JPH01121326A - 耐熱性樹脂組成物 - Google Patents
耐熱性樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH01121326A JPH01121326A JP27909187A JP27909187A JPH01121326A JP H01121326 A JPH01121326 A JP H01121326A JP 27909187 A JP27909187 A JP 27909187A JP 27909187 A JP27909187 A JP 27909187A JP H01121326 A JPH01121326 A JP H01121326A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyamic acid
- diamine
- acid
- tetracarboxylic acid
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 10
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 title claims description 8
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims abstract description 38
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 2
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 abstract 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 20
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 15
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 3
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical group C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3SC2=C1 GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAPMFBHEQZLGK-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylamino)-2-methylidenepentanamide Chemical compound CN(C)CCCC(=C)C(N)=O ZWAPMFBHEQZLGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N methamphetamine Chemical compound CN[C@@H](C)CC1=CC=CC=C1 MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 210000001525 retina Anatomy 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 tetracarboxylic anhydride Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/037—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyamides or polyimides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、硬化後の膜特性に優れた耐熱性樹脂組成物に
関する。更に詳しくは電気、電子部品特にジャンクシラ
ンコート膜、パフシベーシッン膜、バッファコート膜、
α線じゃへい膜のような、半導体素子用表面保護膜、眉
間絶縁膜あるいは液晶表示用配向膜等に宵月な組成物に
関するものである。
関する。更に詳しくは電気、電子部品特にジャンクシラ
ンコート膜、パフシベーシッン膜、バッファコート膜、
α線じゃへい膜のような、半導体素子用表面保護膜、眉
間絶縁膜あるいは液晶表示用配向膜等に宵月な組成物に
関するものである。
耐熱性樹脂、なかでも微細回路作成性を付与したポリイ
ミド、すなわち感光性ポリイミドは、回路作成工程を簡
略化する事が出来、またエツチング処理液も不要な事か
