JPH01131501A - 広帯域反射防止膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、可視域ないし近赤外域、特に４０００Ｉ１１
ないし９００ｎｎの広帯域の波長領域の光に対して高効
率な反射防止作用を有する反射防止膜に関するものであ
る。

（従来の技術） 従来、３層の可視域反射防止膜として、米国特許第３，
１８５．０２０号に示されるようなＮ５ｕｂ／Ｎ＋　（
λ０／４）−ＮＺ（λｏ／２）　−Ｎｌ　（λ０／４）
／ＮＯの３群からなる基本タイプが知られている。ここ
で、Ｎ、は中間屈折率物質（１，６〜１．８５程度）で
あり、Ｎ２は高屈折率物質（１，９〜２．３程度）であ
り、Ｎ、は低屈折率物質（１，２〜１．４程度）である
。

この３層反射防止膜の応用としては、 （ｔ）Ｎ、（λ。／４）を、２層又は３層の等価膜に置
換したタイプ、 （２１Ｎｌ（λ。／４）を、Ｎ１′（λ。／４）　−Ｎ
２　’　（λ。／４）またはＮ１＃（λ。／４）　　Ｈ
ｚ　’　（λ。／４）　−８３’　（λ。／４）の２群
又は３群に置き換えたタイプ、 （３）　　（２）のタイプを、さらに等価膜に置換した
タイプ、 ’（４１Ｎ、（λ。／４）を、Ｎｌ（３λ。／４）又は
Ｎｌ　’　（λ。／２）・Ｎ２′（λ。／４）等に置き
換えられたタイプ、（５１Ｎ２（λ。／２）を、Ｎ２′
（λ。／２）　−ｓｇ　’　（λ。／２）−ｈｔ−Ｃλ
。／２）に置き換えたタイプ、（６）ＮＺ（λ。／２）
を、Ｎ２′（λ。／、ｉ）　−ＮＺ　’　（λ。／４）
に置き換えたタイプ 等の各タイプ又はこれらの複合タイプが知られている。

これらは、いずれも可視域反射防止効率の向上及び広帯
域化を目的とした上記３層反射防止膜の改良型と考えら
れる。

（発明が解決しようとする問題点） 最近の光学器械は、オートフォーカス、アライメント等
の多機能化、あるいはコンパクト化のため、同一の光学
系で可視光とＬＥＤ、ＬＤ等から発せられる近赤外光を
用いる要求が強まってきている。従って、可視域（４０
０ないし７００ｎｍ程度）のみの反射防止だけでなく、
可視域及び近赤外域（４００ないし９００ｎｍ程度）に
かけての反射防止が要望されている。

しかし、従来のＭｇＦ、単層反射防止膜では反射防止効
率が低く、これを使用した光学器械ではゴースト、フレ
アーによる悪影響が生じたり、光量不足により性能の低
下が生じるという欠点があった。

一方、従来の多層反射防止膜では可視域の反射防止効率
は充分に得られるが、近赤外域では反射が急増し基板そ
のままの時よりも反射が増してしまい、近赤外域では反
射防止膜として役に立たないものであった。

（問題を解決する手段） 本発明に係る多層反射防止膜の特徴とするところは、基
板Ｓの屈折率をＮ５ｕｂ　、そして、これに積層したｎ
群（ｎは４以上の整数）の被膜ＣＮいＣＮｚ、−・−・
・、ＣＮｎ、ＣＮ、の屈折率を、Ｎ１、Ｎ２、ＨＨ＋Ｈ
Ｈ、Ｎ１１−１．Ｎｌｌ　とし、２≦ｉ≦ｎ−２の関係
のもとてこのうち最高の屈折率を有する被膜をＣＮｉそ
の屈折率をＮｉとした反射防止膜Ｓ／ＮＩ、・・・・・
、Ｎ５−ｒ　、Ｎｉ　％　Ｎｚ−ｒ・・・”’　、Ｎｎ
−１、Ｎｎ／　ａｉｒにおいて、被膜ＣＮ、。

ＣＮ、１．、、、、　、ＣＮｎ−、、ＣＮｆｉは光学的
膜厚がすべてλ。／４（λ。：中心波長）であり、各被
膜の屈折率が Ｎ１　＞　Ｎｉ＋１　＞”・＞　Ｎｎ−＋　＞　Ｎｎ　
＞　Ｎ。

