JPH01120501A - 光学用成形材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、重量平均分子量が２０．０００〜２００．０
００スチレン系樹脂を幹成分とする芳香族ポリカーボネ
ートとのポリスチレン換算重量平均分子量が３０、００
０≦Ｍｗ≦２５０．０００のグラフト共重合体であって
、幹であるスチレン系樹脂構成単位と枝である芳香族ポ
リカーボネート構成単位とが相互に特定の分子量比と重
量比を有する特定のグラフト共重合体を主成分とする樹
脂組成物からなり、ミクロ相分散が０．５−以下である
新規な光学用成形材料であり、特に、低減された光学歪
み及び優れたミクロ相分散を有し、光ディスク、光学用
レンズ等に好適に使用可能なものである。

〔従来の方法およびその問題点〕

従来、光学用透明成形品の材料としては、アクリル樹脂
が透明性、流動性が良く複屈折が小さい等の特徴から光
学用透明成形品の材料として知られている（特開昭５６
−１３１６５４号他）。しかし、アクリル樹脂は耐熱性
が約７０℃と低く、耐衝撃性も低く、水分により反りを
生じ易いという欠点がある。また、上記の欠点をなくす
為、粘度平均分子量が１５．０００〜１８．０００のポ
リカーボネート樹脂をディスクやレンズ等の成形材料と
して用いること（特開昭５８−１８０５５３号）が検討
されているが、重要視されている複屈折が大きい等の欠
点を有し、その使用には限界がある。

光学材料、主として光デイスク材料の実用化における重
要な課題の一つに基板自体のノイズレベルの低減化の課
題があり、このノイズレベルは、斜め入射光を含む複屈
折に依存することが明らかとなってきている（例えば、
光学、　ｖｏｌ　１５．　Ｎα５（１９８６年１０月）
　Ｐ４４１〜４２１、光メモリーシンポジウム°８６論
文集Ｐ３３〜３８）。

すなわち、垂直入射光の複屈折の低減下は必ずしも斜め
入射の複屈折の変化と相関せず、特にポリカーボネート
樹脂の場合、この相違が顕著であり、光の広角域におけ
る複屈折の低減下が重要である。

複屈折の低減下の試みとして、芳香族ポリカーボネート
の変性或いは芳香族ポリカーボネートと他の樹脂との組
成物とする方法が種々提案されている（例えば特開昭６
１−１９６３０号、特開昭６１−１９６５６号、特開昭
６２−１８４６６号、特開昭６２−２０５２４号、特開
昭６１−１０８６１７号及び機能材料１９８７年３月Ｐ
２１〜２９）。しかし、これらの提案はいずれも垂直入
射光の複屈折の低減下を対象とし、前記した斜め入射光
の複屈折については何ら言及しておらず、光の広角域に
おけるノイズレベルの低減化という実用上の観点からは
必ずしも満足すべきものではない。又、さらに重要なこ
とは単純混合による組成物或いは共重合体であってもホ
モポリマーを必然的に多量に含有する共重合体組成物系
では、組織中の成分の相分数が粗い傾向にあり、その結
果、見掛は上腹屈折が低減化した系でも光学的に不均一
となり、ノイズ発生の原因となる。

以上、従来法による変性ポリカーボネートは光学用成形
材料、特に光ディスクの基板として使用するには基本的
な欠陥を有したものであった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者らは、特に光の広角域における光学歪が小さく
、かつミクロ相分散が微細である透明な光学用成形材料
について鋭意検討した。その結果グラフト共重合体とし
て、ポリスチレン系樹脂を幹とし芳香族ポリカーボネー
トを枝としたグラフト共重合体からなり、各構成単位の
分子量比及び重量構成比とを特定の範囲としてなるミク
ロ相分散が０．５−以下である光学用成形材料を見出し
、本発明を完成させた。