ら大きな期待がもたれている。しかし未だ充分には適用
されていないのが現状であるが、その理由の1つに、硬
化後の被膜特性が不充分である事があげられる。
ミド、すなわち感光性ポリイミドは、回路作成工程を簡
略化する事が出来、またエツチング処理液も不要な事か
ら大きな期待がもたれている。しかし未だ充分には適用
されていないのが現状であるが、その理由の1つに、硬
化後の被膜特性が不充分である事があげられる。
一般に、硬化後のポリイミド被膜の特性、例えば硬度、
耐薬品性、耐湿性等は、その分子量が大きい程良好とな
る。一方フェス濃度が高い程コーティング後の乾燥工程
や硬化工程における膜減り等による寸法変化は少なく、
パターンの精密化が可能となる。ところが、従来知られ
ている感光性ポリイミドはいずれの場合も、この高い分
子量と、フェス時の高い濃度との両立が困難であった。
耐薬品性、耐湿性等は、その分子量が大きい程良好とな
る。一方フェス濃度が高い程コーティング後の乾燥工程
や硬化工程における膜減り等による寸法変化は少なく、
パターンの精密化が可能となる。ところが、従来知られ
ている感光性ポリイミドはいずれの場合も、この高い分
子量と、フェス時の高い濃度との両立が困難であった。
従来の感光性ポリイミドの一つにエステル結合型の感光
性ポリイミド(例えば特開昭49−II )5541
号公報)がある、該エステル結合型感光性ポリイミドの
合成方法は、テトラカルボン酸無水物を開環し、感光性
化合物をエステル結合させ、残った他のカルボキシル基
とジアミンとを反応させ、ポリアミック酸エステルとす
るものである。
性ポリイミド(例えば特開昭49−II )5541
号公報)がある、該エステル結合型感光性ポリイミドの
合成方法は、テトラカルボン酸無水物を開環し、感光性
化合物をエステル結合させ、残った他のカルボキシル基
とジアミンとを反応させ、ポリアミック酸エステルとす
るものである。
この合成方法においてカルボキシル基とジアミンとの反
応性は低いので分子量が大きくできず、分子量はたかだ
か数千のオーダーのものしか得られない、この為に最−
線硬化後のポリイミド樹脂被膜は硬度、耐薬品性や耐湿
性等が劣る。
応性は低いので分子量が大きくできず、分子量はたかだ
か数千のオーダーのものしか得られない、この為に最−
線硬化後のポリイミド樹脂被膜は硬度、耐薬品性や耐湿
性等が劣る。
又、アンモニウム塩型の感光性ポリイミド(例えば特開
昭54−145794号公報)があり、この合成方法は
予めテトラカルボン酸無水物とジアミンによりポリアミ
γり酸を生成し、ポリアミック酸のカルボキシル基に感
光性化合物をアンモニウム塩型に導入するものである。
昭54−145794号公報)があり、この合成方法は
予めテトラカルボン酸無水物とジアミンによりポリアミ
γり酸を生成し、ポリアミック酸のカルボキシル基に感
光性化合物をアンモニウム塩型に導入するものである。
この合成方法において、まずボリアミンク酸を合成して
おく事から分子量は致方のオーダーまで高くできるが、
アンモニウム塩型は溶解性が劣る為か、−濃度を高(す
ること即ち分子量を高めることが出来ない。
おく事から分子量は致方のオーダーまで高くできるが、
アンモニウム塩型は溶解性が劣る為か、−濃度を高(す
ること即ち分子量を高めることが出来ない。
濃度を上げようとすると粘度が高くなり、スピンニート
が困難となる。従ってアンモニウム塩型の感光性ポリイ
ミドの硬化後の被膜は、エステル結合型のものより優れ
ているものの、パターンの精密化に限界がある。アンモ
ニウム塩型感光性ポリイミドの特徴を低下させることな
く、粘度を低下させることが、この分野に於ける重要課
題の1つであった。
が困難となる。従ってアンモニウム塩型の感光性ポリイ
ミドの硬化後の被膜は、エステル結合型のものより優れ
ているものの、パターンの精密化に限界がある。アンモ
ニウム塩型感光性ポリイミドの特徴を低下させることな
く、粘度を低下させることが、この分野に於ける重要課
題の1つであった。
本発明は従来の感光性ポリイミドでは出来なかった高い
分子量と高い濃度の両立を実現せんとして研究した結果
、分子量が低い酸過剰およびアミン過剰のボリアミンク
酸の混合物を、反応させると分子量が増大するとの知見
を得、更にこの知見に基づき種々研究を進めて本発明を
完成するに至ったものである。その目的とするところは
硬化後の被膜特性の優れた感光性ポリイミドを提供する
にある。
分子量と高い濃度の両立を実現せんとして研究した結果
、分子量が低い酸過剰およびアミン過剰のボリアミンク
酸の混合物を、反応させると分子量が増大するとの知見
を得、更にこの知見に基づき種々研究を進めて本発明を