Ｎｚ　＞　Ｎｉ＋１　＞・・・・・＞　Ｎｌ　＞　Ｎ５
ｕｂＮ　ｉ　＋　Ｉ＞Ｎ　ｉ　−＋ なる関係を有することである。

（関連技術の説明） まず、ガラス基板と空気の境界面での複素振幅反射率ｒ
　（ｒｅｉδ）は、第６図に示すように、横軸Ｘを実数
軸、縦軸Ｙを虚数軸とすると、実数軸Ｙ（７）−０，２
０（７）点ＯＩ（ｒ　＝　０．２０、δ＝１８０”）で
表わされる。これはＡｐｆｅ１表示と呼ばれる。そして
、このガラス基板に薄膜が蒸着されると、ｒの値が変化
する。例えば、ＺｎＳ　（ｎ＋　＝２．３０）を蒸着す
ると、光学的膜厚ｎ、ｄ、が増加し、第６図の点Ｏｆ　
　（ｒ＝　　０．３９）を中心に半径０＋Ｏｚの円周上
を描き、言ｉ円周上の点Ｐから原点０までの距離がその
時の振幅、すなわちＯＰがｒを表ゎす。

次に、二層反射防止を考える。ｎ□ｂ＝１．５２の基板
をλ。で残留反射Ｏ％とするためには、ｎ５ｕｂ＝１．
５２を等価的にｎ　ｓｕｂ　＝　１．９にしてやればよ
いことが知られている。そのためには、第７図に示すよ
うに、ｎ　＝　１．７の物質をλＯ／４蒸着し、さらに
ｎ＝１．３８をλ。／４蒸着すればよいことがわかる。

なお、第７図において点線１０．１２は反射率Ｒ＝１％
、０．５％の領域を示し、また点線１４．１６．１８は
波長比ν＝１．１、ν＝１．２、ν＝１．３を示す。

ｎ　＝　１．７の物質が得られない場合は、第８図に示
すように、ｎ　＞　１．７なる物質例えばＺｒＯ，（ｎ
＝２、（１３）と、ｎ　＜　ｌ、　７なる物質、例えば
ＭｇＦ。

（ｎ＝１．３８）でｎ＋１．７と等価になるように、２
．０３（位相膜厚：δ＋＞１．３８（位相膜厚：δ２）
で置換すればよい。これは二層等価膜（またはコンポジ
ット膜と呼ばれるもので、三層対称等価膜とともに、単
波長においてはｎＭ＜ｎ＜ｎＬの屈折率の単層膜と等価
の膜を得るため極めて有効な手法である。ただしこの場
合、膜厚をＡ０／４以下で制御する技術が必要になる。

以上述べたてきた二層反射防止膜では、前半の１．７（
λ。／４）　、２．０３　（δ、）−１，３８（δ２）
という層は、後半の１．３８（λ。／４）層で無反射す
るための、すなわち基板の屈折率を等価的にｎ５ｕｂ’
　＝＝　１．３８”；１．９にするための基板屈折率調
整層と考えることができる。

これらの二層反射防止膜は■コート（Ｖ　ｃｏａｔ）と
呼ばれる単波長域反射防止膜であり、・中心波長以外に
おいては、第７図の点線１４．１６．１８で示すように
反射率は単調に増加する。

