JPH01132544A - 4−ビフェニル酢酸の製造法 - Google Patents
4−ビフェニル酢酸の製造法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- QRZAKQDHEVVFRX-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4-ylacetic acid Chemical compound C1=CC(CC(=O)O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 QRZAKQDHEVVFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 27
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 30
- ISDBWOPVZKNQDW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzaldehyde Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 ISDBWOPVZKNQDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- AXCHZLOJGKSWLV-UHFFFAOYSA-N (4-phenylphenyl)methanol Chemical compound C1=CC(CO)=CC=C1C1=CC=CC=C1 AXCHZLOJGKSWLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 150000002497 iodine compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- -1 bromine compound Chemical class 0.000 claims description 8
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229960000192 felbinac Drugs 0.000 claims description 2
- YWPABLWXCWUIIT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylphenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 YWPABLWXCWUIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 20
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 230000000202 analgesic effect Effects 0.000 abstract description 5
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 abstract description 5
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 abstract description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000730 antalgic agent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002260 anti-inflammatory agent Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001741 anti-phlogistic effect Effects 0.000 abstract 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- ZZLCFHIKESPLTH-UHFFFAOYSA-N 4-Methylbiphenyl Chemical group C1=CC(C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZZLCFHIKESPLTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010813 internal standard method Methods 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N phenylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N [Cr].[Co] Chemical compound [Cr].[Co] WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000003110 anti-inflammatory effect Effects 0.000 description 2
