
温の範囲で行なわれる。
有機溶媒中銀塩例えばトリフルオル酢酸銀の存在下に１
００％過酸化水素で処理することによって行なうことが
できる。特に適当な溶媒は開鎖及び環式エーテル例えば
ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル及びテト
ラヒドロフランである。反応は好ましくは約０℃〜約室
温の範囲で行なわれる。
式Ｖｂの化合物の、式IIａの化合物への転化は一重項酸
素酸化による公知の方法で行なうことができる。この反
応は好ましくは適当な有機溶媒中において、着色物質例
えばメチレンブルー、ローズベンガル又はテトラフエニ
ルポルフイリンの存在下に酸素又は空気を導入し且つラ
ンプで照射しながら行なわれる。適当な溶媒は例えばハ
ロゲン化低級炭化水素例えば塩化メチレン、低級アルコ
ール例えばメタノール及びエタノール、低級脂肪酸エス
テル例えば酢酸エチル及びアセトニトリルである。反応
は好ましくは約−５０℃〜約室温の温度範囲で行なわれ
る。
素酸化による公知の方法で行なうことができる。この反
応は好ましくは適当な有機溶媒中において、着色物質例
えばメチレンブルー、ローズベンガル又はテトラフエニ
ルポルフイリンの存在下に酸素又は空気を導入し且つラ
ンプで照射しながら行なわれる。適当な溶媒は例えばハ
ロゲン化低級炭化水素例えば塩化メチレン、低級アルコ
ール例えばメタノール及びエタノール、低級脂肪酸エス
テル例えば酢酸エチル及びアセトニトリルである。反応
は好ましくは約−５０℃〜約室温の温度範囲で行なわれ
る。
式IIの化合物の製造に対する上記方法において、それを
単離することは必ずしも必要でない。それは環化触媒好
ましくは酸、特にｐ−トルエンスルホン酸を、得られた
反応混合物に添加することにより式Ｉの化合物に直接転
化することができる。
単離することは必ずしも必要でない。それは環化触媒好
ましくは酸、特にｐ−トルエンスルホン酸を、得られた
反応混合物に添加することにより式Ｉの化合物に直接転
化することができる。
出発物質として用いられる式IIIの化合物は以下の反応
式IIIに従い、式Ｉａの化合物から製造することができ
る。ここにＲ′は前述の意味を有する。
式IIIに従い、式Ｉａの化合物から製造することができ
る。ここにＲ′は前述の意味を有する。
式Ｉａの化合物の、式IIIの化合物への転化は、例えば
オゾン酸化によって行なうことができる。これはそれ自
体公知であり且つ同業者の熟知する反応である。溶媒と
しては好ましくは低級アルコール例えばメタノール或い
は低級ハロゲン化炭化水素例えば塩化メチレンが用いら
れる。反応は好ましくは低温で、例えば−７０℃で行な
われる。Ｒ′が水素を示す式Ｉａの化合物は出発物質と
して好適に使用される。
オゾン酸化によって行なうことができる。これはそれ自
体公知であり且つ同業者の熟知する反応である。溶媒と
しては好ましくは低級アルコール例えばメタノール或い
は低級ハロゲン化炭化水素例えば塩化メチレンが用いら
れる。反応は好ましくは低温で、例えば−７０℃で行な
われる。Ｒ′が水素を示す式Ｉａの化合物は出発物質と
して好適に使用される。
式II及びIIIの化合物は新規であり、本発明の目的でも
ある。
ある。
出発物質として用いられる残りの化合物は公知であり、
或いはその種の物質の公知の代表的化合物と同様にして
製造することができる。特に問題の化合物は公知の方法
により（５Ｓ）−（＋）−カルボン又は（５Ｒ）−
（−）−カルボンを出発物質として製造することができ
る。後に示す実施例は問題の出発物質の製造に関する詳
細な情報を含む。
或いはその種の物質の公知の代表的化合物と同様にして
製造することができる。特に問題の化合物は公知の方法
により（５Ｓ）−（＋）−カルボン又は（５Ｒ）−
（−）−カルボンを出発物質として製造することができ
る。後に示す実施例は問題の出発物質の製造に関する詳
細な情報を含む。
前述したように式Ｉの化合物は有用な薬理活性を有す
る。それはマラリヤの病原体に対して著しい活性を示
す。それは顕著な殺血液繁殖体活性（blood shizontoci
dal activity）を有する。本発明による基質の活性は例
えば以下に記述する動物実験で決定することができる。
る。それはマラリヤの病原体に対して著しい活性を示
す。それは顕著な殺血液繁殖体活性（blood shizontoci
dal activity）を有する。本発明による基質の活性は例
えば以下に記述する動物実験で決定することができる。
体重１８〜２０ｇの雄の白マウスを実験動物として用い
た。これをカゴ当り動物５匹に分けて２２〜２３℃の空
調室中に保持した。これは低ＰＡＢＡ含量の飼料と飲水
を任意に取ることができた。
た。これをカゴ当り動物５匹に分けて２２〜２３℃の空
調室中に保持した。これは低ＰＡＢＡ含量の飼料と飲水
を任意に取ることができた。
実験の初日（Ｄ０）において、実験動物に、それぞれ感
染したドナーマウスのヘパリン処理した血液0.2ｍを
静脈内注射することによりプラスモジウム・バーグヘイ
（Plasmodium berghey）を感染させた。ドナーの血液は
希釈してそれが0.2ｍ当り１０7の寄生した赤血球を含
むようにした。未処置の対照動物の場合、感染から４日
目（Ｄ＋４）にパラジテミア（parasitemia）が普通７
０〜８０％に達し、＋５〜＋８日の間に実験動物は死亡
した。
染したドナーマウスのヘパリン処理した血液0.2ｍを
静脈内注射することによりプラスモジウム・バーグヘイ
（Plasmodium berghey）を感染させた。ドナーの血液は
希釈してそれが0.2ｍ当り１０7の寄生した赤血球を含
むようにした。未処置の対照動物の場合、感染から４日
目（Ｄ＋４）にパラジテミア（parasitemia）が普通７
０〜８０％に達し、＋５〜＋８日の間に実験動物は死亡
した。
試験すべき基質を蒸留水に或いはツウイーン８０、アル
コール（９６％）及び水の混合物に溶解し又は懸濁させ
た。一般に各の場合、この溶液又は懸濁液の0.5ｍを
５匹の実験動物群に皮下投与した。この処置を、感染か
ら３時間後に第１回、並びに続いて３日間行なった。活
性の滴定に対しては試験化合物の適当な希釈物を用い
た。実験当り１０匹の動物を溶液又は懸濁液媒体を用い
て同一の方法で処置した。
コール（９６％）及び水の混合物に溶解し又は懸濁させ
た。一般に各の場合、この溶液又は懸濁液の0.5ｍを
５匹の実験動物群に皮下投与した。この処置を、感染か
ら３時間後に第１回、並びに続いて３日間行なった。活
性の滴定に対しては試験化合物の適当な希釈物を用い
た。実験当り１０匹の動物を溶液又は懸濁液媒体を用い
て同一の方法で処置した。
最後の処置から２４時間後（Ｄ＋４）、すべての動物か
ら、尾の静脈からの血液塗抹標本を準備し、ジームサ
（giemsa）で染色した。対いで対照群の並びに試験すべ
き化合物で処置した群の平均の赤血球感染割合（パラジ
テミア、％）を、顕微鏡で数えることにより決定した。
対照群（１００％）及び処置群間の感染割合の平均値に
おける差を計算し、減少％として表示した。またＥＤ50
を得られた結果から数学的に決定した。このＥＤ50（mg
／kg）は、４回の投与後に対照群と比較して平均の赤血
球感染割合を５０％まで減ずる投薬量である。
ら、尾の静脈からの血液塗抹標本を準備し、ジームサ
（giemsa）で染色した。対いで対照群の並びに試験すべ
き化合物で処置した群の平均の赤血球感染割合（パラジ
テミア、％）を、顕微鏡で数えることにより決定した。
対照群（１００％）及び処置群間の感染割合の平均値に
おける差を計算し、減少％として表示した。またＥＤ50
を得られた結果から数学的に決定した。このＥＤ50（mg
／kg）は、４回の投与後に対照群と比較して平均の赤血
球感染割合を５０％まで減ずる投薬量である。
上述の式Ｉによって定義される基質種の代表的な化合物
を用いて得た結果を下表にまとめる。更にこの表はこれ
らの化合物のいくつかの毒性に関するデータも含んでい
る。表に示す量の、マウスへの１回の経口投与では、毒
性の徴候が観察できなかった。
を用いて得た結果を下表にまとめる。更にこの表はこれ
らの化合物のいくつかの毒性に関するデータも含んでい
る。表に示す量の、マウスへの１回の経口投与では、毒
性の徴候が観察できなかった。
式Ｉの化合物は、例えば腸内又は非経口投与に対する製
薬学的調製材の形で薬剤として使用しうる。それは例え
ば錠剤、被覆錠剤、糖衣錠、硬質及び軟質ゼラチンカプ
セル、溶液、乳液又は懸濁液の形で経口的に、例えば坐
薬の形で直腸的に或いは例えば注射溶液の形で非経口的
に投与しうる。
薬学的調製材の形で薬剤として使用しうる。それは例え
ば錠剤、被覆錠剤、糖衣錠、硬質及び軟質ゼラチンカプ
セル、溶液、乳液又は懸濁液の形で経口的に、例えば坐
薬の形で直腸的に或いは例えば注射溶液の形で非経口的
に投与しうる。
製薬学的調製剤の製造は、同業者の熟知する方法に従
い、式Ｉの記述する化合物を、他の治療学的に有用な基
質と組合せて、適当な無毒性で不活性な治療学的に適合
しうる固体又は液体担体物質及び所望により普通の製薬
学的助剤と共にガレン投与形にすることによって行なう
ことができる。
い、式Ｉの記述する化合物を、他の治療学的に有用な基
質と組合せて、適当な無毒性で不活性な治療学的に適合
しうる固体又は液体担体物質及び所望により普通の製薬
学的助剤と共にガレン投与形にすることによって行なう
ことができる。
担体物質としては、無機担体物質ばかりでなく、有機担
体物質が適当である。斯くして錠剤、被覆錠剤、糖衣錠
及び硬質ゼラチンカプセルに対しては、担体物質例えば
ラクトース、トウモロコシ殿粉又はその誘導体、タル
ク、ステアリン酸又はその塩が使用できる。軟質ゼラチ
ンカプセルに適当な担体物質は例えば植物油、ワツク
ス、脂肪及び半固体及び液体ポリオールである（しかし
ながら活性基質の性質に依存して、軟質ゼラチンカプセ
ルの場合担体は必要でない）、溶液及びシロツプの製造
に適当な担体物質は例えば水、ポリオール、サツカロー
ズ、転化糖及びグルコースである。注射溶液に適当な担
体物質は例えば水、アルコール、ポリオール、グリセリ
ン及び植物油である。坐薬に対して適当な担体物質は例
えば天然油又は硬化油、ワツクス、脂肪及び半液体又は
液体ポリオールである。
体物質が適当である。斯くして錠剤、被覆錠剤、糖衣錠
及び硬質ゼラチンカプセルに対しては、担体物質例えば
ラクトース、トウモロコシ殿粉又はその誘導体、タル
ク、ステアリン酸又はその塩が使用できる。軟質ゼラチ
ンカプセルに適当な担体物質は例えば植物油、ワツク
ス、脂肪及び半固体及び液体ポリオールである（しかし
ながら活性基質の性質に依存して、軟質ゼラチンカプセ
ルの場合担体は必要でない）、溶液及びシロツプの製造
に適当な担体物質は例えば水、ポリオール、サツカロー
ズ、転化糖及びグルコースである。注射溶液に適当な担
体物質は例えば水、アルコール、ポリオール、グリセリ
ン及び植物油である。坐薬に対して適当な担体物質は例
えば天然油又は硬化油、ワツクス、脂肪及び半液体又は
液体ポリオールである。
製薬学的助剤としては、普通の安定剤、保存剤、湿潤剤
及び乳化剤、風味改良剤、浸透圧を変えるための塩、緩
衝剤、可溶課剤、着色剤及び被覆剤及び抗酸化剤が考慮
しうる。
及び乳化剤、風味改良剤、浸透圧を変えるための塩、緩
衝剤、可溶課剤、着色剤及び被覆剤及び抗酸化剤が考慮
しうる。
式Ｉの化合物の投薬量は、駆除すべき寄生体、患者の年
令と個々の状態、及び投与方式に依存して広い範囲内で
変えることができる。勿論それは各の特別な場合の個々
の必要条件に適合しなければならない。マラリヤの防止
及び処置に対して、成人の患者の１日の投薬量は、約0.