次に、Ｗコート（Ｗ　ｃｏａｔ）と呼ばれる三層反射防
止膜について第９図、第１０図及び第１１図に基づいて
説明する。第９図において、点線２０は１．６３（λ。

／４）　　−１，３８（λ。／４）のコートを示し、線
２２で１．６３（λ。／４）−２，０５（λ。／２）−
１，３８（λ。／４）のＷコートを示す。中心波長λ。

においては、２．０５（λ。／２）層の有無に関わらず
残留反射はＶコートとＷコートとで変わらない。しかし
、中心波長外、例えばν＝λ／λ。

＝０．７においては第１０図に示すようにＶコート２０
では振幅反射率の軌跡は反射率０（原点Ｏ）まで戻らな
い。Ｗコート２２では２２で示すように２．０５（ス。

／２）Ｎによっていくらか補正されて、反射率Ｏ（原点
Ｏ）に近い点まで戻る。

同様にν＝λ／λ。＝１．３においては、第１１図に示
すように、■コート２０では振幅反射率の軌跡は原点０
を通り過ぎてしまい、Ｗコート２２では２．０５（λ。

／２）層によって補正され原点０に近い点で止まる。

このように三層反射防止膜は、二層反射防止膜に（λ。

／２）層を付加することによって、反射防止帯域を広く
することができる。つまり、三層反射防止膜の基本型膜
（Ｉ） ｎｇｕｂ／ｎｓ（λｏ／４）　　ｎＨ（λ−／２）−ｎ
Ｌ（λｏ／４）／ａｉｒにおいて、ｎＭ（λ。／４）層
はｎ　ｉ、　（Ａ　ａ／４）層で充分な反射防止効果を
得るための基板屈折率調整層、ｎＨ（λ。／２）層は反
射防止帯域の広帯域化層、ｎＬ（λ。／４）層は反射防
止層とそれぞれ独立した機能をもっていると考えられる
。

三層反射防止膜の改良型 ｎｓｍｂ／ｎ＋＊＋　（λ、／４）−ｎｘｉ（λｅ／４
）−ｎ、Ｉ（λｏ／２）−ｎＬ（λ−／４）／ａｉｒＬ
−一一一」　　−一一一一」 （ｎ−１） （Ｉ［−２） の場合は、膜（ＩＩ−１）は基板屈折率調整層をｎＭＩ
（λ、／４）　−ｎ、ｔ（λ。／４）−と多層化して最
適な基板屈折率の調整を行い、膜（１）の反射防止効率
を向上させた構成、膜（ＩＩ−２）は、広帯域化層をｎ
ｕｔ（λ、／２）　−ｎ　、、（λｏ／２）　　ｎ＋１
２（λ。／２）と多層化して膜（Ｉ）の反射防止帯域を
広く改良した構成となる。膜（ＩＩ−１）の特性を第１
２図ないし第１４図に示し、膜（Ｉｆ−２）の特性を第
１５図ないし第１７図に示すが、第１２図及び第１５図
は第９図に対応し、第１３図及び第１６図は第１０図に
対応し、第１４図及び第１７図は第１１図に対応する。

第１８図は、横軸に波長（ｎ■）、縦軸に反射率（％）
をとった分光特性グラフ図であり、上記膜■、ｌｌ−１
、Ｉｆ−２の分光特性６０．６２．６４を示す。

三層反射防止膜の改良型膜（ｎ−１）、（Ｉ［−２）を
基に、広帯域化層をｎ）１１（λ、／２）　−ｎ　Ｈ（
λ。／２）−ｎＨ□（λ。／２）に置換し、さらに、基
板屈折率調整層をＡ０付近の反射防止効率の向上ではな
く、λ。より離れた波長域での反射防止効率の向上を目
的としてｎＭＩ（λｏ／４）　　ｎＭｉ（λ、／４）　
−ｎ　、１．（λ。／４）に置換し、各層の屈折率を最
適化することにより、次のような広帯域反射防止膜（Ｉ
Ｉ−３）が考えられる。

（ｕ−３） 具体的には、例えば、 １．５２／１．４６（λ。／４）−１，３８（λ。／４
）−１，５８（λ。／４）−２，０３（λ。／２）−１
，５８（λ。／２）−２，０３（λ。／２）−１，３８
（λ。／４）／ａｉｒである。しかし、膜（Ｉ［−３）
のような広帯域反射防止膜の分光特性は、第１９図及び
第２０図に示すように、４００ないし８００ｎｍではＲ
≦０．５％であるが、８００ｎｍ以上では急激に反射率
が増加し、９００ｎｍでは基板自体の反射率を越えてし
まう。

このように反射率増加の勾配が急峻であることは、斜入
射時の分光特性が短波長側にシフトすることを考え合わ
せると、広帯域反射防止膜にとっては非常に不利である
。

また、この急激な反射率増加は、４・００ｎｍないし８
００ｎｍにおいて充分に基板の等価的な屈折率を調整し
た結果であり、三層反射防止膜（Ｉ）からの改良による
広帯域化はこの膜（ＩＩ−３）の膜構成が限界であると
考えるべきである。

（実施例） 以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。

上記膜（ｎ−１）において、反射防止帯域の広帯域化Ｍ
ｎＨ（λ。／２）を不均質度の大きｆ（Ｃλ。／２）層
である疑似不均質層とするため、 ｎＭＩ　（λｏ／４）−ｎｏｗ（λ６／４）　（ｎＨＩ
　＞ｎｕｚ）　　という二層に分割して、 という構成の五層広帯域反射防止膜を設定した。