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N chembl1408157 Chemical compound N=1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)=CC=1C1=CC=C(O)C=C1 KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- VEUUMBGHMNQHGO-UHFFFAOYSA-N ethyl chloroacetate Chemical compound CCOC(=O)CCl VEUUMBGHMNQHGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- CGIGDMFJXJATDK-UHFFFAOYSA-N indomethacin Chemical compound CC1=C(CC(O)=O)C2=CC(OC)=CC=C2N1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 CGIGDMFJXJATDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BFSQJYRFLQUZKX-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) iodide Chemical compound I[Ni]I BFSQJYRFLQUZKX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229960003424 phenylacetic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000003279 phenylacetic acid Substances 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- QGJDVSWMEVFRCW-UHFFFAOYSA-N 3-(4-phenylphenyl)propanal Chemical compound C1=CC(CCC=O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 QGJDVSWMEVFRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017813 Cu—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYSNMMBYIQXAGN-UHFFFAOYSA-N [Co+2].[Cu+2].[O-][Cr]([O-])=O.[O-][Cr]([O-])=O Chemical compound [Co+2].[Cu+2].[O-][Cr]([O-])=O.[O-][Cr]([O-])=O KYSNMMBYIQXAGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 1
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001243 acetic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940121363 anti-inflammatory agent Drugs 0.000 description 1
- 238000005899 aromatization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000796 flavoring agent Substances 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229960000905 indomethacin Drugs 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N iodoethane Chemical compound CCI HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 description 1
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UQPSGBZICXWIAG-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);dibromide;trihydrate Chemical compound O.O.O.Br[Ni]Br UQPSGBZICXWIAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N oxorhenium Chemical compound [Re]=O DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N oxorhodium Chemical compound [Rh]=O SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXLOVSHXALFLKQ-UHFFFAOYSA-N p-tolualdehyde Chemical compound CC1=CC=C(C=O)C=C1 FXLOVSHXALFLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229910003449 rhenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910003450 rhodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RXMRGBVLCSYIBO-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)C RXMRGBVLCSYIBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZTXFOCMYRCGSMU-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C[P+](C)(C)C ZTXFOCMYRCGSMU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TVVPMLFGPYQGTG-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;iodide Chemical compound [I-].C[P+](C)(C)C TVVPMLFGPYQGTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IFXORIIYQORRMJ-UHFFFAOYSA-N tribenzylphosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CP(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 IFXORIIYQORRMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は4−ビフェニルアルデヒドより4−ビフェニル
酢酸を製造する方法に関する。
酢酸を製造する方法に関する。
4−ビフェニル酢酸は、インドメタシンとほぼ同等の優
れた鎮痛消炎作用を有し、鎮痛消炎剤として用いられる
。また経皮吸収性に優れ且つ鎮痛消炎作用を持つヘキシ
ルエステル及び2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エ
チルエステル〔ジエチレングリコールモノエステル]等
の原料として有用である。
れた鎮痛消炎作用を有し、鎮痛消炎剤として用いられる
。また経皮吸収性に優れ且つ鎮痛消炎作用を持つヘキシ
ルエステル及び2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エ
チルエステル〔ジエチレングリコールモノエステル]等
の原料として有用である。
(従来の技術)
従来4−ビフェニル酢酸の製造法としては下記の方法が
知られている。
知られている。
(1)ビフェニルを原料とし、無水酢酸と塩化アルミニ
ウムによるフリーデルクラフッ反応により4−ビフェニ
ルアセチルとした後、ウイルゲロット反応により4−ビ
フェニル酢酸を製造する方法。
ウムによるフリーデルクラフッ反応により4−ビフェニ
ルアセチルとした後、ウイルゲロット反応により4−ビ
フェニル酢酸を製造する方法。
(2)4−ビフェニルアルデヒドを原料とし、これを還
元・クロル化・ニトリル化・加水分解の各工程に付し4
−ビフェニル酢酸を製造する方法。
元・クロル化・ニトリル化・加水分解の各工程に付し4
−ビフェニル酢酸を製造する方法。
(3)4−ビフェニルアルデヒドをクロル酢酸エチルと
反応させ、アルカリ処理・塩酸処理をして4−ビフェニ
ルプロピオンアルデヒドとした後、酸化して4−ビフェ
ニル酢酸を製造する方法。
反応させ、アルカリ処理・塩酸処理をして4−ビフェニ
ルプロピオンアルデヒドとした後、酸化して4−ビフェ
ニル酢酸を製造する方法。
また芳香族アルデヒドから芳香族酢酸を製造する方法と
して次の例がある。
して次の例がある。
(4)酸化ロジウムとヨウ素からなる触媒の存在下に一
酸化炭素と水素の混合ガスを用い、ベンズアルデヒドか
らフェニル酢酸とする方法(特開昭52−136133
号)。
酸化炭素と水素の混合ガスを用い、ベンズアルデヒドか
らフェニル酢酸とする方法(特開昭52−136133
号)。
(5)周期律表第■族貴金属化合物、臭素、ヨウ素ある
いはこれらのハロゲン化合物、および銅または銀化合物
からなる三元系触媒の存在下に、一酸化炭素及び水を用
い、芳香族アルデヒドを芳香族酢酸とする方法(特開昭
53〜56633号)。
いはこれらのハロゲン化合物、および銅または銀化合物
からなる三元系触媒の存在下に、一酸化炭素及び水を用
い、芳香族アルデヒドを芳香族酢酸とする方法(特開昭
53〜56633号)。
(6)p−トルアルデヒドをロジウムもしくはロジウム
化合物及びヨウ化水素からなる触媒の存在下に一酸化炭
素及び水と反応させ、ρ−メチルフェニル酢酸とする方
法(特開昭56−75444号)。
化合物及びヨウ化水素からなる触媒の存在下に一酸化炭
素及び水と反応させ、ρ−メチルフェニル酢酸とする方
法(特開昭56−75444号)。
(発明が解決しようとする問題点)
前述の従来技術においては次のような問題点がある。
(1)の方法では、製造に必要な各ステップの処理操作
に長時間を要し、またイオウ化合物を中間体として経由
するために異臭の発生とともに副生成物が多量に生成す
るので、目的とする4−ビフェニル酢酸を純度良く製造
するには繁雑な精製操作が必要であり、しかも最終的な
収率も低い。
に長時間を要し、またイオウ化合物を中間体として経由
するために異臭の発生とともに副生成物が多量に生成す
るので、目的とする4−ビフェニル酢酸を純度良く製造
するには繁雑な精製操作が必要であり、しかも最終的な