01〜約４ｇ、特に約0.05〜約２ｇである。投薬量に依存
して、１日の投薬量を、いくつかの単位投薬量で投与す
ることが簡便である。
令と個々の状態、及び投与方式に依存して広い範囲内で
変えることができる。勿論それは各の特別な場合の個々
の必要条件に適合しなければならない。マラリヤの防止
及び処置に対して、成人の患者の１日の投薬量は、約0.
01〜約４ｇ、特に約0.05〜約２ｇである。投薬量に依存
して、１日の投薬量を、いくつかの単位投薬量で投与す
ることが簡便である。
製薬学的調製剤は便宜上式Ｉの化合物を約１０〜１００
０mg、好ましくは５０〜５００mg含有する。
０mg、好ましくは５０〜５００mg含有する。
次の実施例は本発明を更に詳細に例示するのに役立つ。
それは本発明の範囲をいずれの具合いにも制限するもの
ではない。すべての温度はセツ氏によるものとする。
それは本発明の範囲をいずれの具合いにも制限するもの
ではない。すべての温度はセツ氏によるものとする。
実施例１ ａ）塩化メチレン９中３−クロル過安息香酸（５５
％）９４１ｇの溶液を氷浴中で冷却した。これに、温度
が２０℃以上に上昇しないようにして、（５Ｓ）−
（＋）−カルボン３６０ｍを滴下した。この反応混合
物を室温で3.5時間攪拌した。この結果３−クロル安息
香酸の沈殿が生成した。この懸濁液を３０分間攪拌し、
沈殿を完結させるために氷冷した。沈殿を濾別し、ヘキ
サン／塩化メチレン（９：１）で洗浄した。この濾液を
注意深く蒸発させた。このようにして得た油（エポキシ
ド）を氷水３中に懸濁させ、そして温度が２０°以上
に上昇しないように氷浴で冷却しながら３Ｎ硫酸１８０
ｍで処理した。この混合物を室温で１５時間攪拌し
た。３Ｎ水酸化ナトリウム溶液１８０ｍを添加してpH
を6.5に調節した。少量の３−クロル安息香酸を濾別し
た。水性相を０°まで冷却し、続いて温度が２０°以上
に上昇しないように、（メタ）過ヨウ素ナトリウム４９
０ｇを３０分間にわたって一部ずつ添加した。室温で２
時間攪拌した後、亜硫酸ナトリウム３０ｇ及び炭酸水素
ナトリウム２００ｇを連続して添加した。懸濁液を濾過
し、濾液をそれぞれ３の塩化メチレンで３回洗浄し
た。一緒にした有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発
させた。粗生成物をヘキサン／酢酸エチルから０°で結
晶化させた。この結果（５Ｓ）−５−アセチル−２−メ
チル−２−シクロヘキセン−１−オンを得た。融点３５
°；▲［α］25 D▼＝８１°（ｃ＝１，エタノール）。
％）９４１ｇの溶液を氷浴中で冷却した。これに、温度
が２０℃以上に上昇しないようにして、（５Ｓ）−
（＋）−カルボン３６０ｍを滴下した。この反応混合
物を室温で3.5時間攪拌した。この結果３−クロル安息
香酸の沈殿が生成した。この懸濁液を３０分間攪拌し、
沈殿を完結させるために氷冷した。沈殿を濾別し、ヘキ
サン／塩化メチレン（９：１）で洗浄した。この濾液を
注意深く蒸発させた。このようにして得た油（エポキシ
ド）を氷水３中に懸濁させ、そして温度が２０°以上
に上昇しないように氷浴で冷却しながら３Ｎ硫酸１８０
ｍで処理した。この混合物を室温で１５時間攪拌し
た。３Ｎ水酸化ナトリウム溶液１８０ｍを添加してpH
を6.5に調節した。少量の３−クロル安息香酸を濾別し
た。水性相を０°まで冷却し、続いて温度が２０°以上
に上昇しないように、（メタ）過ヨウ素ナトリウム４９
０ｇを３０分間にわたって一部ずつ添加した。室温で２
時間攪拌した後、亜硫酸ナトリウム３０ｇ及び炭酸水素
ナトリウム２００ｇを連続して添加した。懸濁液を濾過
し、濾液をそれぞれ３の塩化メチレンで３回洗浄し
た。一緒にした有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発
させた。粗生成物をヘキサン／酢酸エチルから０°で結
晶化させた。この結果（５Ｓ）−５−アセチル−２−メ
チル−２−シクロヘキセン−１−オンを得た。融点３５
°；▲［α］25 D▼＝８１°（ｃ＝１，エタノール）。
ｂ）ｎ−ブチルトリフエニルホスホニウムブロマイド４
４ｇをアルゴン下に乾燥テトラヒドロフラン５００ｍ
に懸濁させ、−５０°に冷却した。ヘキサン中1.33Ｎｎ
−ブチルリチウム６９ｍをこれに添加した。橙色の懸
濁液を室温まで暖め、次いで再び−５０°まで冷却し
た。次いで乾燥テトラヒドロフラン２０ｍ中（５Ｓ）
−５−アセチル−２−メチル−２−シクロヘキセン−１
−オン１４ｇを２０分間にわたって滴下した。次いで冷
却浴を除き、懸濁液を放置して室温まで暖めた。２時間
攪拌した後、反応混合物を珪藻土を通して濾過した。濾
液を蒸発させ、暗色の残渣を酢酸エチル５００ｍに溶
解し、それぞれ水２００ｍで２回洗浄した。有機相を
硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させた。このようにして
得た油をヘキサン／酢酸エチル（９５：５）を流出剤と
して用いるシリカゲルでのカラムクロマトグラフイーに
より精製した。依然対応する（Ｅ）−異性体を含有する
（５Ｓ）−２−メチル−５−［（Ｚ）−１−メチル−１
−ペンテニル］−２−シクロヘキセン−１−オンを得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：中でも3.1（ｍ，１Ｈ）、
5.2（ｔ，１Ｈ）及び6.75（ブロード，Ｈ）ppmにシグナ
ル。
４ｇをアルゴン下に乾燥テトラヒドロフラン５００ｍ
に懸濁させ、−５０°に冷却した。ヘキサン中1.33Ｎｎ
−ブチルリチウム６９ｍをこれに添加した。橙色の懸
濁液を室温まで暖め、次いで再び−５０°まで冷却し
た。次いで乾燥テトラヒドロフラン２０ｍ中（５Ｓ）
−５−アセチル−２−メチル−２−シクロヘキセン−１
−オン１４ｇを２０分間にわたって滴下した。次いで冷
却浴を除き、懸濁液を放置して室温まで暖めた。２時間
攪拌した後、反応混合物を珪藻土を通して濾過した。濾
液を蒸発させ、暗色の残渣を酢酸エチル５００ｍに溶
解し、それぞれ水２００ｍで２回洗浄した。有機相を
硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させた。このようにして
得た油をヘキサン／酢酸エチル（９５：５）を流出剤と
して用いるシリカゲルでのカラムクロマトグラフイーに
より精製した。依然対応する（Ｅ）−異性体を含有する
（５Ｓ）−２−メチル−５−［（Ｚ）−１−メチル−１
−ペンテニル］−２−シクロヘキセン−１−オンを得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：中でも3.1（ｍ，１Ｈ）、
5.2（ｔ，１Ｈ）及び6.75（ブロード，Ｈ）ppmにシグナ
ル。
ｃ）（５Ｓ）−２−メチル−５−［（Ｚ）−１−メチル
−１−ペンテニル］−２−シクロヘキセン−１−オン２
ｇを塩化メチレン１００ｍに溶解し、０°まで冷却し
た。触媒量（１００mg）の塩化亜鉛を添加した後、溶液
を臭化水素ガスで飽和した。３０分後に溶液をシリカゲ
ル１ｇを通して濾過し、注意深く蒸発させた。得られた
油状残渣2.8ｇを乾燥エーテルに溶解し、１００％過酸
化水素１ｍで処理した。次いで乾燥エーテル２５ｍ
に溶解したトリフルオル酢酸銀3.45ｇを３０分間にわた
って滴下した。１Ｎ塩酸１ｍを添加することによって
過剰量の銀イオンを沈殿させ、得られた懸濁液をシリカ
ゲルを通して濾過した。過剰な過酸化水素を除去するた
めに、濾液をそれぞれ水１０ｍで５回洗浄した。次い
でエーテル相を注意深く蒸発させ、残渣をメタノール１
００ｍ中に鋳れた。この溶液に触媒量のナトリウムメ
タノレート（１００mg）を添加し、そして混合物を室温
で１５時間放置した。次いでメタノールを留去し、残渣
を精製し、ヘキサン／酢酸エチル（７：３）で留去させ
るシリカゲルでのクロマトグラフイーによって２つのジ
アステレオマーに分離した。この結果（１Ｒ，４Ｒ，５
Ｓ，８Ｒ）−４−ブチル−４，８−ジメチル−２，３−
ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質
量スペクトル：中でもm/e２２７（Ｍ+＋１）、１５３及
び８５にピーク；▲［α］25 D▲＝−137.5°（ｃ＝１，
メタノール）］及び（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４−
ブチル−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中
でもm/e２２７（Ｍ+＋１）、１５３及び８５にピーク］
を得た。
−１−ペンテニル］−２−シクロヘキセン−１−オン２
ｇを塩化メチレン１００ｍに溶解し、０°まで冷却し
た。触媒量（１００mg）の塩化亜鉛を添加した後、溶液
を臭化水素ガスで飽和した。３０分後に溶液をシリカゲ
ル１ｇを通して濾過し、注意深く蒸発させた。得られた
油状残渣2.8ｇを乾燥エーテルに溶解し、１００％過酸
化水素１ｍで処理した。次いで乾燥エーテル２５ｍ
に溶解したトリフルオル酢酸銀3.45ｇを３０分間にわた
って滴下した。１Ｎ塩酸１ｍを添加することによって
過剰量の銀イオンを沈殿させ、得られた懸濁液をシリカ
ゲルを通して濾過した。過剰な過酸化水素を除去するた
めに、濾液をそれぞれ水１０ｍで５回洗浄した。次い
でエーテル相を注意深く蒸発させ、残渣をメタノール１
００ｍ中に鋳れた。この溶液に触媒量のナトリウムメ
タノレート（１００mg）を添加し、そして混合物を室温
で１５時間放置した。次いでメタノールを留去し、残渣
を精製し、ヘキサン／酢酸エチル（７：３）で留去させ
るシリカゲルでのクロマトグラフイーによって２つのジ
アステレオマーに分離した。この結果（１Ｒ，４Ｒ，５
Ｓ，８Ｒ）−４−ブチル−４，８−ジメチル−２，３−
ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質
量スペクトル：中でもm/e２２７（Ｍ+＋１）、１５３及
び８５にピーク；▲［α］25 D▲＝−137.5°（ｃ＝１，
メタノール）］及び（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４−
ブチル−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中
でもm/e２２７（Ｍ+＋１）、１５３及び８５にピーク］
を得た。
同様の方法に従い次のものを製造した： ｄ）（５Ｒ）−（−）−カルボンを（５Ｓ）−（＋）−
カルボンの代りに出発物質として用いることにより、
（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−ブチル−４，８−ジ
メチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナ
ン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/e２２７（Ｍ+
＋１）、１５３及び８５にピーク］及び（１Ｓ，４Ｓ，
５Ｒ，８Ｓ）−４−ブチル−４，８−ジメチル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［質量スペクトル：中でもm/e２２７（Ｍ+＋１）、１５
３及び８５にピーク］； ｅ）工程ｂ）においてイソペンチルトリフエニルホスホ
ニウムブロマイドをｎ−ブチルトリフエニルホスホニウ
ムブロマイドの代りに用いることにより、（１Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４−イソペンチル−４，８−ジメチ
ル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−
７−オン［1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）：中で
も0.9（ｄ，６Ｈ）、1.05（ｄ，３Ｈ）及び1.1（ｓ，３
Ｈ）ppmにピーク］及び（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−
４−イソペンチル−４，８−ジメチル−２，３−ジオキ
サビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［1Ｈ−Ｎ
ＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）：中でも0.8（ｄ，６
Ｈ）、1.3（ｄ，３Ｈ）及び1.4（ｓ，３Ｈ）ppmにシグ
ナル］； ｆ）工程ｂ）において３−フエニルプロピルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドをｎ−ブチルトリフエニルホ
スホニウムブロマイドの代りに用いることにより、（１
Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４−（３−フエニルプロピ
ル）−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル化学
的イオン化：中でもm/e２５６（Ｍ+−３２）及び１０４
にピーク］及び（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４−（３
−フエニルプロピル）−４，８−ジメチル−３−ジオキ
サビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペ
クトル化学的イオン化：中でもm/e３０６（Ｍ+＋Ｎ
Ｈ4）、２７３（Ｍ+−１５）及び１８０にピーク］； ｇ）（５Ｒ）−（−）−カルボンを（５Ｓ）−（＋）−
カルボンの代りに出発物質として用い且つ工程ｂ）にお
いて３−フエニルプロピルトリフエニルホスホニウムブ
ロマイドをｎ−ブチルトリフエニルホスホニウムブロマ
イドの代りに用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，
８Ｓ）−４−（３−フエニルプロピル）−４，８−ジメ
チル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン
−７−オン［1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）：中
でも0.9（ｓ，３Ｈ）及び7.2（ｓ，５Ｈ）ppmにシグナ
ル］及び（１Ｓ，４Ｓ，５Ｒ，８Ｓ）−４−（３−フエ
ニルプロピル）−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［1Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトル（ＣＤＣｌ3）：中でも1.3（ｓ，３Ｈ）及
び7.2（ｓ，５Ｈ）ppmにシグナル］； ｈ）工程ｃ）に従って（５Ｓ）−（＋）−カルボンを直
接反応させることにより、（１Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，
４，８−トリメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e１８４（Ｍ+）、１２６及び８５にピーク］； ｉ）工程ｃ）に従って（５Ｒ）−（−）−カルボンを直
接反応させることにより、（１Ｓ，５Ｒ，８Ｓ）−４，
４，８−トリメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e１８４（Ｍ+）、及び８５にピーク］。
カルボンの代りに出発物質として用いることにより、
（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−ブチル−４，８−ジ
メチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナ
ン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/e２２７（Ｍ+
＋１）、１５３及び８５にピーク］及び（１Ｓ，４Ｓ，
５Ｒ，８Ｓ）−４−ブチル−４，８−ジメチル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［質量スペクトル：中でもm/e２２７（Ｍ+＋１）、１５
３及び８５にピーク］； ｅ）工程ｂ）においてイソペンチルトリフエニルホスホ
ニウムブロマイドをｎ−ブチルトリフエニルホスホニウ
ムブロマイドの代りに用いることにより、（１Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４−イソペンチル−４，８−ジメチ
ル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−