すなわち、本発明は、スチレン系樹脂を幹ポリマーとす
る芳香族ポリカーボネートとのグラフト共重合体であっ
て、 ［１］、該スチレン系樹脂幹ポリマーの重量平均分子量
（ＰＳＭｗ）　； ２０、０００≦ＰＳＭｗ≦２００．０００・・・　（１
）［２］、該ダグラフト重合体ポリスチレン換算重量平
均分子量（Ｍｗ）　； ３０、０００≦Ｍｗ≦２５０．０００・・・（２）［３
］、該ダグラフト重合体中ポリカーボネート樹脂技ポリ
マーのポリスチレン換算重量平均分子量（ＰＣＭｗ）　
； ０．１　≦ＰＣＭｗ／　ＰＳＭｗ≦　４・・・（３）（
式中のＰＣＭｗは、スチレン系樹脂幹ポリマ−（ＰＳＭ
ｗ）当たりのグラフトポリカーボネートの平均グラフト
点の数をＧｎとしたときの（Ｍｗ−ＰＳＩ４ｗ）　／　
Ｇｎである。）［４］、各々の構成単位の比率が、 ３０／７０≦ＰＣ／ＰＳ≦８０／２０・・・（４）（式
中のＰＣは芳香族ポリカーボネート構成単位の重量を示
し、ＰＳはスチレン系化合物ポリマー構成単位の重量を
示す）。

であるグラフト共重合体を主成分とする樹脂組成物より
なり、ミクロ相分散が０．５ｍ以下である透明な光学用
成形材料であり、好ましい実施態様においては、該スチ
レン系樹脂がスチレンを主体とする共重合体であり、好
ましくはグラフト結合開始点（以下、単にグラフト点と
記す）が通常０．２〜１０個、特に、０．５〜５個の範
囲であること、該芳香族ポリカーボネートが、２．２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンよりなる構成
単位であること、更に光線の垂直入射と斜め入射角±３
０°における複屈折の差の絶対値が厚み１．２ｍｍで　
５０ｎｍ以下であることを特徴とする光学用成形材料で
ある。

本発明の光学用成形材料の幹ポリマーとするポリスチレ
ン系樹脂構成単位（＝ＰＳＭｗ）は、上記式（１）の範
囲、好ましくは下式（１）’； ２０、０００≦ＰＳＭｗ≦１５０．０００・・・（１）
′の範囲から選択され、また、グラフト共重合体のポリ
スチレン換算重量平均分子量（後記性１に記載するポリ
スチレンを基準にしたＧＰＣ法による測定値である。）
は、上記式（２）の範囲、好ましくは下式（２）’； ％式％（２） の範囲から選択される。

更に、ポリスチレン系樹脂の幹に、枝としてグラフトし
た芳香族ポリカーボネート枝ポリマーのポリスチレン換
算重量平均分子量　ＰＣＭｗは、ポリスチレン換算重量
平均分子量として上記式（３）の範囲、好ましくは下式
（３）’　； ％式％（３） の比率の範囲、特に好ましくは下式（３）”；０．３≦
ＰＣＭｗ／　ＰＳＭｗ≦２　　・・・（３）”の分子量
の範囲から選択され、幹ポリマーであるスチレン系樹脂
構成単位の重量（＝ＰＳ）と枝ポリマーである芳香族ポ
リカーボネート構成単位の重量（＝ＰＣ）との比率は上
記式（４）、好適には下式（４）；３０／７０≦ＰＣ／
ＰＳ≦７０／３０　　・・・（４）゛の範囲からそれぞ
れ選択されるものである。

本発明の透明な光学用成形材料は、上記の（１）〜（４
）を同時に満足した場合に良好な光学用成形材料となる
ものであり、相互に依存するものである。

これらを好適な組み合わせとした場合には、複屈折を垂
直入射及び斜め入射（後記性３参照）共に±１０ｎｍ１
００範囲とし、且つ、射出成形条件、例えば射出成形樹
脂温度を２８０〜３４０℃に変化させた場合にも複屈折
の絶対値が３０ｎｍ以下の範囲しか変化しない材料とす
ることも可能なものである。

