JPH01118208A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 乞の１ 本発明は磁気記録・再生兼用が可能な薄膜磁気ヘッドに
関するものである。

従沫ス已Ｕ１ 一般に、微細ピッチの多数トランク磁気記録、たとえば
トラックピッチ＝　０．６４ｍｍ１）ラック数＝１８で
用いられる磁気ヘッドとして、ＶＴＲ等に用いられてい
るバルクヘッドを多数組み合わせて構成することは、巻
線寸法の制限及び各トラック間の１μｍ以下の位置合せ
の困！さなどの理由によりほとんど不可能である。そこ
でこの様な磁気ヘッドとしては、通常コア基板上にフォ
トリソグラフィ技術によりコイルを形成する薄膜ヘッド
が採用されている。その薄膜磁気ヘッドの一例を第３図
に示す。

第３図において１はフェライト基板、２はコイル、３は
磁気ギャップを形成するためのアルミナ膜、４はフェラ
イトブロック５を接着するためのエポキシ樹脂、６はフ
ェライトブロック５の各°トラックを絶縁分離するため
のガラス層、７は記録媒体、たとえば磁気テープ、磁気
ディスクなどである。

−ロ　　（・　　　　　゛　　　　　　。　　　−第３
図に示した構成ではフェライトブロック５がエポキシ樹
脂４に直接接着されている。ところがフェライトブロッ
ク５は周知のごとくきわめて脆弱である一方、エポキシ
樹脂４が柔軟であるため、記録媒体７と接する摺動面を
研磨するさいに、フェライトブロック５とエポキシ樹脂
４の接する部分て、フェライトブロック５の露出角部に
欠が生しやすい。欠を生じると磁気ギヤ、プの平行度が
不完全になるため記録・再生の能力がいちじるしく低ド
してしまい、磁気へ、ドとして用をなさないものとなる
。

本発明の目的は、フェライトプロ、り５がエポキシ樹脂
４と接する部分に欠を招かないような構造の薄膜磁気へ
ノドを提案することである。

、１ｎ占　　゛　るための−一− 前記問題点を解決するために、本発明の磁気へノドはフ
ェライトコア基板上にフォトリソグラフィによって薄膜
導体コイルを形成し、その上部にフェライトコアブロッ
クを接着剤を用いて接着させることにより、フェライト
基板とフェライトブロックにて磁気コアを構成した薄膜
磁気ヘッドにおいて、接着剤層とフェライトコア基板の
間ならびに接着剤層と上品のフェライトコアブロックの
間両力に研磨作業における耐衝撃性が十分な非磁性体層
を介在させた構造とするものである。

１皿 本発明によれば、コア接合を完了した薄膜磁気ヘッドの
記録媒体摺動面を研磨する際に接着剤層と接するフェラ
イトコアに欠を生しることがなくなる。

すなわち、機械的強度が十分な非磁性体層が、研磨作業
時のコアに対する衝撃緩和壁の役割を果す。また柔軟な
エポキシ樹脂等の接着剤層とフェライトコアとの間に非
磁性層が介在するので、コア接合作業も容易となる。

光ｉ阻 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。第１図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの構成例を示す
断面図である。第１図における記号１〜７はすでに第３
図にて説明したものと同一であるが、８は本発明にかか
る、フェライトコアブロック５の媒体摺動面を研磨する
さいにフェライトコアブロック５の接着剤４の接する部
分に欠を生じることを防ぐための機械的強度が十分な非
磁性体膜であるアルミナ膜である。