完成するに至ったものである。その目的とするところは
硬化後の被膜特性の優れた感光性ポリイミドを提供する
にある。
本発明は、ジアミン1モルに対してテトラカルボン酸が
0.70〜0.99モルからなるポリアミック酸(A)
とジアミン1モルに対してテトラカルボン酸が1.01
〜1.40モルからなるポリアミック酸(B)とを混合
して、最終的にジアミン1モルに対してテトラカルボン
酸が0.9〜1.1モルとなるような比率に(A)と(
B)とを混合してなるポリアミック酸と、−船人(1) %式%(1) で表わされる化合物(但し、式中Cは光架橋反応性官能
基、Dはカルボキシル基と反応または配位可能な官能基
、n、n’は1〜2の自然数、Rは炭素数1〜4の直鎖
アルキル基を示す)とを混合し、反応又は配位結合させ
たものを必須成分とする耐熱性樹脂組成物である。
0.70〜0.99モルからなるポリアミック酸(A)
とジアミン1モルに対してテトラカルボン酸が1.01
〜1.40モルからなるポリアミック酸(B)とを混合
して、最終的にジアミン1モルに対してテトラカルボン
酸が0.9〜1.1モルとなるような比率に(A)と(
B)とを混合してなるポリアミック酸と、−船人(1) %式%(1) で表わされる化合物(但し、式中Cは光架橋反応性官能
基、Dはカルボキシル基と反応または配位可能な官能基
、n、n’は1〜2の自然数、Rは炭素数1〜4の直鎖
アルキル基を示す)とを混合し、反応又は配位結合させ
たものを必須成分とする耐熱性樹脂組成物である。
テトラカルボン酸としては、例えば、ピロメリット酸、
2.3.6.7−ナフタレンテトラカルボン酸、3.3
′、4.4′−ビフェニルテトラカルボン酸などがあり
、無水物として通常用いられる。また、ジアミンとして
は、例えばm−フェニレンジアミン、P−フェニレンジ
アミン、4.4゛−ジアミノジフェニルエーテルなどが
あげられる。
2.3.6.7−ナフタレンテトラカルボン酸、3.3
′、4.4′−ビフェニルテトラカルボン酸などがあり
、無水物として通常用いられる。また、ジアミンとして
は、例えばm−フェニレンジアミン、P−フェニレンジ
アミン、4.4゛−ジアミノジフェニルエーテルなどが
あげられる。
本発明にいうボリアミンク酸は2官能モノマー同志の縮
合反応なのでポリアミック酸の重合度は、仕込モル比に
よって定まる。特に仕込みモル比が1を中心として重合
度が急激に大きくなる0重合度と溶液粘度とは相関関係
にあり、重合度が大きくなると共に、粘度もこれにつれ
て上昇する。従って溶液粘度をコントロールするには仕
込みモル比を厳密に管理しなければならない0例えば、
同じ15重重量N−メチルー2−ピロリドン溶液として
見た場合、ジアミン1モルに対して、テトラカルボン酸
を0.98モル仕込んで反応させたポリアミ7り酸は2
00poise程度であるが、0.998では10、0
00〜20.000poiseに達してしまう、テトラ
カルボン酸のモル比が1以上の場合も同様の傾向を示し
1より大きくなるにつれて急激に粘度が下降する。
合反応なのでポリアミック酸の重合度は、仕込モル比に
よって定まる。特に仕込みモル比が1を中心として重合
度が急激に大きくなる0重合度と溶液粘度とは相関関係
にあり、重合度が大きくなると共に、粘度もこれにつれ
て上昇する。従って溶液粘度をコントロールするには仕
込みモル比を厳密に管理しなければならない0例えば、
同じ15重重量N−メチルー2−ピロリドン溶液として
見た場合、ジアミン1モルに対して、テトラカルボン酸
を0.98モル仕込んで反応させたポリアミ7り酸は2
00poise程度であるが、0.998では10、0
00〜20.000poiseに達してしまう、テトラ
カルボン酸のモル比が1以上の場合も同様の傾向を示し
1より大きくなるにつれて急激に粘度が下降する。
テトラカルボン酸とジアミンの仕込モル比が0.99〜
1.01のものは分子量が高く膜特性は優れているがポ
リアミック酸溶液の粘度が高くなり、濃度を下げなくて
は、所望の厚みにスピンコードする事が困難となる。
1.01のものは分子量が高く膜特性は優れているがポ
リアミック酸溶液の粘度が高くなり、濃度を下げなくて
は、所望の厚みにスピンコードする事が困難となる。
逆に、モル比が1から離れすぎる場合、すなわちモル比
が0.70以下であるかまたは1.40以上の場合には
、濃度は高く出来るがポリアミック酸の公職 子量が低い為皮膜特性が低下してしまう。
が0.70以下であるかまたは1.40以上の場合には
、濃度は高く出来るがポリアミック酸の公職 子量が低い為皮膜特性が低下してしまう。
本発明では、上記モル比が0.70〜0.99、すなわ
ちジアミン過剰の゛ポリアミック酸と、同モル比が1.