この構成は、同時にｎｏゎ、ａｉｒを媒質、ｎＨＩを高
屈折率の基板（バルク）と考えると、（Ｉ［［） と見なすことができる。すなわち、第１図（ａ）に示す
膜（ＩＩＩ）を、第１図中）に示すように、五層膜中の
ｎ、層を充分に厚いバルクと考えると、片面は媒質ｎ５
ｕｂに対する二層反射防止膜、反対面は媒質ａｉｒに対
する二層反射防止膜と考えられ、それぞれ独立に設計し
各々の残留反射率ｒｌ　、ｒｔの和を五層広帯域反射防
止膜（ＩＩＩ）の残留反射率Ｒとみなすことができる。

ただし、実際にはｎ、は基板ではな（ｎｄ＝λ。／４の
薄膜であるため、上記の考え方ではｎＨ（λ。／４）層
での多重干渉を無視した近似になる。よって、五層広帯
域反射防止膜（ＩＩ［）は高屈折率層ｎＨを考えてやれ
ば、他の四層ｎ□、ｎゎ及びｎＭＩ、１Ｍ４の屈折率は
二層反射防止条件により次のように決定できる。

ｎＨＩ　　　　＝ｎ露ｕｂ　　ｎ。

ｎｓｚ　　　＝ｎｓｕｂ　　’　　ｎ。

ｎＨ３”ｎｏｏｎ　Ｈ３ １Ｎ４　　　°ｎｏ　　　ｎＨ ｎｓｕｂ　＝］、５２　　　　ｎイ＝２．３５とすると
、ｎ、、ｂ＝１．５２／１．６９５（λ、／４）−２，
１０７（λ、／４）−２，３５（λｏ／４）−１，８９
８（λ、／４）−１，２３８（λ。／４）／ｎ０＝１　
　（Ｅ−１）ところがｎＨ４＝１．２３８で化学的に安
定で耐久性のある蒸着物質がないため（ｎｓ＋　　１Ｍ
４）層での残留反射をｒ　ｚ　＝０．００５（＝０．５
％）許容すると、より、 ｎ、。＝１．５２／１．７０（λ。／４）−２，１１（
λ。／４）−２，３５（λ。／４）−１，９７（λ、／
４）−１，３８（λ。／４）／ａｉｒとなり、ＭｇＦ　
ｚがｎ−、＝　１．３８として使える。これらの物質を
使用したときのへｐｆｅ１表示を第２図、分光特性を第
３図に示す。第２図において、Ｘ軸に沿って描かれてい
るのは、中心波長での各層を重ねていったときの中心波
長での振幅反射率の軌跡でありＹ軸に沿って描かれてい
るのは、波長をパラメータとしたときの全層による振幅
反射率の軌跡である。

ｎ５ｕｂ＝１．５２以外の基板に対しても前半のｎ１４
Ｉｎ、４ｚのみを変えることによって下記のように決定
できる。

ｎ−ｕｌ、＝１．５２／１．７０（Ａ　ｏ／４）−２，
ＩＨλＯ／４）−２，３５（λｏ／４）−１，９７（λ
、／４）−１，３８（λｏ／４）／ａｉｒ　　　　（Ｅ
−２）ｎ−ｕｂ□１．６０／１．７６（λ０／４）−２
，１３（λ０／４）−２，３５（Ａ　Ｏ／４）−１，９
７（λ、／４）−１，３８（λｏ／４）／ａｉｒ　　　
　（Ｅ　　３）ｎ□、＝１．７０／１．８４（λ。／４
）−２，１７（λ。／４）−２，３５（λ。／４）−１
９７（λ０／４）−１，３８（λｏ／４）／ａｉｒ　　
　　（Ｅ　　４）ｎ、、ｂ＝１．８０／１．９２（λ。

／４）−２，２０（λ。／４）−２，３５（λ。／４）
−１，９７（Ｊ　、／４）−１，３８（λｏ／４）　／
ａ　ｉｒ　　　　（Ｅ　−５）上記実施例の膜の各層の
屈折率を基板側からＮ、　、Ｎ２、Ｎ、　、Ｎ、　、Ｎ
５とすると、Ｎ３　＞Ｎ４　＞Ｎｓ　＞Ｎ６ Ｎ、＞Ｎ２＞Ｎ、＞Ｎ５ｕｂ Ｎｚ＞Ｎａ なる関係がある。