収率も低い。
(2)の方法では、工程数が多いために収率の低下を招
き、しかも猛毒であるシアン化ナトリウムを使用するこ
とも加えて工業的な製造法には不適当である。
き、しかも猛毒であるシアン化ナトリウムを使用するこ
とも加えて工業的な製造法には不適当である。
(3)の方法では、反応条件がそれほど苛酷でないため
に処理操作が容易であるが、工程が長く、4−ビフェニ
ルアルデヒドとクロル酢酸エチルとの縮合反応における
収率それほど良くなく、加えて副生成物の生成が多くみ
られ、繁雑な精製工程が必要である。
に処理操作が容易であるが、工程が長く、4−ビフェニ
ルアルデヒドとクロル酢酸エチルとの縮合反応における
収率それほど良くなく、加えて副生成物の生成が多くみ
られ、繁雑な精製工程が必要である。
(4)の方法は、高沸点生成物が副生じフェニル酢酸の
収率が低い。
収率が低い。
(5)の方法は、生成物や触媒の取扱が極めて煩雑であ
る。
る。
(6)の方法により4−ビフェニルアルデヒドを原料と
して4−ビフェニル酢酸を製造する方法は、上記のよう
な問題点がないので有利であるが、この方法では、触媒
量が多ければ副反応生成物の4−メチルビフェニルが生
成するため選択率が低下し、また触媒量が少なければ、
4−ビフェニルアルデヒドの反応率が低下するために、
収率を上げられないことが問題点としてあげられる。
して4−ビフェニル酢酸を製造する方法は、上記のよう
な問題点がないので有利であるが、この方法では、触媒
量が多ければ副反応生成物の4−メチルビフェニルが生
成するため選択率が低下し、また触媒量が少なければ、
4−ビフェニルアルデヒドの反応率が低下するために、
収率を上げられないことが問題点としてあげられる。
また(4)−(6)の方法では、ロジウム等の高価な貴
金属を触媒として使用するため、触媒コストがかさむこ
とがプロセスにとって致命的である。
金属を触媒として使用するため、触媒コストがかさむこ
とがプロセスにとって致命的である。
(問題点を解決するための手段)
発明者等は以上のごとき問題点を有する4−ビフェニル
酢酸の製造に関し鋭意検討した結果、4−ビフェニルア
ルデヒドを水素添加し、得られた4−ビフェニルメタノ
ールをニッケル化合物、ホスフィン、ヨウ素化合物ある
いは臭素化合物から構成される触媒存在下で一酸化炭素
と反応させることにより、高価な貴金属類を用いなくて
も収串良<4−ビフェニル酢酸を製造できることを見出
し、本発明に至った。
酢酸の製造に関し鋭意検討した結果、4−ビフェニルア
ルデヒドを水素添加し、得られた4−ビフェニルメタノ
ールをニッケル化合物、ホスフィン、ヨウ素化合物ある
いは臭素化合物から構成される触媒存在下で一酸化炭素
と反応させることにより、高価な貴金属類を用いなくて
も収串良<4−ビフェニル酢酸を製造できることを見出
し、本発明に至った。
即ち本発明は4−ビフェニルアルデヒドを水素添加し、
得られた4−ビフェニルメタノールをニッケル化合物、
ホスフィン、ヨウ素化合物あるいは臭素化合物から構成
される触媒の存在下、一酸化炭素と反応させることを特
徴とする4−ビフェニル酢酸の製造法である。
得られた4−ビフェニルメタノールをニッケル化合物、
ホスフィン、ヨウ素化合物あるいは臭素化合物から構成
される触媒の存在下、一酸化炭素と反応させることを特
徴とする4−ビフェニル酢酸の製造法である。
本発明における原料の4−ビフェニルアルデヒドは、公
知の方法により強酸触媒下でビフェニルと一酸化炭素か
ら容易に製造される。
知の方法により強酸触媒下でビフェニルと一酸化炭素か
ら容易に製造される。
4−ビフェニルアルデヒドから上記触媒系を用いて一酸
化炭素、水素と反応させることにより、−段で4−ビフ
ェニル酢酸を合成できるが、4−メチルビフェニルの生
成速度が速いために4−ビフェニル酢酸の収率はかなり
低い。
化炭素、水素と反応させることにより、−段で4−ビフ
ェニル酢酸を合成できるが、4−メチルビフェニルの生
成速度が速いために4−ビフェニル酢酸の収率はかなり
低い。
なお、他の周期律表第■属卑金属であるコバルト・鉄化
合物触媒系では4−ビフェニル酢酸はほとんど合成でき
ない。
合物触媒系では4−ビフェニル酢酸はほとんど合成でき
ない。
まず4−ビフェニルアルデヒドを水素添加して4−ビフ
ェニルメタノールを合成する反応の反応条件について以
下に述べる。
ェニルメタノールを合成する反応の反応条件について以
下に述べる。
水素添加反応は、Pt、 Rh+ Ru、 Pd、 R
e、 Ni、 Co+ Cu−Cr等の触媒を用いて通
常行なわれる。実際の触媒としては、酸化白金、ロジウ
ム/カーボン、ルテニウム/カーボン、ルテニウム/ア
ルミナ、パラジウム/カーボン、パラジウム/アルミナ
、酸化レニウム、ラネーニッケル、ニッケル/ケイソウ
土、ラネーコバルト銅クロマイトなどが用いられる。貴
金属触媒を用いても水素添加は行なえるが、Nl +
Co、 Cu等の卑金属触媒で充分である。また触媒は
不均一触媒だけでなく、均一触媒でも良い。
e、 Ni、 Co+ Cu−Cr等の触媒を用いて通
常行なわれる。実際の触媒としては、酸化白金、ロジウ
ム/カーボン、ルテニウム/カーボン、ルテニウム/ア
ルミナ、パラジウム/カーボン、パラジウム/アルミナ
、酸化レニウム、ラネーニッケル、ニッケル/ケイソウ
土、ラネーコバルト銅クロマイトなどが用いられる。貴
金属触媒を用いても水素添加は行なえるが、Nl +
Co、 Cu等の卑金属触媒で充分である。また触媒は
不均一触媒だけでなく、均一触媒でも良い。