01〜1.4qのテトラカルボン酸過剰のポリアミック
酸を、全体のモル比が0.9〜1.1となる様に混合し
てなる混合ポリアミック酸が用いられる。これらのポリ
アミック酸を混合することにより、フェスの段階では分
子量の低い、従って粘度の低いポリアミック酸の混合物
となり、最終の閉環反応時に、ポリアミック酸同志が反
応し高分子量化す臘 るので硬化後の皮膜特性が優れたものとなるのである。
ちジアミン過剰の゛ポリアミック酸と、同モル比が1.
01〜1.4qのテトラカルボン酸過剰のポリアミック
酸を、全体のモル比が0.9〜1.1となる様に混合し
てなる混合ポリアミック酸が用いられる。これらのポリ
アミック酸を混合することにより、フェスの段階では分
子量の低い、従って粘度の低いポリアミック酸の混合物
となり、最終の閉環反応時に、ポリアミック酸同志が反
応し高分子量化す臘 るので硬化後の皮膜特性が優れたものとなるのである。
原理的には全体のモル比が1.0の時に重合度は最も高
くなる筈であるが、実際には他の添加物の影響等でアミ
ノ基の酸化やカルボキシル基の脱炭酸が生じるので、全
体のモル比は0.9〜1.1の範囲で調整される。
くなる筈であるが、実際には他の添加物の影響等でアミ
ノ基の酸化やカルボキシル基の脱炭酸が生じるので、全
体のモル比は0.9〜1.1の範囲で調整される。
本発明の一般式(1)で表わされる化合物に於いて、式
中のCの光架橋反応性官能基とは、紫外光による2量化
または重合が可能な不飽和基を意味し、例えばアクリル
、メタクリルをあげる事ができる。
中のCの光架橋反応性官能基とは、紫外光による2量化
または重合が可能な不飽和基を意味し、例えばアクリル
、メタクリルをあげる事ができる。
また式中のDのカルボキシル基と反応または配位可能な
官能基とは、ポリアミ7り酸のもつカルボキシル基に作
用する事により、光架橋反応性官能基をボリアミンク酸
に導入する為のものであり、例えばアミノ基、グリシジ
ルエーテル基、アジリジン基、イソシアヌレート、水酸
基をあげる事が出来る。
官能基とは、ポリアミ7り酸のもつカルボキシル基に作
用する事により、光架橋反応性官能基をボリアミンク酸
に導入する為のものであり、例えばアミノ基、グリシジ
ルエーテル基、アジリジン基、イソシアヌレート、水酸
基をあげる事が出来る。
式中ORの炭素数1〜4の直鎖アルキルはCとDとを結
合させる為のものであり、溶解性を高める為に適当な極
性基を有してもよいが、出来るだけ低分子量である事が
望ましい、その方が後処理で除去するのが容易となる。
合させる為のものであり、溶解性を高める為に適当な極
性基を有してもよいが、出来るだけ低分子量である事が
望ましい、その方が後処理で除去するのが容易となる。
一般式(1)の化合物の例としてジエチルアミノエチル
メタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミ
ドをあげる事ができる。混合ポリアミック酸に化合物(
1)を反応または配位させる方法は、化合物(1)のも
つ官能基の種類によってそれぞれ適当なものが用いられ
る0例えば、アミノ基、アジリジン基、イソシアヌレー
トの場合は室温で30分〜1時間攪拌混合すればよく、
グリシジルエーテルの場合は、30〜50℃に加熱し、
ホスフィン系の触媒を添加し、1時間〜2時間攪拌混合
すればよい、いずれの場合も、紫外線や湿度の悪影響を
与えない様、暗室あるいはイエローランプ下で、窒素雰
囲気中で攪拌する事が望ましい。
メタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミ
ドをあげる事ができる。混合ポリアミック酸に化合物(
1)を反応または配位させる方法は、化合物(1)のも
つ官能基の種類によってそれぞれ適当なものが用いられ
る0例えば、アミノ基、アジリジン基、イソシアヌレー
トの場合は室温で30分〜1時間攪拌混合すればよく、
グリシジルエーテルの場合は、30〜50℃に加熱し、
ホスフィン系の触媒を添加し、1時間〜2時間攪拌混合
すればよい、いずれの場合も、紫外線や湿度の悪影響を
与えない様、暗室あるいはイエローランプ下で、窒素雰
囲気中で攪拌する事が望ましい。
従って(A)と(B)とを混合してなるボリアミンク酸
に一般式(1)で示される化合物を混合することにより
、ポリアミック酸のカルボキシル基と反応するかまたは
配位結合をさせることにより、ボリアミンク酸にCの光
架橋反応性官能基を強固に付すことが可能となるもので
ある。
に一般式(1)で示される化合物を混合することにより
、ポリアミック酸のカルボキシル基と反応するかまたは
配位結合をさせることにより、ボリアミンク酸にCの光
架橋反応性官能基を強固に付すことが可能となるもので
ある。
さらに光反応開始剤、増感剤が必要量添加され、また場
合により共重合性モノマー、化学イミド剤、レベリング
剤、密着性付与剤等を添加してもよい。
合により共重合性モノマー、化学イミド剤、レベリング
剤、密着性付与剤等を添加してもよい。
本発明で得られた耐熱性樹脂組成物の使用方法に特別の
注意はな(従来の感光性ポリイミド樹脂と同様の方法で
微細回路作成が可能であり、又保存方法についても通常
の低温保存で充分である。
注意はな(従来の感光性ポリイミド樹脂と同様の方法で
微細回路作成が可能であり、又保存方法についても通常
の低温保存で充分である。
本発明の組成物は低分子であり、濃度が高く、しかも粘
度が低いフェスであり、硬化後には高分子量となるので
以下の特徴を満足させる事が出来る。
度が低いフェスであり、硬化後には高分子量となるので
以下の特徴を満足させる事が出来る。
(+)フェスの濃度が高く、スピンコード等で塗布した
後の乾燥工程で寸法収縮が少ない、また硬化時の膜減り
も少ない。
後の乾燥工程で寸法収縮が少ない、また硬化時の膜減り
も少ない。
(ii )露光、現像時にはまだ比較的低分子である為
、解像度に優れており微細回路作成が容易特性、機械特
性、耐薬品特性等が優れている(〔実 施 例
1〕 窒素雰囲気中、水分を1100pp以下に精製したジメ
チルアセトアミド180g とキシレン20gの混合溶
媒中に、ジアミンとしてジアミノジフェニルエーテル2
4.046gを溶解し、次にこの溶液を15℃に冷却し
ながら、テトラカルボン酸としてピロメリット酸無水物
20.954gを加え、そのまま4時間攪拌しながら反
応させ、テトラカルボン酸/ジアミンのモル比−0,8
の、30℃での極限粘度が0.52(dβ/g)のボリ
ア゛ミック酸溶液(A)を得た。
、解像度に優れており微細回路作成が容易特性、機械特
性、耐薬品特性等が優れている(〔実 施 例
1〕 窒素雰囲気中、水分を1100pp以下に精製したジメ
チルアセトアミド180g とキシレン20gの混合溶
媒中に、ジアミンとしてジアミノジフェニルエーテル2
4.046gを溶解し、次にこの溶液を15℃に冷却し
ながら、テトラカルボン酸としてピロメリット酸無水物
20.954gを加え、そのまま4時間攪拌しながら反
応させ、テトラカルボン酸/ジアミンのモル比−0,8
の、30℃での極限粘度が0.52(dβ/g)のボリ
ア゛ミック酸溶液(A)を得た。
さらに同様の方法でジアミノジフェニルエーテル19.