これらの分光特性は、第３図に示すように、４００〜１
０００ｎｍにおいてＲ＜１％を満たす。

さらに、第１図（ｂｌに示す分割モデルにおいて、ｎ　
ｔｕｂ　”’　ｎ　ｓ　−ｖ　ｎ　Ｈ”　ｎ　ｏの反射
防止層を各々三層にすることによって、 また、第１図（ａ）に示す膜において、媒質ｎ□。

と高屈折率層ｎＨの屈折率差が少ない場合には、第１層
及び第２層を一つの層で兼用し、四層構造とすることが
できる。すなわち、 ｎ５ｕｂ／　ｎ１４１　（λ。／４）　　ｎＨ（λ、／
４）−ｎ、ｚ（λ、／４）　−１Ｍ３（λ。／４）／ａ
ｉｒという四層広帯反射防止膜（Ｖｌ）を得る。この場
合、ｎＭｌ（λ。／４）はｎ５ｕｂとｎ１４（λ。／４
）との間の単層反射防止条件ｎ□−１庁Ｔλ−ｎＨ−に
基づき例えば次のように決定できる。

ｎ、、−＝　１．８０／２．０５（λ。／４）　　−２
，３５（λ。／４）　−１，９７（λ、／４）　−１，
３８（λ、／４）／ａｉｒ　　　（ｆ’　−６）この構
成による膜のＡｐｆｅ１表示を第４図に、また分光特性
を第５図に示す。

同様に、ｎ）１を中心にｎ、。〜ｒｌＮ反射防止層、ｎ
、〜ｎ０反射防止層の両方または片方を多層化・　ある
いは広帯域化、高効率化することにより各種の多層広帯
域反射防止膜が理論上可能になる。

以上のように、本発明は高屈折率層を中間層とするため
反射防止膜の構成をｎ群（ｎは４以上）構成とし、基板
Ｓの屈折率をＮ５ｕｂ　、そして、これに積層したｎ群
（ｎは４以上の整数）の被膜ＣＮｎＣＮ、　、・・・・
・、ＣＮ、１−１．ＣＮ１１の屈折率をＮ、、　Ｎｚ１
．、、、、　、Ｎ、１−、、Ｎ、ｌとし、２≦ｉ≦ｎ−
２の関係のもとてこのうち最高゛の屈折率を有する被膜
をＣＮｉその屈折率をＮｉ　とした反射防止膜Ｓ／Ｎｌ
、・・・・・、Ｎｉ−１％Ｎｔ・Ｎ　ｉ−１、””’　
、Ｎ１１−１　、Ｎｇ／　ａｉｒにおいて、被膜ＣＮｉ
、ＣＮｚ１．、、、、　、ＣＮ、−、、ＣＮ。