７−オン［1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）：中で
も0.9（ｄ，６Ｈ）、1.05（ｄ，３Ｈ）及び1.1（ｓ，３
Ｈ）ppmにピーク］及び（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−
４−イソペンチル−４，８−ジメチル−２，３−ジオキ
サビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［1Ｈ−Ｎ
ＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）：中でも0.8（ｄ，６
Ｈ）、1.3（ｄ，３Ｈ）及び1.4（ｓ，３Ｈ）ppmにシグ
ナル］； ｆ）工程ｂ）において３−フエニルプロピルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドをｎ−ブチルトリフエニルホ
スホニウムブロマイドの代りに用いることにより、（１
Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４−（３−フエニルプロピ
ル）−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル化学
的イオン化：中でもm/e２５６（Ｍ+−３２）及び１０４
にピーク］及び（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４−（３
−フエニルプロピル）−４，８−ジメチル−３−ジオキ
サビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペ
クトル化学的イオン化：中でもm/e３０６（Ｍ+＋Ｎ
Ｈ4）、２７３（Ｍ+−１５）及び１８０にピーク］； ｇ）（５Ｒ）−（−）−カルボンを（５Ｓ）−（＋）−
カルボンの代りに出発物質として用い且つ工程ｂ）にお
いて３−フエニルプロピルトリフエニルホスホニウムブ
ロマイドをｎ−ブチルトリフエニルホスホニウムブロマ
イドの代りに用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，
８Ｓ）−４−（３−フエニルプロピル）−４，８−ジメ
チル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン
−７−オン［1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）：中
でも0.9（ｓ，３Ｈ）及び7.2（ｓ，５Ｈ）ppmにシグナ
ル］及び（１Ｓ，４Ｓ，５Ｒ，８Ｓ）−４−（３−フエ
ニルプロピル）−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［1Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトル（ＣＤＣｌ3）：中でも1.3（ｓ，３Ｈ）及
び7.2（ｓ，５Ｈ）ppmにシグナル］； ｈ）工程ｃ）に従って（５Ｓ）−（＋）−カルボンを直
接反応させることにより、（１Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，
４，８−トリメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e１８４（Ｍ+）、１２６及び８５にピーク］； ｉ）工程ｃ）に従って（５Ｒ）−（−）−カルボンを直
接反応させることにより、（１Ｓ，５Ｒ，８Ｓ）−４，
４，８−トリメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e１８４（Ｍ+）、及び８５にピーク］。
実施例２ ａ）エチルトリフエニルホスホニウムブロマイド4.5ｇ
及びＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−エチレンジア
ミン1.8ｍを、テトラヒドロフラン３００ｍ中にお
いてアルゴン下に０°まで冷却した。次いでｎ−ブチル
リチウム（ヘキサン中1.6Ｍ）7.5ｍを攪拌しながら滴
下し、混合物を更に１時間氷冷なしに攪拌した。次いで
赤色の溶液を−７０°まで冷却し、そしてテトラヒドロ
フラン１０ｍに溶解した（Ｓ）−５−アセチル−２−
メチル−２−シクロヘキセン−１−オン1.52ｇを１５分
にわたって滴下した。冷却浴を除去し、混合物を更に４
５分間攪拌した。水２０ｍの添加後、混合物を蒸発さ
せた。残渣をエーテル中に入れ、0.3Ｎ硫酸で２回、そ
して飽和塩化ナトリウム溶液で２回抽出した。エーテル
相を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させた。この結果の
粗生成物を、ヘキサン／塩化メチレン（１：１）で流出
させるシリカゲルでのフラツシユクロマトグラフイーに
より精製した。この結果（５Ｓ）−２−メチル−５−
［（Ｚ）−１−メチルプロペニル］−２−シクロヘキセ
ン−１−オンを無色の油として得た［質量スペクトル：
中でもm/e１６４（Ｍ+）、１４９（Ｍ+−１５，Ｃ
Ｈ3）、１３５（Ｍ+−２９，ＣＯＨ）、８２及び５４に
ピーク］。
及びＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−エチレンジア
ミン1.8ｍを、テトラヒドロフラン３００ｍ中にお
いてアルゴン下に０°まで冷却した。次いでｎ−ブチル
リチウム（ヘキサン中1.6Ｍ）7.5ｍを攪拌しながら滴
下し、混合物を更に１時間氷冷なしに攪拌した。次いで
赤色の溶液を−７０°まで冷却し、そしてテトラヒドロ
フラン１０ｍに溶解した（Ｓ）−５−アセチル−２−
メチル−２−シクロヘキセン−１−オン1.52ｇを１５分
にわたって滴下した。冷却浴を除去し、混合物を更に４
５分間攪拌した。水２０ｍの添加後、混合物を蒸発さ
せた。残渣をエーテル中に入れ、0.3Ｎ硫酸で２回、そ
して飽和塩化ナトリウム溶液で２回抽出した。エーテル
相を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させた。この結果の
粗生成物を、ヘキサン／塩化メチレン（１：１）で流出
させるシリカゲルでのフラツシユクロマトグラフイーに
より精製した。この結果（５Ｓ）−２−メチル−５−
［（Ｚ）−１−メチルプロペニル］−２−シクロヘキセ
ン−１−オンを無色の油として得た［質量スペクトル：
中でもm/e１６４（Ｍ+）、１４９（Ｍ+−１５，Ｃ
Ｈ3）、１３５（Ｍ+−２９，ＣＯＨ）、８２及び５４に
ピーク］。
アセトニトリル４００ｍに溶解した（５Ｓ）−２−メ
チル−５−［（Ｚ）−１−メチルプロペニル］−２−シ
クロヘキセン−１−オン４８ｇ及びメチレンブルー１５
０mgを、６００Ｗの白色光ランプ、回転攪拌機及び低温
保持凝縮器（−３０°）を備えた光酸化装置中におい
て、僅かなＯ2流下、０℃で２２時間照射した。反応混
合物を装置から除去し、トルエン−４−スルホン酸１ｇ
で処理し、そして室温で２時間攪拌した。ジメチルスル
フイド２０ｍを添加した後、反応混合物を注意深く蒸
発させ、残渣を塩化メチレンを流出剤とするシリカゲル
でのカラムクロマトグラフイーにより精製した。この結
果、（１Ｒ，４ＲＳ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル
−４−ビニル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．
１］−ノナン−７−オンを無色の油として得た［質量ス
ペクトル（化学的イオン化）：中でもm/e２１４（Ｍ+＋
ＮＨ4）及び１９７（Ｍ+＋１）にピーク］。
チル−５−［（Ｚ）−１−メチルプロペニル］−２−シ
クロヘキセン−１−オン４８ｇ及びメチレンブルー１５
０mgを、６００Ｗの白色光ランプ、回転攪拌機及び低温
保持凝縮器（−３０°）を備えた光酸化装置中におい
て、僅かなＯ2流下、０℃で２２時間照射した。反応混
合物を装置から除去し、トルエン−４−スルホン酸１ｇ
で処理し、そして室温で２時間攪拌した。ジメチルスル
フイド２０ｍを添加した後、反応混合物を注意深く蒸
発させ、残渣を塩化メチレンを流出剤とするシリカゲル
でのカラムクロマトグラフイーにより精製した。この結
果、（１Ｒ，４ＲＳ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル
−４−ビニル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．
１］−ノナン−７−オンを無色の油として得た［質量ス
ペクトル（化学的イオン化）：中でもm/e２１４（Ｍ+＋
ＮＨ4）及び１９７（Ｍ+＋１）にピーク］。
照射後に得られた反応混合物は（５Ｓ）−５−［（Ｒ
Ｓ）−２−ヒドロペルオキシ−３−ブテン−２−イル］
−２−メチル−２−シクロヘキセン−１−オンを含み、
これを蒸発させ且つ残渣をヘキサン／酢酸エチル（３：
１）を流出剤とするシリカゲルでのフラツシユ・クロマ
トグラフイーにかけ、単離且つ精製した［質量スペクト
ル（化学的イオン化）：中でもm/e２１４（Ｍ+＋Ｎ
Ｈ4）、１９８、１７９及び１６３にピーク］。
Ｓ）−２−ヒドロペルオキシ−３−ブテン−２−イル］
−２−メチル−２−シクロヘキセン−１−オンを含み、
これを蒸発させ且つ残渣をヘキサン／酢酸エチル（３：
１）を流出剤とするシリカゲルでのフラツシユ・クロマ
トグラフイーにかけ、単離且つ精製した［質量スペクト
ル（化学的イオン化）：中でもm/e２１４（Ｍ+＋Ｎ
Ｈ4）、１９８、１７９及び１６３にピーク］。
実施例１の工程ａ）及びｂ）に従い、但しそれぞれの場
合に指示した変更を行なって得た対応する出発物質を用
いることによって次の化合物を製造した： ｂ）（１Ｒ，４ＲＳ，５Ｓ，８Ｒ）−４−［（Ｅ）−１
−ブテニル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビ
シクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［1Ｈ−ＮＭＲ
スペクトル（ＣＤＣｌ3）：中でも5.55（ｍ，２Ｈ）、
4.25（ブロード，１Ｈ）ppmにシグナル；質量スペクト
ル（化学的イオン化）：中でもm/e２４２（Ｍ+＋Ｎ
Ｈ4）、１４４及び１１６にピーク］； ｃ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにオクチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドを用いることにより、（１
Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−オクテニル］−２，３−ジオキサビシク
ロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：
中でもm/e１５５及び７１にピーク］及び（１Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）−
１−オクテニル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e２４９，１３９，５５及び４３にピーク］； ｄ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにノニルトリフエニル
ホスホニウムブロマイドを用いることにより、（１Ｒ，
４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）
−１−ノネニル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［1Ｈ−ＮＭＲスペクトル
（ＣＤＣｌ3）：中でも1.10（ｓ，３Ｈ）、4.35（ｍ，
１Ｈ）及び5.2〜6.0（ｍ，２Ｈ）ppmにシグナル］及び
（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−ノネニル］−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中
でもm/e１６９及び７１にピーク］； ｅ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにデシルトリフエニル
ホスホニウムブロマイドを用いることにより、（１Ｒ，
４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）
−１−デセニル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e３０９（Ｍ+＋１）及び７１にピーク］及び（１Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）−
１−デセニル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．
１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/e１
８３及び７１にピーク］； ｆ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにウンデシルトリフエ
ニルホスホニウムブロマイドを用いることにより、（１
Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−ウンデセニル］−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクト
ル：中でもm/e２３６．１９７，１８１及び７１にピー
ク］及び（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチ
ル−４−［（Ｅ）−１−ウンデセニル］−２，３−ジオ
キサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量ス
ペクトル：中でもm/e３０４（Ｍ+−１８，Ｈ2Ｏ），１
９７，１３９，５５及び４３にピーク］； ｇ）実施例１の工程ａ）において（５Ｓ）−（＋）−カ
ルボンの代りに（５Ｒ）−（−）−カルボンを出発物質
として用い且つ実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチル
トリフエニルホスホニウムブロマイドの代りにウンデシ
ルトリフエニルホスホニウムブロマイドを用いることに
より、（１Ｓ，４Ｓ，５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジメチル
−４−［（Ｅ）−１−ウンデセニル］−２，３−ジオキ
サビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペ
クトル：中でもm/e２３６．１９７，１８１及び７１に
ピーク］及び（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジ
メチル−４−［（Ｅ）−１−ウンデセニル］−２，３−
ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質
量スペクトル：中でもm/e３０４（Ｍ+−１８，Ｈ
2Ｏ），１９７，５５及び４３にピーク］； ｈ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにドデシルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドを用いることにより、（１
Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−ドデセニル］−２，３−ジオキサビシク
ロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：
中でもm/e２２１及び７１にピーク］及び（１Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）−
１−ドデセニル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e３１８（Ｍ+−１８，）２１１及び７１にピーク］； ｉ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにテトラデシルトリフ
エニルホスホニウムブロマイドを用いることにより、
（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−テトラデシル］−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクト
ル：中でもm/e２８８．２３９及び７１にピーク］及び
（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−テトラデセニル］−２，３−ジオキサビ
シクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクト
ル：中でもm/e３４６（Ｍ+−１８，Ｈ2Ｏ），３３２
（Ｍ+−３２，Ｏ2），２３９及び７１にピーク］。
合に指示した変更を行なって得た対応する出発物質を用
いることによって次の化合物を製造した： ｂ）（１Ｒ，４ＲＳ，５Ｓ，８Ｒ）−４−［（Ｅ）−１
−ブテニル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビ
シクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［1Ｈ−ＮＭＲ
スペクトル（ＣＤＣｌ3）：中でも5.55（ｍ，２Ｈ）、
4.25（ブロード，１Ｈ）ppmにシグナル；質量スペクト
ル（化学的イオン化）：中でもm/e２４２（Ｍ+＋Ｎ
Ｈ4）、１４４及び１１６にピーク］； ｃ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにオクチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドを用いることにより、（１
Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−オクテニル］−２，３−ジオキサビシク
ロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：
中でもm/e１５５及び７１にピーク］及び（１Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）−
１−オクテニル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e２４９，１３９，５５及び４３にピーク］； ｄ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにノニルトリフエニル
ホスホニウムブロマイドを用いることにより、（１Ｒ，
４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）
−１−ノネニル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［1Ｈ−ＮＭＲスペクトル
（ＣＤＣｌ3）：中でも1.10（ｓ，３Ｈ）、4.35（ｍ，
１Ｈ）及び5.2〜6.0（ｍ，２Ｈ）ppmにシグナル］及び
（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−ノネニル］−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中
でもm/e１６９及び７１にピーク］； ｅ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにデシルトリフエニル
ホスホニウムブロマイドを用いることにより、（１Ｒ，
４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）
−１−デセニル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e３０９（Ｍ+＋１）及び７１にピーク］及び（１Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）−
１−デセニル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．
１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/e１
８３及び７１にピーク］； ｆ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにウンデシルトリフエ
ニルホスホニウムブロマイドを用いることにより、（１
Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−ウンデセニル］−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクト
ル：中でもm/e２３６．１９７，１８１及び７１にピー
ク］及び（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチ
ル−４−［（Ｅ）−１−ウンデセニル］−２，３−ジオ
キサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量ス
ペクトル：中でもm/e３０４（Ｍ+−１８，Ｈ2Ｏ），１
９７，１３９，５５及び４３にピーク］； ｇ）実施例１の工程ａ）において（５Ｓ）−（＋）−カ
ルボンの代りに（５Ｒ）−（−）−カルボンを出発物質
として用い且つ実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチル
トリフエニルホスホニウムブロマイドの代りにウンデシ
ルトリフエニルホスホニウムブロマイドを用いることに
より、（１Ｓ，４Ｓ，５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジメチル
−４−［（Ｅ）−１−ウンデセニル］−２，３−ジオキ
サビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペ
クトル：中でもm/e２３６．１９７，１８１及び７１に
ピーク］及び（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジ
メチル−４−［（Ｅ）−１−ウンデセニル］−２，３−
ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質
量スペクトル：中でもm/e３０４（Ｍ+−１８，Ｈ
2Ｏ），１９７，５５及び４３にピーク］； ｈ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにドデシルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドを用いることにより、（１
Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−ドデセニル］−２，３−ジオキサビシク
ロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：
中でもm/e２２１及び７１にピーク］及び（１Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）−
１−ドデセニル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e３１８（Ｍ+−１８，）２１１及び７１にピーク］； ｉ）実施例１の工程ｂ）においてｎ−ブチルトリフエニ
ルホスホニウムブロマイドの代りにテトラデシルトリフ
エニルホスホニウムブロマイドを用いることにより、
（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−テトラデシル］−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクト
ル：中でもm/e２８８．２３９及び７１にピーク］及び
（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｅ）−１−テトラデセニル］−２，３−ジオキサビ
シクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクト
ル：中でもm/e３４６（Ｍ+−１８，Ｈ2Ｏ），３３２
（Ｍ+−３２，Ｏ2），２３９及び７１にピーク］。
実施例３ ａ）酢酸エチル１８０ｍに溶解した（１Ｒ，４Ｓ，５
Ｓ，８Ｒ）−４−［（Ｅ）−１−デセニル］−４，８−
ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノ
ナン−７−オン［実施例２ｅ）に従って製造］3.59ｇ
を、５％パラジウム／活性炭３６０mgの存在下に1.013
×１０5Ｐａの水素で約1.25時間水素化した。反応の終
点はガスクロマトグラフイー分析によって決定した。次
いで触媒を珪藻土を通して濾過することにより除去し、
濾液を蒸発させた。残渣をヘキサン／酢酸エチル（３：
１）を流出剤とするシリカゲルでのカラムクロマトグラ
フイーにより精製した。この結果（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，
８Ｒ）−４−デシル−４，８−ジメチル−２，３−ジオ
キサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オンを無色の
油として得、これをヘキサンから結晶化させた［融点５
７°］。
Ｓ，８Ｒ）−４−［（Ｅ）−１−デセニル］−４，８−
ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノ
ナン−７−オン［実施例２ｅ）に従って製造］3.59ｇ
を、５％パラジウム／活性炭３６０mgの存在下に1.013
×１０5Ｐａの水素で約1.25時間水素化した。反応の終
点はガスクロマトグラフイー分析によって決定した。次
いで触媒を珪藻土を通して濾過することにより除去し、
濾液を蒸発させた。残渣をヘキサン／酢酸エチル（３：
１）を流出剤とするシリカゲルでのカラムクロマトグラ
フイーにより精製した。この結果（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，
８Ｒ）−４−デシル−４，８−ジメチル−２，３−ジオ
キサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オンを無色の
油として得、これをヘキサンから結晶化させた［融点５
７°］。
同様の方法に従い、 ｂ）実施例２ｃ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−オクチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点４１°］を得た； ｃ）実施例２ｃ）の第２の生成物から、（１Ｒ，４Ｒ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−オクチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点２７°］を得た； ｄ）実施例２ｄ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ノニル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点３９°］を得た； ｅ）実施例２ｄ）の第２の生成物から、（１Ｒ，４Ｒ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ノニル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点４０°］を得た； ｆ）実施例２ｅ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−デシル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点４０°］を得た； ｇ）実施例２ｆ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ウンデシル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点５６°；▲［α］25 D▼＝−158.8（ｃ＝１，
エタノール）］； ｈ）実施例２ｆ）の第２の生成物から、（１Ｒ，４Ｒ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ウンデシル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点４２°；▲［α］25 D▼＝−157.7（ｃ＝１，
エタノール）］； ｉ）実施例２ｇ）の第１の生成物から、（１Ｓ，４Ｒ，
５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジメチル−４−ウンデシル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点５６°］を得た； ｊ）実施例２ｇ）の第２の生成物から、（１Ｓ，４Ｓ，
５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジメチル−４−オクチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点４２°］を得た； ｋ）実施例２ｈ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ドデシル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点６７°］を得た； ｌ）実施例２ｈ）の第２の生成物から、（１Ｒ，４Ｒ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ドデシル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点３５°］を得た； ｍ）実施例２ｉ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−テトラデシル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点７４°］を得た； ｎ）実施例２ｉ）の第２の生成物から、（１Ｒ，４Ｒ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−テトラデシル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点４６°］を得た； 実施例４ ａ）（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−
４−ビニル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］
ノナン−７−オン［実施例２ａ）に従って製造］３３ｇ
をメタノール１００ｍに溶解し、アルゴン下に−７０
°まで冷却した。酸素４０／時からのオゾン流を導入
し、飽和状態（淡青色）を保った。３〜４時間後、オゾ
ン流を止め、過剰なオゾンを酸素で置き換えた。これに
ジメチルスルフイド４０ｍを添加し、懸濁液を室温ま
で暖めた。メタノールを留去し、残渣を、ヘキサン／酢
酸エチル（２：１〜１：２）を流出剤とするシリカゲル
でのカラムクロマトグラフイーによって精製し且つ分離
した。０°のヘキサン／酢酸エチルからの結晶後、（１
Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−７−オキ
ソ−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−
４−カルボキサルデヒド［融点９２°］及び（１Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−７−オキソ−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−４−
カルボキサルデヒド［融点９７°］を得た。
