JPH01122998A - CdZnTe混晶半導体の製造方法 - Google Patents

CdZnTe混晶半導体の製造方法

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JPH01122998A
JPH01122998A JP28109387A JP28109387A JPH01122998A JP H01122998 A JPH01122998 A JP H01122998A JP 28109387 A JP28109387 A JP 28109387A JP 28109387 A JP28109387 A JP 28109387A JP H01122998 A JPH01122998 A JP H01122998A
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JP
Japan
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crystal
seed crystal
melt
composition
seed
Prior art date
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Application number
JP28109387A
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English (en)
Inventor
Toshihiro Kotani
敏弘 小谷
Masami Tatsumi
雅美 龍見
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は種結晶を用いて原料融液からCdZnTe混晶
半導体を製造する方法に関し、引−に法、ブリッジマン
法等に適用することのできる製造方法である。
(従来の技術) 従来、引上法、垂直ブリッジマン法、水平ブリッジマン
法などを用いてCdZnTe混晶を製造するときには、
成長結晶と同じ組成を有する種結晶を使用している。
そして、転位密度の少ない結晶を成長させるために成長
方向の温度勾配を緩やかにする方法が一般に採用されて
いるが、種付は時に種結晶が熔融し、種付けを困難にす
るという問題がしばしば生じた。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、上記問題を解消し、緩やかな温度勾配で結晶
成長を行うときにも、種付は操作を容易に、かつ、確実
に行うことができ、転位密度の少ないCdZnTe混晶
半導体を製造する方法を提供しようとするものである。
(問題点を解決する手段) 本発明は、Cd 、−、Z n xT e融液に種結晶
を充分なじませた後、温度勾配を設けて種結晶から結晶
を成長させるCdZnTe混晶半導体の製造方法におい
て、上記融液のZn組成と相平衡にある結晶のZn組成
よりも高く、種結晶と成長結晶との間に格子定数に実質
的なズレを生じさせない範囲にある、Zn組成をもつC
d、イZ n yT 8種結晶を用いることを特徴とす
るCdZnTe混晶半導体の製造方法である。なお、原
料融液のZn組成を0.02〜0.04として、また種
結晶のZn組成を0.05〜0.10とすることが好ま
しい。
(作用) 成長結晶の転位密度を低下させるために成長方向の温度
勾配を緩やかにする場合、種付は時の種結晶はその一端
が融液に接触して融点以上に加熱されるため、小さな種
結晶全体が相当な高温にさらされてサーマルダメージを
受け、転位の原因となる。また、種結晶の端部が一部熔
融して融液となじんだ後、種付けから結晶成長への移行
を円滑に進めることができないときには、種結晶を熔融
し消耗するという問題があった。
そこで、本発明では、種結晶のZn組成を、原料融液の
Zn組成と相平衡にある結晶のZn組成よりも高く、種
結晶と成長結晶との間に格子定数に実質的なズレを生じ
させない範囲とすることにより、融液による種結晶の消
失を防ぎ、種付は操作を容易にした。
第1図にCdZnTe混晶の平衡状態図をみると、Zn
組成の増加にともない融点は上昇し、Zn組成の比較的
低い左半分をみると、温度が上昇するにともない固相曲
線と液相曲線の間隔は広くなる。Zn組成が0〜0.1
程度の範囲では、Zn組成が0.01変化すると融点は
約1.5℃上昇する。図中、組成への融液を想定すると
、この組成の融点はTmであり、これと相平衡にある結
晶組成はBとなる。したがって、理想的には組成りの種
結晶と組成Aの融液とは共存する。しかし、実際は融液
の温度を正確に融点に保持することは不可能であり、通
常は融点、より高くなる。
種付は時の融液の保持温度は普通融点より3〜5℃高い
と考えられているので、その温度を固相曲線が過ぎると
きのZn組成より高いZn組成を有する種結晶を用いれ
ば、種結晶の熔融を避けることはできる。
Zn組成が0.02〜0.04である融液から結晶成長
させる場合には、この組成範囲でB/Aの比率が約1.
35であるところから、種結晶はZn組成が0.05以
上のものをもちいればよいことになる。
一方、種結晶と成長結晶との間に大きな格子定数の差が
存在すると、種付は部でミスフィツト転位が発生し、結
晶の品質を悪化させる。実験によりCdZnTe混晶に
ついて格子定数のズレの許容値を調べると、約0.3%
以内であれば問題がないことが判明した。
Cd 、−112n xT e混晶の格子定数aはa=
6.4 81−0.378x       (A)とい
う関係にある。したがって、上記のXが0.02〜0.
04の範囲にあるZn組成の融液から結晶成長させる場
合には、上記の許容値以内に収めるためにXが0.10
以下のZn組成を有する種結晶を使用すればよいことに
なる。
(実施例1) Cd 11.1+@Z n a、o*T e混晶半導体
を垂直フリアジマン法を用いて製造した。上記の混晶組
成を有する融液1.okgを内径10mmのアンプルに
収容し、端部に<111>方位のCd a、@52 n
 11.O5T 8種結晶をセットし、アンプルの回転
速度を5 r p m +成長速度を2mm/Hrとし
て結晶成長させた。その結果、長さlQcmの上記混晶
を得た。成長結晶は種結晶にサーマルダメージが見られ
ず、良好な種付は状態にあり、成長方位も<111〉で
あった。転位密度は3XIO’Cm−’であった。
(実施例2) LEC法を用いてCd 、、ssZ n 、、、4T 
e混晶半導体を製造した。上記の混晶組成を有する融液
1.2kgをルツボに収容し、引き上げ軸に<111>
方位のCd o、ssZ n o、otTe種結晶を取
り付け、引き上げ軸の回転速度を5rpm、ルツボの回
転速度をlQrpmとし、引き上げ速度を3mm/Hr
で実施した。引き上げ方向の温度勾配は10℃であった
。その結′果、直径4Qmm、長さ10cmの上記混晶
を得た。成長結晶は種結晶にサーマルダメージが見られ
ず、良好な種付は状態にあり、成長方位も<111>で
あった。転位密度は4X10’cm−’であった。
(発明の効果) 本発明は、上記の構成を採用することにより、緩やかな
温度勾配の下における種付は操作で、種結晶の熔融を防
止でき、良好な種付けを可能とした。その結果、転位密
度の少ない品質のよいCdZnTe混晶半導体をえるこ
とができた。また、成長方位の制御が可能となり、生産
性を向上させることができた。
【図面の簡単な説明】
第1 m ハCd Z n T e混晶の平衡状態図で
ある。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Cd_1_−_XZn_XTe融液に種結晶を充
    分なじませた後、温度勾配を設けて種結晶から結晶を成
    長させるCdZnTe混晶半導体の製造方法において、
    上記融液のZn組成と相平衡にある結晶のZn組成より
    も高く、種結晶と成長結晶との間に格子定数に実質的な
    ズレを生じさせない範囲にある、Zn組成をもつCd_
    1_−_YZn_YTe種結晶を用いることを特徴とす
    るCdZnTe混晶半導体の製造方法。
  2. (2)融液のZn組成を0.02〜0.04とし、種結
    晶のZn組成を0.05〜0.10とすることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載のCdZnTe混晶半
    導体の製造方法。
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