したがって、個々の規定の単独での意味は、あくまで副
次的なものであるがそれらを説明すれば、式（１）、（
２）で規定した重量平均分子量がその下限未満では成形
材料としての機械的性能等が劣り、上限を越えると成形
加工性等の点が問題が生じる。

式（３）　Ｃ（３）’、（３）’　］は主に、複屈折の
絶対値に相関し、この範囲外では、複屈折の成形温度依
存性などが大きくなり好ましくない。又、式（４）　［
（４）’　）は、主に光の広角域における光学歪に相関
し、この範囲外では、垂直入射と斜め入射±３０°に於
ける複屈折との糸を小さくすることが出来ない。

また、本発明の成形材料中のグラフト共重合体の量は、
その主要部である。本発明においては、グラフト共重合
体中の少量構成成分がＰＣの場合とＰＳの場合とがあり
、少量構成成分と同種のホモポリマーを配合した場合に
は、通常島と成っている少量成分の分散粒子径が増大す
る傾向が大きくなり、逆に主要構成成分の場合はこの傾
向が小さいものである。従って、主要部の量は一律には
規定されないが、通常、３０重量％以上、好ましくは、
５０重重量以上であり、特に、８０重量％以上が好適で
ある。上記の好適な範囲は塩化メチレン溶液とした場合
に相分離しないことで明瞭に把握出来ることから容易に
理解される。グラフト共重合体の量が３０重量％未満で
は、ミクロ相分散が粗くなり０．５１を超え、結果とし
てノイズレベルの増大をもたらすので好ましくない。

次に、本発明の光学用成形材料の製造法について説明す
る。

まず、幹ポリマーとするスチレン系樹脂の合成法は種々
あるが、代表的な方法は、平均一分子当たり少なくとも
一つのフェノール性ヒドロキシル基に代表される芳香族
ポリカーボネートのグラフト点を懸垂或いは分子末端に
有する上記式（１）の分子量を有するスチレン系樹脂の
製法は、不飽和基を有するポリカーボネートとのグラフ
ト可能点となる官能基を持つ化合物の存在下に、又は必
要に応じてこれと有機イオウ系重合調節剤および／また
は重合開始剤とを併用して用いる他は従来のポリスチレ
ン系樹脂と同様の製法、塊状重合、溶液重合、懸濁重合
及び乳化重合等の重合法で製造するものである。

ココに、スチレン系モノマーとは、具体的にはスチレン
、０−メチルスチレン、Ｐ−メチルスチレン、α−メチ
ルスチレン、０−ブチルスチレン、Ｐ−ブチルスチレン
、クロロスチレン、ブロモスチレン、２．４−ジメチル
スチレンなどが挙げられ、特にスチレンが好ましい。

なお、本発明においては、上記のスチレン系モノマーに
その他のビニル系モノマー、例えばメチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ｎ−
へキシルアクリレート、ブチルアクリレート及びシクロ
ヘキシルメタクリレートなどのアクリレート類；グリシ
ジルメタクリレート、アクリル酸、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、Ｎ−メトキシメタクリルアミド、アク
リロニトリル、メタクリロニトリル、無水マレイン酸、
マレイミドなどを一部併用することも出来る。

前記のスチレン系モノマーを重合し、その分子量を調節
する手段として反応温度或いは後記する重合開始剤量で
制御する手段の他に有機イオウ化合物を分子量調節剤と
して用いることができる。

好ましい有機イオウ化合物としては、炭素数１〜３０の
脂肪族又は芳香族化合物であり、具体的にはｎ−ブチル
メルカプタン、イメブチルメル力ブタン、ｎ−オクチル
メルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、５ｅｃ−ブ
チルメルカプタン、５ｅｃ−ドデシルメルカプタン、ｔ
ｅｒｔ−ブチルメルカプタンなどの第一、二、三級のメ
ルカプタン；フェニルメルカプタン、チオクレゾール、
４−ｔｅｒｔ−ブチルチオクレゾールなどの芳香族メル
カプタン；チオグリコール酸とそのエステル；エチレン
チオグリコール等の如き炭素数３〜１８のメルカプタン
を挙げることができ、これら化合物の中でｎ−ブチルメ
ルカプタン、ｔｅｒｔ−ブチルメルカプタン及びｎ−オ
クチルメルカプタンが最も好ましく、その使用量は、ス
チレン系モノマーとの合計量の５重量以下、好ましくは
　０．０００４〜１重量％の範囲であり、５重量％を超
えて使用した場合、重合度が低くなり、機械的物性など
が低下するので好ましくない。