触媒の使用量は4−ビフェニルアルデヒドに対する重量
比で1〜50χであり、好ましくは5〜20χである。
比で1〜50χであり、好ましくは5〜20χである。
触媒量を50χより多く用いても差し支えないが、反応
速度の上昇が無くなるので経済的で無く、1zより少な
いと反応速度が低い。
速度の上昇が無くなるので経済的で無く、1zより少な
いと反応速度が低い。
反応温度は10〜300°Cであり、好ましくは30〜
150°Cである。温度が低過ぎると反応が進行せず、
高過ぎると4−メチルビフェニル等の副生成物が増加す
る。
150°Cである。温度が低過ぎると反応が進行せず、
高過ぎると4−メチルビフェニル等の副生成物が増加す
る。
圧力は1〜50()Kg/cm” 、好ましくは5〜2
00Kg/cm2の水素分圧下で行なう。500Kg/
cm”よりも高い場合は実用的で無く、また1Kg/c
m2より低い場合は反応速度が遅い。なお水素添加反応
に用いる水素には、窒素、メタン等の不活性ガスが混合
されていてもかまわない。
00Kg/cm2の水素分圧下で行なう。500Kg/
cm”よりも高い場合は実用的で無く、また1Kg/c
m2より低い場合は反応速度が遅い。なお水素添加反応
に用いる水素には、窒素、メタン等の不活性ガスが混合
されていてもかまわない。
反応時間は、触媒量、温度及び圧力によるが、通常は0
.3〜20時間であり、好ましくは0.3〜5時間であ
る。
.3〜20時間であり、好ましくは0.3〜5時間であ
る。
この反応は溶媒を用いずに行なうこともできるが、反応
を円滑に実施するためにには適切な溶媒を使用すること
が好ましい。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、ヘキ
サン、オクタンなどの炭化水素類、ジエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢
酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、メタノール、
エタノール、プロパツールなどのアルコール類、酢酸、
酪酸などの有機酸類及び水などが用いられる。
を円滑に実施するためにには適切な溶媒を使用すること
が好ましい。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、ヘキ
サン、オクタンなどの炭化水素類、ジエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢
酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、メタノール、
エタノール、プロパツールなどのアルコール類、酢酸、
酪酸などの有機酸類及び水などが用いられる。
溶媒の使用量は、4−ビフェニルアルデヒド1g当たり
Loom 1未満である。Loom 1以上であると反
応器も大きくなるので経済的で無い。
Loom 1未満である。Loom 1以上であると反
応器も大きくなるので経済的で無い。
次に4−ビフェニルメタノールから4−ビフェニル酢酸
を合成する反応の条件について述べる。
を合成する反応の条件について述べる。
触媒のニッケル化合物には、反応に際してカルボニル化
合物を形成する化合物が用いられ、例えばニッケル金属
、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、硫酸
ニッケル、酢酸ニッケル、酸化ニッケル、ニラケロセン
、ジカルボニルビストリフェニルホスフィンニッケルな
どである。
合物を形成する化合物が用いられ、例えばニッケル金属
、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、硫酸
ニッケル、酢酸ニッケル、酸化ニッケル、ニラケロセン
、ジカルボニルビストリフェニルホスフィンニッケルな
どである。
また触媒に用いられるホスフィンには、トリフェニルホ
スフィン、トリエチルホスフィン、トリーn−ブチルホ
スフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリベンジ
ルホスフィン、ビス−1,4−ジフェニルホスフィノブ
タン等がある。
スフィン、トリエチルホスフィン、トリーn−ブチルホ
スフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリベンジ
ルホスフィン、ビス−1,4−ジフェニルホスフィノブ
タン等がある。
ヨウ素化合物としては、ヨウ素、ヨウ化水素、ヨウ化ナ
トリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化メチル、ヨウ化エチ
ル、ヨウ化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラメ
チルホスホニウム等が用いられる。
トリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化メチル、ヨウ化エチ
ル、ヨウ化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラメ
チルホスホニウム等が用いられる。
臭素化合物としては、臭素、臭化水素、臭化ナトリウム
、臭化カリウム、臭化メチル、臭化エチル、臭化テトラ
メチルアンモニウム、臭化テトラメチルホスホニウム等
が用いられる。
、臭化カリウム、臭化メチル、臭化エチル、臭化テトラ
メチルアンモニウム、臭化テトラメチルホスホニウム等
が用いられる。