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−オクチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点４１°］を得た； ｃ）実施例２ｃ）の第２の生成物から、（１Ｒ，４Ｒ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−オクチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点２７°］を得た； ｄ）実施例２ｄ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ノニル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点３９°］を得た； ｅ）実施例２ｄ）の第２の生成物から、（１Ｒ，４Ｒ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ノニル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点４０°］を得た； ｆ）実施例２ｅ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−デシル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点４０°］を得た； ｇ）実施例２ｆ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ウンデシル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点５６°；▲［α］25 D▼＝−158.8（ｃ＝１，
エタノール）］； ｈ）実施例２ｆ）の第２の生成物から、（１Ｒ，４Ｒ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ウンデシル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点４２°；▲［α］25 D▼＝−157.7（ｃ＝１，
エタノール）］； ｉ）実施例２ｇ）の第１の生成物から、（１Ｓ，４Ｒ，
５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジメチル−４−ウンデシル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点５６°］を得た； ｊ）実施例２ｇ）の第２の生成物から、（１Ｓ，４Ｓ，
５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジメチル−４−オクチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点４２°］を得た； ｋ）実施例２ｈ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ドデシル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点６７°］を得た； ｌ）実施例２ｈ）の第２の生成物から、（１Ｒ，４Ｒ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−ドデシル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点３５°］を得た； ｍ）実施例２ｉ）の第１の生成物から、（１Ｒ，４Ｓ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−テトラデシル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点７４°］を得た； ｎ）実施例２ｉ）の第２の生成物から、（１Ｒ，４Ｒ，
５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−テトラデシル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点４６°］を得た； 実施例４ ａ）（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−
４−ビニル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］
ノナン−７−オン［実施例２ａ）に従って製造］３３ｇ
をメタノール１００ｍに溶解し、アルゴン下に−７０
°まで冷却した。酸素４０／時からのオゾン流を導入
し、飽和状態（淡青色）を保った。３〜４時間後、オゾ
ン流を止め、過剰なオゾンを酸素で置き換えた。これに
ジメチルスルフイド４０ｍを添加し、懸濁液を室温ま
で暖めた。メタノールを留去し、残渣を、ヘキサン／酢
酸エチル（２：１〜１：２）を流出剤とするシリカゲル
でのカラムクロマトグラフイーによって精製し且つ分離
した。０°のヘキサン／酢酸エチルからの結晶後、（１
Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−７−オキ
ソ−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−
４−カルボキサルデヒド［融点９２°］及び（１Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−７−オキソ−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−４−
カルボキサルデヒド［融点９７°］を得た。
ｂ）（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−
７−オキソ−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］
ノナン−４−カルボキサルデヒド７６０mgを塩化メチレ
ン８０ｍに溶解した。これに２，７−ビス（トリフル
オルメチル）キノリン−４−イル−メチリデントリフエ
ニルホスホラン2.5ｇを添加し、この溶液を室温で２４
時間放置した。塩化メチレンを留去し、残渣を塩化メチ
レンを流出剤とするシリカゲルでのカラムクロマトグラ
フイーによって（Ｅ）−及び（Ｚ）−異性体に分離し
た。メタノールからの結晶化後、（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，
８Ｒ）−４−［（Ｚ）−２−［２，７−ビス（トリフル
オロメチル−４−キノリニル］ビニル］−４，８−ジメ
チル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン
−７−オンを白色の結晶［融点１６０°；▲［α］25 D
＝53.7°（ｃ＝１，エタノール）］として及び（１Ｒ，
４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４−［（Ｚ）−２−［２，７−ビ
ス（トリフルオロメチル−４−キノリニル］ビニル］−
４，８−ジメチル−−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点１８８°］を得た。
７−オキソ−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］
ノナン−４−カルボキサルデヒド７６０mgを塩化メチレ
ン８０ｍに溶解した。これに２，７−ビス（トリフル
オルメチル）キノリン−４−イル−メチリデントリフエ
ニルホスホラン2.5ｇを添加し、この溶液を室温で２４
時間放置した。塩化メチレンを留去し、残渣を塩化メチ
レンを流出剤とするシリカゲルでのカラムクロマトグラ
フイーによって（Ｅ）−及び（Ｚ）−異性体に分離し
た。メタノールからの結晶化後、（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，
８Ｒ）−４−［（Ｚ）−２−［２，７−ビス（トリフル
オロメチル−４−キノリニル］ビニル］−４，８−ジメ
チル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン
−７−オンを白色の結晶［融点１６０°；▲［α］25 D
＝53.7°（ｃ＝１，エタノール）］として及び（１Ｒ，
４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４−［（Ｚ）−２−［２，７−ビ
ス（トリフルオロメチル−４−キノリニル］ビニル］−
４，８−ジメチル−−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点１８８°］を得た。
同様の方法により、 ｃ）（５Ｒ）−（−）−カルボンから製造した対応する
出発物質を用いることにより、（１Ｒ，４Ｒ，５Ｒ，８
Ｓ）−４−［（Ｚ）−２−［２，７−ビス（トリフルオ
ロメチル−４−キノリニル］ビニル］−４，８−ジメチ
ル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−
７−オン［融点１６０°］を得た； ｄ）ｐ−トリフルオルメチルベンジルトリフエニルホス
ホニウムブロマイド及びナトリウムビス（トリメチルシ
リル）アミドからその場で生成したｐ−トリフルオルメ
チルベンジリデントリフエニルホスホランを用いること
により、（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチ
ル−４−［（Ｅ）−４−（トリフルオルメチル）スチリ
ル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン
−７−オン［質量スペクトル：中でもm/e３２１（Ｍ+−
１９，Ｆ）及び８５にピーク］を得た。
出発物質を用いることにより、（１Ｒ，４Ｒ，５Ｒ，８
Ｓ）−４−［（Ｚ）−２−［２，７−ビス（トリフルオ
ロメチル−４−キノリニル］ビニル］−４，８−ジメチ
ル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−
７−オン［融点１６０°］を得た； ｄ）ｐ−トリフルオルメチルベンジルトリフエニルホス
ホニウムブロマイド及びナトリウムビス（トリメチルシ
リル）アミドからその場で生成したｐ−トリフルオルメ
チルベンジリデントリフエニルホスホランを用いること
により、（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチ
ル−４−［（Ｅ）−４−（トリフルオルメチル）スチリ
ル］−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン
−７−オン［質量スペクトル：中でもm/e３２１（Ｍ+−
１９，Ｆ）及び８５にピーク］を得た。
ｅ）ｐ−クロルフエナシルベンジルトリフエニルホスホ
ニウムブロマイド及びナトリウムエチレートからその場
で生成したｐ−クロルフエナシルベンジリデントリフエ
ニルホスホランを用いることにより、（１Ｒ，４Ｓ，５
Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４［（Ｅ）−２−（４
−クロルベンゾイル）ビニル］−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１２７°］
を得た； ｆ）２−（１−アダマンチル）−エチルトリフエニルホ
スホニウムブロマイド及びｎ−ブチルリチウムからその
場で生成した２−（１−アダマンチル）エチリデントリ
フエニルホスホランを用いることにより、（１Ｒ，４
Ｒ，５Ｒ，８Ｒ）−４−［（Ｚ）−３−（１−アダマン
チル）プロペニル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオ
キサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１
４６°（分解）］を得た； ｇ）ゲラニルトリフエニルホスホニウムブロマイド及び
ｎ−ブチルリチウムからその場で生成したゲラニリデン
トリフエニルホスホランを用いることにより、（１Ｒ，
４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４−［（全Ｚ）−１，３，７−ノ
ナトリエニル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペク
トル：中でもm/e３１８（Ｍ+）及び６９にピーク］を得
た； ｈ）（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４−［（１Ｚ，３
Ｅ）−４，８−ジメチル−１，３，７−ノナトリエニ
ル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中
でもm/e２４９及び６９にピーク］を得た。
ニウムブロマイド及びナトリウムエチレートからその場
で生成したｐ−クロルフエナシルベンジリデントリフエ
ニルホスホランを用いることにより、（１Ｒ，４Ｓ，５
Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４［（Ｅ）−２−（４
−クロルベンゾイル）ビニル］−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１２７°］
を得た； ｆ）２−（１−アダマンチル）−エチルトリフエニルホ
スホニウムブロマイド及びｎ−ブチルリチウムからその
場で生成した２−（１−アダマンチル）エチリデントリ
フエニルホスホランを用いることにより、（１Ｒ，４
Ｒ，５Ｒ，８Ｒ）−４−［（Ｚ）−３−（１−アダマン
チル）プロペニル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオ
キサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１
４６°（分解）］を得た； ｇ）ゲラニルトリフエニルホスホニウムブロマイド及び
ｎ−ブチルリチウムからその場で生成したゲラニリデン
トリフエニルホスホランを用いることにより、（１Ｒ，
４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−４−［（全Ｚ）−１，３，７−ノ
ナトリエニル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペク
トル：中でもm/e３１８（Ｍ+）及び６９にピーク］を得
た； ｈ）（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４−［（１Ｚ，３
Ｅ）−４，８−ジメチル−１，３，７−ノナトリエニ
ル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中
でもm/e２４９及び６９にピーク］を得た。
ｉ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び２，８−ビス（ト
リフルオルメチル）−４−キノリニル−メチリデントリ
フエニルホスホランから生成した対応する出発物質を用
いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−
［（Ｚ）−２−［２，８−ビス（トリフルオルメチル）
−４−キノリニル］ビニル］−４，８−ジメチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点１３７°］を得た； ｋ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び６，８−ジクロル
−２−トリフルオルメチル−４−キノリニル−メチリデ
ントリフエニルホスホランから生成した対応する出発物
質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−
４−［（Ｅ）−２−［６，８−ジクロル−２−（トリフ
ルオルメチル）−４−キノリニル］ビニル］−４，８−
ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノ
ナン−７−オン［融点１９６°］を得た； ｌ）（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２−
［６，８−ジクロル−２−（トリフルオルメチル）−４
−キノリニル］ビニル］−４，８−ジメチル−２，３−
ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融
点１９１°］を得た； ｍ）２，４−ジクロルベンジルトリフエニルホスホニウ
ムブロマイド及びｎ−ブチルリチウムからその場で生成
した２，４−ジクロルベンジリデントリフエニルホスホ
ランを用いることにより、（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）
−４−［（Ｚ）−２，４−ジクロルスチリル］−４，８
−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］
ノナン−７−オン［質量スペクトル（化学的イオン
化）：中でもm/e３５８（Ｍ+＋ＮＨ4）及び１７９］を
得た； ｎ）３，４−ジクロルベンジルトリフエニルホスホニウ
ムクロライド及びナトリウムビス（トリメチルシリル）
アミドからその場で生成した３，４−ジクロルベンジリ
デントリフエニルホスホランを用いることにより、（１
Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｚ）−３，４−ジクロル）スチリル］−２，３−ジ
オキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点
１３５°］を得た； ｏ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び２，４−ジクロル
ベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリ
ウム（トリメチルシリル）アミドとから生成した２，４
−ジクロルベンジリデントリフエニルホスホランから製
造した対応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，
４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，４−ジクロル
スチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１３７°］
を得た； ｐ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び１−ナフチルメチ
レントリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した１−ナフチ
ルメチリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−（１−ナフチル）ビニル］
−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e３２２（Ｍ+）及び１５２にピーク］を得た； ｑ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−ブロム−１−
ナフチルメチレントリフエニルホスホニウムブロマイド
とナトリウム（トリメチルシリル）アミドとから生成し
た４−ブロム−１−ナフチルメチリデントリフエニルホ
スホランから製造した対応する出発物質を用いることに
より、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２
−（４−ブロム−１−ナフチル）ビニル］−４，８−ジ
メチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナ
ン−７−オン［融点１６７°］を得た； ｒ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及びベンジルトリフエ
ニルホスホニウムブロマイドとナトリウム（トリメチル
シリル）アミドとから生成したベンジリデントリフエニ
ルホスホランから製造した対応する出発物質を用いるこ
とにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）
−２，４−ジクロルスチリル］−４，８−ジメチル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点６０°］を得た； ｓ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−フルオルベン
ジルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−フルオ
ルベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対
応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−４−フルオルスチリル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点８４°］を得た； ｔ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−クロルベンジ
ルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−クロル
ベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−４−クロルスチリル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点９０°］を得た； ｕ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−メチルベンジ
ルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−メチル
ベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−４−メチルスチリル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点１３７°］を得た； ｖ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−（トリフルオ
ルメチル）ベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイ
ドとナトリウム（トリメチルシリル）アミドとから生成
した４−（トリフルオルメチル）ベンジリデントリフエ
ニルホスホランから製造した対応する出発物質を用いる
ことにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−
［（Ｚ）−４−（トリフルオルメチル）スチリル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル（化学的イ
オン化）：中でもm/e３５８（Ｍ+＋ＮＨ4）及び３４０
にピーク］を得た； ｗ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び３−（トリフルオ
ルメチル）ベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイ
ドとナトリウム（トリメチルシリル）アミドとから生成
した３−（トリフルオルメチル）ベンジリデントリフエ
ニルホスホランから製造した対応する出発物質を用いる
ことにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−
［（Ｚ）−３−（トリフルオルメチル）スチリル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点１０１°］を得た； ｘ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−シアノベンジ
ルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−シアノ
ベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、４−［（Ｚ）−２−
（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジメチル−７−
オキソ−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナ
ン−４−イル］ビニル］ベンゾニトリル［融点１２５
°］を得た； ｙ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−（ｔ−ブチ
ル）ベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナ
トリウム（トリメチルシリル）アミドとから生成した４
−（ｔ−ブチル）ベンジリデントリフエニルホスホラン
から製造した対応する出発物質を用いることにより、
（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−４−（ｔ
−ブチル）スチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジ
オキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点
１０１°］を得た； ｚ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−フエニルベン
ジルトリフエニルホスホニウムクロライドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−フエニ
ルベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対
応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−４−ビフエニルビニル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点１４８°］を得た； ａａ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−メトキシベ
ンジルトリフエニルホスホニウムクロライドとナトリウ
ム（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−メト
キシベンジリデントリフエニルホスホランから製造した
対応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，
５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｅ／Ｚ）−４−メトキシスチリ
ル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］ノナン−７−オン（Ｅ／Ｚ比＝１：３）
［質量スペクトル：中でもm/e３０２（Ｍ+）及び１６１
にピーク］を得た。
リフルオルメチル）−４−キノリニル−メチリデントリ
フエニルホスホランから生成した対応する出発物質を用
いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−
［（Ｚ）−２−［２，８−ビス（トリフルオルメチル）
−４−キノリニル］ビニル］−４，８−ジメチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点１３７°］を得た； ｋ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び６，８−ジクロル
−２−トリフルオルメチル−４−キノリニル−メチリデ
ントリフエニルホスホランから生成した対応する出発物
質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−
４−［（Ｅ）−２−［６，８−ジクロル−２−（トリフ
ルオルメチル）−４−キノリニル］ビニル］−４，８−
ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノ
ナン−７−オン［融点１９６°］を得た； ｌ）（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２−
［６，８−ジクロル−２−（トリフルオルメチル）−４
−キノリニル］ビニル］−４，８−ジメチル−２，３−
ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融
点１９１°］を得た； ｍ）２，４−ジクロルベンジルトリフエニルホスホニウ
ムブロマイド及びｎ−ブチルリチウムからその場で生成
した２，４−ジクロルベンジリデントリフエニルホスホ
ランを用いることにより、（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）
−４−［（Ｚ）−２，４−ジクロルスチリル］−４，８
−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］
ノナン−７−オン［質量スペクトル（化学的イオン
化）：中でもm/e３５８（Ｍ+＋ＮＨ4）及び１７９］を
得た； ｎ）３，４−ジクロルベンジルトリフエニルホスホニウ
ムクロライド及びナトリウムビス（トリメチルシリル）
アミドからその場で生成した３，４−ジクロルベンジリ
デントリフエニルホスホランを用いることにより、（１
Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−４，８−ジメチル−４−
［（Ｚ）−３，４−ジクロル）スチリル］−２，３−ジ
オキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点
１３５°］を得た； ｏ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び２，４−ジクロル
ベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリ
ウム（トリメチルシリル）アミドとから生成した２，４
−ジクロルベンジリデントリフエニルホスホランから製
造した対応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，
４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，４−ジクロル
スチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシ
クロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１３７°］
を得た； ｐ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び１−ナフチルメチ
レントリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した１−ナフチ
ルメチリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−（１−ナフチル）ビニル］
−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル：中でもm/
e３２２（Ｍ+）及び１５２にピーク］を得た； ｑ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−ブロム−１−
ナフチルメチレントリフエニルホスホニウムブロマイド
とナトリウム（トリメチルシリル）アミドとから生成し
た４−ブロム−１−ナフチルメチリデントリフエニルホ
スホランから製造した対応する出発物質を用いることに
より、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２
−（４−ブロム−１−ナフチル）ビニル］−４，８−ジ
メチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナ
ン−７−オン［融点１６７°］を得た； ｒ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及びベンジルトリフエ
ニルホスホニウムブロマイドとナトリウム（トリメチル
シリル）アミドとから生成したベンジリデントリフエニ
ルホスホランから製造した対応する出発物質を用いるこ
とにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）
−２，４−ジクロルスチリル］−４，８−ジメチル−
２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−
オン［融点６０°］を得た； ｓ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−フルオルベン
ジルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−フルオ
ルベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対
応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−４−フルオルスチリル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点８４°］を得た； ｔ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−クロルベンジ
ルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−クロル
ベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−４−クロルスチリル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点９０°］を得た； ｕ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−メチルベンジ
ルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−メチル
ベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−４−メチルスチリル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点１３７°］を得た； ｖ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−（トリフルオ
ルメチル）ベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイ
ドとナトリウム（トリメチルシリル）アミドとから生成
した４−（トリフルオルメチル）ベンジリデントリフエ
ニルホスホランから製造した対応する出発物質を用いる
ことにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−
［（Ｚ）−４−（トリフルオルメチル）スチリル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［質量スペクトル（化学的イ
オン化）：中でもm/e３５８（Ｍ+＋ＮＨ4）及び３４０
にピーク］を得た； ｗ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び３−（トリフルオ
ルメチル）ベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイ
ドとナトリウム（トリメチルシリル）アミドとから生成
した３−（トリフルオルメチル）ベンジリデントリフエ
ニルホスホランから製造した対応する出発物質を用いる
ことにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−
［（Ｚ）−３−（トリフルオルメチル）スチリル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点１０１°］を得た； ｘ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−シアノベンジ
ルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−シアノ
ベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、４−［（Ｚ）−２−
（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジメチル−７−
オキソ−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナ
ン−４−イル］ビニル］ベンゾニトリル［融点１２５
°］を得た； ｙ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−（ｔ−ブチ
ル）ベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナ
トリウム（トリメチルシリル）アミドとから生成した４
−（ｔ−ブチル）ベンジリデントリフエニルホスホラン
から製造した対応する出発物質を用いることにより、
（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−４−（ｔ
−ブチル）スチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジ
オキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点
１０１°］を得た； ｚ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−フエニルベン
ジルトリフエニルホスホニウムクロライドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−フエニ
ルベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対
応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−４−ビフエニルビニル］−
４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．
３．１］ノナン−７−オン［融点１４８°］を得た； ａａ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び４−メトキシベ
ンジルトリフエニルホスホニウムクロライドとナトリウ
ム（トリメチルシリル）アミドとから生成した４−メト
キシベンジリデントリフエニルホスホランから製造した
対応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，
５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｅ／Ｚ）−４−メトキシスチリ
ル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］ノナン−７−オン（Ｅ／Ｚ比＝１：３）
［質量スペクトル：中でもm/e３０２（Ｍ+）及び１６１
にピーク］を得た。
ｂｂ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び２，４−ジクロ
ルベンジルトリフエニルホスホニウムクロライドとナト
リウム（トリメチルシリル）アミドとから生成した２，
４−ジクロルベンジリデントリフエニルホスホランから
製造した対応する出発物質を用いることにより、（１
Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，４−ジク
ロルスチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペク
トル（化学的イオン化）：中でもm/e３５８（Ｍ+＋ＮＨ
4）及び１７９にピーク］を得た。
ルベンジルトリフエニルホスホニウムクロライドとナト
リウム（トリメチルシリル）アミドとから生成した２，
４−ジクロルベンジリデントリフエニルホスホランから
製造した対応する出発物質を用いることにより、（１
Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，４−ジク
ロルスチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［質量スペク
トル（化学的イオン化）：中でもm/e３５８（Ｍ+＋ＮＨ
4）及び１７９にピーク］を得た。
ｃｃ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び２，４−ビス
（トリフルオルメチル）ベンジルトリフエニルホスホニ
ウムブロマイドとナトリウム（トリメチルシリル）アミ
ドとから生成した２，４−ビス（トリフルオルメチル）
ベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，４−ビス（トリフルオ
ルメチル）スチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジ
オキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点
１２４°］を得た； ｄｄ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び２−クロル−４
−（トリフルオルメチル）ベンジルトリフエニルホスホ
ニウムクロライドとナトリウム（トリメチルシリル）ア
ミドとから生成した２−クロル−４−（トリフルオルメ
チル）ベンジリデントリフエニルホスホランから製造し
た対応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４
Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２−クロル−４−
（トリフルオルメチル）スチリル］−４，８−ジメチル
−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７
−オン［融点１６０°］を得た； ｅｅ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び３，５−ビス
（トリフルオルメチル）ベンジルトリフエニルホスホニ
ウムブロマイドとナトリウム（トリメチルシリル）アミ
ドとから生成した３，５−ビス（トリフルオルメチル）
ベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｅ／Ｚ）−３，５−ビス（トリフ
ルオルメチル）スチリル］−４，８−ジメチル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［質量スペクトル：中でもm/e３８９（Ｍ+−Ｆ）及び２
６７にピーク］を得た； ｆｆ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び２−クロル−４
−シアノベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイド
とナトリウム（トリメチルシリル）アミドとから生成し
た２−クロル−４−シアノベンジリデントリフエニルホ
スホランから製造した対応する出発物質を用いることに
より、３−クロル−４−［（Ｚ）−２−（１Ｓ，４Ｒ，
５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジメチル−７−オキソ−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−４−イル］
ビニル］ベンゾニトリル［融点１５５°］を得た； ｇｇ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及びペンタフルオル
ベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリ
ウム（トリメチルシリル）アミドとから生成したペンタ
フルオルベンジリデントリフエニルホスホランから製造
した対応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４
Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｅ）−２，３，４，５，６
−ペンタフルオルスチリル］−４，８−ジメチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点１２８°］を得た； ｈｈ）２，４−ジクロルベンジルトリフエニルホスホニ
ウムクロライドとナトリウム（トリメチルシリル）アミ
ドとからその場で生成した２，４−ジクロルベンジリデ
ントリフエニルホスホランを用いることにより、（１
Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，４−ジク
ロルスチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１３７
°］を得た； ｉｉ）２，４−ビス（トリフルオルメチル）ベンジルト
リフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム（トリ
メチルシリル）アミドとからその場で生成した２，４−
ビス（トリフルオルメチル）ベンジリデントリフエニル
ホスホランを用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，
８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，４−ビス（トリフルオルメ
チル）スチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキ
サビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１２
４°］を得た； ｊｊ）２−クロル−４−（トリフルオルメチル）ベンジ
ルトリフエニルホスホニウムクロライドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとからその場で生成した２
−クロル−４−（トリフルオルメチル）ベンジリデント
リフエニルホスホランを用いることにより、（１Ｓ，４
Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２−クロル−４−
（トリフルオルメチル）スチリル］−４，８−ジメチル
−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７
−オン［融点１６０°］を得た； ｋｋ）３，５−ジシアノベンジルトリフエニルホスホニ
ウムブロマイドとナトリウム（トリメチルシリル）アミ
ドとからその場で生成した３，５−ジシアノベンジリデ
ントリフエニルホスホランを用いることにより、（１
Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−３，５−ジシ
アノスチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１８５
°］を得た； ｌｌ）ペンタフルオルベンジルトリフエニルホスホニウ
ムブロマイドとナトリウム（トリメチルシリル）アミド
とからその場で生成したペンタフルオルベンジリデント
リフエニルホスホランを用いることにより、（１Ｓ，４
Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，３，４，５，６
−ペンタフルオルスチリル］−４，８−ジメチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点１２８°］を得た； 実施例Ａ 公知の方法に従い、４，８−ジメチル−４−ウンデシル
−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７
−オンは活性基質として次の組成の製薬学的調製剤中に
配合することができた： １．５００mgの錠剤 活性基質 ５００mg ラクトース粉末 １４９mg ポリビニルピロリドン １５mg ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム１mg Ｎａカルボキシメチル殿粉 ３０mg ステアリン酸マグネシウム ５mg ７００mg ２．５０mgの錠剤 活性基質 ５０mg ラクトール粉末 ５０mg 微結晶セルロース ８２mg Ｎａカルボキシメチル殿粉 １５mg ステアリン酸マグネシウム ３mg ２００mg ３．１００mgのカプセル 活性基質 100.0mg ラクトース粉末 104.7mg トウモロコシ殿粉 70.0mg ヒドロキシプロピルメチルセルロース10.0mg ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム 0.3mg タルク 12.0mg ステアリン酸マグネシウム 3.0mg 300.0mg ４．５００mgの坐薬 活性基質 ５００mg 坐薬物質 ２０００mgにする十分量 ５．１００mgの軟質ゼラチンカプセル 活性基質 １００mg トリグリセリド中級鎖 ３００mg ４００mg
（トリフルオルメチル）ベンジルトリフエニルホスホニ
ウムブロマイドとナトリウム（トリメチルシリル）アミ
ドとから生成した２，４−ビス（トリフルオルメチル）
ベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，４−ビス（トリフルオ
ルメチル）スチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジ
オキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点
１２４°］を得た； ｄｄ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び２−クロル−４
−（トリフルオルメチル）ベンジルトリフエニルホスホ