該重合を開始する手段として熱重合による方法の他に、
重合開始剤を使用することができ、このような重合開始
剤としては、例えばジーｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイ
ド、ジクミルパーオキサイド、メチルエチルケトンパー
オキサイド、ジーｔｅｒｔ−ブチルパーフタレート、ラ
ウロイルパーオキサイド、オキシ）ヘキサン、ｔ−ブチ
ルパーオキシラウレート、ジーｔｅｒｔ−アミルパーオ
キサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチル
クミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイドなど
の有機過酸化物；２．２−アゾビスイソブチロニトリル
、１，１−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、２
−シアノ−２−プロピルアゾホルムアミドなどのアゾ化
合物を挙げることができ、使用量は、一般的には１重量
％以下の範囲である。

また、スチレン系樹脂に官能基を導入するための不飽和
二重結合を有する一官能関化合物としては、アクリル酸
、メタクリル酸、ソルビン酸、アクリル酸クロライド、
メタクリル酸クロライド、ソルビン酸クロライド、アリ
ルアルコールクロロホーメート、イソプロペニルフェノ
ールクロロホーメート及びヒドロキシスチレンク口ロホ
ーメートなどの酸、酸クロライド及びクロロホーメート
；イソプロペニルフェノール、ヒドロキシスチレン、ヒ
ドロキシフェニルマレイミド、ヒドロキシ安息香酸アリ
ルエステル及び安息香酸メチルアリルエステルなどの不
飽和基を有するフェノール類；イソプロペニルフェニル
アセテート、アセトキシスチレン、アセトキシフェニル
マレイミドなどの不飽和基を有するフェニルエステル類
等が挙げられる。

前記化合物の他にスチレン系樹脂に官能基を導入し得る
化合物としては、メルカプト基を有する化合物があり、
例えば、チオグリコール酸、ｐ　−メルカプトフェノー
ル、ｍ−メルカプトフェノール、ｐ−メルカプトフェニ
ルアセテート、ｍ−メルカプトフェニルアセテート等が
例示される。

上記に挙げた化合物の中で、フェノール類が安定性の点
で好ましく、その使用量はポリスチレン系樹脂の１分子
の分子量を重量平均分子量と見做し、幹１分子について
平均２０個未満、好ましくは０．２〜１５個の範囲とな
る量であり、スチレン系モノマーとの合計量の　０．０
５〜５．０モル％の範囲、好ましくは０．１〜２．５モ
ル％の範囲より選択する。

上記したポリスチレン系樹脂への芳香族ポリカー、ｌ−
）のグラフト化反応は、該ポリスチレン系樹脂の存在下
に、又はこれと従来の末端停止剤とを併用して用いる他
は従来の芳香族ポリカーボネート樹脂と同様の製法、界
面重合法、ピリジン法、クロロホーメート法等の溶液法
で製造されるものである。

本発明の芳香族ポリカーボネート構成単位の製造に使用
する二価フェノール系化合物として好ましいものは、具
体的には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル
）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン
、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２
．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２．
２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル
）プロパン、２．２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−
ジクロロフェニル）フロパン、２．２−ビス（４−ヒド
ロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２．２−ビス
（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、２
．２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニ
ル）プロパン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）−１−フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ジフェニルメタンが例示され、特に２，２−ビス（
４−ヒドロキシフェニル）フロパンが好適に使用される
。