055g ピロメリット酸無水物25.945gを反応
させモル比−1,25極限粘度0.72のポリアミック
酸溶液(B)を合成した。これらのボリアミンクa2溶
液(A)と(B)とを同じ量(重量)づつとり15℃で
この混合ポリアミック酸溶液316.7gに対し、ジエ
チルアミノエチルメタクリレート45.5g 、ミヒラ
ーケトン3.5g、フッ素系レベリング剤0.01gを
室温、窒素中暗室にて1時間攪拌混合し、耐熱性樹脂組
成物を調整した。
055g ピロメリット酸無水物25.945gを反応
させモル比−1,25極限粘度0.72のポリアミック
酸溶液(B)を合成した。これらのボリアミンクa2溶
液(A)と(B)とを同じ量(重量)づつとり15℃で
この混合ポリアミック酸溶液316.7gに対し、ジエ
チルアミノエチルメタクリレート45.5g 、ミヒラ
ーケトン3.5g、フッ素系レベリング剤0.01gを
室温、窒素中暗室にて1時間攪拌混合し、耐熱性樹脂組
成物を調整した。
これをシリコンウェハ上に、スピンナーで塗布し、窒素
中70℃10分子備乾燥し、50μm角のパターンを有
するネガマスクをのせ、超高圧水銀灯を−nに 400mj (3651紫外光基準)当て、露出した。
中70℃10分子備乾燥し、50μm角のパターンを有
するネガマスクをのせ、超高圧水銀灯を−nに 400mj (3651紫外光基準)当て、露出した。
これを25℃、ジメチルアセトアミド/メタノール=6
74の現像液に浸し、超音波にて75秒現像し、さらに
25℃イソプロピルアルコールに15秒浸漬しリンスし
た。これを窒素中、150 ℃、250 ℃各30分、
350℃60分加熱し膜厚10μmのポリイミドパター
ンを得た。このものはw4微鏡観察により、ポリイミド
皮膜にはクランクがなく、また50μ角のパターンが変
形やくずれがなくきれいに形成されている事が確かめら
れた。
74の現像液に浸し、超音波にて75秒現像し、さらに
25℃イソプロピルアルコールに15秒浸漬しリンスし
た。これを窒素中、150 ℃、250 ℃各30分、
350℃60分加熱し膜厚10μmのポリイミドパター
ンを得た。このものはw4微鏡観察により、ポリイミド
皮膜にはクランクがなく、また50μ角のパターンが変
形やくずれがなくきれいに形成されている事が確かめら
れた。
また、ポリイミド奏膜の特性を見る為に、同感光性樹脂
組成物をガラス板上にコーティングし、全面露光現像を
行い、上述と同条件で加熱しポリイミドフィルムを作成
した。フィルムは引張強度が15.3kg/+u+”
、弾性率183 kg / tim” 、伸び11%で
あった。
組成物をガラス板上にコーティングし、全面露光現像を
行い、上述と同条件で加熱しポリイミドフィルムを作成
した。フィルムは引張強度が15.3kg/+u+”
、弾性率183 kg / tim” 、伸び11%で
あった。
〔実 施 例 2〕
ジメチルアセトアミド200g 、キシレン50gの混
合溶媒を用い、実施例1と同様、ピロメリット酸とジア
ミノジフェニルエーテルとを、全系45g、テトラカル
ボン酸/ジアミンの仕込モル比=0.98で反応させ、
極限粘度0.85(d 1 / g )のポリアミック
酸(A)を合成した。
合溶媒を用い、実施例1と同様、ピロメリット酸とジア
ミノジフェニルエーテルとを、全系45g、テトラカル
ボン酸/ジアミンの仕込モル比=0.98で反応させ、
極限粘度0.85(d 1 / g )のポリアミック
酸(A)を合成した。
同様に、テトラカルボン酸/ジアミンのモル比=1.0
2、極限粘m11.3(dj!/g)のポリアミック酸
(B’)を合成し、さらに全体のモル比=1.0になる
様(A)と(B)とを同じ量(重量)づつとり混合し極
限粘度1.05(d 1 / g )のポリアミック酸
溶液を得た。この溶液316.7gに対し、ジメチルア
ミノエチルメタクリレ−) 45.5 gイルがキュア
ー907 (チバガイギー社製)を3.5g、ジエチル
チオキサントン3.5g、フッ素系レベリング剤0.0
2gを室温窒素中暗室にて1時間攪拌混合し、耐熱性樹
脂組成物を調整した。これを実施例1と同様、シリコン
ウェハー上に塗布し、パターンを作成したところ、50
μ角のパターンが変形や(ずれおよびクランクがなく、
きれいに形成されていた。
2、極限粘m11.3(dj!/g)のポリアミック酸
(B’)を合成し、さらに全体のモル比=1.0になる
様(A)と(B)とを同じ量(重量)づつとり混合し極
限粘度1.05(d 1 / g )のポリアミック酸
溶液を得た。この溶液316.7gに対し、ジメチルア
ミノエチルメタクリレ−) 45.5 gイルがキュア