触媒のニッケル化合物の使用量は、4−ビフェニルメタ
ノールに対するモル比で10−5〜1、好ましくは10
−3〜10−1である。1より多くても差し支えないが
経済的で無く、10−5よりも少ない場合は反応速度が
低い。
ノールに対するモル比で10−5〜1、好ましくは10
−3〜10−1である。1より多くても差し支えないが
経済的で無く、10−5よりも少ない場合は反応速度が
低い。
ホスフィンの使用量は、ニッケル化合物に対するモル比
で0.1〜10、好ましくは1〜5である。
で0.1〜10、好ましくは1〜5である。
10より多い場合は経済的で無<、0.1より少ないと
4−ビフェニル酢酸の収率および選択率が低下する。
4−ビフェニル酢酸の収率および選択率が低下する。
ヨウ素化合物及び臭素化合物の使用量はニッケル化合物
に対するモル比で0.1〜100、好ましくは1〜20
である。100より多くても差し支えないが経済的で無
<、0.1よりも少ない場合は反応速度が低下する。
に対するモル比で0.1〜100、好ましくは1〜20
である。100より多くても差し支えないが経済的で無
<、0.1よりも少ない場合は反応速度が低下する。
反応は溶媒が無くても良いが、通常溶媒中で行なう。溶
媒としては、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、オクタン
などの炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸
エチルなどのエステル類、酢酸、酪酸などの有機酸類な
どが用いられる。溶媒の使用量は、4−ビフェニルメタ
ノール1g当たりLoom 1未満である。
媒としては、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、オクタン
などの炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸
エチルなどのエステル類、酢酸、酪酸などの有機酸類な
どが用いられる。溶媒の使用量は、4−ビフェニルメタ
ノール1g当たりLoom 1未満である。
4−ビフェニル酢酸合成反応の温度は、50〜300℃
、好ましくは150〜250°Cである。温度が低過ぎ
ると反応が進行せず、高過ぎると副生成物が増加する。
、好ましくは150〜250°Cである。温度が低過ぎ
ると反応が進行せず、高過ぎると副生成物が増加する。
反応圧力は、5〜500Kg/c111!、好ましくは
10〜200Kg/cm”の一酸化炭素分圧下で行なう
、 500Kg/cm”より高い一酸化炭素分圧は実用
的でなく、5Kg/cm”より低い一酸化炭素分圧では
4−ビフェニル酢酸の収率が低い、なお一酸化炭素には
窒素、メタンなどの不活性ガスが混合されていてもかま
わない。
10〜200Kg/cm”の一酸化炭素分圧下で行なう
、 500Kg/cm”より高い一酸化炭素分圧は実用
的でなく、5Kg/cm”より低い一酸化炭素分圧では
4−ビフェニル酢酸の収率が低い、なお一酸化炭素には
窒素、メタンなどの不活性ガスが混合されていてもかま
わない。
反応時間は触媒量、温度及び圧力によるが、通常は0.
3〜20時間であり、好ましくは0.3〜5時間である
。
3〜20時間であり、好ましくは0.3〜5時間である
。
本反応は、回分式、連続式のいずれの方法でも実施でき
る。
る。
生成した4−ビフェニル酢酸は、反応混合物からアルカ
リ抽出・ベンゼン再結晶することにより、99.9%以
上の純度に容易に分離精製される。
リ抽出・ベンゼン再結晶することにより、99.9%以
上の純度に容易に分離精製される。
またこれにより分離された触媒は、そのまま再使用する
ことができる。
ことができる。
(発明の効果)
本発明の方法によれば、猛毒であるシアン化ナトリウム
等を使用することが無く、またロジウム等の高価な貴金
属を特に用いる必要も無しに、高収率に4−ビフェニル
酢酸が得られる。
等を使用することが無く、またロジウム等の高価な貴金
属を特に用いる必要も無しに、高収率に4−ビフェニル
酢酸が得られる。
また本発明においては、反応生成物からの4−ビフェニ
ル酢酸の分離、精製が容易であり、分離された触媒をそ
のまま使用することができる。
ル酢酸の分離、精製が容易であり、分離された触媒をそ
のまま使用することができる。
以上の点より本発明は、工業的に非常に有利な4−ビフ
ェニル酢酸の製造法である。
ェニル酢酸の製造法である。
(実施例)
次に実施例により本発明を具体的に説明する。
しかし本発明はこれらの実施例により限定されるもので
はない。
はない。
実施例において生成物の同定及び定量は’HNMRおよ
び液体クロマトグラフィーにより行なった。
び液体クロマトグラフィーにより行なった。
各成分の選択率は次式により算出した。
スm
内容積100m lのハステロイC製振盪式オートクレ
ーブに4−ビフェニルアルデヒド2.0g 、 5χR
u−カーボン0.2g 、エタノール8g 、水2gを
仕込み、水素を5Kg/cm!となるように圧入して6
0°Cで2時間反応させた0反応後オートクレーブを冷
却し、残留ガスをパージして液体クロマトグラフィーに
より内部標準法で分析した。
ーブに4−ビフェニルアルデヒド2.0g 、 5χR
u−カーボン0.2g 、エタノール8g 、水2gを
仕込み、水素を5Kg/cm!となるように圧入して6
0°Cで2時間反応させた0反応後オートクレーブを冷
却し、残留ガスをパージして液体クロマトグラフィーに
より内部標準法で分析した。
この結果、4−ビフェニルアルデヒドの反応率は98.