上記により得た本発明のグラフトポリカーボネートによ
る光学用成形品の製造法としては通常の方法でよく特に
限定されない。射出成形による成形条件としては、シリ
ンダー温度２５０〜３６０℃、好ましくは２８０〜３５
０℃、金型温度　７０〜１３０℃で行う。

本発明の光学用成形材料は上記であるが、当然にこの分
野においての公知の安定剤、離型剤、紫外線吸収剤、そ
の他を適宜配合することができるものである。

〔実施例〕

以下、実施例等によって具体的に説明する。

なお、本発明におけるスチレン換算重量平均分子量、複
屈折及びミクロ相分散は、下記方法により求めたもので
ある。

注１：スチレン換算重量平均分子量。

Ｇ、Ｐ、　Ｃ，により、ポリスチレン標準サンプルを使
用して得た重量平均分子量である。

また、グラフト共重合体中の枝として結合している芳香
族ポリカーボネート構成単位のスチレン−換算重量平均
分子量（ＰＣＭｗ）は、グラフト共重合体のスチレン換
算重量平均分子量（Ｍｗ）より原料のフチレン系共重合
体の重量平均分子量（ＰＳＭｗ）をひき、これをグラフ
ト点の数（Ｇｎ）で割った値とした。

注２：複屈折、　　下記の方法によった。

（１）、サンプル、装置等 対象サンプル：厚み１．２ｍｍ、直径１３０ｍの射出成
形ディスク 測定波長　　：　６３２．８　ｎｍ 測定装置　　：＠情況光学工業所製、自動エリプソメー
ター （２）、垂直入射及び斜め入射複屈折 ［１］、垂直入射複屈折（Ｒｅ’）　；サンプル面に対
して光の入射角 水平角　Ｈ＝Ｏ°、垂直角　Ｖ＝Ｇ’ の複屈折を表す。

尚、水平角とはディスクの半径方向の角度、垂直角とは
ディスクの半径方向に垂直の角度をそれぞれ意味する。

■、斜め入射複屈折（Ｒｅ”）　； サンプル面に対して光の入射角 水平角　Ｈ＝±３０°、垂直角　Ｖ＝±３０゜の４つの
複屈折と垂直入射複屈折（Ｒｅ’）との差の絶対値の最
大値を示す。

注３＝ミクロ相分散。

電子顕微鏡により測定した。

グラフト点を有するポリスチレン系樹脂の製造。

参考例１ Ｐ−イソプロペニルフェノールアセチルエステル１０４
ｇ　（０，５９モル）、スチレン　１０ｋｇ　（９６，
２モル）及びクロルベンゼン　１０ｋｇを重合反応器に
仕込み、窒素置換した後、撹拌下に１２０℃まで昇温し
、ｎ−ドデシルメルカプタン　６０ｇを含むクロルベン
ゼンを添加しつつ、１０時間反応した。

反応終了後、反応液をメタノールへ加え、沈澱化の後、
濾別し、乾燥してポリスチレン共重合体（以下、Ｐｓｉ
と記す）を得た。

ＰＳｌの重量平均分子量は４．０ＸＩＯ’であり、グラ
フト点は１．２であった。

参考例２ スチレン　１０ｋｇ及びクロルベンゼン　１０ｋｇを重
合反応器に仕込み、窒素置換した後、撹拌下に１２０℃
まで昇温し、ｐ−アセトキシフェノール　２７ｇを含む
クロルベンゼン２７０ｇを添加しつつ、１０時間反応し
た。

反応終了後、反応液をメタノールへ加え、沈澱化の後、
濾別し、乾燥してポリスチレン共重合体く以下、ＰＳ２
と記す）を得た。

ＰＳ２の重量平均分子量は８．０Ｘ１０’であり、グラ
フト点は１．０であった。

参考例３ Ｐ−イソプロペニルフェノールアセチルエステル１７６
ｇ　（１モル）、スチレン　１０ｋｇ及びクロルベンゼ
ン　１０ｋｇを重合反応器に仕込み、窒素置換した後、
撹拌下に１２０℃まで昇温し、アゾビスイソブチロニト
リル　５０ｇを含むクロルベンゼンを添加しつつ、１１
時間反応した。