本発明の実施例においては、第３図の従来例でみられる
問題点すなわち、柔軟なエポキシ樹脂４と脆弱なフェラ
イトコアブロック５が直接つながって構成されているた
め、記録媒体摺動面を研磨するときに、フェライトコア
ブロック５の研暦面に欠を生じ、そのために磁気ヘッド
の記録・再生の性能がいちじるしく損なわれるという欠
点を防止するために、第１図の８に示すようにフェライ
トコアブロック５と、エポキシ樹脂４の間に、アルミナ
膜８をはさんだ構造としている。アルミナ膜１５の厚さ
については、厚いほどフェライトコアブロック１２の欠
を防ぐのに有効であるが、一方、磁気ギャップ長は、コ
イル２とエポキシ樹脂４とアルミナ膜８の厚さの総計で
あるため、磁気ギャップ長が無制限に大きくできないこ
とから、必然的にアルミナ膜８の厚さも規制される。実
験によれば、アルミナ膜８の厚さ０．３μｍ以上あれば
目的とするフェライトコアブロック５の欠防止に対して
有効であった。

次に本発明の薄膜磁気ヘットの製造方法について説明す
る。まず第２図（ａ）のごと（、フェライト基板１の面
上にスパッタリング法等によりアルミナ膜３を形成する
。次に（ｂ）の広く用いられているフォトリソグラフィ
法を用いて、アルミナ膜にコイル用溝９を形成する。次
に再びスパッタリング法等によりコイル材料２、たとえ
ばＡｕ、Ｃｕ等を（ｃ）のように形成する。このときコ
イル材料２の厚さは、コイル溝９の深さすなわちアルミ
ナ膜３の厚さと等しくする。次に不要なコイル材料を、
フォトリソグラフィ法によりエツチングして除去すると
（ｄ）のようになり、ヘッド下部が形成される。次にヘ
ッド上部の製法を説明する。

まず（ｅ）のごとくフェライトコアブロック５にダイン
ングソー等を用いてガラス溝１０を形成する。次にガラ
ス溝ＩＯに、ガラス材を真空炉なとを用いて流し込むこ
とにより（ｆ）のようにガラス層を形成する。次に（ｇ
）に示すように、フェライトコアブロック５の下面にス
パッタリング法などを用いてアルミナ膜８を形成するこ
とにより、ヘッド上部が形成される。そののち、ヘッド
下部（ｄ）とヘッド上ｗＪ（ｇ　）をエポキシ樹脂４に
よりはりあわせ、さらに、媒体摺動面を研磨することに
より、第１図に示す本発明の薄膜磁気ヘッドが形成され
る。

尚、上記実施例では、非磁性体膜としてアルミナ膜を用
いたが本発明は、これに限定されず、例えばＳ　ｉＯ２
膜等としてもよい。

発則４豫尼り 以上の説明から明らかなように本発明の薄膜磁気へノド
は、その媒体摺動面を研磨する際に、フェライトコアブ
ロックの欠が発生しないため、磁気ギャップ平行度の精
度が良好な、したがって、磁気記録・■生特性の優れた
ヘッド構造となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例を示す薄膜磁気へノドの断
面図、第２図は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造工程の一
例を示す断面図、第３図は従来例を示す断面図である。 １・・・フェライトコア基板、 ２・・・導体コイル、　　３・・・非磁性体、４・・・
接着剤層（エポキシ樹脂）、 ５・・・フェライトコアブロック、 ６・・・絶縁ガラス、　　７・・・磁気記録媒体、８・
・・非磁性体（アルミナ）、 ９・・・コイル溝、１０・・・ガラス溝。 ＠　２　図 （ｃ）　　　２　　　　　　　　（ｄ）溪　２　図 （ｅ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（壬）
（＃）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高透磁率のフェライトコア基板上にフォトリソグラフィ
   技術により薄膜導体コイルを形成し、さらにそのコイル
   上部に高透磁率のフェライトコアブロックを接着剤層を
   挾んで接着させることにより、フェライトコア基板とフ
   ェライトコアブロックにて閉磁路を形成した薄膜磁気ヘ
   ッドにおいて、フェライトコアブロックと接着剤層の間
   に研磨作業における耐衝撃性が十分な非磁性体膜を介在
   させたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。