8χであり、4−ビフェニルメタノールの選択率は99
.4χであった。
8χであり、4−ビフェニルメタノールの選択率は99
.4χであった。
次にベンゼンからの再結晶により、4−ビフェニルメタ
ノールを分離、精製した。
ノールを分離、精製した。
上記オートクレーブに、この4−ビフェニルメタノール
2.0g 、ジカルボニルビストリフェニルホスフィン
ニッケル0.35g、ヨウ化メチル0.77g。
2.0g 、ジカルボニルビストリフェニルホスフィン
ニッケル0.35g、ヨウ化メチル0.77g。
溶媒ベンゼン10gを仕込み、一酸化炭素を分圧が50
Kg/cm”となるように圧入して200℃で2時間反
応させた0反応後オートクレーブを冷却し、残留ガスを
パージして液体クロマトグラフィーにより内部標準法で
分析した。 その結果、4−ビフェニルメタノールの反
応率は99.8χであり、4−ビフェニル酢酸の選択率
は91.5χであった。
Kg/cm”となるように圧入して200℃で2時間反
応させた0反応後オートクレーブを冷却し、残留ガスを
パージして液体クロマトグラフィーにより内部標準法で
分析した。 その結果、4−ビフェニルメタノールの反
応率は99.8χであり、4−ビフェニル酢酸の選択率
は91.5χであった。
叉隻五l
内容積100mm!のハステロイC製振盪式オートクレ
ーブに実施例1と同様に分離、精製した4−ビフェニル
メタノール2.0g 、ヨウ化ニッケル0.23g、ト
リフェニルホスフィン0.29g、ヨウ化メチル0.6
2g、溶媒ベンゼン10gを仕込み、一酸化炭素を分圧
が50Kg/cm!となるように圧入して、200°C
で2時間反応させた。反応後オートクレーブを冷却し、
残留ガスをパージして液体クロマトグラフィーにより内
部標準法で分析した。
ーブに実施例1と同様に分離、精製した4−ビフェニル
メタノール2.0g 、ヨウ化ニッケル0.23g、ト
リフェニルホスフィン0.29g、ヨウ化メチル0.6
2g、溶媒ベンゼン10gを仕込み、一酸化炭素を分圧
が50Kg/cm!となるように圧入して、200°C
で2時間反応させた。反応後オートクレーブを冷却し、
残留ガスをパージして液体クロマトグラフィーにより内
部標準法で分析した。
その結果、4−ビフェニルメタノールの反応率は99.