反応終了後、反応液をメタノールへ加え、沈澱化の後、
濾別し、乾燥してポリスチレン共重合体（以下、ＰＳ３
と記す）を得た。

ＰＳ３の重量平均分子量は４．０Ｘ１０’であり、グラ
フト点は１．９であった。

参考例４ Ｐ−イソプロペニルフェノールアセチルエステルを０．
５ｗｔ％含むスチレンを１５０〜１６０℃に保もたれて
いる静止ミキサーを具備しているパイプリアクターに連
続的に導入した。留出反応液はメタノールへ流下し、沈
澱化し、濾別し、乾燥してポリスチレン共重合体（以下
、ＰＳ４と記す）を得た。

ＰＳ４の重量平均分子量は？、５Ｘ１０’であり、グラ
フト点は１．１であった。

グラフト共重合体の製造。

実施例１ 水酸化ナトリウム２．６ｋｇを水３１　ｎに溶解し、２
０℃に保ちながら、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン（＝ＢＰＡ）　　５．５ｋｇ、ハイドロ
サルファイ）　　Ｌｏｇを溶解した。

これに参考例１で得たＰｓｉ　　２．５ｋｇを溶解した
一チレンクロライド　２５１を加えて撹拌しつつホスゲ
ンを吹き込み、３０分後にＰ−ターシャリ−ブチルフェ
ノール　７７ｇを含むメチレンクロライド２０ｋｇを加
え、ホスゲンを更に３０分間吹き込んだ。

ホスゲン吹き込み終了後、激しく撹拌して反応液を乳化
させ、乳化後、１％トリエチルアミンのメチレンクロラ
イド溶液５００−を加え約１時間撹拌を続）す重合させ
た。

重合液を、水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中
和した後、数回水洗を繰り返した後、メタノールへ滴下
して共重合体を沈澱させ、濾過し、乾燥してグラフト共
重合体（以下、Ｇ１と記す）の白色粉末を得た。

このＧ１の重量構成比はＰＣ／ＰＳ＝７０／３０、ポリ
スチレン換算重量平均分子量は８８．０００であり、Ｐ
ＣＭＷは４Ｘ１０’で、Ｇｌ中のグラフト点の残存量は
、原料のＰＳｌのグラフト点の数１．２に対して０．１
未満で定量は困難であったが、殆どが反応したものと推
定された。

実施例２〜８ 実施例１において、使用するポリスチレン共重合体（Ｐ
ＳＩ、　ＰＳ２．　ＰＳ３．　ＰＳ４）の種類及び使用
量、末端停止剤Ｐ−ターシャリーブチルフェノールの使
用量等を変化させる他は同様にしてグラフト共重合体（
Ｇ２〜Ｇ８）の白色粉末を得た。

実施例１〜８で得た６１〜Ｇ８のグラフト共重合体を２
０ｍｏ＋ベント付き押出機に供給し、２４０〜２６０℃
のシリンダー温度でそれぞれペレット化した。

このベレットを１１０℃で５時間以上乾燥した後、シリ
ンダー温度３００〜３４０℃、金型温度９０℃で射出成
形して各試験片ディスクを作成し、ディスク中心より４
２ｍｍの同心円上の任意の点の複屈折、ミクロ相分散を
測定した。

測定結果を第１表に示した。

比較例１．２ ポリカーボネート樹脂（三菱瓦斯化学■製、商品名；ニ
ーピロンＨ−４０００、ポリスチレン換算重量平均分子
量２８，０００　、以下、Ｐｃｔ（４と記す）単独（比
較例１）並びにこのＰＣｌ３とカルボン酸誘導体を含む
ポリスチレン樹脂（アーコ社製、商品名；ダイラーク＃
２３２、重量平均分子量２５０．０００）　＝８０：２
０にて配合、乾燥し２５０℃のシリンダー温度でそれぞ
れペレット化した。