ー907 (チバガイギー社製)を3.5g、ジエチル
チオキサントン3.5g、フッ素系レベリング剤0.0
2gを室温窒素中暗室にて1時間攪拌混合し、耐熱性樹
脂組成物を調整した。これを実施例1と同様、シリコン
ウェハー上に塗布し、パターンを作成したところ、50
μ角のパターンが変形や(ずれおよびクランクがなく、
きれいに形成されていた。
また、実施例Iと同様の方法で作成したポリイミドフィ
ルムは、引張強度が16.0ksr / ■” 、〜弾
性率206 kg / s+m” 、伸び12%であっ
た。
ルムは、引張強度が16.0ksr / ■” 、〜弾
性率206 kg / s+m” 、伸び12%であっ
た。
〔比 較 例 1 、2〕
実施例1にて合成したポリアミック酸溶液(A)および
(B)を、それぞれ単独に実施例と同様の光学活性物質
類を添加し、感光性樹脂組成物とした。
(B)を、それぞれ単独に実施例と同様の光学活性物質
類を添加し、感光性樹脂組成物とした。
これらはいずれも現像時シリコンウェハーより剥機
離してしまい、湊膜形成が出来なかった。
〔比 較 例 3〕
とロメリット酸とジアミノジフェニルエーテルのモル比
=160とし、実施例2と同様に反応させ、極限粘度2
.56(d It / g )のポリアミック酸溶液を
得た。このものに実施例2と同様の光学活性物質類を添
加し感光性樹脂組成物とした。
=160とし、実施例2と同様に反応させ、極限粘度2
.56(d It / g )のポリアミック酸溶液を
得た。このものに実施例2と同様の光学活性物質類を添
加し感光性樹脂組成物とした。
実施例2と同様にシリコンウェハー上にスピンコードす
るには粘度が高すぎたので、粘度が実施例と同様の30
℃、20ポアズに調整する為、混合溶媒で3倍に希釈し
た。さらに実施例と同様に現像、露光、加熱硬化を行い
、ポリイミドパターンを得た。このものは、現像時にク
ラックが生じ、また50μ角のパターンの角が丸く変形
している所も認められた。この様に、はじめからモル比
1.0で合成したボリアミンク酸を用いたものは、フィ
ルム特性は実施例と大差ないが、高粘度の為、希釈して
スピンコードせねばならず、クラック、パターンの変形
等の問題−を生じる事が判る。
るには粘度が高すぎたので、粘度が実施例と同様の30
℃、20ポアズに調整する為、混合溶媒で3倍に希釈し
た。さらに実施例と同様に現像、露光、加熱硬化を行い
、ポリイミドパターンを得た。このものは、現像時にク
ラックが生じ、また50μ角のパターンの角が丸く変形
している所も認められた。この様に、はじめからモル比
1.0で合成したボリアミンク酸を用いたものは、フィ
ルム特性は実施例と大差ないが、高粘度の為、希釈して
スピンコードせねばならず、クラック、パターンの変形
等の問題−を生じる事が判る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ジアミン1モルに対してテトラカルボン酸が0.70〜
0.99モルからなるポリアミック酸(A)と、ジアミ
ン1モルに対してテトラカルボン酸が1.01〜1.4
0モルからなるポリアミック酸(B)とを混合して、最
終的に、ジアミン1モルに対してテトラカルボン酸が0
.9〜1.1モルとなるような比率に(A)と(B)と
を混合してなるポリアミック酸と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物(但し、式中Cは光架橋反応性官能
基、Dはカルボキシル基と反応または配位可能な官能基
、n、n′は1〜2の自然数、Rは炭素数1〜4の直鎖
アルキル基を示す)とを混合し反応又は配位結合させた
ものを必須成分とする耐熱性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27909187A JPH01121326A (ja) | 1987-11-06 | 1987-11-06 | 耐熱性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27909187A JPH01121326A (ja) | 1987-11-06 | 1987-11-06 | 耐熱性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01121326A true JPH01121326A (ja) | 1989-05-15 |
Family