7χであり、4−ビフェニル酢酸の選択率は90゜8χ
であった。
7χであり、4−ビフェニル酢酸の選択率は90゜8χ
であった。
スWし二i
ホスフィンとして実施例2のトリフェニルホスフィンの
代わりに、トリーn−ブチルホスフィン、トリシクロヘ
キシルホスフィン、ビス1,4−ジフエニルホスフィノ
ブタンを使用した以外は実施例2と全く同様の操作を行
なった。結果を第1表に示す。
代わりに、トリーn−ブチルホスフィン、トリシクロヘ
キシルホスフィン、ビス1,4−ジフエニルホスフィノ
ブタンを使用した以外は実施例2と全く同様の操作を行
なった。結果を第1表に示す。
第1表
注) (n−Bu)3P; トリーn−ブチルホスフ
ィン(c−flex)3P; トリシクロへキシルホ
スフィンBdppb; ビス1.4−ジフェニルホスフ
ィノブタン2旌桝旦二工 実施例2の仕込み一酸化炭素分圧50にg/cm”を、
20にg/cmzおよび200Kg/cm”とした他は
、実施例3と全く同様の操作を行なった。その結果を第
2表に示す。
ィン(c−flex)3P; トリシクロへキシルホ
スフィンBdppb; ビス1.4−ジフェニルホスフ
ィノブタン2旌桝旦二工 実施例2の仕込み一酸化炭素分圧50にg/cm”を、
20にg/cmzおよび200Kg/cm”とした他は
、実施例3と全く同様の操作を行なった。その結果を第
2表に示す。
第2表
内容積100m lのハステロイC製振盪式オートクレ
ーブに、4−ビフェニルアルデヒド2.0g、ジカルボ
ニルビストリフェニルホスフィンニッケル0.347g
、ヨウ化メチル0.77g、溶媒ベンゼン10gを仕込
み、一酸化炭素50Kg/cm”、水素10Kg/cm
2の分圧となるようにガスを圧入し、水素添加と4−ビ
フェニル酢酸の合成を一段で、230°Cにおいて2時
間反応させた。反応後オートクレーブを冷却し、残留ガ
スをパージして液体クロマトグラフィーにより内部標準
法で分析した。
ーブに、4−ビフェニルアルデヒド2.0g、ジカルボ
ニルビストリフェニルホスフィンニッケル0.347g
、ヨウ化メチル0.77g、溶媒ベンゼン10gを仕込
み、一酸化炭素50Kg/cm”、水素10Kg/cm
2の分圧となるようにガスを圧入し、水素添加と4−ビ
フェニル酢酸の合成を一段で、230°Cにおいて2時
間反応させた。反応後オートクレーブを冷却し、残留ガ
スをパージして液体クロマトグラフィーにより内部標準
法で分析した。
その結果、4−ビフェニルアルデヒド反応率68゜5χ
において、4−ビフェニル酢酸選択率9.1χ、4−メ
チルビフェニル選択率87.2χであった。
において、4−ビフェニル酢酸選択率9.1χ、4−メ
チルビフェニル選択率87.2χであった。
Claims (1)
- 4−ビフェニルアルデヒドを水素添加し、得られた4−
ビフェニルメタノールをニッケル化合物、ホスフィン、
ヨウ素化合物あるいは臭素化合物から構成される触媒の
存在下、一酸化炭素と反応させることを特徴とする4−
ビフェニル酢酸の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62289558A JP2508155B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 4−ビフェニル酢酸の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62289558A JP2508155B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 4−ビフェニル酢酸の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01132544A true JPH01132544A (ja) | 1989-05-25 |
JP2508155B2 JP2508155B2 (ja) | 1996-06-19 |
Family
ID=17744790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62289558A Expired - Fee Related JP2508155B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 4−ビフェニル酢酸の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2508155B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100730766B1 (ko) * | 2001-12-06 | 2007-06-22 | 코오롱생명과학 주식회사 | 비페닐아세트산의 신규 제조방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100641825B1 (ko) | 2003-11-05 | 2006-11-02 | 주식회사 코오롱 | 4-바이페닐아세트산의 제조 방법 |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP62289558A patent/JP2508155B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100730766B1 (ko) * | 2001-12-06 | 2007-06-22 | 코오롱생명과학 주식회사 | 비페닐아세트산의 신규 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2508155B2 (ja) | 1996-06-19 |
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