これらについて実施例と同様にした結果も第１表に示し
た。

尚、比較例２のディスクは青白い曇りが認められ、透明
光学用材料としては不適当であることが目視によっても
明白であった。

比較例３ ポリカーボネート樹脂（三菱瓦斯化学■製、商品名；ニ
ーピロンＥ−２０００、ポリスチレン換算重量平均分子
量６３，０００　、主分極率差：１１０Ｘ　１０−”ｄ
１以下、ＰＣＥ２と記す）とポリスチレン樹脂（三洋化
成工業Ｑ＠製、商品名；ハイマー５Ｔ−９５、重量平均
分子量１０．０００主分極率差ニー１２０Ｘ１０−２ｓ
Ｃ！ＩＩ）＝５０：５０にて配合、乾煙し２５０℃のシ
リンダー温度でそれぞれペレット化し、ＰＣＭｗ／ＰＳ
Ｍｗ＝６．３の成形用樹脂を得た。

実施例と同様にした結果を第１表に示した。

第１表−２ 第１表−３ この比較例３より、複屈折は樹脂の主分極率差の正と負
の相減作用に必ずしも依存しないことが容易に理解され
るものである。

〔発明の作用および効果〕

本発明のグラフト共重合体を主成分とする光学用成形材
料は、上記の発明の詳細な説明及び実施例、比較例から
明らかな如く、垂直入射と斜め入射との複屈折差が大幅
に低減され、且つその絶対値も±１０ｎｍ以内に設定可
能であると共に、ミクロ相分散においても極めて微細な
粒子分散である。

ゆえに、複屈折に基づくノイズレベルの低減のみならず
、光学的不均一性に基づくノイズの発生も大幅に低減さ
れるものである。

しかも、この複屈折の射出成形温度依存性も大幅に低減
されたものであることから、光ディスク、光学用レンズ
材料等として極めて好適に使用可能であることがわかる
。

特許出願人　　三菱瓦斯化学株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、スチレン系樹脂を幹ポリマーとする芳香族ポリカー
   ボネートとのグラフト共重合体であって、［１］、該ス
   チレン系樹脂幹ポリマーの重量平均分子量（ＰＳＭｗ）
   ； ２０，０００≦ＰＳＭｗ≦２００，０００・・・（１）
   ［２］、該グラフト重合体のポリスチレン換算重量平均
   分子量（Ｍｗ）； ３０，０００≦Ｍｗ≦２５０，０００・・・（２）［３
   ］、該グラフト重合体中のポリカーボネート樹脂枝ポリ
   マーのポリスチレン換算重量平均分子量（ＰＣＭｗ）； ０．１≦ＰＣＭｗ／ＰＳＭｗ≦４・・・（３）（式中の
   ＰＣＭｗは、スチレン系樹脂幹ポリマー当たりの平均の
   グラフト点の数をＧｎとしたときの（Ｍｗ−ＰＳＭｗ）
   ／Ｇｎである。）［４］、各々の構成単位の比率が、 ３０／７０≦ＰＣ／ＰＳ≦８０／２０・・・（４）（式
   中のＰＣは芳香族ポリカーボネート構成単位の重量を示
   し、ＰＳはスチレン系化合物ポリマー構成単位の重量を
   示す）。 であるグラフト共重合体を主成分とする樹脂組成物より
   なり、ミクロ相分散が０．５μｍ以下である透明な光学
   用成形材料。 ２、スチレン系樹脂が、スチレンを主体とする共重合体
   で、グラフト結合可能点の数が１分子あたり０．２〜１
   ０個の範囲である特許請求の範囲第１項記載の光学用成
   形材料。 ３、該芳香族ポリカーボネートが、２，２−ビス（４−
   ヒドロキシフェニル）プロパンよりなる構成単位である
   特許請求の範囲第１又は２項記載の光学用成形材料。 ４、光線の垂直入射と斜め入射角±３０゜における複屈
   折の差の絶対値が厚み１．２ｍｍで５０ｎｍ以下である
   特許請求の範囲第１、２又は３項記載の光学用成形材料
   。