ID=17606290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27909187A Pending JPH01121326A (ja) | 1987-11-06 | 1987-11-06 | 耐熱性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01121326A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06157753A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-07 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 部分イミド化ポリアミド酸組成物 |
-
1987
- 1987-11-06 JP JP27909187A patent/JPH01121326A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06157753A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-07 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 部分イミド化ポリアミド酸組成物 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1258509B1 (en) | Solventless polyimide silicone resin compositions | |
US7019045B2 (en) | Amino group containing phenol | |
US4672099A (en) | Soluble polyimide-siloxane precursor, process for producing same and cross-linked polyimide-siloxane | |
KR101588364B1 (ko) | 폴리히드록시이미드의 제조방법 및 그 제조방법으로부터 얻어진 폴리히드록시이미드를 함유하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 | |
JPS61118424A (ja) | 可溶性シリコ−ン−イミドコポリマ− | |
JP3526829B2 (ja) | ポリアミド酸エステル | |
CN114995060B (zh) | 一种可低温固化的负性光敏性树脂组合物及其制备方法与应用 | |
KR100291376B1 (ko) | 감광성수지조성물 | |
CN111072962B (zh) | 耐高温光纤涂料用光敏聚酰亚胺的合成与应用 | |
JP2006193691A (ja) | 感光性ポリアミド酸及びこれを含有する感光性組成物 | |
JPH04351667A (ja) | 硬化性樹脂組成物及び電子部品用保護膜 | |
JPH1192660A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
KR100266998B1 (ko) | 폴리이미드실리콘 수지 전구체 조성물 | |
JPH01121326A (ja) | 耐熱性樹脂組成物 | |
EP0379377A2 (en) | Process for preparing photosensitive heat-resistant polymer | |
JP3208940B2 (ja) | ポリイミド前駆体組成物 | |
KR100244981B1 (ko) | 감광성 폴리이미드 전구체 | |
JP2001194784A (ja) | 感光性ポリイミド前駆体組成物 | |
JP3950104B2 (ja) | ポリイミド前駆体、ポリイミド前駆体組成物、ポリイミド樹脂および電子部品 | |
JPS61238809A (ja) | 感光性ポリイミドの樹脂液組成物 | |
JPH01172426A (ja) | 放射線感応性耐熱樹脂組成物 | |
JPH05202188A (ja) | ポリイミド、その製造方法及び感光性樹脂組成物 | |
JPH0359031A (ja) | ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン及びその前駆体の製造法 | |
JPH0292930A (ja) | ポリイミド前駆体の製造方法 | |
JPH01163214A (ja) | ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン及びその前駆体の製造法 |