は光学的膜厚がすべてλ。／４（λ。：中心波長）であ
り、各被膜の屈折率が Ｎｔ＞Ｎｒ＋ｒ＞・・・・−＞Ｎ、−、＞Ｎ、ｌ＞Ｎ。

Ｎ、＞ｐＪ、−、＞・・・−・＞Ｎ、＞Ｎ５ｕｂＮ　＝
　、　＋　＞　Ｎ　＝　−＋ なる関係をもたせるものである。

〔発明の効果〕

上述したように、本発明による反射防止膜は、可視域な
いし近赤外域、特に４００ｎｍないし９００ｎｍの広帯
域の波長領域に対して高効率な反射防止作用を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の構成原理を説明するための反射防止膜
の断面説明図、第２図は実施例膜Ｅ−１のＡｐｆｅ１表
示グラフ図、第３図は実施例膜Ｅ−２ないしＥ−５の分
光特性グラフ図、第４図は実施例膜Ｂ−６のＡｐｆｅ１
表示グラフ図、第５図は実施例ｌ１ｌ−６の分光特性グ
ラフ図、第６図はＡｐｆｅ１表示法の説明図、第７図は
二層反射防止膜のＡｐｆｅ１表示グラフ図、第８図は二
層等価反射防止膜のＡｐｆｅ１表示グラフ図、第９図な
いし第１１図はＷコートの三層反射防止膜のＡｐｆｅ１
表示グラフ図、第１２図ないし第１４図は膜（ｎ−１）
の／１ｐｆｅ１表示グラフ図、第１５図ないし第１７図
は膜（■−２）　Ａｐｆｅ１表示グラフ図、第１８図は
膜（Ｉ、ｎ−ｉ、■−２）の分光特性グラフ図、第１９
図は膜（Ｉｆ−３）のＡｐｆｅ１表示グラフ図、第２０
図は膜（ｎ−３）の分光特性グラフ図である。 １０．１２・・・・・・反射率グラフ １イ、１６．１８．２０，２２・・・・・・振幅グラフ
図面の浄二グカ容に変更なし） 党１区 手続補正書く方式） ６３，３．１７ 昭和　　年　　月　　日 １、事件の表示　　　昭和６２年特許願第２９０３０９
号２、発明の名称　　広帯域反射防止膜 ３、補正をする者 事件との関係　　出願人 名称　東京光学機械株式会社 ４、代理人 手続補正書 ６３．３．１７ 昭和　　年　　月　　日 特許庁長官　　小　川　邦　夫　　殿 １、事件の表示　　　昭和６２年特許願第２９０３０９
号２、発明の名称　　広帯域反射防止膜 ３、補正をする者 事件との関係　　出願人 名称　東京光学機械株式会社 ４、代理人 ５、補正命令の日付　　自　　　発 ６、補正の対象　　　　明細書の発明の詳細な説明の欄
（１）明細書第３頁第１９行の“Ｎ２１　　”を「Ｎ１
′」（２）同上第３頁第２０行の“Ｎ、ＩＦ　″をｒＮ
Ｉ”　Ｊに訂正する。 （３）同上第３頁第２０行の“Ｎ３１Ｆ　”をｒＮ、”
　Ｊに訂正する。 （４）同上第４頁第４行及び第５行の“（４）Ｎｌ・・
・タイプ、”を削除する。 （５）同上第４頁第６行の“（５）”をｒ　（４）　ｊ
に訂正する。 （６）同上第４頁第８行及び第９行の“（６）Ｎ２・・
・タイプ”を削除する。 （７）　　同上第７頁第１行の“す。”の次に「これは
Ａｐｆｅ１表示と呼ばれる。」を挿入する。 （８）　　同上第７頁第３行の“の基板を”の次に「ｎ
＝　１．３８の物質を用いて形成して」を挿入する。 （９）　　添付図面の第３図、第４図、第５図、第１１
図、第１８図及び第２０図を別紙の通り訂正する。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板Ｓの屈折率をＮｓｕｂ、そして、これに積層
   したｎ群（ｎは４以上の整数）の被膜ＣＮ＿１、ＣＮ＿
   ２、・・・・・、ＣＮ＿ｎ＿−＿１、ＣＮ＿ｎの屈折率
   をＮ＿１、Ｎ＿２、・・・・・、Ｎ＿ｎ＿−＿１、Ｎ＿
   ｎとし、２≦ｉ≦ｎ−２の関係のもとでこのうち最高の
   屈折率を有する被膜をＣＮｉその屈折率をＮｉとした反
   射防止膜Ｓ／Ｎ＿１、・・・・・、Ｎ＿ｉ＿−＿１、Ｎ
   ｉ、Ｎ＿ｉ＿−＿１、・・・・・、Ｎ＿ｎ＿−＿１、Ｎ
   ＿ｎ／ａｉｒにおいて、被膜ＣＮ＿１、ＣＮ＿２、・・
   ・・・、ＣＮ＿ｎ＿−＿１、ＣＮ＿ｎは光学的膜厚がす
   べてλ＿０／４（λ＿０：中心波長）であり、各被膜の
   屈折率が Ｎ＿ｉ＞Ｎ＿ｉ＿＋＿１＞・・・・・＞Ｎ＿ｎ＿−＿１
   ＞Ｎ＿ｎ＞Ｎ＿０Ｎ＿ｉ＞Ｎ＿ｉ＿−＿１＞・・・・・
   ＞Ｎ＿１＞ＮｓｕｂＮ＿ｉ＿＋＿１＞Ｎ＿ｉ＿−＿１ なる関係を有することを特徴とする多層反射防止膜。
2. （２）特許請求の範囲第（１）項記載の多層反射防止膜
   において、ｎは５であって５群の被膜ＣＮ＿１、ＣＮ＿
   ２、ＣＮ＿３、ＣＮ＿４、ＣＮ＿５のうち少なくとも一
   群がコンポジット膜（２層等価膜）、又は３層等価膜か
   ら成り、その等価屈折率が相当する被膜の屈折率と略一
   致するように構成したことを特徴とする多層反射防止膜
   。