ニウムクロライドとナトリウム（トリメチルシリル）ア
ミドとから生成した２−クロル−４−（トリフルオルメ
チル）ベンジリデントリフエニルホスホランから製造し
た対応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４
Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２−クロル−４−
（トリフルオルメチル）スチリル］−４，８−ジメチル
−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７
−オン［融点１６０°］を得た； ｅｅ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び３，５−ビス
（トリフルオルメチル）ベンジルトリフエニルホスホニ
ウムブロマイドとナトリウム（トリメチルシリル）アミ
ドとから生成した３，５−ビス（トリフルオルメチル）
ベンジリデントリフエニルホスホランから製造した対応
する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｅ／Ｚ）−３，５−ビス（トリフ
ルオルメチル）スチリル］−４，８−ジメチル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［質量スペクトル：中でもm/e３８９（Ｍ+−Ｆ）及び２
６７にピーク］を得た； ｆｆ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及び２−クロル−４
−シアノベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイド
とナトリウム（トリメチルシリル）アミドとから生成し
た２−クロル−４−シアノベンジリデントリフエニルホ
スホランから製造した対応する出発物質を用いることに
より、３−クロル−４−［（Ｚ）−２−（１Ｓ，４Ｒ，
５Ｒ，８Ｓ）−４，８−ジメチル−７−オキソ−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−４−イル］
ビニル］ベンゾニトリル［融点１５５°］を得た； ｇｇ）（５Ｒ）−（−）−カルボン及びペンタフルオル
ベンジルトリフエニルホスホニウムブロマイドとナトリ
ウム（トリメチルシリル）アミドとから生成したペンタ
フルオルベンジリデントリフエニルホスホランから製造
した対応する出発物質を用いることにより、（１Ｓ，４
Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｅ）−２，３，４，５，６
−ペンタフルオルスチリル］−４，８−ジメチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点１２８°］を得た； ｈｈ）２，４−ジクロルベンジルトリフエニルホスホニ
ウムクロライドとナトリウム（トリメチルシリル）アミ
ドとからその場で生成した２，４−ジクロルベンジリデ
ントリフエニルホスホランを用いることにより、（１
Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，４−ジク
ロルスチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１３７
°］を得た； ｉｉ）２，４−ビス（トリフルオルメチル）ベンジルト
リフエニルホスホニウムブロマイドとナトリウム（トリ
メチルシリル）アミドとからその場で生成した２，４−
ビス（トリフルオルメチル）ベンジリデントリフエニル
ホスホランを用いることにより、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，
８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，４−ビス（トリフルオルメ
チル）スチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキ
サビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１２
４°］を得た； ｊｊ）２−クロル−４−（トリフルオルメチル）ベンジ
ルトリフエニルホスホニウムクロライドとナトリウム
（トリメチルシリル）アミドとからその場で生成した２
−クロル−４−（トリフルオルメチル）ベンジリデント
リフエニルホスホランを用いることにより、（１Ｓ，４
Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２−クロル−４−
（トリフルオルメチル）スチリル］−４，８−ジメチル
−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７
−オン［融点１６０°］を得た； ｋｋ）３，５−ジシアノベンジルトリフエニルホスホニ
ウムブロマイドとナトリウム（トリメチルシリル）アミ
ドとからその場で生成した３，５−ジシアノベンジリデ
ントリフエニルホスホランを用いることにより、（１
Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−３，５−ジシ
アノスチリル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサ
ビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン［融点１８５
°］を得た； ｌｌ）ペンタフルオルベンジルトリフエニルホスホニウ
ムブロマイドとナトリウム（トリメチルシリル）アミド
とからその場で生成したペンタフルオルベンジリデント
リフエニルホスホランを用いることにより、（１Ｓ，４
Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−４−［（Ｚ）−２，３，４，５，６
−ペンタフルオルスチリル］−４，８−ジメチル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７−オン
［融点１２８°］を得た； 実施例Ａ 公知の方法に従い、４，８−ジメチル−４−ウンデシル
−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］ノナン−７
−オンは活性基質として次の組成の製薬学的調製剤中に
配合することができた： １．５００mgの錠剤 活性基質 ５００mg ラクトース粉末 １４９mg ポリビニルピロリドン １５mg ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム１mg Ｎａカルボキシメチル殿粉 ３０mg ステアリン酸マグネシウム ５mg ７００mg ２．５０mgの錠剤 活性基質 ５０mg ラクトール粉末 ５０mg 微結晶セルロース ８２mg Ｎａカルボキシメチル殿粉 １５mg ステアリン酸マグネシウム ３mg ２００mg ３．１００mgのカプセル 活性基質 100.0mg ラクトース粉末 104.7mg トウモロコシ殿粉 70.0mg ヒドロキシプロピルメチルセルロース10.0mg ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム 0.3mg タルク 12.0mg ステアリン酸マグネシウム 3.0mg 300.0mg ４．５００mgの坐薬 活性基質 ５００mg 坐薬物質 ２０００mgにする十分量 ５．１００mgの軟質ゼラチンカプセル 活性基質 １００mg トリグリセリド中級鎖 ３００mg ４００mg
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 521/00 8314−4Ｃ
Claims (23)
- 【請求項１】一般式 ［式中、Ｒは炭素数１５までの飽和又は部分的に不飽和
の炭化水素基或いは炭素数７までのアルキル又はアルケ
ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
し、ここで上記基におけるアリール及びヘテロアリール
は未置換であるか又は各々炭素数が最大７のアルキルも
しくはアルコキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、フ
エニル及びシアノから選ばれる５個までの同一もしくは
相異なる置換基で置換されている］ の化合物。 - 【請求項２】（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，８Ｒ）−、（１Ｒ，
４Ｓ，５Ｓ，８Ｒ）−、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，８Ｓ）−
又は（１Ｓ，４Ｓ，５Ｒ，８Ｓ）−異性体の形或いはこ
れらの混合物の形の特許請求の範囲第１項記載の化合
物。 - 【請求項３】Ｒが炭素数８〜１２の飽和炭化水素基を示
す特許請求の範囲第１又は２項記載の化合物。 - 【請求項４】炭化水素基が開鎖状及び直鎖状である特許
請求の範囲第３項記載の化合物。 - 【請求項５】４，８−ジメチル−４−オクチル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］−ノナン−７−オ
ン。 - 【請求項６】４，８−ジメチル−４−ノニル−２，３−
ジオキサビシクロ［３．３．１］−ノナン−７−オン。 - 【請求項７】４−デシル−４，８−ジメチル−２，３−
ジオキサビシクロ［３．３．１］−ノナン−７−オン。 - 【請求項８】４，８−ジメチル−４−ウンデシル−２，
３−ジオキサビシクロ［３．３．１］−ノナン−７−オ
ン。 - 【請求項９】４−ドデシル−４，８−ジメチル−２，３
−ジオキサビシクロ［３．３．１］−ノナン−７−オ
ン。 - 【請求項１０】Ｒが炭素数７までのアルケニル基を介し
て結合したアリール又はヘテロアリール基を示す特許請
求の範囲第１又は２項記載の化合物。 - 【請求項１１】アリール基がハロゲン及び／又はトリフ
ルオルメチルでモノ、ジ又はペンタ置換されたフエニル
基であり、そしてヘテロアリール基がハロゲン及び／又
はトリフルオルメチルでモノ、ジ又はトリ置換されたキ
ノリニル基である特許請求の範囲第１０項記載の化合
物。 - 【請求項１２】４−［（Ｚ）−２−［２，７−ビス（ト
リフルオルメチル−４−キノリニル］ビニル］−４，８
−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ［３．３．１］
−ノナン−７−オン。 - 【請求項１３】４−［（Ｚ）−２，４−ジクロルスチリ
ル］−４，８−ジメチル−２，３−ジオキサビシクロ
［３．３．１］−ノナン−７−オン。 - 【請求項１４】４−［（Ｚ）−２，４−ビス（トリフル
オルメチル）スチリル−４，８−ジメチル−２，３−ジ
オキサビシクロ［３．３．１］−ノナン−７−オン。 - 【請求項１５】４，８−ジメチル−４−［（Ｅ）−２，
３，４，５，６−ペンタフルオルスチリル］−２，３−
ジオキサビシクロ［３．３．１］−ノナン−７−オン。 - 【請求項１６】一般式 ［式中、Ｒは炭素数１５までの飽和又は部分的に不飽和
の炭化水素基或いは炭素数７までのアルキル又はアルケ
ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
し、ここで上記基におけるアリール及びヘテロアリール
は未置換であるか又は各々炭素数が最大７のアルキルも
しくはアルコキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、フ
エニル及びシアノから選ばれる５個までの同一もしくは
相異なる置換基で置換されている］ の化合物。 - 【請求項１７】式 の化合物。
- 【請求項１８】治療学的に活性な物質として用いるため
の特許請求の範囲第１〜１５項記載のいずれか１つの化
合物。 - 【請求項１９】マラリヤの防止又は処置に対する活性物
質として使用するための特許請求の範囲第１〜１５項記
載のいずれか１つの化合物。 - 【請求項２０】一般式 ［式中、Ｒは炭素数１５までの飽和又は部分的に不飽和
の炭化水素基或いは炭素数７までのアルキル又はアルケ
ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
し、ここで上記基におけるアリール及びヘテロアリール
は未置換であるか又は各々炭素数が最大７のアルキルも
しくはアルコキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、フ
エニル及びシアノから選ばれる５個までの同一もしくは
相異なる置換基で置換されている］ の化合物を、塩基の又は酸の存在下に環化させることを
特徴とする一般式 ［式中、Ｒは上述の意味を有する］ の化合物の製造方法。 - 【請求項２１】式 の化合物を、一般式 φ3Ｐ＝ＣＨ−Ｒ′ IV ［式中、φはフエニルを示し、そしてＲ′は水素、炭素
数１３までの飽和又は部分的に不飽和の炭化水素基、或
いは炭素数５までのアルキル又はアルケニル基を介して
結合するアリール、ヘテロアリール、アリールカルボニ
ル又はヘテロアリールカルボニル基を示し、ここで上記
基におけるアリール及びヘテロアリールは未置換である
か又は各々炭素数が最大７のアルキルもしくはアルコキ
シ、ハロゲン、トリフルオロメチル、フエニル及びシア
ノから選ばれる５個までの同一もしくは相異なる置換基
で置換されている］ のホスホランと反応させることを特徴とする一般式 ［式中、Ｒは炭素数１５までの飽和又は部分的に不飽和
の炭化水素基或いは炭素数７までのアルキル又はアルケ
ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
し、ここで上記基におけるアリール及びヘテロアリール
は未置換であるか又は各々炭素数が最大７のアルキルも
しくはアルコキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、フ
エニル及びシアノから選ばれる５個までの同一もしくは
相異なる置換基で置換されている］ の化合物の製造方法。 - 【請求項２２】一般式 ［式中、Ｒ′は水素、炭素数１３までの飽和又は部分的
に不飽和の炭化水素基、或いは炭素数５までのアルキル
又はアルケニル基を介して結合するアリール、ヘテロア
リール、アリールカルボニル又はヘテロアリールカルボ
ニル基を示し、ここで上記基におけるアリール及びヘテ
ロアリールは未置換であるか又は各々炭素数が最大７の
アルキルもしくはアルコキシ、ハロゲン、トリフルオロ
メチル、フエニル及びシアノから選ばれる５個までの同
一もしくは相異なる置換基で置換されている］ の化合物の二重結合を還元することを特徴とする一般式 ［式中、Ｒは炭素数１５までの飽和又は部分的に不飽和
の炭化水素基或いは炭素数７までのアルキル又はアルケ
ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
し、ここで上記基におけるアリール及びヘテロアリール
は未置換であるか又は各々炭素数が最大７のアルキルも
しくはアルコキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、フ
エニル及びシアノから選ばれる５個までの同一もしくは
相異なる置換基で置換されている］ の化合物の製造方法。 - 【請求項２３】一般式 ［式中、Ｒは炭素数１５までの飽和又は部分的に不飽和
の炭化水素基或いは炭素数７までのアルキル又はアルケ
ニル基を介して結合したアリール、ヘテロアリール、ア
リールカルボニル又はヘテロアリールカルボニル基を示
し、ここで上記基におけるアリール及びヘテロアリール
は未置換であるか又は各々炭素数が最大７のアルキルも
しくはアルコキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、フ
エニル及びシアノから選ばれる５個までの同一もしくは
相異なる置換基で置換されている］ の化合物を有効成分として含有することを特徴とするマ
ラリヤの予防又は処置のための薬剤。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH4032/87-0 | 1987-10-15 | ||
| CH403287 | 1987-10-15 | ||
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Publications (2)
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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